TWI698008B - 具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種具能量轉換功能之集積化驅動模組包括一圖案化導電線路層、一集積化電磁感應元件層、一第二介電層、一內埋元件以及一導電元件。集積化電磁感應元件層係設置於圖案化導電線路層上。其中，集積化電磁感應元件層包括複數個導電線圈層、複數個導電連接元件以及一第一介電層。該等導電線圈層係相互堆疊設置，且該等導電連接元件係分別電性連接於各導電線圈層之間，以及對應的導電線圈層與圖案化導電線路層之間。第一介電層係包覆該等導電線圈層及該等導電連接元件。第二介電層係形成於圖案化導電線路層上，並包覆圖案化導電線路層。內埋元件係設置於第二介電層內，並與圖案化導電線路層電性連接。導電元件係設置於第二介電層內，其一端係與圖案化導電線路層電性連接，而其另一端面係暴露於第二介電層。

Description

具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法
本發明是有關於一種驅動模組及其製造方法，且特別是有關於一種具有能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法。
隨著社交網站的盛行與智慧型手機的相機功能越來越強大，人們越來越倚重利用智慧型手機的相機來拍照與錄影，越來越多原本用於傳統相機及錄影機的技術導入手機相機之中。為了克服手機夜拍與攝影容易手抖模糊的問題，中高階手機內建防手震功能越來越普遍。
其中一種防手震的技術是光學防手震(Optical Image Stabilization，OIS)，是利用內置的鏡片(Lens-Shift Optical Image Stabilization)或感光元件(Senor-Shift Optical Image Stabilization)來對相機水平或上下的動作來逆向修正，可以用於照相及攝影的防手震上。光學防手震的優點是可靠性較高且不會犧牲影像的解析度，效果比電子防手震好，但缺點成本較貴、鏡頭機身沒辦法做很薄且有邊緣解析力下降的問題。
上述光學防手震功能係藉由一磁驅動裝置所達成，其係設置於一鏡頭模組與一影像感測元件之間。請參照第1A圖與第1B圖所示，以說明習知的一種磁驅動裝置10。其中，第1A圖係顯示磁驅動裝置10的剖視圖，而第1B圖係顯示第1A圖之磁驅動裝置10的爆炸圖。
磁驅動裝置10係具有一支撐架11、一軟性電路板12、一第一黏著層13、一霍爾感測器(Hall sensor)14、一軟性線 圈板15、一第二黏著層16以及一導電連接元件17。軟性電路板12係由軟性的絕緣層121以及線路層(circuit layer)122所組成。軟性電路板12係藉由第一黏著層13而固著於支撐架11上。由於軟性電路板12具有可撓性，因此其二側可往下折而固著於支撐架11之側面111。霍爾感測器14係藉由導電連接元件17而電性連接於軟性電路板12之線路層122之連接焊墊。其中，導電連接元件17係為焊錫(solder)。軟性線圈板15具有複數個線圈151，軟性線圈板15係藉由第二黏著層16而固著於軟性電路板12之絕緣層121，並且藉由導電連接元件17而使軟性線圈板15之連接焊墊152電性連接於軟性電路板12之線路層122的連接焊墊。
承上所述，習知的磁驅動裝置10係由複數個組件組裝而成，其至少包括支撐架11、軟性電路板12、霍爾感測器14以及軟性線圈板15。各個組件皆是由獨立的製造商生產，最後由組裝廠將各組件整合裝配而成。據此所得的磁驅動裝置至少具有下列缺點：(1)該等組件係分別由不同的製造商所生產，意味著各個組件的尺寸、厚度皆會受到限制，無法有效的降低，致使整體厚度將達到800微米；(2)組件的數量較多，且必須使用人工作業組裝，因此產品精度較不足，且會影響良率；(3)承前二點，則將會導致成本難以下降。
因此，本發明之一目的係提供一種具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法，其係整合半導體製程，而將驅動模組集積化，進而可降低整體尺寸及厚度。
本發明之一目的係提供一種具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法，其能夠提高整體的結合精度，且可提高生產良率。
為達上述目的，本發明揭露一種具能量轉換功能之集積化驅動模組，其包括一圖案化導電線路層、一集積化電磁感應元件層、一第二介電層、一內埋元件以及一導電元件。圖案化導電線路層具有相對設置之一第一表面及一第二表面。集積化電 磁感應元件層係設置於該圖案化導電線路層之該第一表面上。另外，該集積化電磁感應元件層還包括複數個導電線圈層、複數個導電連接元件以及一第一介電層。該等導電線圈層係相互堆疊設置。該等導電連接元件係分別電性連接於各導電線圈層之間，以及對應之該導電線圈層與該圖案化導電線路層之間。第一介電層係包覆該等導電線圈層及該等導電連接元件。第二介電層係形成於該圖案化導電線路層之該第二表面，並包覆該圖案化導電線路層。內埋元件係設置於該第二介電層內，並與該圖案化導電線路層之該第二表面電性連接。導電元件係設置於該第二介電層內，其一端係與該圖案化導電線路層之該第二表面電性連接，而其另一端面係暴露於該第二介電層。
於本發明之一實施例，其中該導電元件係為導電柱。另外，該等導電連接元件亦可分別為導電柱。
於本發明之一實施例，其中內埋元件係為霍爾感測元件。另外，內埋元件還可以係為半導體封裝元件，或為晶粒(die)。
於本發明之一實施例，其中該集積化電磁感應元件層係構成一平板線圈。
於本發明之一實施例，其中該第一介電層之材質係為鑄模化合物。另外，第二介電層之材質亦可為鑄模化合物。
於本發明之一實施例，其中集積化驅動模組係設置於影像擷取模組或馬達控制模組。
另外，為達上述目的，本發明還揭露一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的製造方法，其包含下列步驟。步驟一係提供一承載板。步驟二係形成一具有一第一介電層、複數個導電線圈層及複數個導電連接元件之集積化電磁感應元件層於該承載板之一表面。步驟三係形成一圖案化導電線路層於該集積化電磁感應元件層上，並且藉由導電連接元件讓彼此電性連接。步驟四係設置一內埋元件於該圖案化導電線路層上。步驟五係設置一導電元件於該圖案化導電線路層上。步驟六係形成一第二介電層，並且包覆該內埋元件及該導電元件，可選擇性地研磨第二介 電層之上表面，以暴露出導電元件的一端面。步驟七係移除該承載板，以形成複數個集積化驅動模組。
於本發明之一實施例，其中，形成該集積化電磁感應元件層還包含下列子步驟。子步驟一係於該承載板之該一表面上形成一第一子介電層。子步驟二係形成一第一導電線圈層於該第一子介電層之一表面。子步驟三係形成一第二子介電層覆蓋該第一導電線圈層及該第一子介電層，並暴露部分之該第一導電線圈層。子步驟四係形成一第一導電連接元件於暴露之該第一導電線圈層上。子步驟五係形成一第二導電線圈層於該第二子介電層及該第一導電連接元件上。子步驟六係形成一第三子介電層覆蓋該第二子介電層及該第二導電線圈層。子步驟七則係選擇性地重複上述步驟。
於本發明之一實施例，集積化驅動模組的製造方法更包含形成至少一開孔，以暴露部分之該圖案化導電線路層。
於本發明之一實施例，集積化驅動模組的製造方法更包含切割該等集積化驅動模組，以形成個別的集積化驅動模組。
於本發明之一實施例，其中該承載板具有至少一對位標靶，各製程步驟執行之前，更包含依據該對位標靶進行對位。
承上所述，依據本發明之具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法，除了內埋元件之外，其餘皆係藉由半導體製程所形成，包括集積化電磁感應元件層、圖案化導電線路層以及導電元件等等。據此，可以減少人工組裝的工序，而可提高生產良率，且可使得驅動模組為一體成型，進而可降低整體尺寸及厚度，另外，更可藉由半導體製程有效提高產品精度。
10:磁驅動裝置
11:支撐架
111:側面
12:軟性電路板
121:絕緣層
122:線路層
13:第一黏著層
14:霍爾感測器
15:軟性線圈板
151:線圈
152:連接焊墊
16:第二黏著層
17:導電連接元件
20、20a、40:集積化驅動模組
200、400:集積化電磁感應元件層
22:第一介電層
231、431:第一導電線圈層
232、432:第二導電線圈層
233、433:第三導電線圈層
234、434:第四導電線圈層
241、441:第一導電連接元件
242、442:第二導電連接元件
243、443:第三導電連接元件
25、45:圖案化導電線路層
251:第一表面
252:第二表面
26、46:內埋元件
27、47:導電元件
28、48:第二介電層
29、49:導電結合層
30:導電固著層
41:承載板
411、4211:表面
412:標記
421:第一子介電層
422:第二子介電層
423:第三子介電層
424:第四子介電層
425:第五子介電層
471:端面
481:上表面
D1:投影方向
O1~O5:開孔
第1A圖係顯示習知一種磁驅動裝置的剖視示意圖。
第1B圖係顯示第1A圖之磁驅動裝置的爆炸示意圖。
第2圖係顯示依據本發明較佳實施例之一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的剖視示意圖。
第3圖係顯示依據本發明較佳實施例之一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的另一實施態樣的剖視示意圖。
第4A圖至第4J圖係顯示配合本發明較佳實施例之一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的製造方法的製造流程圖。
關於本發明之優點與精神可以藉由以下發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。本發明較佳實施例之製造及使用係詳細說明如下。必須瞭解的是本發明提供了許多可應用的創新概念，在特定的背景技術之下可以做廣泛的實施。此特定的實施例僅以特定的方式表示，以製造及使用本發明，但並非限制本發明的範圍。
請參照第2圖所示，本發明較佳實施例之一種具能量轉換功能之集積化驅動模組20係包括一圖案化導電線路層25、一集積化電磁感應元件層200、一第二介電層28、一內埋元件26以及一導電元件27。在本實施例中，集積化驅動模組20係為一種將電能轉換為磁能的驅動模組，其係可應用於影像擷取模組或馬達控制模組等領域。
進一步說明，當集積化驅動模組20應用於影像擷取模組時，係可做為光學防手震之用途。其可藉由磁力來控制與鏡頭連結的磁石作動，以維持鏡頭的穩定性。另外，當集積化驅動模組20應用於馬達控制時，係可做為馬達的定子(stator)之用途，藉由磁力來控制與定子連結的轉子(rotor)作動。
圖案化導電線路層25具有相對設置之一第一表面251及一第二表面252。圖案化導電線路層25之材質係為金屬，其例如為金、銀、銅、鉑、鎳、鈀、鈷或其合金。部分之圖案化導電線路層25係做為導電線路(circuit)之用，而部分之圖案化導電線路層25係做為電性連接墊(electrical pad)之用。
集積化電磁感應元件層200係設置並且電性連接於圖案化導電線路層25之第一表面251。在本實施例中，集積化電磁感應元件層200係包括一第一介電層22、一第一導電線圈層231、一第二導電線圈層232、一第三導電線圈層233、一第四導電線圈層234、一第一導電連接元件241、一第二導電連接元件242及一第三導電連接元件243。
第一導電線圈層231、第二導電線圈層232、第三導電線圈層233、第四導電線圈層234係於一投影方向D1對應地堆疊設置，並且嵌設於第一介電層22內。第一導電連接元件241、第二導電連接元件242及第三導電連接元件243亦嵌設於第一介電層22內，並且第一導電連接元件241係電性連接於第一導電線圈層231以及第二導電線圈層232之間，而第二導電連接元件242係電性連接於第三導電線圈層233以及第四導電線圈層234之間，再者第三導電連接元件243係電性連接於第四導電線圈層234以及圖案化導電線路層25之間。
於此要說明的是，根據所需的電磁感應效果的不同，導電線圈層及導電連接元件的層數以及連接關係可隨之變更設計，以符合實際需求。另外，由於本實施例係以剖視圖表示，在其他視角的剖視圖中，於第二導電線圈層232與第三導電線圈層233之間，亦可存在有另一導電連接元件，以電性連接之，使得導電線圈層皆係相互電性連接。
第二介電層28係形成於圖案化導電線路層25之第二表面252，並包覆圖案化導電線路層25。在本實施例中，第一介電層22以及第二介電層28之材質可以為高填料含量介電材(high filler content dielectric material)，例如為鑄模化合物(molding compound)，其係以酚醛基樹脂(Novolac-Based Resin)、環氧基樹脂(Epoxy-Based Resin)或矽基樹脂(Silicone-Based Resin)為主要基質，其佔鑄模化合物之整體比例約為8wt.%~12wt.%，並摻雜佔整體比例約70wt.%~90wt.%的填充劑而形成。其中，填充劑可以包括二氧化矽及氧化鋁，以達到增加機械強度、降低線性熱膨脹係數、增加熱傳導、增加阻水及減少溢膠的功效。
內埋元件26係設置於第二介電層28內，並與圖案化導電線路層25之第二表面252電性連接。其中內埋元件26係電性連 接於做為電性連接墊之圖案化導電線路層25。另外，內埋元件26係作為電磁感測之用的電磁感測元件，例如係為一霍爾感測元件(Hall sensor)，其可以係為半導體封裝元件型態或是晶片、晶粒之型態，於此並無加以限制。然而，如係使用晶片或晶粒型態的內埋元件26，將可使集積化驅動模組20之整體更為薄型化及微型化。
導電元件27係設置於第二介電層28內，並且導電元件27之一端係與圖案化導電線路層25之第二表面252電性連接，而導電元件27之另一端係暴露於第二介電層28之表面。其中，暴露於第二介電層28之導電元件27係做為電性連接墊之用，以與外部組件透過導電凸塊、焊錫或導電膠進行電性連接。
另外，集積化驅動模組20還可包括一導電結合層29，其係形成於暴露之圖案化導電層25以及導電元件27之表面。導電結合層29可為單層結構，或為多層的複合結構，以強化接合效果。導電結合層29又可稱為球底金屬層，其材質可包括鈦、鋁、銅、鎳、鈀、金或其合金，於此並未加以限制。
請再參照第3圖所示，其係本發明較佳實施例之具能量轉換功能之集積化驅動模組。在本實施例中，集積化驅動模組20a與集積化驅動模組20不同之處在於，集積化驅動模組20a還包括一導電固著層30。導電固著層30係設置於導電元件27與圖案化導電線路層25之第二表面252之間。導電固著層30可以是導電膠等具有固著能力的元件，以使導電元件27結合及電性連接於圖案化導電線路層25。
接著，請再參照第4A圖至第4J圖所示，以說明依據本發明較佳實施例之一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的製造方法。
如第4A圖所示，步驟S01係提供一承載板41。承載板41之材質可以係為金屬、樹脂或玻璃等。在本實施例中，承載板41之一表面411上係具有至少一標記412，其係用以做為製程中的對位標靶之用。另外，本發明係採用大板面型式(panel type)之 製程；其中，本發明之承載板41沿著D2方向之尺寸可為單一晶圓之直徑之複數倍；或者，承載板41之面積為單一晶圓面積之複數倍。據此，本發明之大尺寸承載板41能夠對於切割自複數個晶圓之全部晶粒同時進行製程，而能有效節省製造時程。
接著，步驟S02係形成一第一子介電層421於承載板41之表面411。在本實施例中，第一子介電層421係可利用鑄模技術或壓模技術來形成。以下簡單舉例說明之，首先，係提供一鑄模化合物(molding compound)，其係可為酚醛基樹脂、環氧基樹脂、矽基樹脂或其它適當之鑄模化合物；接著，加熱鑄模化合物至一流體狀態；接著，將呈現流體狀態之鑄模化合物注入以覆蓋承載板41，接著使其固化後以形成第一子介電層421。上述第一子介電層421的形成方式係為舉例性，而非為限制性者。
而後，如第4B圖所示，步驟S03係形成一第一導電線圈層431於第一子介電層421之一表面4211。在本實施例中，第一導電線圈層431係可配合額外之光阻層(圖中未顯示)執行曝光顯影工序，而後並執行電鍍工序而形成。
而後，如第4C圖，類似於步驟S02，步驟S04係形成一第二子介電層422以覆蓋第一導電線圈層431，並暴露部分之第一導電線圈層431。在本實施例中，暴露第一導電線圈層431係可藉由對第二子介電層422雷射鑽孔後所形成。
而後，如第4D圖所示，類似於步驟S03，步驟S05係形成一第一導電連接元件441於暴露之第一導電線圈層431上。
同樣的，類似於步驟S03，步驟S06係形成一第二導電線圈層432於第二子介電層422及第一導電連接元件441上。
而後，如第4E圖所示，類似於步驟S02，步驟S07係形成一第三子介電層423，以覆蓋第二子介電層422及第二導電線圈層432。
類似於步驟S03，步驟S08係形成一第三導電線圈層433於第三子介電層423上。
類似於步驟S02，步驟S09係形成一第四子介電層424 於第三導電線圈層433上，並暴露部分之第三導電線圈層433。在本實施例中，暴露第三導電線圈層433係藉由對第四子介電層424雷射鑽孔後所形成。
類似於步驟S03，步驟S10係形成一第二導電連接元件442於暴露部分之第三導電線圈層433。
類似於步驟S03，步驟S11係形成一第四導電線圈層434於第四子介電層424及第二導電連接元件442上。
類似於步驟S02，步驟S12係形成一第五子介電層425於第四導電線圈層434上，並暴露部分之第四導電線圈層434。在本實施例中，暴露第四導電線圈層434係藉由對第五子介電層425雷射鑽孔後所形成。
類似於步驟S03，步驟S13係形成一第三導電連接元件443於暴露之第四導電線圈層434上。
上述之第一子介電層421、第二子介電層422、第三子介電層423、第四子介電層424、第五子介電層425、第一導電線圈層431、第二導電線圈層432、第三導電線圈層433、第四導電線圈層434、第一導電連接元件441、第二導電連接元件442及第三導電連接元件443係構成一集積化電磁感應元件層400。
於此要特別說明的是，在其他實施例中，步驟S07係可在形成第三子介電層423之後，藉由對第三子介電層雷射鑽孔以暴露部分之第二導電線圈層432；接著並在暴露之第二導電線圈層432上形成另一導電連接元件(圖未示出)，藉此以令第二導電線圈層432及第三導電線圈層433得以電性連接。
另外，在其他實施例中，上述之子介電層、導電線圈層以及導電連接元件係可視產品需求而可增減，於此並未加以限定其層數及連接關係。
而後，如第4F圖所示，步驟S14係形成一圖案化導電線路層45於集積化電磁感應元件層400上，並且與第三導電連接元件443電性連接。
而後，如第4G圖所示，步驟S15係設置一內埋元件46 於圖案化導電線路層45上。於本實施例中，內埋元件46可以藉由表面黏著技術(surface-mount technology)以焊錫而與圖案化導電線路層45電性連接，或以導電凸塊或導電膠而與圖案化導電線路層45電性連接。
而後，再如第4G圖所示，步驟S16係設置一導電元件47於圖案化導電線路層45上。在本實施例中，導電元件47可配合額外之光阻層(圖中未顯示)執行曝光顯影工序，而後並執行電鍍工序而形成。而在另外的實施例中，導電元件47係可預先形成後，再藉由導電膠等導電固著層30而固著於圖案化導電線路層45上，以形成如第3圖所示之態樣。
而後，如第4H圖所示，步驟S17係形成一第二介電層48，並且包覆圖案化導電線路層45、內埋元件46及導電元件47。而後，可選擇性地研磨第二介電層48之上表面481，以暴露出導電元件47的一端面471。
而後，如第4I圖所示，步驟S18係移除承載板41，並且形成開孔O1~O5，以形成立體結構。於此，還可選擇性地咬蝕導電元件47的端面471，以使其與第二介電層48的上表面481非為同一平面，以便於後續其他製程。
而後，如第4J圖所示，步驟S19係形成導電結合層49於暴露出之圖案化導電層45及導電元件47之端面471。而後，再翻轉步驟S19所形成之成品以形成複數個集積化驅動模組。最後，再切割分離以形成個別單一的集積化驅動模組40。
要特別說明的是，上述之各步驟，在執行之前皆可包括根據承載板41之標記412，進行標靶對位。藉此，以提高集積化驅動模組的產品精度。
綜上所述，依據本發明之具能量轉換功能之集積化驅動模組及其製造方法，絕大部分係藉由半導體製程所形成，包括集積化電磁感應元件、圖案化導電線路層以及導電元件等等。據此，可以減少人工組裝的工序，而可提高生產良率，且可使得驅動模組為一體成型，進而可降低整體尺寸及厚度。另外，藉由 承載板上之標記，可使得經由本發明之製造方法所製作的集積化驅動模組具有較高的產品精度，且可使得驅動模組為一體成型，進而可降低整體尺寸及厚度。另外，由於製程精度的提昇，也使得集積化電磁感應元件層的電磁感應效果得以提昇。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包括於後附之申請專利範圍中。
20‧‧‧集積化驅動模組
200‧‧‧集積化電磁感應元件層
22‧‧‧第一介電層
231‧‧‧第一導電線圈層
232‧‧‧第二導電線圈層
233‧‧‧第三導電線圈層
234‧‧‧第四導電線圈層
241‧‧‧第一導電連接元件
242‧‧‧第二導電連接元件
243‧‧‧第三導電連接元件
25‧‧‧圖案化導電線路層
251‧‧‧第一表面
252‧‧‧第二表面
26‧‧‧內埋元件
27‧‧‧導電元件
28‧‧‧第二介電層
29‧‧‧導電結合層
D1‧‧‧投影方向

Claims (11)

  1. 一種具能量轉換功能之集積化驅動模組，包含：一圖案化導電線路層，具有相對設置之一第一表面及一第二表面；一集積化電磁感應元件層，設置於該圖案化導電線路層之該第一表面上，該集積化電磁感應元件層包含：複數個導電線圈層，相互堆疊設置；複數個導電連接元件，分別電性連接於各導電線圈層之間，以及對應之該導電線圈層與該圖案化導電線路層之間；及一第一介電層，包覆該等導電線圈層及該等導電連接元件；一第二介電層，形成於該圖案化導電線路層之該第二表面，並包覆該圖案化導電線路層；一內埋元件，係為一電磁感測元件，設置於該第二介電層內，並與該圖案化導電線路層之該第二表面電性連接，且該內埋元件與該集積化電磁感應元件層於投影方向是重疊的；以及一導電元件，設置於該第二介電層內，其一端係與該圖案化導電線路層之該第二表面電性連接，而其另一端面係暴露於該第二介電層。
  2. 如請求項1所述之集積化驅動模組，其中，該內埋元件係為一霍爾感測元件。
  3. 如請求項1所述之集積化驅動模組，其中該集積化電磁感應元件層係構成一平板線圈。
  4. 如請求項1所述之集積化驅動模組，其中，該第一介電層及/或該第二介電層之材質係分別為一鑄模化合物。
  5. 如請求項1所述之集積化驅動模組，其係設置於一影像擷取模組或一馬達控制模組。
  6. 一種具能量轉換功能之集積化驅動模組的製造方法，包含下列步驟：提供一承載板；形成一具有一第一介電層、複數個導電線圈層及複數個導電連 接元件之集積化電磁感應元件層於該承載板之一表面；形成一圖案化導電線路層於該集積化電磁感應元件層上，並且藉由導電連接元件讓彼此電性連接；設置一內埋元件於該圖案化導電線路層上；設置一導電元件於該圖案化導電線路層上；形成一第二介電層，並且包覆該內埋元件及該導電元件；以及移除該承載板，以形成複數個集積化驅動模組。
  7. 如請求項6所述之集積化驅動模組的製造方法，其中，形成該集積化電磁感應元件層係包含下列子步驟：於該承載板之該表面上形成一第一子介電層；形成一第一導電線圈層於該第一子介電層之一表面；形成一第二子介電層覆蓋該第一導電線圈層，並暴露部分之該第一導電線圈層及該第一子介電層；形成一第一導電連接元件於暴露之該第一導電線圈層上；形成一第二導電線圈層於該第二子介電層及該第一導電連接元件上；形成一第三子介電層覆蓋該第二子介電層及該第二導電線圈層；以及選擇性地重複上述步驟。
  8. 如請求項6所述之集積化驅動模組的製造方法，其中，可選擇性地研磨該第二介電層之上表面，以暴露出該導電元件的一端面。
  9. 如請求項6所述之集積化驅動模組的製造方法，更包含形成至少一開孔，以暴露部分之該圖案化導電線路層。
  10. 如請求項6所述之集積化驅動模組的製造方法，更包含切割該等集積化驅動模組，以形成個別的集積化驅動模組。
  11. 如請求項6所述之集積化驅動模組的製造方法，其中該承載板具有至少一對位標靶，各製程步驟執行之前，更包含依據該對位標靶進行對位。
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