TWI696775B - 密封構件 - Google Patents

Abstract

本發明之密封構件(10)係於底座部(10h)之第1側面(101)及第3側面(103)相交之區域，設置彎曲面(110)及斜面(120)，彎曲面(110)係以與第1側面(101)及斜面(120)相接之方式設置，斜面(120)係以與第3側面(103)相交之方式設置。

Description

密封構件

本發明係關於一種密封構造，尤其關於使用在油空壓機器等之桿(活塞桿)與缸體之滑動間隙之密封構件之構造。

例如，於油壓機器之缸體與桿(活塞桿)之滑動間隙，為防止被導入至油室之作動油洩漏(作動油自高壓側朝低壓側洩漏)、且順暢實現桿之往復運動，而採用將密封構件嵌入至設置於缸體之密封槽之密封構造。此種密封構造係揭示於日本專利特開2005-337440號公報(專利文獻1)、日本專利特開2014-214769(專利文獻2)等。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2005-337440號公報 [專利文獻2]日本專利特開2014-214769號公報

[發明所欲解決之問題] 近年來，為進一步提高密封構造之密封性能，對密封構件之改善日益不斷地進行。 本發明係為解決上述課題而完成者，其目的在於提供一種可更為提高密封構造之密封性能之密封構件。 [解決問題之技術手段] 基於本發明之密封構件係於油空壓機器之缸體與桿之滑動間隙區中劃分高壓側與低壓側，收納於沿上述桿之外周面之周向設置成環狀之密封槽之內部，且封堵上述缸體與上述桿之滑動間隙者，且具備以下之構成。 本發明之密封構件包含位於低壓側之底座部與位於高壓側之唇部，且上述底座部具有位於上述桿側之第1側面、與上述第1側面對向之第2側面、及位於高壓側之第3側面；上述唇部具有朝上述桿側擴展之第1唇部、及朝與上述桿側相反之側擴展之第2唇部；於上述底座部之第1側面及上述第3側面相交之區域，設置彎曲面及斜面；上述彎曲面係以與上述第1側面及上述斜面相接之方式設置，上述斜面係以與上述第3側面相交之方式設置。 於另一形態中，上述彎曲面及上述斜面朝上述第3側面之投影長度為0.3 mm以上且2 mm以下，上述彎曲面之半徑為2 mm以上且15 mm以下，上述斜面相對於上述第3側面之傾斜角度為30°～80°。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種可更為提高密封構造之密封性之密封構造。

就基於本發明之實施形態之密封構件及使用該密封構件之構造，以下參照圖式進行說明。於以下所說明之實施形態中，於言及個數、量等之情形時，除有特別記載之情形外，本發明之範圍未必限定於該個數、量等。對相同之構件、相當之零件標註相同之參照序號，而有不予重複說明之情形。以下，作為油空壓機器之一例，以油壓缸為例，但並非限定於油壓缸，可廣泛應用於油空壓機器。 (密封構造) 參照圖1，對本實施形態之密封構造進行說明。圖1係表示實施形態之油壓缸所採用之密封構造之剖視圖。圖1中，為便於說明，缸體1及桿(活塞桿)2以虛線表示。圖1所示之密封構造係伴隨與桿2之壓接及桿2之往復運動(圖1中之上下方向)而變形，但為明晰理解密封構造，而圖示有未對密封構造施加壓力之狀態。 沿桿2之外周面之周向設置有環狀之第1密封槽10G。於該第1密封槽10G，收納有封堵缸體1與桿2之滑動間隙之第1密封構件10。 於較第1密封槽10G更靠高壓側，設置有第2密封槽20G，其沿桿2之外周面之周向設置成環狀。於圖示中，於上方側設置有高壓之油壓室。於第2密封槽20G，收納有封堵缸體1與桿2之滑動間隙之第2密封構件20。 (第1密封構件10) 參照圖2及圖3，就本實施形態之第1密封構件10進行說明。圖2係表示第1密封構件10之構造之立體圖，圖3係圖2中之III線箭頭剖視圖。 第1密封構件10整體具有環狀之形態，由胺基甲酸酯樹脂等合成樹脂、天然橡膠、合成橡膠、或氟橡膠而一體成型。第1密封構件10之於高壓側具有開放側之剖面形狀，具有大致U字形狀。 更具體而言，於圖3所示之剖視圖中，第1密封構件10具備位於低壓側之底座部10h、及位於高壓側之唇部10r。底座部10h包含位於桿2側之第1側面101、與第1側面101對向之第2側面102、及位於高壓側之第3側面103。 唇部10r包含朝桿2側擴展之第1唇部10b、及朝與桿2側相反之側擴展之第2唇部10c。由第1唇部10b及第2唇部10c形成大致U字形狀。 進而，於自底座部10h觀察時為桿2側之低壓側、且底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域，設有彎曲面110及斜面120。彎曲面110係以與第1側面101及斜面120相接之方式設置，斜面120係以與第3側面103相交之方式設置。 若將彎曲面110及斜面120朝第3側面103之投影長度設為「a」、將彎曲面110之半徑設為「R」、將斜面120之相對於第3側面103之傾斜角度設為「θ」，則為要獲得第1密封構件10對於桿2之更良好之密封性，較佳為投影長度「a」為0.3 mm以上2 mm以下，彎曲面110之半徑「R」為2 mm以上15 mm以下，斜面120相對於第3側面103之傾斜角度「θ」為30°～80°。關於此點，將於後述之實施例進行說明。 再次參照圖1，於自第1密封構件10觀察時，將桿2自低壓側朝高壓側移動之情形稱作「拉步驟」，將桿2自高壓側朝低壓側移動之情形稱作「推步驟」。 參照圖4至圖6，對第1密封構件10之密封狀態進行說明。圖4係表示「拉步驟」之密封狀態之局部放大模式圖，圖5A係表示安裝時之第1密封構件10之密封壓狀態之圖，圖5B係表示安裝時之第1密封構件10之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖，圖6A係表示壓力負載時之第1密封構件10之密封壓狀態之圖，圖6B係表示壓力負載時之第1密封構件10之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。另，圖5A、圖6A中P1～P10表示內壓之分佈，表示內壓自P1朝P10減小。 如圖4及圖5A所示，藉由具有第1唇部10b朝桿2側擴展之形態，且於第1密封構件10之底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域，設置彎曲面110及斜面120，即使於安裝時，底座部10h對桿2仍為非接觸狀態，故於「拉步驟」時，可使油OL易於流回缸體1之內部。 由圖5B之表示安裝時之第1密封構件10之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖亦可明瞭，在底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域，因未接觸到桿2，故於區域R1中未產生峰值面壓。另一方面，由於第1唇部10b與第2唇部10c被第1密封槽10G與桿2相夾而大幅變形，故基於其反作用力，而於區域P2(由(A)中之P9所示之區域)發生由接觸引起之峰值面壓。 接著，即使於圖6A及圖6B之壓力負載時，藉由於底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域設置彎曲面110及斜面120，而未於區域R1中發生峰值面壓，即使接觸寬度移動，但接觸面壓仍可保持平緩狀態。其結果，朝向缸體1內部之油可較少阻力地回流，藉由使用第1密封構件10之密封構造，油吸入特性提高，而可進一步提高密封性。 另一方面，圖7顯示關聯技術之第1密封構件10X之剖視圖。其係相當於圖2中之III-III線箭頭剖視之圖。唇部10r之第1唇部10b及第2唇部10c之形狀與本實施形態之第1密封構件10相同。該第1密封構件10X係於第1側面101及第3側面103相交之區域僅設置斜面150而未設置彎曲面。 參照圖8至圖10B，對關聯技術之第1密封構件10X之密封狀態進行說明。圖8係表示「拉步驟」之密封狀態之局部放大模式圖，圖9A係表示安裝時之第1密封構件10X之密封壓狀態之圖，圖9B係表示安裝時之第1密封構件10X之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖，圖10A係表示壓力負載時之第1密封構件10X之密封壓狀態之圖，圖10B係表示壓力負載時之第1密封構件10X之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。另，圖9A、圖10A中P1～P10表示內壓之分佈，表示內壓自P1朝P10減小。 如圖8及圖9A所示，第1密封構件10X係未於第1密封構件10X之底座部10h設置彎曲面而僅設有斜面150。其結果，於安裝時，底座部10h對桿2成為接觸狀態，如圖9B所示，於區域R3形成峰值面壓。再者，即使於圖10A及圖10B之壓力負載時，因於底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域僅有斜面150，故於區域R4發生更大之峰值面壓。結果導致於拉步驟時，油吸入特性變差而成為油洩漏之要因之一。 於圖11中，對比說明實施形態之第1密封構件10與關聯技術之第1密封構件10X之洩漏量。圖11係表示實施形態之第1密封構件10與關聯技術之第1密封構件10X之滑動距離及洩漏量之關係之圖。 第1密封構件10及第1密封構件10X皆使用胺基甲酸酯樹脂等之合成樹脂(硬度：硬度計A90、抗拉強度Mpa44.0、伸展性500%、壓縮永久變形40%、壓縮永久變形試驗之條件8)(80°C-70 h)：日本華爾卡工業股份有限公司製；產品編號R5590))。 第1密封構件10係R=2 mm、θ=60°、a=0.6 mm。第1密封構件10X未設置彎曲面，斜面150係R=0 mm、θ=45°、a=0.5 mm(所謂C面=0. 5mm)。 測定中，對任一者僅安裝第1密封構件而測定來自缸體1之油之外部洩漏量。將其結果示於圖11。可確認，本實施形態之第1密封構件10與關聯技術之第1密封構件10X相比具有良好之密封性。 (實施例) 圖12及圖13顯示本實施形態之第1密封構件10之變化例之構造。圖12顯示將「a」設為較大之第1密封構件10A之形狀，圖13顯示將「θ」設為較大之第1密封構件10B之情形。 進而，於圖14至圖16B中，作為具體之實施例1至實施例3，示出壓力負載時之接觸寬度與接觸面壓之關係。實施例1之第1密封構件10具有R=15、θ=80°、a=0.3之形狀，實施例2之第1密封構件10具有R=2、θ=30°、a=2之形狀，實施例3之第1密封構件10具有R=0.5、θ=30°、a=2之形狀。於各圖A中，P1～P10表示內壓之分佈，表示內壓自P1朝P10減小。 圖14A及圖14B所示之實施例1之情形，因於接觸寬度之全域中皆未發生峰值面壓而呈現良好之面壓，故可確認具有優良之密封性。 圖15A及圖15B所示之實施例2之情形，與上述實施例1相比，於接觸寬度之全域皆未發生峰值面壓而呈現更良好之面壓，故可確認具有優良之密封性。 圖16A及圖16B所示之實施例3之情形，與上述實施例1相比，於接觸寬度約1 mm附近之區域發生微小之峰值面壓，故雖與實施例1相比並非良好，但與圖10A及圖10B所示之關聯技術相比為良好，故可確認整體上具有良好之密封性。 根據以上之實施例，於底座部10h之第1側面101及第3側面103相交之區域，設置彎曲面110及斜面120，且彎曲面110係以與第1側面及斜面120相接之方式設置，斜面120係以與第3側面103相交之方式設置。藉此，本實施形態之第1密封構件具有良好之密封性。 進而，將彎曲面110及斜面120朝第3側面103之投影長度「a」設為0.3 mm以上2 mm以下，將彎曲面110之半徑「R」設為2 mm以上15 mm以下，且將斜面120相對於第3側面103之傾斜角度「θ」設為30°～80°，可獲得更理想之密封性。 以上，已對實施形態及實施例進行說明，但應理解，此次所揭示之實施形態就其所有方面皆為例示而非限制者。本發明之範圍係由申請專利範圍揭示，意在包含與申請專利範圍為均等含義及範圍內之所有變更。

1‧‧‧缸體2‧‧‧桿10‧‧‧第1密封構件10A‧‧‧第1密封構件10B‧‧‧第1密封構件10G‧‧‧第1密封槽10X‧‧‧第1密封構件10b‧‧‧第1唇部10c‧‧‧第2唇部10h‧‧‧底座部10r‧‧‧唇部20‧‧‧第2密封構件20G‧‧‧第2密封槽101‧‧‧第1側面102‧‧‧第2側面103‧‧‧第3側面110‧‧‧彎曲面120‧‧‧斜面150‧‧‧斜面a‧‧‧彎曲面及斜面朝第3側面之投影長度OL‧‧‧油P1～P9‧‧‧區域R‧‧‧彎曲面之半徑θ‧‧‧斜面相對於第3側面之傾斜角度

圖1係表示實施形態之油壓機器所採用之密封構造之剖視圖。 圖2係表示實施形態之第1密封構件之構造之立體圖。 圖3係圖2中之III線箭頭剖視圖。 圖4係表示實施形態之第1密封構件之密封狀態之局部放大模式圖。 圖5A係表示實施形態之安裝時之第1密封構件之密封壓狀態之圖。 圖5B係表示實施形態之安裝時之第1密封構件之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖6A係表示實施形態之壓力負載時之第1密封構件之密封壓狀態之圖。 圖6B係表示實施形態之壓力負載時之第1密封構件之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖7係表示關聯技術之第1密封構件之構造之剖視圖。 圖8係表示關聯技術之第1密封構件之密封狀態之局部放大模式圖。 圖9A係表示關聯技術之安裝時之第1密封構件之密封壓狀態之圖。 圖9B係表示關聯技術之安裝時之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖10A係表示關聯技術之壓力負載時之第1密封構件之密封壓狀態之圖。 圖10B係表示關聯技術之壓力負載時之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖11係表示實施形態及關聯技術之滑動距離及洩漏量之關係之圖。 圖12係表示實施形態之第1密封構件之變化例之剖視圖。 圖13係表示實施形態之第1密封構件之另一變化例之剖視圖。 圖14A係表示實施例1之壓力負載時(R=15、θ=80°、a=0.3)之密封壓狀態之圖。 圖14B係表示實施例1之壓力負載時之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖15A係表示實施例2之壓力負載時之(R=2、θ=30°、a=2)之密封壓狀態之圖。 圖15B係表示實施例2之壓力負載時之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。 圖16A係表示實施例3之壓力負載時(R=0.5、θ=30°、a=2)之密封壓狀態之圖。 圖16B係表示實施例3之壓力負載時之接觸寬度與接觸面壓之關係之圖。

10‧‧‧第1密封構件

10b‧‧‧第1唇部

10c‧‧‧第2唇部

10h‧‧‧底座部

10r‧‧‧底座部

101‧‧‧第1側面

102‧‧‧第2側面

103‧‧‧第3側面

110‧‧‧彎曲面

120‧‧‧斜面

a‧‧‧彎曲面及斜面對第3側面之投影長度

R‧‧‧彎曲面之半徑

θ‧‧‧斜面相對於第3側面之傾斜角度

Claims (1)

1. 一種密封構件，其係於油空壓機器之缸體與桿之滑動間隙中劃分高壓側與低壓側，收納於沿上述桿之外周面之周向設置成環狀之密封槽之內部，且封堵上述缸體與上述桿之滑動間隙者，且包含：底座部，其位於低壓側；唇部，其位於高壓側；上述底座部具有：位於上述桿側之第1側面、與上述第1側面對向之第2側面、及位於低壓側之第3側面；上述唇部具有：朝上述桿側擴展之第1唇部、及朝與上述桿側相反之側擴展之第2唇部；於上述底座部之第1側面及上述第3側面相交之區域，設置彎曲面及斜面；上述彎曲面係以與上述第1側面及上述斜面相接之方式而設；上述斜面係以與上述第3側面相交之方式設置；且上述彎曲面及上述斜面朝上述第3側面之投影長度為0.3mm以上2mm以下；上述彎曲面之半徑為2mm以上15mm以下；且上述斜面相對於上述第3側面之傾斜角度為30°~80°。

Images