JPWO2019189352A1 - 混練装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】混練材料をより均質に混練できる手段を提供する。
【解決手段】混練槽1の周壁6は、第1壁10と第2壁20との間に位置し、第1壁10と第2壁20とに接続する第3壁30を有する。第3壁30は、第1部位31と、第1部位31と側壁5との間に位置し、高さ方向における高さが第1部位31よりも高い第2部位35と、を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、混練装置に関する。
プラスチック、ゴム等の粘性が高い材料を混練する装置として、混練機が知られている。例えば特許文献1には、混練材料を収納するチャンバーと、チャンバー内に取付けられたロータ軸にロータ翼を有する一対のロータとを備えた混練機が記載されている。この混練機では、チャンバーの内周面とロータ翼の先端部との間に形成されるチップクリアランスの大きさが、ロータの軸方向の中央部より両端部が小さくなるようにされている。
特開2007−130952号公報
一方のロータに面するチャンバーの内周面と、他方のロータに面するチャンバーの内周面との間には、尾根状の接続面が形成される。以下、この部位を「リッジ部」と記載する。混練中に、混練材料が、リッジ部の上方の空間を通って、一方のロータの周囲から他方のロータの周囲へ移動する。
発明者らは、混練機の更なる改良を進めるべく、混練中の混練材料の状態を確認する実験を行った。混練の途中に混練機を停止して、混練材料の分散の状態を確認したところ、リッジ部が平坦であると、場合によってはリッジ部の両端近傍において混練材料が堆積してしまう虞があることがわかった。そうすると、リッジ部両端近傍の混練材料で混練が不十分となったり、添加剤等が凝集したりして、混練の品質が低下するおそれがある。
本発明は、前記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、混練の品質を向上させることにある。
本発明に係る混練装置は、第1ロータ及び第2ロータが配置可能な内部空間と、前記内部空間の周面に位置する周壁と、前記周壁と接続し、高さ方向に延在する側壁と、を備えた混練槽を有する。前記周壁は、前記第1ロータが配置される内部空間の周囲に配置される第1壁と、前記第2ロータが配置される内部空間の周囲に配置される第2壁と、前記第1壁と前記第2壁との間に位置し、前記第1壁と前記第2壁とに接続する第3壁と、を有し、前記第3壁は、第1部位と、前記第1部位と前記側壁との間に位置し、前記高さ方向における高さが前記第1部位よりも高い第2部位とを有する。
上記構成によれば、第3壁に、高さ方向における高さが第1部位よりも高い第2部位が存在する。従って、第2部位の上方の空間が、第1部位の上方の空間よりも狭くなる。その結果、第2部位の近傍に混練材料が滞留することを抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
本発明によれば、混練の品質を向上させることができる。
本発明の第1の実施形態に係る混練装置1の正面断面図である。 図1における混練装置1のII−II断面図であって、第1ロータ3及び第2ロータ4の記載を省略した図である。 図1における混練装置1のII−II断面図である。 混練槽1の側壁5及び周壁6の形状を示す断面斜視図である。 本発明の第2の実施形態に係る混練装置の混練槽101の要部断面斜視図である。 本発明の第3の実施形態に係る混練装置の混練槽110の要部拡大斜視図である。 本発明の第3の実施形態に係る混練装置の第2部位113の拡大図である。
以下、本発明の好ましい実施形態が、適宜図面が参照されつつ説明される。なお、本実施形態は、本発明の一態様にすぎず、本発明の要旨を変更しない範囲で実施態様が変更されてもよいことは言うまでもない。
1.第1の実施形態
本実施形態では、図1に示される混練装置100が説明される。混練装置100は、混練材料を収容する混練槽1と、混練槽1の上部を閉鎖する加圧蓋2と、混練槽1の内部空間Sに配置される第1ロータ3及び第2ロータ4と、を有する。すなわち、混練槽1は、第1ロータ3及び第2ロータ4が配置可能な内部空間Sを備える。なお、本実施形態では密閉し加圧を行って混練する混練装置について説明するため加圧蓋2を備えているが、必ずしも加圧蓋2を備えていなくともよい。言い換えると、開放式であり、加圧することなく混練する混練装置であっても本発明を適用できる。
以下の説明では、図1における左右方向が混練装置100の左右方向9である。図1における上下方向が混練装置100の上下方向7である。図2における左右方向が混練装置100の前後方向8である。混練装置100は、全体として、前後方向8に垂直で第1ロータ3と第2ロータ4とから等距離に位置する面に関して対称な形状である。上下方向7は、特許請求の範囲に記載された高さ方向の一例である。左右方向9は、特許請求の範囲に記載された第1ロータの中心軸方向の一例である。
図1及び図3に示される第1ロータ3は、円柱状のロータ軸81と、ロータ軸81の外周面から突出するロータ翼82と、を備える。第1ロータ3は、ロータ軸81の中心軸である第1軸線83が左右方向9に平行となる姿勢にて、第1軸線83の周りに回転可能な状態で、混練槽1の内部空間Sに配置されている。以下、第1ロータ3において、第1軸線83に平行な方向を軸方向、第1軸線83に直交する方向を径方向、第1軸線83に直交する平面内における径方向と直交する方向を周方向、と記載する場合がある。ロータ翼82は、特許請求の範囲に記載された第3部位の一例である。第1軸線83は、特許請求の範囲に記載された第1ロータの中心軸の一例である。
ロータ翼82は、ロータ軸81の外周面に螺旋状に配置された、板状の部材である。本実施形態では、2つのロータ翼82が、螺旋の方向が逆となる姿勢にて、ロータ軸81の右方と左方とに配置されている。ロータ軸81が図3に示す方向に回転するとき、右方のロータ翼82は混練材料を左方へ送り、左方のロータ翼82は混練材料を右方へ送る。換言すると、ロータ軸81が図3に示す方向に回転するとき、2つのロータ翼82は、それぞれ、ロータ軸81の軸方向の端部から、ロータ軸81の軸方向の中央へ、混練材料を送る。
図3に示される第2ロータ4は、円柱状のロータ軸91と、ロータ軸91の外周面から突出するロータ翼92と、を備える。前後方向8に関して、第1ロータ3と対称な形状である。なお、本実施形態では、第2ロータ4と第1ロータ3は前後方向8に対称である例を説明するが、必ずしも完全に対称となっていなくともよい。第2ロータ4は、ロータ軸91の中心軸である第2軸線93が左右方向9に平行となる姿勢にて、第2軸線93の周りに回転可能な状態で、混練槽1の内部空間Sに配置されている。以下、第2ロータ4において、第2軸線93に平行な方向を軸方向、第2軸線93に直交する方向を径方向、第2軸線93に直交する平面内における径方向と直交する方向を周方向、と記載する場合がある。ロータ翼92は、特許請求の範囲に記載された第3部位の一例である。
ロータ翼92は、ロータ軸91の外周面に螺旋状に配置された、板状の部材である。本実施形態では、2つのロータ翼92が、螺旋の方向が逆となる姿勢にて、ロータ軸91の右方と左方とに配置されている。ロータ軸91が図3に示す方向に回転するとき、右方のロータ翼92は混練材料を左方へ送り、左方のロータ翼92は混練材料を右方へ送る。換言すると、ロータ軸91が図3に示す方向に回転するとき、2つのロータ翼92は、それぞれ、ロータ軸91の軸方向の端部から、ロータ軸91の軸方向の中央へ、混練材料を送る。
第1軸線83と第2軸線93とは、平行である。つまり、第1ロータ3と第2ロータ4とは、平行である。第1ロータ3及び第2ロータ4は、図示しないモータにより、図3に示されるように、互いに反対方向に回転駆動される。
第1ロータ3のロータ軸81の直径は、第2ロータ4のロータ軸91の直径と等しい。第1ロータ3におけるロータ翼82の径方向の端部と第1軸線83との距離を、第1ロータ3のロータ径という。第2ロータ4におけるロータ翼92の径方向の端部と第2軸線93との距離を、第2ロータ4のロータ径という。第1ロータ3のロータ径は、第2ロータ4のロータ径と等しい。
図1に示されるように、右方のロータ翼82の右方の端部84と、左方のロータ翼82の左方の端部85とは、ロータ軸81の左右方向に見てR形状に形成されている。図示されないが、右方のロータ翼92の右方の端部と、左方のロータ翼92の左方の端部とは、ロータ軸81の左右方向に見てR形状に形成されている。
図1及び図2に示される混練槽1は、混練槽1の内部空間Sを区画する一対の側壁5と、周壁6と、を有する。側壁5は、周壁6と接続し、上下方向(高さ方向)7に延在するようにして設けられている。周壁6は、内部空間Sの周面に位置する。
図1に示されるように、一対の側壁5は、左右方向9と直交する姿勢にて配置されている。すなわち、一対の側壁5は、第1軸線83及び第2軸線93と交差(直交)する姿勢にて配置されている。側壁5の下方には、左右方向9に凹んだ凹部5aが形成されている。凹部5aにおける周壁6との接続部5bは、ロータ翼82の端部84、端部85、及びロータ翼92の端部と同じ曲率半径のR状に形成されている。なお、これらの曲率半径は互いに異なっていてもよい。
図2に示されるように、周壁6は、第1壁10と、第2壁20と、第3壁30と、一対の上壁40と、を有する。
第1壁10は、側壁5と直交する姿勢にて第1ロータ3の周囲に配置されている。第1壁10における、内部空間Sに面する第1面11は、第1軸線83を中心軸とする円筒面である。
第2壁20は、側壁5と直交する姿勢にて第2ロータ4の周囲に配置されている。第2壁20における、内部空間Sに面する第2面21は、第2軸線93を中心軸とする円筒面である。
一対の上壁40は、側壁5と直交し、且つ、前後方向8に垂直な姿勢にて、第1壁10及び第2壁20の上方に配置されている。一方の上壁40は、第1壁10と接続され、他方の上壁40は、第2壁20と接続されている。
図2及び図4に示されるように、第3壁30は、第1壁10と第2壁20との間に位置し、第1壁10と第2壁20とに接続する。第3壁30の内部空間Sに面する面は、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続している。第3壁30の内部空間Sに面する面は、第2壁20の第2面21と、滑らかに連続している。第3壁30の内部空間Sに面する面は、第1壁10の第1面11と第2壁20の第2面21とを接続する、尾根状の面となっている。
図2及び図4に示されるように、第3壁30は、左右方向9の中央に位置する第1部位31と、第1部位31に対して左右方向9の右方と左方とに位置する一対の第2部位35と、を有する。右方の第2部位35は、右方の側壁5と接する。左方の第2部位35は、左方の側壁5と接する。なお、以降の説明では第1部位31と第2部位35が別の部材で構成されるように記載するが、同一の部材にて一体的に構成されていてもよい。
図2に示されるように、第1部位31の上面32は円筒面であり、その中心軸は第1軸線83及び第2軸線93と平行である。第1部位31の前面33は、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続している。第1部位の後面34(図4参照)は、第2壁20の第2面21と、滑らかに連続している。なお。第1部位31の上面32は必ずしも円筒面でなくともよい。
図1に示されるように、一対の第2部位35は、左右方向9に垂直な平面に関して対称な形状である。以下、右側の第2部位35について説明する。図4に示されるように、第2部位35は、上面である第3面36と、前面である第4面37と、後面である第5面38と、を有する。
図2及び図4に示されるように、第4面37(前面)は、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続している。図2に示されるように、第4面37は、側壁5との接続部の近傍では、第1壁10の第1面11と同様に、第1軸線83を中心軸とする円筒面である。
図2及び図4に示されるように、第5面38(後面)は、第2壁20の第2面21と、滑らかに連続している。図2に示されるように、第5面38は、側壁5との接続部の近傍では、第2壁20の第2面21と同様に、第2軸線93を中心軸とする円筒面である。
図4に示されるように、第3面36(上面)は、第4面37と第5面38と滑らかに連続し、且つ、左右方向9の左方へ進むにつれて下方に傾斜する。第3面36の左端は、第1部位31の上面32と滑らかに連続している。換言すれば、第2部位35は、その表面が、第1壁10の第1面11、第2壁20の第2面21、及び第1部位31の上面32と滑らかに連続し、左右方向9の右方へ進むにつれて上方へ盛り上がり、右方の側壁5との接続点において頂点となる形状である。
図2に示されるように、第1軸線83と第2軸線93とを含む平面を、仮想平面Pとする。仮想平面Pは、上下方向7と垂直である。図1に示されるように、前後方向8に見て、第2部位35と仮想平面Pとの距離D2は、第1部位31と仮想平面Pとの距離D1よりも小さい。本実施形態では、第2部位35の上面である第3面36は、左右方向9に沿って第1ロータ3の端から中央へ向かうにつれて下方に傾斜する。従って、第2部位35と仮想平面Pとの距離D2は、左右方向9に沿って第1ロータ3の端から中央へ向かうにつれて増加する。第2部位35のいずれの場所においても、距離D2は、距離D1よりも小さい。すなわち、第2部位35の上下方向7(高さ方向)の高さは、第1部位31よりも高い。ここで、第2部位35の上下方向7(高さ方向)の高さとは、上下方向7(高さ方向)における位置であり、基準となる位置(例えば、混練槽1の内部空間の下方の端や、第1面11の最下点)からの距離である。そして、第2部位35の第3面36は、左右方向9に沿って第1ロータ3の端部から中央部へ向けて進むにつれて、上下方向7(高さ方向)における高さが低くなる。
以下、第1ロータ3と側壁5の各部位との間の距離について説明する。なお、特に記載のない限り距離D3、距離D4、距離D5を比較する際には左右方向9(回転軸方向)において同一の位置において比較しているものとする。例えば、図2に示す距離D3、距離D4、距離D5は、いずれも図1におけるII−II断面図に相当する左右方向9の位置における距離を示している。
図2に示されるように、第1壁10の第1面11は、第1軸線83を中心軸とする円筒面である。従って、第1壁10の第1面11と第1軸線83との距離D3は、第1面11の右端から左端まで一定である。
第3壁30の第1部位31の前面33は、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続している。詳細には、第3壁30の第1部位31の前面33と第1軸線83との距離D4は、第1部位31の前面33と第1壁10の第1面11とが接続する部位において距離D3と等しい。また、第1ロータ3には面していないが、第1部位31の前面33以外の部位においては、距離D4は距離D3よりも大きい。換言すれば、距離D4は、距離D3以上である。
第3壁30の第2部位35の第4面37(前面)は、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続している。詳細には、第3壁30の第2部位35の第4面37と第1軸線83との距離D5は、いずれの位置においても距離D3と等しい。
以上の点をまとめると、距離D3と距離D4と距離D5とが等しいことから、第1ロータ3に面する、第1壁10の第1面11、第3壁30の第1部位31の前面33、第3壁30の第2部位35の第4面37(前面)からなる周面は、第1軸線83を中心とする円筒面となり、ほぼ真円の周面と同じ形状となる。そのため、製造時の加工を行い易い。
図3における二点鎖線Qは、第1ロータ3が回転したときに、ロータ翼82の径方向の端が通る円筒状の仮想面を示している。仮想面Qの中心軸は、第1軸線83と一致する。仮想面Qと第1軸線83との距離D6、すなわち、ロータ翼82の径方向の端と第1軸線83との距離D6は、第1面11の右端から左端まで一定であり、距離D3より小さい。なお、以下の説明では、仮想面Qとの距離を、ロータ翼82の径方向の端との距離、と記載する場合がある。
ロータ翼82の径方向の端と第1壁10の第1面11との距離D7は、第1壁10の第1面11と第1軸線83との距離D3から仮想面Qと第1軸線83との距離D6を減算した距離である。距離D7は、第1面11の右端から左端まで一定である。
ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第1部位31の前面33との距離D8は、前面33と第1軸線83との距離D4から仮想面Qと第1軸線83との距離D6を減算した距離である。従って、ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第1部位31の前面33との距離D8は、第1部位31の前面33と第1壁10の第1面11とが接続する部位において距離D7と等しく、その余の部位において距離D7よりも大きい。第1部位31の前面33と第1壁10の第1面11とが接続する部位における距離D8が、ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第1部位31の前面33との最短距離である。本実施形態では、当該最短距離は、距離D7と等しい。
ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第2部位35の第4面37との距離D9は、第4面37と第1軸線83との距離D5から仮想面Qと第1軸線83との距離D6を減算した距離である。従って、ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第2部位35の第4面37との距離D9は、第2部位35の第4面37と第1壁10の第1面11とが接続する部位において距離D7と等しく、その余の部位において距離D7よりも大きい。第2部位35の第4面37と第1壁10の第1面11とが接続する部位における距離D9が、ロータ翼82の径方向の端と第3壁30の第2部位35の第4面37との最短距離である。本実施形態では、当該最短距離は、距離D7と等しい。すなわち本実施形態では、第2部位35とロータ翼82との最短距離は、第1壁10の第1面11とロータ翼82との距離D7と等しい。なお、第2部位35とロータ翼82との最短距離が、第1壁10の第1面11とロータ翼82との距離D7よりも大きくなるよう、第2部位35の形状を決定してもよい。
図4に示されるように、本実施形態では、第3壁30は、第1部位31と第2部位35とを有する。図1に示されるように、第2部位35と仮想平面Pとの距離D2は、第1部位31と仮想平面Pとの距離D1よりも小さい。つまり、第2部位35の上下方向7(第2部位35の側壁5の延在方向)における高さは第1部位31の上下方向7における高さよりも高い。換言すると、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間が、第1部位31と仮想平面Pとの間の空間よりも狭くなる。詳しくは、高さが低くなる。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、本実施形態では、第2部位35は、左右方向9に沿って第1ロータ3の端部から中央部に向けて進むに連れて仮想平面Pとの距離が大きくなる第3面36を有する(図4参照)。言い換えると、第3面36は、左右方向9(第1ロータ3の軸方向)に沿って端部に向かうにしたがって、上下方向7(高さ方向)における高さが低くなっている。つまり第3面36は、左右方向9に沿って第1ロータ3の端部から中央部に向けて進むに連れて下方に傾斜している。ロータに送られた混練材料が上方から第2部位35に接触すると、混練材料は、第3面36に導かれて、左右方向9に沿ってロータの中央部へ向けて移動する。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、図4及び図2に示されるように、本実施形態では、第2部位35は、前記第1壁10の前記第1面11と連続する第4面37と、前記第2壁20の前記第2面21と連続する第5面38と、を有する。従って、ロータに送られた混練材料が上方から第2部位35に接触すると、混練材料は、第4面37に導かれて、第1壁10の第1面11と第1ロータ3との間に送られ、第5面38に導かれて、第2壁20の第2面21と第2ロータ4との間に送られる。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、本実施形態では、第2部位35は、側壁5と接している。その結果、側壁5の近傍において、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、本実施形態では、第3壁30は、一対の第2部位35を有し、一方の第2部位35は一方の側壁5と接し、他方の第2部位35は他方の側壁5と接する。その結果、一対の側壁5の両方の近傍において、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、本実施形態では、第2部位35の第4面37と第1軸線83との距離D5は、第1壁10の第1面11と第1軸線83との距離D3と等しい。したがって、左右方向に同じ位置における断面の周面が真円の周面とほぼ同じとなり、本装置を製造し易くなる。
また、本実施形態では、第2部位35の第4面37とロータ翼82の径方向の端との最短距離は、第1壁10の第1面11とロータ翼82径方向の端との距離D7と等しい。なお、当該最短距離が距離D7よりも大きくなるよう、第2部位35の形状を決定してもよい。すなわち、第2部位35の第4面37とロータ翼82の径方向の端との最短距離は、第1壁10の第1面11とロータ翼82径方向の端との距離D7以上である。従って、当該最短距離が距離D7未満である場合に比べて、第2部位35の近傍から第1壁10とロータ翼82径方向の端との間に混練材料をスムースに送り込むことができる。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、本実施形態では、ロータ翼の端部が左右方向に見てR形状に形成されている。側壁5の凹部5aにおける周壁6との接続部5bは、ロータ翼の端部と同じ曲率半径のR状に形成されている。これにより、側壁5と周壁6との接続部における混練材料の滞留を抑制することができる。
[変形例1]
上記実施形態では、第3壁30の第2部位35が、傾斜する上面である第3面36を有する例が説明された。第2部位35の上面(すなわち第3面36)が、水平面であってもよい。この第3面36と第1部位31の上面との間に段差があってもよい。
[変形例2]
上記の実施形態では、第2部位35の第4面37(前面)が、第1壁10の第1面11と、滑らかに連続し、第5面38(後面)が、第2壁20の第2面21と、滑らかに連続している例が説明された。これら面と面との接合部に、段差や稜線、溝等が存在してもよい。他の面における接合部も同様である。無論、面と面との接合部は滑らかな連続面である方が、混練材料の滞留が抑制されるので好ましい。
[変形例3]
上記の実施形態では、第3壁30が一対の第2部位35を有する例が説明された。第3壁30が1つの第2部位35を有する形態も可能である。
[変形例4]
上記の実施形態では、第1ロータの内部空間に露出する周面が真円の周面とほぼ同じ形状になる(D3=D5)例が説明された。但し、必ずしも真円の周面と同じ形状となっていなくともよく、例えばD5>D3となっていてもよい。
[変形例5]
上記の実施形態では、距離D3は、第1面11の右端から左端まで一定である例が説明された。但し、必ずしも左右方向で常にD3が一定でなくともよい。例えば、左右方向における一端に位置する第1位置と左右方向における中央に位置する第2位置とでD3が等しく、他の位置では多少D3が異なる値となっていてもよい。但し、左右方向で常にD3が一定(ひいてはD5も一定)である場合には、本装置の混練槽を製造するのが容易になる。
[変形例6]
なお、第2部位35の第4面37と第1軸線83との距離D5が、第1壁10の第1面11と第1軸線83との距離D3以上となるよう、混練槽1を形成してもよい。この場合、第2部位35と第1軸線83との最短距離を、距離D3と等しくする。第2部位35の第4面37と第1ロータ3との距離は、第1面11と第1ロータ3との距離以上となる。従って、当該最短距離が距離D3未満である場合に比べて、第2部位35の近傍から第1壁10と第1ロータ3との間に混練材料をスムースに送り込むことができる。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
また、第2部位35の第4面37とロータ翼82の径方向の端との最短距離が、第1壁10の第1面11とロータ翼82径方向の端との距離D7と等しくなるよう、混練槽1を形成してもよい。当該最短距離が距離D7よりも大きくなるよう、第2部位35の形状を決定してもよい。この場合、第2部位35の第4面37とロータ翼82の径方向の端との最短距離は、第1壁10の第1面11とロータ翼82径方向の端との距離D7以上である。従って、当該最短距離が距離D7未満である場合に比べて、第2部位35の近傍から第1壁10とロータ翼82径方向の端との間に混練材料をスムースに送り込むことができる。その結果、第2部位35と仮想平面Pとの間の空間に混練材料が滞留することを更に抑制できる。よって、混合材料をより均質に混合することができる。
2.第2の実施形態
図5は、本発明の第2の実施形態に係る混練装置の混練槽101の要部断面斜視図である。同図は、混練槽101の側壁5及び周壁106の形状を示している。
本実施形態に係る混練槽101が上記第1の実施形態に係る混練槽1と異なるところは、上記第1の実施形態では、第2部位35が第3壁30の一部として構成されていたのに対し、本実施形態では、第2部位102が側壁5に突設されている点、及び上記第1の実施形態では、第1部位31の上面32が曲面に形成されていたのに対し、本実施形態では、上面103は平面に形成されている点である。なお、その他の構成については、第1の実施形態に係る混練槽1と同様である。
図5に示されるように、第1部位31の上面103は、左右方向9に沿って延びる細長矩形状を呈する。この上面103の右端部に切欠部104が設けられており、同図が示すように、上下方向7の下向きに寸法Tだけ落ち込んだ段部が形成されている。他方、第2部位102は、側壁5に設けられており、左右方向9の左側に突出している。すなわち、側壁5に設けられた凸部によって上記第2部位102が構成されている。この第2部位102は、上記第1の実施形態と同様に、第3面36、第4面37及び第5面38を備えている。第2部位102の左端の肉厚寸法は、上記寸法Tに対応している。このため、上記第2部位35は、上記第1部位31と段差を生じることなく連続している。
もっとも、第2部位102の左端の肉厚寸法が上記寸法Tに対応していなくても良く、第1部位31と第2部位35との間に段差が生じていてもよい。その場合、第1部位31に上記切欠部104が設けられず、上記上面103が左右方向9に延びる完全な平面であっても良い。
このように、第2部位102が側壁5に設けられることにより、混練槽101の製造行程が簡単になり、製造コストが低減されるという利点がある。また、上記第1部位31の上面103が平面に形成されることにより、第1部位31の形状が簡略化され、混練槽101の製造コストがより一層低減される。なお、本実施形態では、上記上面103が平面であるが、上記第1の実施形態のように、第1部位31の上面32が曲面に形成されていても良い。
2.第3の実施形態
図6は、本発明の第3の実施形態に係る混練装置の混練槽110の要部拡大斜視図である。同図は、混練槽110の第3壁111を含む周壁112の形状を示している。
本実施形態に係る混練槽110が第1の実施形態に係る混練槽1と異なるところは、上記第1の実施形態では、第3壁30の第1部位31の上面32が曲面に形成されていたのに対し、本実施形態では、第1部位117の第3壁111の上面118が平面に形成されている点、並びに上記第1の実施形態では、第3壁30の第2部位35は、第3面36、第4面37及び第5面38が連続する曲面であるのに対して、本実施形態では、第2部位113は、複数の平板114〜116により構成されている点である。なお、その他の構成については、第1の実施形態に係る混練槽1と同様である。
図7は、第2部位113の拡大図である。
本実施形態では、第2部位113は、3枚の平板114〜116からなる。各平板114〜116は、第3壁111の上面118に立設され、片持ち状に配置されている。各平板114〜116は、左右方向9の右側端部に、間隔Bを空けて順に並んでいる。各平板114〜116は、第3壁111と一体的に形成されていてもよいし、既知の固着手段によって上記上面118に固着されていてもよい。
本実施形態では、平板114〜116は、同図が示すように矩形である。平板115の厚み寸法Aは、特に限定されるものではないが、当該混練装置の稼働に際して十分な剛性が確保される必要がある。平板114、116の厚みも平板115の厚み寸法Aと同様に設定されるが、当該寸法Aと異なっていても良い。図6が示すように、各平板114〜116の幅寸法Bは、上記上面118の幅寸法と一致している。もっとも、当該寸法Bが上記上面118の幅寸法と異なっていてもよい。
平板114の高さ寸法Hは、上記第1の実施形態に係る第2部位35の高さに対応するように設定されている。すなわち、当該高さ寸法Hは、第1軸線83(図3参照)に沿って第1ロータ3の端部から中央部に向けて漸次低くなっている。換言すれば、平板115及び平板116の高さは、それぞれ、平板114の高さ寸法Hよりも左右方向9の左側に向かって順次低くなるように設定されている。本実施形態では、平板114〜116の上端は、点線119に沿って並んでいる。この点線119は直線であるが、これに限定される必要はなく、曲線である二点鎖線120に沿って平板114〜116の上端が並ぶように、当該平板114〜116の高さが設定されてもよい。この場合、二点鎖線120は、上記第1の実施形態に係る第3面36(第2部位35の上面)の稜線と一致していても良い。
本実施形態では、3枚の平板114〜116が上記上面118に設けられているが、さらに多数の平板が並設されていてもよい。ただし、その場合、各平板の上端は、上記点線119あるいは二点鎖線120に沿って並ぶのが好ましい。また、各平板114〜116に代えて丸棒あるいは角棒その他の棒状部材が採用されてもよい。つまり、当該棒状部材の断面形状は、矩形であっても、円形であっても、多角形であってもよいが、それらの高さ寸法は、上記高さ寸法Hと同様に設定されるのが好ましい。
本実施形態では、上記平板114〜116が左右方向9に並設され、各平板114〜116の上端が上記点線119あるいは二点鎖線120に沿って並ぶから、上記第1の実施形態における第2部位36の第3面36、第4面37及び第5面38の形成と等価であり、同様の作用効果を奏する。しかも、本実施形態では、第3壁111の構造がきわめて簡単になるので、混練槽110の製造コストがなお一層低減されるという利点がある。
1 :混練槽
3 :第1ロータ
4 :第2ロータ
5 :側壁
6 :周壁
10 :第1壁
11 :第1面
20 :第2壁
21 :第2面
30 :第3壁
31 :第1部位
35 :第2部位
36 :第3面
37 :第4面
38 :第5面
81 :ロータ軸
82 :ロータ翼
83 :第1軸線
91 :ロータ軸
92 :ロータ翼
93 :第2軸線
100:混練装置
101:混練槽
102:第2部位
103:上面
106:周壁
110:混練槽
111:第3壁
112:周壁
113:第2部位
114:平板
115:平板
116:平板
117:第1部位
118:上面
S :内部空間
P :仮想平面

Claims (11)

  1. 第1ロータ及び第2ロータが配置可能な内部空間と、前記内部空間の周面に位置する周壁と、前記周壁と接続し、高さ方向に延在する側壁と、を備えた混練槽を有する混練装置であって、
    前記周壁は、
    前記第1ロータが配置される内部空間の周囲に配置される第1壁と、
    前記第2ロータが配置される内部空間の周囲に配置される第2壁と、
    前記第1壁と前記第2壁との間に位置し、前記第1壁と前記第2壁とに接続する第3壁と、を有し、
    前記第3壁は、
    第1部位と、
    前記第1部位と前記側壁との間に位置し、前記高さ方向における高さが前記第1部位よりも高い第2部位とを有する、混練装置。
  2. 前記第2部位は、前記第1ロータの中心軸方向に沿って前記第1ロータの端部から中央部に向けて進むに連れて前記高さ方向における高さが低くなる第3面を有する
    請求項1に記載の混練装置。
  3. 前記第1壁は、前記内部空間に面する第1面を有し、
    前記第2壁は、前記内部空間に面する第2面を有し、
    前記第2部位は、前記第1壁の前記第1面と連続する第4面と、前記第2壁の前記第2面と連続する第5面と、を有する
    請求項1または2に記載の混練装置。
  4. 前記第1壁は、前記内部空間に面する第1面を有し、
    前記第2壁は、前記内部空間に面する第2面を有し、
    前記第2部位と前記第1ロータの中心軸との距離は、前記第1壁の前記第1面と前記中心軸との距離とほぼ等しい
    請求項1から3のいずれかに記載の混練装置。
  5. 前記第1壁は、前記内部空間に面する第1面を有し、
    前記第2壁は、前記内部空間に面する第2面を有し、
    前記第2部位と前記第1ロータの中心軸との距離は、前記第1壁の前記第1面と前記中心軸との距離以上である
    請求項1から3のいずれかに記載の混練装置。
  6. 前記混練装置は、前記第1ロータを更に備え、
    前記第1壁は、前記内部空間に面する第1面を有し、
    前記第2壁は、前記内部空間に面する第2面を有し、
    前記第1ロータは、ロータ軸と、前記ロータ軸の外周面から突出する第3部位とを有し、
    前記第2部位と前記第3部位との距離は、前記第1壁の前記第1面と前記第3部位との距離とほぼ等しい
    請求項1から3のいずれかに記載の混練装置。
  7. 前記第2部位は、前記側壁と接する
    請求項1から6のいずれかに記載の混練装置。
  8. 一対の前記第2部位を有し、一方の前記第2部位は一方の前記側壁と接し、他方の前記第2部位は他方の前記側壁と接する
    請求項7に記載の混練装置。
  9. 前記第2部位は、前記側壁5に設けられた凸部によって構成されている
    請求項1から6のいずれかに記載の混練装置。
  10. 前記第2部位113は、前記第1ロータの中心軸方向に沿って前記第1部位に並設された複数の棒状部材からなり、
    各棒状部材は、前記第1ロータの端部から中央部に向けて進むに連れて前記高さ方向における高さが低くなる
    請求項1に記載の混練装置。
  11. 前記第1壁は、前記内部空間に面する第1面を有し、
    前記第2壁は、前記内部空間に面する第2面を有し、
    前記第1ロータの中心軸方向における第1位置での前記第1壁の前記第1面と前記第1ロータの中心軸との距離は、前記第1ロータの中心軸方向において前記第1位置と異なる第2位置での前記第1壁の前記第1面と前記中心軸との距離とほぼ等しい
    請求項1から8のいずれかに記載の混練装置。
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