TWI693150B - 用來處理薄膜的裝置以及方法 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露一種用來處理薄膜的裝置以及一種處理薄膜的方法。用來處理薄膜的裝置包括：狀態量測構件，拍攝薄膜的影像；狀態確定構件，基於由狀態量測構件拍攝的薄膜的影像來確定薄膜的位置狀態；以及狀態顯示構件，基於由狀態確定構件所確定的薄膜的位置狀態，根據薄膜的位置狀態來顯示標記。

Description

用來處理薄膜的裝置以及方法
本申請案主張於2016年6月08日提出申請的韓國專利申請案10-2016-0071344的權利，所述韓國專利申請案的全部揭露內容併入本案供參考。
各實施例是有關於一種用來處理薄膜的裝置以及一種處理薄膜的方法。更具體而言，各實施例是有關於一種用來處理薄膜的裝置，其量測並顯示薄膜的狀態並使得能夠確定薄膜的狀態。
光學薄膜一般是指用於製造例如液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)等顯示裝置的薄膜，且光學薄膜的實例可包括偏光薄膜、擴散薄膜、反射薄膜、棱鏡薄膜等。
作為一種光學薄膜的偏光薄膜是用於向液晶顯示裝置透射具有某一波長的光的光學元件。
在一般偏光薄膜中，偏光器保護薄膜(例如，三乙醯纖維素(triacetyl cellulose，TAC)薄膜)堆疊於可包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)的偏光器的一個表面或兩個表面上， 且偏光器可具有在其中黏著劑層、離型薄膜、表面保護薄膜、功能塗層等堆疊於偏光器保護薄膜上的多層式結構。
此種多層式偏光薄膜一般製造成片形捲繞於滾筒上，且可根據用途切割並使用單獨成片的偏光薄膜。
在製造偏光薄膜的一般製程中，以碘或顏料對PVA薄膜進行染色，然後向PVA薄膜添加硼酸，將碘或顏料聯接至PVA薄膜，並拉伸PVA薄膜。
所述染色、聯接(linking)及拉伸製程可分別或同時執行，且這些製程的次序可改變。
在完成所述染色、聯接及拉伸製程之後，將所製備的偏光器乾燥，並將例如TAC等偏光器保護薄膜黏著至經乾燥的偏光器的一個表面或兩個表面以製備偏光板。
在一般光學薄膜中，示出光學薄膜的狀態的標記在製造光學薄膜期間可被刪除或改變，且使用者可能無法辨識光學薄膜的狀態或可能無法明確對應於標記的缺陷的位置。因此，可能必須對薄膜狀態進行複驗，此極為不方便。
此外，可能不容易根據薄膜的狀態而明確指定在成品或半成品中的缺陷的存在，且在嚴苛的條件下對製造薄膜的製程進行控制以防止缺陷，此會降低薄膜製造製程的效率並增大薄膜的成本。
在韓國專利公開案第2016-12441號(發表於2016年2月3日，發明名稱：光學薄膜的製備方法、由所述相同方法製備 的光學構件及光學薄膜以及包含其的偏光板及液晶顯示器)中揭露了先前技術。
各實施例是有關於一種用來處理薄膜的裝置以及一種處理薄膜的方法，其量測、確定並顯示所述薄膜的狀態。
所述實施例可藉由提供一種用來處理薄膜的裝置而達成，所述裝置包括：狀態量測構件，拍攝薄膜的影像；狀態確定構件，基於由狀態量測構件拍攝的薄膜的影像來確定薄膜的位置狀態；以及狀態顯示構件，基於由狀態確定構件所確定的薄膜的位置狀態，根據薄膜的位置狀態來顯示標記。
狀態量測構件可包括：光照射構件，向薄膜照射光；以及影像拍攝構件，接收被照射至薄膜的光並拍攝薄膜的影像。
光照射構件可照射與薄膜的寬度方向平行的線性光。
用來處理薄膜的裝置可包括多個狀態量測構件，且狀態量測構件可沿薄膜的縱向方向對齊。
狀態量測構件可包括：第一狀態量測構件，在第一狀態量測構件中，第一光照射構件設置於薄膜的第一側上且第一影像拍攝構件設置於薄膜的第二側上；以及第二狀態量測構件，在第二狀態量測構件中，第二光照射構件設置於薄膜的第二側上且第二影像拍攝構件設置於薄膜的第一側上。
狀態顯示構件可根據薄膜的位置狀態而在薄膜的對應位 置上顯示標記。
狀態顯示構件可包括顯示構件，顯示構件藉由對薄膜噴射墨水而顯示薄膜的狀態。
用來處理所述薄膜的裝置可包括多個顯示構件，且顯示構件可沿所述薄膜的寬度方向對齊。
顯示構件可藉由噴射多個噴墨點而顯示薄膜的狀態。
狀態顯示構件可更包括：顯示支撐構件，支撐顯示構件；以及顯示轉移構件，連接至顯示支撐構件並轉移顯示支撐構件。
顯示轉移構件可包括：升降轉移構件，連接至顯示支撐構件並對顯示支撐構件進行升降；以及旋轉轉移構件，對顯示支撐構件進行旋轉。
狀態確定構件可基於由狀態量測構件所量測的薄膜的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定薄膜的位置狀態。
狀態確定構件可基於以下中的至少一者來確定薄膜的位置狀態：其中薄膜的灰度值超出參考灰度值範圍的缺陷區域的區域大小；缺陷區域的不圓度值；缺陷區域的寬度；或缺陷區域的長度。
實施例可藉由一種處理薄膜的方法而達成，所述方法包括：藉由拍攝薄膜的影像來量測薄膜的狀態；藉由基於在薄膜的狀態的量測中所量測的薄膜的影像對薄膜的位置狀態進行分類來確定薄膜的狀態；以及藉由基於在薄膜的狀態的確定中所確定的 薄膜的位置狀態而顯示薄膜的位置狀態的標記來顯示薄膜的狀態。
量測薄膜的狀態可包括由沿薄膜的縱向方向對齊的多個狀態量測構件拍攝薄膜的影像。
確定薄膜的狀態可包括基於由量測所量測的薄膜的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定薄膜的位置狀態。
確定薄膜的狀態可包括基於以下中的至少一者來確定薄膜的位置狀態：其中薄膜的灰度值超出參考灰度值範圍的缺陷區域的區域大小；缺陷區域的不圓度值；缺陷區域的寬度；或缺陷區域的長度。
顯示薄膜的狀態可包括根據薄膜的位置狀態而在薄膜的對應位置上顯示標記。
用來處理薄膜的裝置以及處理薄膜的方法量測薄膜的位置狀態，並根據薄膜的所量測的狀態在薄膜的對應地點上顯示標記，此使得能夠容易地偵測薄膜的狀態。
1:用來處理薄膜的裝置
10:薄膜
30:薄膜轉移構件
31:轉移輥
50:條碼機
70:標記
71:點/噴墨點
90:輸出構件
100:狀態量測構件
110:光照射構件
111:第一光照射構件
113:第二光照射構件
115:第三光照射構件
130:影像拍攝構件
131:第一影像拍攝構件
133:第二影像拍攝構件
135:第三影像拍攝構件
150:第一狀態量測構件
170:第二狀態量測構件
190:第三狀態量測構件
200:狀態確定構件
300:狀態顯示構件
310:顯示構件
330:顯示支撐構件
350:顯示轉移構件
351:升降轉移構件
353:旋轉轉移構件
400:標記偵測構件
DX:缺陷區域沿X軸的寬度
DY:缺陷區域沿Y軸的長度
S:缺陷區域
S1:處理薄膜的方法
S100:量測薄膜的狀態
S200:確定薄膜的狀態
S300:顯示薄膜的狀態
S400:偵測標記
w:寬度
l:長度
X:方向軸
Y:方向軸
θ:角度
藉由參照附圖詳細闡述示例性實施例，特徵對熟習此項技術者而言將變得顯而易見，在附圖中：圖1說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的透視圖；圖2說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的前視圖； 圖3說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的平面圖；圖4(a)至圖4(c)說明對在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的薄膜的影像進行處理的製程；圖5說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的薄膜的缺陷區域的區域大小；圖6(a)及圖6(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的薄膜的不圓度值；圖7(a)及圖7(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的缺陷區域的方向性；圖8(a)及圖8(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的缺陷區域的寬長比；圖9(a)至圖9(f)說明根據實施例的標記；以及圖10說明一種根據實施例的處理薄膜的方法。
現在將參照附圖在以下更充分地闡述示例性實施例；然而，所述示例性實施例可被實施為不同形式而不應被解釋為僅限於本文中所述的實施例。確切而言，提供這些實施例是為了使本揭露內容透徹及完整，並向熟習此項技術者充分傳達示例性實施方式。
在附圖中，為說明清晰起見，可誇大各層及區的尺寸。亦應理解，當將一個層或元件稱為「位於」另一層或基板「上」 時，所述層或元件可直接位於所述另一層或基板上，抑或亦可存在中間層。此外，亦應理解，當將一個層稱為「位於」兩個層「之間」時，所述層可為所述兩個層之間僅有的層，抑或亦可存在一或多個中間層。通篇中相同的參考編號指代相同的元件。
在本說明書通篇中定義了各種用語，且除如在以下闡述的在具體情況下給出的特定描述或使用的上下文中以外，任意特定用語的意義還將在此整個文件的上下文中進行理解。
圖1說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的透視圖。圖2說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的前視圖。圖3說明根據實施例的用來處理薄膜的裝置的平面圖。
在實施方式中，參照圖1至圖3，根據實施例的用來處理薄膜的裝置1可包括狀態量測構件100、狀態確定構件200以及狀態顯示構件300。用來處理薄膜的裝置1可量測並確定薄膜10的狀態，且可根據薄膜10的狀態而在薄膜10的對應位置上顯示標記70。
在實施方式中，薄膜10可為用於製造例如液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)等顯示裝置的光學薄膜。薄膜10的實例可包括偏光薄膜、擴散薄膜、反射薄膜或棱鏡薄膜等。
舉例而言，在被貼附至液晶顯示面板之前，薄膜10可為用於液晶顯示器的偏光薄膜。在本實施例中，狀態量測構件100及狀態確定構件200可各自量測及確定薄膜10的位置狀態，且狀態顯示構件300可顯示示出薄膜10的狀態的標記70。因此，可在 將薄膜10貼附至顯示面板之前抑或甚至在將薄膜10貼附至顯示面板之後輕易地偵測出薄膜10的狀態。
在實施方式中，當薄膜10被薄膜轉移構件30的轉移輥31轉移至一個方向時或當薄膜10處於薄膜轉移構件30的轉移輥31上的停止地點時，可由狀態量測構件100對薄膜10進行量測。
在由狀態量測構件100對薄膜10的狀態進行量測時，薄膜10的可動性可根據薄膜10的種類、狀態量測構件100的數目或規格等而變化。
狀態量測構件100可在拍攝薄膜10的影像之後獲得薄膜10的影像。在實施方式中，狀態量測構件100可包括光照射構件110及影像拍攝構件130。將光照射至薄膜10，且拍攝自薄膜10透射或反射的光的影像以獲得薄膜10的類比影像。
光照射構件110可將光照射至薄膜10。在實施方式中，光照射構件110可照射與薄膜10的寬度方向(在圖3中，沿左右方向)平行的線性光，且可使影像拍攝構件130接收自薄膜10透射或反射的光以獲得薄膜10的影像。
影像拍攝構件130可接收自光照射構件110照射至薄膜10的光，且可拍攝薄膜10的類比影像。舉例而言，影像拍攝構件130可為照相機。
舉例而言，影像拍攝構件130可為當薄膜10處於停止地點或緩慢移動時拍攝薄膜10的一個區域的影像的區域照相機。舉例而言，影像拍攝構件130可為拍攝來自高度移動的薄膜10的線 性光的影像的線照相機(line camera)。照相機的類型可根據薄膜10的可動性、自光照射構件110照射的光的類型等而變化。
在實施方式中，用來處理薄膜的裝置1可包括多個狀態量測構件100，且狀態量測構件100可沿薄膜10的縱向方向(在圖3中，沿上下方向)對齊。狀態量測構件100可在多個地點處獲得薄膜10的多個影像，以提高影像的準確性並防止為拍攝薄膜10的影像而停止薄膜轉移或降低薄膜轉移速度。在實施方式中，狀態量測構件100可包括第一狀態量測構件150及第二狀態量測構件170，且薄膜10的狀態可進行多次量測。
在第一狀態量測構件150中，第一光照射構件111可設置於薄膜10的第一側上(在圖2中，設置於上側上)，且第一影像拍攝構件131可設置於薄膜10的第二側上(在圖2中，設置於下側上)。第一狀態量測構件150可從自薄膜10的第一側照射並透射過薄膜10的光而獲得薄膜10的影像。
在第二狀態量測構件170中，第二光照射構件113可設置於薄膜10的第二側上(在圖2中，設置於下側上)，且第二影像拍攝構件133可設置於薄膜10的第一側上(在圖2中，設置於上側上)。第二狀態量測構件170可從自薄膜10的第二側照射並透射過薄膜10的光而獲得薄膜10的影像。
藉由調整透射過薄膜10的光的方向、獲得薄膜10的影像的位置等，可獲得薄膜10的多個影像，並可將所獲得的影像轉移至狀態確定構件200。狀態確定構件200可基於多個影像資料而 確定薄膜10的狀態，並可對所述資料進行分類。
除了調整光照射構件110及影像拍攝構件130(相對於薄膜10的位置)以外，亦可藉由調整自光照射構件110照射至薄膜10的光(相對於薄膜10的縱向方向的角度)、影像拍攝構件130的傾斜程度(相對於薄膜10的縱向方向或寬度方向)等而獲得多個影像。
藉由影像拍攝構件130獲得薄膜10的影像的方法可根據薄膜10的類型、薄膜10的可動性等而變化，且除第一狀態量測構件150及第二狀態量測構件170以外，亦可添加第三狀態量測構件、第四狀態量測構件等。
舉例而言，第三狀態量測構件190可包括第三光照射構件115及第三影像拍攝構件135。第三光照射構件115可照射相對於薄膜10的縱向方向傾斜角度θ的光，且第三影像拍攝構件135可拍攝來自第三光照射構件115的光的影像，以獲得以與第一狀態量測構件150及第二狀態量測構件170不同的角度而拍攝的薄膜10的影像。
狀態確定構件200可利用自狀態量測構件100拍攝的薄膜10的影像而確定薄膜10的位置狀態。
圖4(a)至圖4(c)說明對在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的薄膜的影像進行處理的製程。圖5說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的薄膜的缺陷區域的區域大小。圖6(a)及圖6(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置 中所量測的薄膜的不圓度值。
在實施方式中，參照圖4(a)至圖4(c)以及圖5，狀態確定構件200可基於由狀態量測構件100所量測的薄膜10的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定薄膜10的位置狀態。薄膜10的所確定的狀態歷史可儲存於儲存構件中，抑或可輸出至輸出構件90。
參照圖4(a)至圖4(c)，狀態確定構件200可將自狀態量測構件100所量測的8位元類比影像劃分成多個區域，並可將每一區域的灰度值(gray value)數位化為介於0與255之間的數字。狀態確定構件200可基於經數位化的灰階(gray scale)是否處於參考灰度值範圍內來確定每一區域的缺陷的存在。參考灰度值範圍可基於量測歷史記錄而預先確定，抑或可設置為自狀態量測構件100量測的平均值。
當某一區域的灰度值超出預先確定的參考灰度值範圍時，可將所述區域視為缺陷區域。可基於缺陷區域S的區域大小、缺陷區域S的寬度、缺陷區域S的長度等而對薄膜10的狀態進行分類。
參照圖5，可基於被視為被檢測的區域的寬度w及長度l而由以下方程式1表示缺陷區域S的區域大小：[方程式1]區域大小=(w+l)/2
圖6(a)及圖6(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的 裝置中所量測的薄膜的不圓度值。圖7(a)及圖7(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的缺陷區域的方向性。圖8(a)及圖8(b)說明在根據實施例用來處理薄膜的裝置中所量測的缺陷區域的作為方向性的寬長比。
參照圖6(a)至圖8(b)，除缺陷區域S的區域大小以外，亦可藉由缺陷區域S的不圓度值而對薄膜10的位置狀態進行分類。例如，對於缺陷區域S的低不圓度值，例如零(0)，缺陷區域S可被視為因刮痕而存在缺陷。
此外，缺陷區域S的斜率(參見圖7(a)及圖7(b))、缺陷區域S的寬長比(參見圖8(a)及圖8(b))以及灰度值差亦可被視為分類參考，以確定薄膜10的位置狀態(在圖8(b)中，「DX」是缺陷區域沿X軸的寬度，且「DY」是缺陷區域沿Y軸的長度)。
在實施方式中，狀態顯示構件300可根據薄膜10的位置狀態在薄膜10的對應位置上顯示標記70。
藉由根據薄膜10的位置狀態由狀態顯示構件300顯示標記70，使用者可輕易地偵測薄膜10的位置狀態。
在實施方式中，狀態顯示構件300可包括顯示構件310。顯示構件310可藉由對薄膜10噴射墨水而顯示薄膜10的位置狀態。舉例而言，用來處理薄膜的裝置1可包括多個顯示構件310，且顯示構件310可沿薄膜10的寬度方向對齊。因此，可在不沿薄膜10的寬度方向轉移顯示構件310的情況下，藉由顯示構件310 在對應位置處的操作而在對應位置上顯示標記70。
可根據薄膜10的狀態而以不同長度、區域、大小等來顯示標記70，以使得操作者可辨識出薄膜10的狀態。
參照圖9(a)至圖9(f)，其說明根據實施例的標記70。
在實施方式中，標記70可藉由噴射多個噴墨點71而形成，且噴墨點71的數目、間距、排列等可根據區域的狀態而變化。
舉例而言，噴墨點71可被形成為0.3毫米至5.0毫米的大小，且噴墨點71的最小間距可為0.3毫米至5.0毫米，以使得使用者可用肉眼辨識出噴墨點71。
噴墨點71的大小、間距等可根據以下而變化：薄膜10的大小；辨識標記70的使用者或標記偵測構件400的解析度；顯示構件310的數目；顯示構件310的大小等。
噴墨點71可顯示於例如光學薄膜的載體薄膜或保護薄膜等薄膜上，所述薄膜可在製造裝置之後被移除而不干擾裝置的製造。
在實施方式中，標記70可由被形成為多個行的噴墨點71顯示。當標記70被形成為兩行噴墨點71時，第一行可顯示缺陷的類型且第二行可顯示缺陷區域S的區域大小。
舉例而言，顯示於第一行上的一個點71可表明缺陷是由刮痕造成的，而顯示於第一行上的二個點71可表明缺陷是由刺穿造成的。
顯示於第二行上的點71的數目可表明缺陷區域S的區域 大小。缺陷區域S的區域大小可藉由在缺陷區域S的區域大小為大時在第二行上示出更多點71而顯示。
在不同狀態中的不同標記70亦可以多個點71的各種對齊方式或間距而顯示。
在實施方式中，狀態顯示構件300可更包括顯示支撐構件330及顯示轉移構件350。顯示支撐構件330可連接至顯示構件310且可支撐顯示構件310。顯示支撐構件330可沿薄膜10的寬度方向形成，且可支撐多個顯示構件310。
顯示轉移構件350可連接至顯示支撐構件330，且可轉移顯示支撐構件330。顯示轉移構件350可改變顯示構件310顯示於薄膜10上的標記70的位置，抑或可轉移顯示構件310用於修復或控制顯示構件310。在實施方式中，顯示轉移構件350可包括升降轉移構件351及旋轉轉移構件353。
升降轉移構件351可連接至顯示支撐構件330的端部，且可對顯示支撐構件330進行升降。舉例而言，升降轉移構件351可利用液壓缸或齒條齒輪傳動裝置來對顯示支撐構件330進行升降，但亦可使用升降技術領域範圍內的其他方法。
旋轉轉移構件353可旋轉顯示支撐構件330。舉例而言，旋轉轉移構件353的旋轉軸可連接至顯示支撐構件330，且旋轉轉移構件353可包括產生旋轉驅動力的裝置(例如，馬達)以旋轉顯示支撐構件330並可控制在薄膜10上顯示標記70的位置。
在實施方式中，用來處理薄膜的裝置1可更包括標記偵 測構件400。標記偵測構件400可根據薄膜10的顯示於狀態顯示構件300上的位置狀態而讀取標記70，且可確定薄膜10的將來使用或不使用。
舉例而言，標記偵測構件400可偵測由條碼機50顯示於薄膜10上的條碼及薄膜10的標記70，且基於標記70，標記偵測構件400可判斷對應於條碼的薄膜10是具有缺陷的缺陷薄膜、不具有缺陷的正常薄膜、還是具有缺陷的正常薄膜。
被標記偵測構件400確定為具有缺陷的薄膜10可在穿過面板貼附地點之後與虛設薄膜進行捲繞時與載體薄膜一起被捨棄。
被標記偵測構件400確定為正常的薄膜10可貼附至面板，且可被製造成例如液晶顯示器等顯示裝置。
圖10說明一種根據實施例的處理薄膜的方法。將參照圖10闡釋根據實施例的處理薄膜的方法S1。
在實施方式中，處理薄膜的方法S1可包括：量測薄膜的狀態S100、確定薄膜的狀態S200以及顯示薄膜的狀態S300。
在量測薄膜的狀態S100中，狀態量測構件100可拍攝薄膜10的影像並獲得薄膜10的影像。在量測薄膜的狀態S100時，沿薄膜10的縱向方向對齊的多個狀態量測構件100可拍攝薄膜10的影像，且可以多種方式在多個地點中獲得薄膜10的影像。
在確定薄膜的狀態S200中，可基於在量測薄膜的狀態S100中所量測的影像對薄膜10的位置狀態進行分類。在確定薄膜 的狀態S200時，薄膜10的位置狀態可基於由量測薄膜的狀態S100所量測的薄膜10的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定。
在顯示薄膜的狀態S300中，可基於在確定薄膜的狀態S200中所確定的薄膜10的位置狀態而於薄膜10上顯示根據薄膜10的位置狀態的標記70。在顯示薄膜的狀態S300時，根據薄膜10的位置狀態的標記70可顯示於薄膜10的對應位置上以顯示薄膜10的狀態。
處理薄膜的方法S1可更包括偵測標記S400。在偵測標記S400中，可自具有標記70的薄膜10偵測出標記70且可辨識出薄膜10的狀態，此使得能夠確定薄膜10的將來使用或不使用。
在根據實施例的用來處理薄膜的裝置1以及處理薄膜的方法S1中，可量測薄膜10的位置狀態，且可在對應位置上顯示根據所量測的狀態的標記70。因此，可輕易地偵測薄膜10的狀態。
本文中已揭露了各種示例性實施例，且儘管使用具體用語，但這些用語僅用於且被解釋為通常意義及闡述性意義，而並非用以限制目的。在某些情形中，除非另外明確地指明，否則如在本申請案提出申請之前此項技術中具有通常知識者所理解，結合一特定實施例所闡述的特徵、特性、及/或元件可單獨使用或與結合其他實施例所述的特徵、特性、及/或元件組合使用。因此，熟習此項技術者應理解，在不背離由下文申請專利範圍所述的本發明的精神及範圍的條件下，可作出各種形式及細節上的變化。
1‧‧‧用來處理薄膜的裝置
10‧‧‧薄膜
30‧‧‧薄膜轉移構件
31‧‧‧轉移輥
50‧‧‧條碼機
70‧‧‧標記
71‧‧‧點/噴墨點
90‧‧‧輸出構件
100‧‧‧狀態量測構件
110‧‧‧光照射構件
130‧‧‧影像拍攝構件
200‧‧‧狀態確定構件
300‧‧‧狀態顯示構件
310‧‧‧顯示構件
330‧‧‧顯示支撐構件
350‧‧‧顯示轉移構件
351‧‧‧升降轉移構件
353‧‧‧旋轉轉移構件
400‧‧‧標記偵測構件

Claims (10)

  1. 一種用來處理薄膜的裝置，包括：多個狀態量測構件，拍攝所述薄膜的影像，其中所述多個狀態量測構件沿所述薄膜的縱向方向對齊，所述多個狀態量測構件包括第一狀態量測構件及第二狀態量測構件，所述第一狀態量測構件包括第一光照射構件及第一影像拍攝構件，所述第二狀態量測構件包括第二光照射構件及第二影像拍攝構件，其中所述第一光照射構件設置於所述薄膜的第一側上，以及所述第一影像拍攝構件設置於所述薄膜的第二側上；以及所述第二光照射構件設置於所述薄膜的所述第二側上，以及所述第二影像拍攝構件設置於所述薄膜的所述第一側上；狀態確定構件，基於由所述多個狀態量測構件拍攝的所述薄膜的所述影像來確定所述薄膜的位置狀態；狀態顯示構件，基於由所述狀態確定構件所確定的所述薄膜的所述位置狀態，根據所述薄膜的所述位置狀態來顯示標記；以及標記偵測構件，根據所述薄膜的顯示於所述狀態顯示構件上的所述位置狀態而讀取所述標記，且確定所述薄膜的使用或不使用，其中所述狀態確定構件基於由所述多個狀態量測構件所量測的所述薄膜的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定所述薄膜的所述位置狀態，且 所述狀態確定構件基於以下中的至少一者來確定所述薄膜的所述位置狀態：其中所述薄膜的所述灰度值超出所述參考灰度值範圍的缺陷區域的區域大小；所述缺陷區域的不圓度值；所述缺陷區域的寬度；或所述缺陷區域的長度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述第一光照射構件及所述第二光照射構件照射與所述薄膜的寬度方向平行的線性光。
  3. 如申請專利範圍第1項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述狀態顯示構件根據所述薄膜的所述位置狀態而在所述薄膜的對應位置上顯示標記。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述狀態顯示構件包括顯示構件，所述顯示構件藉由對所述薄膜噴射墨水而顯示所述薄膜的所述狀態。
  5. 如申請專利範圍第4項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述用來處理所述薄膜的裝置包括多個所述顯示構件，且所述顯示構件沿所述薄膜的寬度方向對齊。
  6. 如申請專利範圍第4項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述顯示構件藉由噴射多個噴墨點而顯示所述薄膜的所述狀態。
  7. 如申請專利範圍第4項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述狀態顯示構件更包括：顯示支撐構件，支撐所述顯示構件；以及顯示轉移構件，連接至所述顯示支撐構件並轉移所述顯示支 撐構件。
  8. 如申請專利範圍第7項所述用來處理薄膜的裝置，其中所述顯示轉移構件包括：升降轉移構件，連接至所述顯示支撐構件並對所述顯示支撐構件進行升降；以及旋轉轉移構件，對所述顯示支撐構件進行旋轉。
  9. 一種用來處理薄膜的方法，包括：藉由拍攝所述薄膜的影像來對所述薄膜的狀態進行量測，其中所述薄膜的所述狀態的所述量測包括由沿所述薄膜的縱向方向對齊的多個狀態量測構件來拍攝所述薄膜的所述影像，所述多個狀態量測構件包括第一狀態量測構件及第二狀態量測構件，所述第一狀態量測構件包括第一光照射構件及第一影像拍攝構件，所述第二狀態量測構件包括第二光照射構件及第二影像拍攝構件，其中所述第一光照射構件設置於所述薄膜的第一側上，以及所述第一影像拍攝構件設置於所述薄膜的第二側上；以及所述第二光照射構件設置於所述薄膜的所述第二側上，以及所述第二影像拍攝構件設置於所述薄膜的所述第一側上；藉由基於在所述薄膜的所述狀態的所述量測中所量測的所述薄膜的所述影像對所述薄膜的位置狀態進行分類來對所述薄膜的所述狀態進行確定；藉由基於在所述薄膜的所述狀態的所述確定中所確定的所述 薄膜的所述位置狀態而顯示所述薄膜的所述位置狀態的標記來對所述薄膜的所述狀態進行顯示；以及藉由標記偵測構件偵測所述標記及辨識所述薄膜的所述狀態來確定所述薄膜的使用或不使用，其中所述狀態確定構件基於由所述狀態量測構件所量測的所述薄膜的位置影像的灰度值是否處於參考灰度值範圍內來確定所述薄膜的所述位置狀態，且所述狀態確定構件基於以下中的至少一者來確定所述薄膜的所述位置狀態：其中所述薄膜的所述灰度值超出所述參考灰度值範圍的缺陷區域的區域大小；所述缺陷區域的不圓度值；所述缺陷區域的寬度；或所述缺陷區域的長度。
  10. 如申請專利範圍第9項中所述用來處理薄膜的方法，其中所述薄膜的所述狀態的所述顯示包括根據所述薄膜的所述位置狀態而在所述薄膜的對應位置上顯示所述標記。
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