TWI688950B - 隨機存取記憶體並且具有與其相關的電路、方法以及裝置 - Google Patents

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Abstract

最早使用互補式金屬氧化物半導體(CMOS)製程技術來實現靜態隨機存取記憶體(SRAM)的電晶體數量是六。然後減少電晶體數量則能提高集積密度,然而此舉將會降低記憶體的穩定性,也有可能提高存取電路的複雜度,因此而增加功率消耗。
為了提高SRAM的集積密度,並且根據減少電晶體數量之後所形成的電器特性而設計具有低功率消耗的記憶體以及其所對應的電路,然後實現一個存取系統。
如果其它各種記憶體的電器特性近似於SRAM,像是動態隨機存取記憶體(DRAM),那麼它們也能使用SRAM所對應的存取電路。

Description

隨機存取記憶體並且具有與其相關的電路、方法以及裝 置
本發明屬於一種隨機存取記憶體的記憶體元件,特別是使用半導體製程技術來實現靜態隨機存取記憶體以及動態隨機存取記憶體,然後實現與其對應的存取電路以及存取系統。
最早使用互補式金屬氧化物半導體製程技術(CMOS process technology)來實現靜態隨機存取記憶體(SRAM)的電晶體數量是六,接著是由五電晶體來實現,再進一步地則是由四電晶體來實現。目前,動態隨機存取記憶體(DRAM),尤其是指它的電路結構是由一電晶體以及一電容器來組成一儲存細胞(storage cell),它是使用特殊的半導體製程技術來製作;再者,其所對應的存取電路也較複雜,於是整體的效能不佳。
本案的發明人已將本發明的基礎知識發表在臺灣的期刊,以下提供各期刊的篇名、刊名、卷期以及出版年月:「Logic Gate Design發展平臺,新電子科技,234期,2005/09」;「Logic Gate Design發展平臺(2),新電子科技,235期,2005/10」;「Logic Gate Design發展平臺(3),新電子科技,237期,2005/12」;「擴展脈波觸發器及ADS模擬技術,電子與電腦,87期,2006/07」; 「記憶體設計探索,電子與電腦,90期,2006/10」;「善用CMOS特性3T SRAM技術難題有解,新電子科技,2012/5」。
本案的發明人也表示本發明所要申請保護的技術細節皆未被揭露於上述的已公開文件;詳言之,已公開文件僅揭露相關的基本概念以及輪廓,在尚未揭露更下位的技術細節之前,以及在本發明更加詳細地描述相關的技術內容之前,本領域的技藝人士很難從先前技術來得知本發明所揭露的技術內容,也很難在理解先前技術之後而能輕易地實現本發明的技術細節。
本發明使用標準的半導體製程技術來製作DRAM,它的電路結構是由一電晶體以及一二極體來組成(consisting of),並且使用該二極體的空乏區電容(depletion capacitance)來形成一電容器;再者,它會搭配SRAM所對應的存取電路,於是可提升整體的效能。
本發明是為了提高SRAM的集積密度而減少電晶體數量,也期望能在標準的CMOS製程技術中由三電晶體來實現,並且克服儲存狀態的穩定性以及降低記憶體的功率消耗,然後實現相關的電路,最終則是實現與其對應的存取電路以及存取系統。
在個人電腦(Personal Computer)的主機板,由於DRAM在資料讀取的作業期間內會大幅地增加存取時間,另外,在更新(refresh)記憶體的作業期間內也可能增加存取時間;因此,中央處理器(Central Processing Unit,CPU)不能即時從DRAM取得資料,於是CPU的操作指令在資料讀取指令之後就被迫停止。解決的方法是切換執行緒(threads),或是在CPU增加快取記憶體的空間(space of cache memory),或是使用更多階層的快取記憶體。本發明所要解決的問題之一即是使得SRAM能夠取代DRAM,或大幅增強DRAM效能,並減少快取記憶體階層。
在個人電腦的主機板,CPU具有快取記憶體,其硬體電路是使用SRAM。本發明另一個所要解決的問題即是使用此技術來實現快取記憶體則能減小布局面積(layout area)以及降低功率消耗。
本發明所能解決的問題不以上述內容為限,本領域的技藝人士將會明白此技術的優點以及其特性將可使用在未來的相關產品,或是取代先前相關的記憶體產品。
100:靜態隨機存取記憶體細胞(SRAM cell)
200:蹺蹺板(Seesaw)
201:擴展脈波觸發器一寬度(SPT_W)
202:擴展脈波觸發器一循環(SPT_C)
204:延遲元件(delay component)
221:第2類擴展脈波觸發器一寬度(SPT2_W)
222:第2類擴展脈波觸發器一循環(SPT2_C)
231:第3類擴展脈波觸發器一寬度(SPT3_W)
241:第4類擴展脈波觸發器一寬度(SPT4_W)
300:細胞存取及保持(Cell Access and Hold)
301:第4類擴展脈波觸發器一SRAM(SPT4_SRAM)
500:細胞電壓調節器(Cell Voltage Regulator)
721:解碼器(Decoder)
722:選擇器(Selector)
R1:電阻器(Resistor)
D1:二極體(Diode)
C1:電容器(Capacitor)
1000:SRAM晶片的功能方塊圖(Function Block of SRAM Chip)
2000:DRAM晶片的功能方塊圖(Function Block of DRAM Chip)
2500:更新控制器(Refresh Controller)
1100,2100:記憶體陣列(Memory Array)
1300,2300:存取控制器(Access Controller)
1301_0~b,2301_0~b:細胞群存取及保持(Cells Access and Hold)
1500:功率控制器(Power Controller)
1501,1502,1599:細胞電壓調節器(Cell Voltage Regulator)
1710,2710:動作控制器(Action Controller)
1720,2720:位址控制器(Address Controller)
1730,2730:資料緩衝器(Data Buffer)
Or1:或閘(OR gate)
And1,And2:及閘(AND gate)
Not1,Not2:反閘(NOT gate)
Nor1:反或閘(NOR gate)
Tri1,Tri2:三態閘(Tri-state gate)
M1至M10,Ma1至Ma2,Mb1至Mb3,Mx1至Mx2: 金屬氧化物半導體場效應電晶體(MOSFET)
1101_0~b,1102_0~b,1103_0~b,1104_0~b,1199_0~b, 2101_0~b,2102_0~b,2103_0~b,2104_0~b,2199_0~b:細胞群(Cells)
251至253:輸入以及輸出之波形圖(Waveforms of Input and Output)
3100,3200:特殊應用功能方塊圖(Function Block of Special Application)
3101,3201:擴展脈波觸發器-寬度-正緣(SPT_W_R)
3102,3202:擴展脈波觸發器-寬度-負緣(SPT_W_F)
3103,3203:SR正反器(SR-FF)
3104,3204:多工器(Mux)
3211,3221:多臨界電壓電晶體(MT-CMOS)
圖1 5T SRAM cell的電路示意圖,屬於先前技藝。
圖2 4T SRAM cell的電路示意圖,屬於先前技藝。
圖3 3T1R SRAM cell的電路示意圖,屬於先前技藝。
圖4 3T1D SRAM cell的電路示意圖。
圖5 3T1C SRAM cell的電路示意圖。
圖6 細胞存取及保持的電路示意圖。
圖7 SPT_W的電路示意圖。
圖8 SPT_C的電路示意圖。
圖9 蹺蹺板的電路示意圖。
圖10 SPT2_W的電路示意圖。
圖11 SPT2_C的電路示意圖。
圖12 SPT3_W的電路示意圖。
圖13 SPT4_W的電路示意圖。
圖14 細胞電壓調節器的電路示意圖。
圖15 細胞電壓調節器的電路示意圖。
圖16 SRAM晶片的功能方塊圖。
圖17 動作控制器的電路示意圖,屬於一般技藝。
圖18 位址控制器的電路示意圖,屬於一般技藝。
圖19 資料緩衝器的電路示意圖,屬於一般技藝。
圖20 DRAM晶片的功能方塊圖。
圖21 SPT_W的波形示意圖,針對脈波輸入信號。
圖22 SPT_W的波形示意圖,針對時脈輸入信號。
圖23 SPT_C的波形示意圖。
圖24 SPT之第一特殊應用電路以及波形示意圖。
圖25 SPT之第二特殊應用電路以及波形示意圖。
圖26 3T1D SRAM cell在作業上的波形示意圖。
圖27 1T1C DRAM cell在作業上的波形示意圖。
以下的文字說明配合其所對應的圖式,相關的實施例是作為解釋本發明的創新技術而能依此實現的基礎模型,並非代表或限制所能實現本發明的唯一實施例。為了提供本發明的創新技術,實施方式會包含具體的細節來使得本領域的通常知識者可以理解;然而,本領域的技藝人士將會明白在不採用該等具體細節的情況下也能實現本發明。在描述某些實施例時,對於熟知的結構以及元件則使用方塊圖來表示,這是為了避免偏離本發明的創新概念。
本文使用的詞語「示例性的」,其意謂為用「作示例、實例或說明的」。本文描述為「示例性」,其任何實施例皆不應被解釋為比其他實施例更佳或更有利。本文引用「階層式電路(Hierarchical Circuit)」來描述各個電路示意圖以及方塊圖,此為電子電路以及積體電路領域中所熟悉的設計方法;其中,「終端點(terminal point)」的定義是供應電壓的終端點,或是經由連接或耦接至該終端點;其中,「節點(node)」的定義是供應電壓以及任一信號在本電路所屬的階層與上一階層、上幾個階層或第 一階層之間將有可能進行耦接。詳言之,當下所述的電路是階層式電路的其中一個階層,在該階層之外則是可以耦接其它元件或電路,並且在完成耦接之後,當下所述的電路就成為次一階層;除此之外,不同的電路示意圖之間雖然也會使用相同的節點名稱,但是也將有可能進行耦接。本文使用「連接點(connective point)」來表示其為電子元件或電子電路之間進行實體連接的金屬接點。
以下介紹本發明在電晶體階層設計(transistor-level design)所使用的電晶體的電路符號,電晶體的結構是屬於金屬氧化物半導體場效應電晶體(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET),這又細分成N型MOSET以及P型MOSET,在以下表示成「NMOS」以及「PMOS」。具有4個節點的MOSFET的電路符號,包含源極(Source,S)、汲極(Drain,D)、閘極(Gate,G)以及基極(Bulk,B),並且源極有箭頭圖示,或者無箭頭圖示來表示源極的方向是可直接推斷的;具有3個節點的MOSFET的電路符號,包含源極、汲極以及閘極,並且源極有箭頭圖示,或者無箭頭圖示來表示源極的方向是可直接推斷的,其中,無顯示的基極是表示基極與源極直接連接。由於CMOS製程技術又分為P型基體(P-type substrate)以及N型基體(N-type substrate),而且通常是使用P型基體,所以,上述的NMOS元件以及PMOS元件在使用N型基體之時則要將NMOS元件轉成PMOS元件,並且將PMOS元件轉成NMOS元件;除此之外,也要轉換電源終端點以及接地終端點的極性,像是將接地終端點轉成電源終端點。
靜態隨機存取記憶體細胞:靜態隨機存取記憶體細胞(Static Random-Access Memory cell)在以下表示成「SRAM cell」,也是隨機存取記憶體的記憶體元件。
以下參考圖1,SRAM cell 100是在電晶體階層設計之下由五電晶體來組合而成,在以下表示成「5T SRAM cell」。M1至M5是 MOSFET,分別是第一至第五電晶體,其中,M1,M4,M5是NMOS,M2,M3是PMOS。該等電晶體形成一儲存細胞(storage cell),並且M1也被稱為存取電晶體(access transistor)。
一輸入或輸出節點:位元線(Bit Line)在以下表示成「BL」,這是一資料節點,用於輸入或輸出一位元的資料值。
一輸入節點:字組線(Word Line)在以下表示成「WL」,這是一位址節點,用於控制寫入或讀取該位元的資料值。
一輸入節點:細胞的供應電壓(supply voltage of cell)在以下表示成「Vcell」,這是一細胞電源終端點,用於接受適合的電壓來進行寫入作業或讀取作業。
5T SRAM cell 100包含一資料傳輸節點,一傳輸控制節點,一細胞電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第四電晶體,一第五電晶體。該記憶體元件的連接網路(wiring net)如圖1所示,並且是先前技術,在此不加詳述。
5T SRAM cell是習以為知的記憶體元件,其中,M2,M4組成一第一反相器(inverter),M3,M5組成一第二反相器,該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料。更詳細的說明可參考期刊論文「記憶體設計探索,電子與電腦,90期,2006/10」。
以下參考圖2,SRAM cell 100是在電晶體階層設計之下由四電晶體來組合而成,在以下表示成「4T SRAM cell」。M1至M4是MOSFET,分別是第一至第四電晶體,其中,M1,M4是NMOS,M2,M3是PMOS。其餘節點如同前文的描述。
4T SRAM cell 100包含一資料傳輸節點,一傳輸控制節點,一細胞電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第四電晶體。該記憶體元件的連接網路如圖2所示,並且是先前技術,在此不加詳述。
4T SRAM cell是一單軌且強健的記憶體(Single-Rail-and-Robust Memory),意即某一邏輯準位具強穩定性,另一邏輯準位具弱穩定性。4T SRAM cell的記憶能力是依賴電晶體的洩漏電流(leakage current)。當M3被截止(cut off)之時,在M3的源極與汲極之間仍然會有洩漏電流,該電流從M1的汲極流向源極,最終經由BL而流至該接地終端點;除此之外,也有M1的汲極與基極之間的二極體逆向電流(reverse current of diode),簡稱基極電流,用來穩定該位元的資料值。當M1被截止之時,M1的洩漏電流以及基極電流與M3的工作電流形成一第一電流路徑,該第一電流路徑可以等效成一第一反相器;M4的工作電流與M2的工作電流形成一第二電流路徑,並且M4受到動態控制,將會有強壯的下拉電流(strong pull-low current),該第二電流路徑可以等效成一第二反相器;該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料。更詳細的說明可參考期刊論文「記憶體設計探索,電子與電腦,90期,2006/10」。
以下參考圖3,SRAM cell 100是在電晶體階層設計之下由三電晶體以及一電阻器(resistor)來組合而成,在以下表示成「3T1R SRAM cell」。M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體,其中,M1是NMOS,M2,M3是PMOS。R1是一電阻器,該電阻器包含第一連接點以及第二連接點。該等電晶體以及該電阻器形成一儲存細胞。其餘節點如同前文的描述。
3T1R SRAM cell 100包含一資料傳輸節點,一傳輸控制節點,一細胞電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第一電阻器。該記憶體元件的連接網路如圖3所示,並且是先前技術,在此不加詳述。
3T1R SRAM cell的記憶能力是不止於依賴電晶體的洩漏電流來穩定該位元的資料值,更要使得R1的阻抗值能夠配合M2的動態變化;由於M2在導通(turn on)期間會有很低的阻抗值,而且在截止期間會有 很高的阻抗值,所以R1的阻抗值不可太高,也不可太低。由於標準的CMOS製程技術很難去製造高阻抗值的電阻器,因此,3T1R SRAM cell在標準的製程技術之下是難以實現的記憶體元件。當M1被導通之時,該儲存細胞將會迅速失去資料閂鎖的能力。當M1被截止之時,M1的洩漏電流以及基極電流與M3的工作電流形成一第一電流路徑,該第一電流路徑可以等效成一第一反相器;流過R1的電流與M2的工作電流形成一第二電流路徑,並且會有中等的下拉電流(middle pull-low current),該第二電流路徑可以等效成一第二反相器;該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料。更詳細的說明可參考期刊論文「善用CMOS特性3T SRAM技術難題有解,新電子科技,2012/5」。
本發明的第一實施例:以下參考圖4,SRAM cell 100是在電晶體階層設計之下由三電晶體以及一二極體(diode)來組合而成,在以下表示成「3T1D SRAM cell」。M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體,其中,M1是NMOS,M2,M3是PMOS。D1是一二極體,包含陽極(anode)以及陰極(cathode),陽極在以下稱為第一連接點,陰極在以下稱為第二連接點。其餘節點如同前文的描述。
3T1D SRAM cell 100包含一資料傳輸節點,一傳輸控制節點,一細胞電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第一二極體。
該第一電晶體的連接網路如後:源極耦接該資料傳輸節點:閘極耦接該傳輸控制節點:汲極連接該第二電晶體的閘極以及該第三電晶體的汲極:基極連接該接地終端點。
該第二電晶體的連接網路如後:源極連接該細胞電源終端點:閘極連接該第一以及第三電晶體的汲極:汲極連接該第三電晶體的閘極以及該第一二極體的第二連接點。
該第三電晶體的連接網路如後:源極連接該細胞電源終端點:閘極連接該 第二電晶體的汲極以及該第一二極體的第二連接點:汲極連接該第一電晶體的汲極以及該第二電晶體的閘極。
該第一二極體的連接網路如後:第一連接點連接該接地終端點:第二連接點連接該第二電晶體的汲極以及該第三電晶體的閘極。
3T1D SRAM cell的電器特性不同於上述5T SRAM cell、4T SRAM cell以及3T1R SRAM cell,這迥異的特性來自於該第一二極體;其中,D1的連接網路會產生逆向電流,然而此電流值很微小,甚至會受到溫度影響。M2,M3要隨著D1的逆向電流而進行調整,並且要調整特殊的製程參數,像是增加閘極氧化層(gate oxide)的厚度,或者使用另一標準的製程技術,即是改變電晶體型態(transistor type),像是使用高臨界電壓(threshold voltage)的電晶體。更進一步地,基於M2,M3的調整方式而一併調整M1之後則會降低單一細胞的功率消耗。當M1被導通之時,該儲存細胞將會迅速失去資料閂鎖的能力。當M1被截止之時,M1的洩漏電流以及基極電流與M3的工作電流形成一第一電流路徑,該第一電流路徑可以等效成一第一反相器;D1的逆向電流與M2的工作電流形成一第二電流路徑,並且僅有微弱的下拉電流(weak pull-low current),該第二電流路徑可以等效成一第二反相器;該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料。
CMOS製程技術可以製造多種二極體型態(diode type),像是「n+/p-well」、「p+/n-well」、「n-well/p-sub」以及「ESD」;其中,D1有布局面積的限制,並且也要匹配M2,M3隨著溫度變化而產生的電流變異,所以在一般的條件下所使用的二極體型態是「n+/p-well」,這可得到較小的布局面積以及較佳的穩定性。另外,在不限制D1的布局面積的條件下而使用變容二極體(varactor)則可承受較高的操作溫度。本領域的技藝人士可經由本發明之教示而得知在不限制布局面積的條件下則能串聯或並聯不同特性的二極體、電容器、電阻器或其它具有洩漏電流的元件。
本發明的第二實施例:以下參考圖5,SRAM cell 100是在電晶體階層設計之下由三電晶體以及一電容器(capacitor)來組合而成,在以下表示成「3T1C SRAM cell」。這裡要特別注意到這是使用絕緣體上矽(Silicon-On-Insulator,SOI)的製程技術才能更容易實現,並且其所製造的電晶體沒有基極。M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體,其中,M1是NMOS,M2,M3是PMOS。C1是一電容器,包含第一連接點以及第二連接點。其餘節點如同前文的描述。
3T1C SRAM cell 100包含一資料傳輸節點,一傳輸控制節點,一細胞電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第一電容器。連接網路可以對照上述的3T1D SRAM cell100,在此不再贅述。
3T1C SRAM cell的記憶能力在於SOI製程技術會有更低的洩漏電流,因此,降低C1的氧化層的厚度即可增加直接穿透電流(direct tunneling current),這樣的調整即是匹配該等電晶體的洩漏電流與該電容器的直接穿透電流,如同3T1D SRAM cell的電器特性。當M1被截止之時,M1的洩漏電流與M3的工作電流形成一第一電流路徑,該第一電流路徑可以等效成一第一反相器;C1的直接穿透電流與M2的工作電流形成一第二電流路徑,該第二電流路徑可以等效成一第二反相器,並且僅有微弱的下拉電流;該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料。本領域的技藝人士經由上述之全部示例性說明即知電晶體型態以及電晶體參數可搭配二極體型態以及二極體參數而針對效能優化、最小面積或最小功率消耗進行設計;當然也能從電晶體型態以及電晶體參數搭配電容器型態以及電容器參數進行設計。
根據上述的各記憶體元件的電器特性,在此進一步地說明關於SRAM cell所能接受的工作電壓(working voltage),區分為常態電壓(normal voltage)、寫入電壓(writing voltage)、讀取電壓(reading voltage)以及 待機電壓(standby voltage);常態電壓用於沒有進行資料存取之時來保持記憶體元件的儲存狀態;寫入電壓用於資料被寫進記憶體元件之時來減小狀態轉換時間;讀取電壓用於資料自記憶體元件讀出之時來增強信號強度;待機電壓可以降低功率消耗。5T SRAM cell、4T SRAM cell以及3T1R SRAM cell所能接受的工作電壓的準位如後:讀取電壓高於或等於常態電壓,常態電壓高於或等於寫入電壓,寫入電壓高於或等於待機電壓。3T1D SRAM cell以及3T1C SRAM cell是完全依賴電晶體的洩漏電流來保持記憶體元件的儲存狀態,因此工作電壓不能很低,否則沒有足夠的洩漏電流來保持記憶體元件的儲存狀態,但是在進行資料寫入之時就要破壞記憶體元件的儲存狀態,所以能接受的工作電壓的準位如後:讀取電壓高於或等於常態電壓,常態電壓高於或等於待機電壓,待機電壓高於或等於寫入電壓。圖26是一示例性的電壓波形圖,顯示3T1D SRAM cell在寫入期間、保持期間以及讀取期間的儲存狀態。本領域的技藝人士可輕易地將上述的記憶體元件經由簡單的改變來完成雙埠存取(dual-port access),像是額外地增加一資料傳輸節點、一傳輸控制節點以及一電晶體,該電晶體也是存取電晶體。
細胞存取及保持:細胞存取及保持(Cell Access and Hold)是一種存取電路,其中包含保持電路,介於前述的記憶體元件與記憶體傳輸介面之間,用於將一位元值(bit value)寫進去前述的記憶體元件,或者將一位元值從前述的記憶體元件讀出來;除此之外,根據前述的記憶體元件的電器特性來保持已儲存在前述的記憶體元件的該位元值。
本發明的第三實施例:以下參考圖6,這是示例性的電路圖,細胞存取及保持300是混合電晶體階層設計、邏輯閘階層設計(gate-level design)以及功能方塊圖(function block)而形成的電路圖。M1至M2是MOSFET,分別是第一至第二電晶體,其中,M1是NMOS,M2是PMOS。 Tri1是三態閘;Not1是反閘。
SPT4_SRAM 301是功能方塊圖,用於偵測BL,當BL從低電壓約略提升到高電壓之時,將會迅速地輸出一種軌對軌形式的高電壓,這將在後文詳細說明;其中,Goad是第一輸入連接點,Width是第一輸出連接點,pull是第二輸出連接點。
一輸入節點:細胞寫入(Cell Write)在以下表示成「CWr」,這是一控制節點,用於啟動細胞寫入的功能,並且改變前述的記憶體元件的儲存狀態。
一輸入節點:細胞保持(Cell Hold)在以下表示成「CHd」,這是一控制節點,用於啟動細胞保持的功能,並且維持前述的記憶體元件的儲存狀態。
一輸入節點:位元至細胞(Bit To Cell)在以下表示成「BTC」,這是一資料節點,用於將一位元值寫進去前述的記憶體元件。
一輸出節點:位元至資料(Bit To Data)在以下表示成「BTD」,這是一資料節點,用於將一位元值從前述的記憶體元件讀出來。
其餘節點如同前文的描述。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來完成細胞寫入的功能:CWr致能(enable)Tri1;BTC將一位元值送至Tri1;Tri1將該位元值同時轉送至BL以及SPT4_SRAM 301的Goad;當SPT4_SRAM 301的Goad已偵測到在其觸發準位以上的高電壓時,便會立即將SPT4_SRAM 301的pull降低到低電壓來驅動M2,在M2導通之後則向BL提供更強壯的高電壓來穩定前述的SRAM cell 100的儲存狀態,再者,此舉可以減小寫入時間。在此要特別強調這是較佳的實施例,本領域的技藝人士可知該等電子元件可以依據實際的設計規格而與細胞讀取電路分離,然後進行耦接,並且配置相應的數量。另外,在此要特別地說明關於細胞存取及保持300的M2,該電晶體對於5T/4T SRAM cell不是必須存在的元件,但是,對於3T1R/3T1D/3T1C SRAM cell則是必須存在的元件,這是因為前述的記憶體元件有可能受到鄰近寫入(neighborhood writing)的影響而 改變儲存狀態,這是3T1R/3T1D/3T1C SRAM cell與5T/4T SRAM cell之間在電器特性上的最大差異。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來完成細胞讀取的功能:在前述的SRAM cell 100的WL致能前述的SRAM cell 100的M1之後,前述的SRAM cell 100的儲存狀態會送往BL;SPT4_SRAM 301的Goad持續接收BL,並且將該儲存狀態從SPT4_SRAM 301的Width轉送至BTD,其中,Not1的作用如同緩衝器;當SPT4_SRAM 301的Goad已偵測到在其觸發準位以上的高電壓時,便會立即將SPT4_SRAM 301的pull降低到低電壓來驅動M2,在M2導通之後則向BL提供更強壯的高電壓來穩定前述的SRAM cell 100的儲存狀態。在此要特別強調這是較佳的實施例,本領域的技藝人士可知該等電子元件可以依據實際的設計規格而與細胞寫入電路分離,然後進行耦接,並且配置相應的數量。另外,在此要特別地說明關於細胞存取及保持300的M2,該電晶體對於5T/4T SRAM cell不是必須存在的元件,但是,對於3T1R/3T1D/3T1C SRAM cell則是必須存在的元件,這是因為前述的記憶體元件有可能受到鄰近讀取(neighborhood reading)的影響而改變儲存狀態,也有可能發生破壞性讀出(destructive readout),這是3T1R/3T1D/3T1C SRAM cell與5T/4T SRAM cell之間在電器特性上的最大差異。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來完成細胞保持的功能:CHd驅動M1;在M1導通之後則使得BL的電壓準位維持在低電壓,並且使得前述的SRAM cell 100的M1的洩漏電流可以到達接地終端點。在此要特別強調這是較佳的實施例,本領域的技藝人士可知該等電子元件可以依據實際的設計規格而與細胞存取電路分離,然後進行耦接,並且配置相應的數量。另外,在此要特別地說明關於細胞存取及保持300的M1,該電晶體對於前述的記憶體元件是必須存在的元件,這是因為前述的記憶體元件可以實現資料儲存的關鍵技術就是經由電晶體 的洩漏電流來維持儲存狀態;對於5T SRAM cell,M1可以增強進入待機之後的穩定性;對於4T/3T1R/3T1D/3T1C SRAM cell,M1是必須存在的元件。本領域的技藝人士可以理解本發明不必限制CHd的信號波形,其中,較簡單的實施例是持續驅動M1,但是在儲存狀態不會被立刻破壞的情況下,也可輕易地改成間歇驅動M1,甚至可以根據實際的狀況而驅動M1。
細胞存取及保持300的電路包含但不限於一第一控制節點,一第二控制節點,一第一資料節點,一第二資料節點,一資料傳輸節點,一電源終端點,一接地終端點,一第一三態閘,一第一反閘,一第一功能電路,一第一電晶體,一第二電晶體。
以下的步驟將會說明如何進行細胞寫入作業以及細胞保持作業。
初始步驟,該第一控制節點維持除能(disable)細胞寫入的功能,該第二控制節點維持致能細胞保持的功能。此時是在細胞保持的工作階段,其中,該第二控制節點驅動該第一電晶體來完成細胞保持作業。
第一步驟,該第二控制節點先除能細胞保持的功能,然後該第一控制節點致能細胞寫入的功能。此後就是在細胞寫入的工作階段。
第二步驟,該第一資料節點的資料值將會傳送至該資料傳輸節點,然後完成細胞寫入作業。
第三步驟,該第一控制節點先除能細胞寫入的功能,然後該第二控制節點致能細胞保持的功能。此後就是在細胞保持的工作階段。
以下的步驟將會說明如何進行細胞讀取作業以及細胞保持作業。
初始步驟,該第二控制節點維持致能細胞保持的功能。此時是在細胞保持的工作階段,其中,該第二控制節點驅動該第一電晶體來完成細胞保持作業。
第一步驟,該第二控制節點在進入細胞讀取的工作階段之後除能細胞保持 的功能。為了避免發生破壞性讀出就要立刻進行除能。
第二步驟,該第二資料節點將會接收到該資料傳輸節點的資料值,然後完成細胞讀取作業。
第三步驟,該第二控制節點在完成細胞讀取之後致能細胞保持的功能。此後就是在細胞保持的工作階段。為了避免發生破壞性讀出就要立刻進行致能。
本發明的細胞存取及保持的電路與其對應的手段以及方法是配合前述的SRAM cell 100的電器特性;其中,寫入方法以及讀取方法可以對應同一存取電路,也可以分別對應不同的存取電路;然而,該電路與其對應的手段以及方法所能配合的記憶體元件皆不以此為限,若其它各種記憶體元件的電器特性與前述的SRAM cell 100相近之時即可直接使用,或者根據電器特性的差異而稍加修改。例如配合DRAM cell的電器特性來設計該電路與其對應的手段以及方法;其中,使用該細胞存取及保持的電路來讀取DRAM cell則能在讀取期間完成回寫作業(rewrite operation),於是可以省去「讀後寫架構(Write-After-Read architecture)」;除此之外,還可以增強雜訊邊限(noise margin),這是該第一電晶體聯合該第一功能電路的動作之後而產生的效益。圖27是一示例性的電壓波形圖,顯示1T1C DRAM cell在寫入期間、保持期間以及讀取期間的儲存狀態。其中,DRAM cell的實施例可以是1T1C、1T-SOI或是使用二極體的空乏區電容(depletion capacitance)來完成1T1D;雖然該空乏區電容的電容量比較小,也有受溫度影響的逆向電流,但搭配本發明的存取技術則具有儲存效益。當本發明的電路搭配DRAM cell之時,該細胞內的電晶體就可以調整某些特殊的製程參數,像是該細胞可以使用高臨界電壓的電晶體來減少洩漏電流,但是本發明的電路仍然可以使用低臨界電壓的電晶體,並且不必提高BL以及WL的供應電壓。換言之,當該細胞被寫入第一邏輯準位之時,該細胞的儲存狀態就會被維持在該邏輯準位,然而,當該細胞被寫入第二邏輯準位之 時,該細胞的儲存狀態將會逐漸地改變至第一邏輯準位。其中,該第一以及第二邏輯準位可分別對應邏輯0以及邏輯1;邏輯0可為低於該觸發準位的電壓準位,並且邏輯1可為高於或等於該觸發準位的電壓準位。除此之外,在一讀取期間內,一擴展脈波觸發器將會感測該儲存狀態然後讀出,當該儲存狀態被感測到是該第二邏輯準位時會立即執行回寫作業,否則不會執行該回寫作業。本領域的技藝人士可知依據一記憶體元件的電器特性而能隨之改變圖6所示之各電晶體的型別;例如,M1為了匹配儲存狀態的電壓極性而更換成PMOS;又例如,M2可依據回寫的電壓極性而更換成NMOS。以下提出一實施例來進一步說明:一DRAM細胞由一NMOS以及一電容器組成,由該細胞的電器特性而知圖6所示之M1可更換成PMOS,並且令M1產生上拉電流來補償該NMOS的洩漏電流,進而獲得較長的資料記憶時間;其中,M2依據回寫的電壓極性而使用PMOS。
擴展脈波觸發器:擴展脈波觸發器(Spread Pulse Trigger)在以下表示成「SPT」,用於將電壓變化量或者脈波寬度當作觸發信號來產生一軌對軌的脈波信號(a pulse signal of rail-to-rail);其中,該電壓變化量可以小於電晶體的臨界電壓,最小的電壓變化量可以趨近於零,最窄的脈波寬度可以小於電晶體的傳遞延遲(propagation delay of transistor)。更詳細地描述就是當輸入節點從低電壓提升到達觸發準位之時,或者相反地從高電壓降低到達觸發準位之時,換言之,就是當該輸入節點從第一邏輯準位變化到達第二電壓值之時即會發生觸發信號,然後對輸出節點進行迅速地且大幅地切換邏輯準位,最後輸出一軌對軌的脈波信號,該脈波信號的脈波寬度大於或等於電晶體的傳遞延遲;其中,數位電路的輸入電位以及輸出電位在邏輯上的界定稱為邏輯準位,第二電壓值的定義是電壓值相異於第一邏輯準位並且電壓極性相對於第一邏輯準位。SPT的內部電路在改良之前是產生一軌對軌的脈波信號,並且該電路的輸出波形是基於該觸發信號的時間來 轉成相對應的脈波寬度,所以會註記「擴展脈波觸發器一寬度(SPT_W)」,示例性的波形圖可參圖21至圖22;在改良之後是產生一軌對軌的時脈信號(a clock signal of rail-to-rail),並且該電路的輸出波形是基於該觸發信號的時間而循環地(cyclically)產生脈波,所以會註記「擴展脈波觸發器一循環(SPT_C)」,示例性的波形圖可參圖23;另外,本領域的技藝人士在理解本案的技術內容之後則可知SPT_W與SPT_C之間的關聯性,然後加入一控制信號以及一切換電路來選擇輸出寬度波形或循環波形,此種型式具兩者的功能(both functions),所以可以註記成「SPT_B」。輪廓形式的說明以及波形圖可參考期刊論文「擴展脈波觸發器及ADS模擬技術,電子與電腦,87期,2006/07」。
本發明的第四實施例:以下參考圖7,這是示例性的電路圖,SPT_W 201是混合邏輯閘階層設計以及功能方塊圖而形成的電路圖。Or1是或閘;Not1,Not2是反閘。
Seesaw 200是功能方塊圖,用於迅速地且大幅地切換邏輯準位,也可稱為準位切換器(Level Switcher),這將在後文詳細說明;其中,包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點,名稱是Poise。
delay 204是延遲元件,用於延遲轉態的時間;其中,包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點,名稱是out。較佳的實施方式是延遲負緣轉態的時間,實施例可以是負緣延遲轉態器(Falling-edge Delay Turner),這可參考期刊論文「Logic Gate Design發展平臺,新電子科技,234期,2005/09」。
一輸入節點:刺激(Goad),這是一信號節點,用於將微量的電壓變化當作觸發準位。
一輸出節點:寬度(Width),這是一信號節點,用於輸出一軌對軌的脈波信號,該脈波信號是基於觸發信號的時間來轉成相對應的脈波寬度。
SPT_W 201的電路至少包含一第一輸入節點,一第一輸出節點,一第一準位切換器,一第一反閘,一第一或閘;該第一準位切換器 包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點;可選擇地包含至少一延遲元件,該延遲元件包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點。
該第一準位切換器的連接網路如後:第一輸入連接點耦接該第一輸入節點以及該第一或閘的第一輸入連接點:第一輸出連接點連接該第一反閘的第一輸入連接點,又耦接該第一或閘的第一輸出連接點,可選擇地連接該延遲元件的第一輸出連接點。
該第一反閘的連接網路如後:第一輸入連接點連接該第一準位切換器的第一輸出連接點,又耦接該第一或閘的第一輸出連接點,可選擇地連接該延遲元件的第一輸出連接點:第一輸出連接點耦接該第一或閘的第二輸入連接點以及該第一輸出節點。
該第一或閘的連接網路如後:第一輸入連接點耦接該第一輸入節點以及該第一準位切換器的第一輸入連接點:第二輸入連接點耦接該第一反閘的第一輸出連接點:第一輸出連接點耦接該第一準位切換器的第一輸出連接點以及該第一反閘的第一輸入連接點,可選擇地連接該延遲元件的第一輸入連接點。
該延遲元件的連接網路如後:第一輸入連接點連接該第一或閘的第一輸出連接點:第一輸出連接點連接該第一準位切換器的第一輸出連接點以及該第一反閘的第一輸入連接點。
以下的步驟將會說明SPT_W 201如何偵測觸發準位以及產生一軌對軌的脈波信號;其中,第一邏輯準位相異且相對於第二邏輯準位,第三邏輯準位相異且相對於第四邏輯準位,第二電壓值的定義是電壓值相異於第一邏輯準位並且電壓極性相對於第一邏輯準位。
初始步驟:該第一輸入節點(Goad)維持在第一邏輯準位,該第一準位切換器輸出第一邏輯準位,該第一反閘輸出第二邏輯準位來使得該第一或閘輸出第二邏輯準位,該第一準位切換器的輸出連接點與該第一或閘的輸出連接點形成一連線及閘(wired-AND)而使得該第一反閘持續輸出第二邏輯準 位,該第一輸出節點(Width)維持在第三邏輯準位。
第一步驟:該第一輸入節點從第一邏輯準位變化到第二電壓值,或者在變化到第二電壓值之後又在預定時間內回到第一邏輯準位。
第二步驟:該第一準位切換器偵測到該第一輸入節點的變化之後則立刻從第一邏輯準位轉到第二邏輯準位,並且輸出第二邏輯準位。
第三步驟:該第一反閘受到該連線及閘的變化而從第二邏輯準位轉到第一邏輯準位,該第一輸出節點從第三邏輯準位轉到第四邏輯準位。
第四步驟:若該第一輸入節點持續在第二邏輯準位,則該第一或閘持續在第二邏輯準位,該延遲元件持續在第二邏輯準位,該第一反閘持續在第一邏輯準位,該第一輸出節點持續在第四邏輯準位。
第五步驟:在該第一輸入節點回到第一邏輯準位之後,該第一反閘等到該延遲元件回到第一邏輯準位之後才會輸出第二邏輯準位,該第一輸出節點等到該第一準位切換器回到第一邏輯準位之後才會輸出第三邏輯準位,然後完成擴展脈波寬度的功能。
本發明的第五實施例:以下參考圖8,這是示例性的電路圖,SPT_C 202是混合邏輯閘階層設計以及功能方塊圖而形成的電路圖。Not1,Not2是反閘。
一輸出節點:循環(Cycle),這是一信號節點,用於輸出一軌對軌的時脈信號,該時脈信號是基於觸發信號的時間而循環地產生脈波。
其餘節點如同前文的描述。
SPT_C 202的電路至少包含一第一輸入節點,一第一輸出節點,一第一準位切換器,一第一反閘,一延遲元件;該第一準位切換器包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點;該延遲元件包含一第一輸入連接點,一第一輸出連接點。
該第一準位切換器的連接網路如後:第一輸入連接點耦接該第一輸入節點:第一輸出連接點連接該第一反閘的第一輸入連接點以及該延遲元件的 第一輸出連接點。
該第一反閘的連接網路如後:第一輸入連接點連接該第一準位切換器的第一輸出連接點以及該延遲元件的第一輸出連接點:第一輸出連接點耦接該延遲元件的第一輸入連接點以及該第一輸出節點。
該延遲元件的連接網路如後:第一輸入連接點耦接該第一反閘的第一輸出連接點:第一輸出連接點連接該第一準位切換器的第一輸出連接點以及該第一反閘的第一輸入連接點。
以下的步驟將會說明SPT_C 202如何偵測觸發準位以及產生一軌對軌的時脈信號;其中,第一邏輯準位、第二邏輯準位、第三邏輯準位、第四邏輯準位,以及第二電壓值的定義相同於SPT_W 201。
初始步驟:該第一輸入節點(Goad)維持在第一邏輯準位,該第一準位切換器輸出第一邏輯準位,該第一反閘輸出第二邏輯準位來使得該延遲元件輸出第二邏輯準位,該第一準位切換器的輸出連接點與該延遲元件的輸出連接點形成一連線及閘而使得該第一反閘持續輸出第二邏輯準位,該第一輸出節點(Cycle)維持在第三邏輯準位。
第一步驟:該第一輸入節點從第一邏輯準位變化到第二電壓值,或者在變化到第二電壓值之後又在預定時間內回到第一邏輯準位。
第二步驟:該第一準位切換器偵測到該第一輸入節點的變化之後則立刻從第一邏輯準位轉到第二邏輯準位態,並且輸出第二邏輯準位。
第三步驟:該第一反閘受到該連線及閘的變化而從第二邏輯準位轉到第一邏輯準位,而且該第一反閘與該延遲元件的連接網路形成一振盪器(oscillator),該第一輸出節點在第三邏輯準位與第四邏輯準位之間交替變化。
第四步驟:若該第一輸入節點持續在第二邏輯準位,則該第一反閘會循環地輸出脈波,該第一輸出節點會循環地輸出脈波。
第五步驟:在該第一輸入節點回到第一邏輯準位之後,該第一反閘等到該 延遲元件回到第一邏輯準位之後才會輸出第二邏輯準位,該第一輸出節點等到該第一準位切換器回到第一邏輯準位之後才會輸出第三邏輯準位,然後停止輸出脈波。
基於SPT_W 201以及SPT_C 202的電路來互相轉換邏輯閘,如此即可實現反向電壓的偵測以及輸出。上述的轉換方法是經由邏輯閘的互補特性來置換。本領域的技藝人士經由上述的實施方式即能輕易地將SPT_W 201的該第一或閘的第一輸入連接點連接一切換電路,並且經由一控制信號來選擇該電路的輸出信號;其中,若將該第一輸入連接點經由該切換電路來耦接該電路的第一輸入節點就具有SPT_W 201的功能;若將該第一輸入連接點經由該切換電路來耦接該第一或閘的第二輸入連接點就具有SPT_C 202的功能。
本發明的第六實施例:以下說明上述的準位切換器的電路,由於該電路在拉高以及拉低電壓的動作如同蹺蹺板(seesaw),所以在以下表示成「Seesaw」。請參考圖9,這是示例性的電路圖,Seesaw 200(a)是在邏輯閘階層設計之下來完成的電路;Tri1是三態閘;Not1是反閘。Seesaw 200(b)是在電晶體階層設計之下由三電晶體來組合而成;M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體,其中,M1,M3是NMOS,M2是PMOS。
一輸入節點:動作(action),表示成「act」,這是一控制節點,用於啟動拉高或拉低電壓,如同蹺蹺板的傾斜狀態。
一輸入及輸出節點:平衡(Poise),這是一信號節點,用於恢復電壓,如同將已傾斜的蹺蹺板恢復到平衡狀態。
Seesaw 200(a)的電路包含一第一動作節點,一第一平衡節點,一三態閘;該三態閘包含一致能連接點,一輸入連接點,一輸出連接點。
該三態閘的連接網路如後:致能連接點耦接該第一動作節點:輸入連接點 連接該輸出連接點,又耦接該第一平衡節點:輸出連接點連接該輸入連接點,又耦接該第一平衡節點。
以下的流程將會配合圖7至圖8來說明圖9中Seesaw 200(a)所對應的動作;其中,第一邏輯準位、第二邏輯準位、第三邏輯準位,以及第四邏輯準位的定義相同於SPT_W 201。
初始步驟:該第一動作節點(act)的第一邏輯準位持續致能Tri1,此時,該第一平衡節點(Poise)維持在第三邏輯準位。
第一步驟:該第一動作節點逐漸地轉變到第二邏輯準位來除能Tri1,此時,該第一平衡節點會逐漸地依據輸入到Poise的第四邏輯準位而脫離第三邏輯準位。在該第一動作節點的電壓變化量到達觸發準位之後,該第一平衡節點的電壓值就會依據輸入到Poise的第四邏輯準位而迅速地脫離第三邏輯準位。
第二步驟:該第一動作節點回到第一邏輯準位來致能Tri1。
第三步驟:若輸入到該第一平衡節點的電壓值仍然在第四邏輯準位,則Poise仍然會維持在第四邏輯準位。
第四步驟:在輸入到該第一平衡節點的電壓值轉換到第三邏輯準位之後,Poise才會回到第三邏輯準位。
Seesaw 200(b)的電路包含一第一動作節點,一第一平衡節點,一電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體。
該第一電晶體的連接網路如後:源極連接該接地終端點:閘極連接該第二電晶體的閘極以及該第三電晶體的汲極,又耦接該第一平衡節點:汲極連接該第二電晶體的汲極以及該第三電晶體的閘極。
該第二電晶體的連接網路如後:源極連接該電源終端點:閘極連接該第一電晶體的閘極以及該第三電晶體的汲極,又耦接該第一平衡節點:汲極連接該第一電晶體的汲極以及該第三電晶體的閘極。
該第三電晶體的連接網路如後:源極耦接該第一動作節點:閘極連接該第一以及第二電晶體的汲極:汲極連接該第一以及第二電晶體的閘極,又耦接該第一平衡節點:基極連接該接地終端點。
以下的流程將會配合圖7至圖8來說明圖9中Seesaw 200(b)所對應的動作;其中,第一邏輯準位、第二邏輯準位、第三邏輯準位,以及第四邏輯準位的定義相同於SPT_W 201。
初始步驟:該第一動作節點(act)的第一邏輯準位持續經過M3來除能M1以及致能M2,並且經由回授的連接方法來致能M3,此時,該第一平衡節點(Poise)維持在第三邏輯準位。
第一步驟:該第一動作節點逐漸地轉變到第二邏輯準位來致能M1以及除能M2,然後經由回授的連接方法來除能M3,此時,該第一平衡節點會逐漸地依據輸入到Poise的第四邏輯準位而脫離第三邏輯準位。在該第一動作節點的電壓變化量到達觸發準位之後,該第一平衡節點的電壓值就會依據輸入到Poise的第四邏輯準位而迅速地脫離第三邏輯準位。
第二步驟:該第一動作節點回到第一邏輯準位來提供預備回復到初始步驟所需的下拉電流。
第三步驟:若輸入到該第一平衡節點的電壓值仍然在第四邏輯準位,則Poise仍然會維持在第四邏輯準位。
第四步驟:在輸入到該第一平衡節點的電壓值轉換到第三邏輯準位之後,Poise才會回到第三邏輯準位,然後,該第一動作節點的下拉電流配合該第一平衡節點的電壓值來除能M1以及致能M2,並且經由回授的連接方法來致能M3。
基於Seesaw 200(b)的電路來互相轉換NMOS元件以及PMOS元件,當然也要轉換電源的極性,如此即可實現反向電壓的偵測以及輸出。上述的轉換方法是基於CMOS製程技術的特性來置換互補的電晶體以及電源極性。
本發明的第七實施例:以下參考圖10,這是示例性的電路圖,SPT2_W 221是在電晶體階層設計之下由六電晶體來組合而成,其功能如同上述的SPT_W 201,使用電晶體階層設計可以減小布局面積。M1至M6是MOSFET,分別是第一至第六電晶體。
改良上述的Seesaw 200(b)的電路之後則可得到SPT2_W 221之中的連接網路;其中,M1至M3的連接方式近似Seesaw 200(b)的M1至M3;除此之外,M4至M6的連接方式如同電壓調節器(voltage regulator)的功能,這不止於用來設定輸出電壓的準位,也用來增加脈波寬度。M1至M3組成一準位切換器,該準位切換器的輸出電壓將會與輸入電壓相反,所以使用Not1來使得Width的電壓極性相同於Goad。
該準位切換器的電路至少包含一刺激準位節點,一第一動作節點,一第一輸出節點,一電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體。
該第一電晶體的連接網路如後:源極連接該接地終端點:閘極耦接該第一動作節點:汲極連接該第二電晶體的汲極以及該第三電晶體的閘極,又耦接該第一輸出節點。
該第二電晶體的連接網路如後:源極連接該刺激準位節點:閘極連接該第三電晶體的汲極:汲極連接該第一電晶體的汲極以及該第三電晶體的閘極,又耦接該第一輸出節點:基極連接該電源終端點。
該第三電晶體的連接網路如後:源極連接該接地終端點:閘極連接該第一以及第二電晶體的汲極,又耦接該第一輸出節點:汲極連接該第一電晶體的閘極。
以下的流程說明圖10中準位切換器所對應的動作;其中,第二邏輯準位的定義相同於SPT_W 201。
初始步驟:該第一動作節點(Goad)除能該準位切換器,該第一輸出節點(Width)輸出該刺激準位節點的電壓值。
第一步驟:該第一動作節點逐漸地致能該準位切換器,該第一輸出節點會逐漸地遠離該刺激準位節點的電壓值,在該第一動作節點的電壓變化量到達觸發準位之後,該第一輸出節點的邏輯準位迅速地到達第二邏輯準位。
第二步驟:該第一動作節點除能該準位切換器。
第三步驟:該第一輸出節點會逐漸地遠離第二邏輯準位,並且逐漸地回到該刺激準位節點的電壓值。
本發明的第八實施例:以下參考圖11,這是示例性的電路圖,SPT2_C 222是在電晶體階層設計之下由八電晶體來組合而成,其功能如同上述的SPT_C 202。M1至M8是MOSFET,分別是第一至第八電晶體。
基於上述的SPT2_W 221的電路來額外增加M7至M8則能循環地產生脈波。基於SPT2_W 221以及SPT2_C 222的電路來互相轉換NMOS元件以及PMOS元件,當然也要轉換電源的極性,如此即可實現反向電壓的偵測以及輸出。上述的轉換方法是基於CMOS製程技術的特性來置換互補的電晶體以及電源極性。
本發明的第九實施例:以下參考圖12,這是示例性的電路圖,SPT3_W 231是在電晶體階層設計之下由七電晶體來組合而成,其功能如同上述的SPT2_W 221。M1至M7是MOSFET,分別是第一至第七電晶體。
基於SPT2_W 221的電路來額外增加M7則能增強脈波的穩定性;其中,該第七電晶體的連接網路如後:源極連接該電源終端點:閘極連接該電源終端點:汲極連接該第二電晶體的閘極以及該第三電晶體的汲極。
本發明的第十實施例:以下參考圖13,這是示例性的電路圖,SPT4_W 241是在電晶體階層設計之下由十電晶體來組合而成,其功能如同上述的SPT2_W 221。M1至M10是MOSFET,分別是第一至第十電晶體。
基於SPT2_W 221的電路來額外增加M7至M10則能增強脈波的穩定性;其中,M1至M3組成一第一準位切換器,這模組的輸出電壓將會與輸入電壓相反;M7至M9組成一第二準位切換器,這模組的輸出電壓將會與輸入電壓相反;M1至M3的輸入連接點接受從低電壓提升到達觸發準位,相反地,M7至M9的輸入連接點接受從高電壓降低到達觸發準位。根據上述的工作特性而能得知該第一準位切換器與該第二準位切換器可以交錯地使用,並且可以完成多級串接來增強輸出信號的穩定性,因此,在最後一級的電路之中,M10的作用是為了得到軌對軌的電壓準位。
基本上,前述的SPT4_SRAM 301的電路就是基於SPT4_W241,將SPT4_W 241之中的電晶體配合前述的記憶體元件的電器特性來適當修改,最後將SPT4_W 241的該第一準位切換器的輸出耦接至前述的SPT4_SRAM 301的pull,如此即可實現前述的SPT4_SRAM 301。
細胞電壓調節器:細胞電壓調節器(Cell Voltage Regulator)是根據前述的記憶器元件的電器特性而進行設計的電路,用於供應前述的SRAM cell 100的工作電壓。透過前述內容(第0035,0037,0044,0067段)而得知細胞存取及保持300經由SPT4_SRAM 301的能力而能偵測到很微小的電壓變化量;除此之外,說明書第0032段已說明前述的SRAM cell 100所能接受的工作電壓。由於5T/4T/3T1R SRAM cell在記憶能力上具有很好的穩定性,因此,該等細胞之常態電壓可以等於或低於在該等細胞內部之電晶體的臨界電壓,如此可大幅地減小洩漏電流,並且較佳實施例是令讀取電壓等於常態電壓,然後配合SPT4_SRAM 301的能力而達成高速讀取。關於3T1D/3T1C SRAM cell之較佳實施例是令讀取電壓等於常態電壓,常態電壓高於待機電壓,並且待機電壓甚至可隨工作溫度而改變,這是根據洩漏電流會隨溫度而改變。
本發明的第十一實施例:以下參考圖14,這是示例性的電路圖,細胞電壓調節器500是在電晶體階層設計之下由許多電晶體來組合而成;其中,最主要的元件是M1至M3,M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體。
一輸入節點:細胞讀取(Cell Read)在以下表示成「CRd」,這是一控制節點,用於啟動細胞讀取的功能,並且取得前述的記憶體元件的儲存狀態。
一輸入節點:待機(Standby)在以下表示成「Stb」,這是一控制節點,用於啟動待機電壓的功能,對前述的記憶體元件供應待機電壓。
其餘節點如同前文的描述。
細胞電壓調節器500的功能是配合前述的5T/4T/3T1R SRAM cell來設計的電壓調節器;其中,M1將會依據Vcell的電壓來調節下拉電流,M2將會依據Stb的控制信號來提供上拉電流(pull-high current),M3將會依據CRd的控制信號來提供下拉電流,M4將會依據CRd的控制信號來提供上拉電流,Ma1至Ma2將會依據Stb,CRd的控制信號來提供一第一電流路徑,Mb1至Mb3,R1將會依據Stb,CRd的控制信號來提供一第二電流路徑;除此之外,Mx1至Mx2以及Not1至Not2將會根據Stb,CRd的控制信號來設計相依的組合邏輯(combinational logic),並且控制前述的記憶器元件的工作電壓。M3至M4配合M1至M2的動作來供應讀取電壓,Ma1至Ma2配合M1至M4的動作來供應寫入電壓以及常態電壓,Mb1至Mb3,R1配合M1至M4的動作來供應待機電壓。
細胞電壓調節器500的電路至少包含一第一控制節點,一第二控制節點,一細胞電源終端點,一電源終端點,一接地終端點,一第一電流路徑,一第二電流路徑,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體,一第四電晶體。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應常態電壓以及寫入電壓:該第一電晶體依據該細胞電源終端點 來調節下拉電流;該第二控制節點直接致能該第二電晶體來提供上拉電流;該第一控制節點結合該第二控制節點去致能該第三電晶體以及除能該第四電晶體來提供下拉電流。該細胞電源終端點的電流經由該第二電晶體以及該第一電流路徑。除此之外,對於寫入電壓也可另外提供一第三電流路徑。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應讀取電壓:該第一電晶體依據該細胞電源終端點來調節下拉電流;該第二控制節點直接致能該第二電晶體來提供上拉電流;該第一控制節點結合該第二控制節點去除能該第三電晶體以及致能該第四電晶體來提供上拉電流。該細胞電源終端點的電流經由該第二電晶體以及該第四電晶體。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應待機電壓:該第二控制節點直接除能該第二電晶體,並且間接除能該第三電晶體以及間接致能該第四電晶體來提供上拉電流。該細胞電源終端點的電流經由該第二電流路徑以及該第四電晶體。
本發明的第十二實施例:以下參考圖15,這是示例性的電路圖,細胞電壓調節器500是在電晶體階層設計之下由許多電晶體來組合而成;其中,最主要的元件是M1至M3,M1至M3是MOSFET,分別是第一至第三電晶體。其餘節點如同前文的描述。
細胞電壓調節器500的功能是配合前述的3T1D/3T1C SRAM cell來設計的電壓調節器;其中,M1將會依據Vcell的電壓來調節下拉電流,M2將會依據CWr的控制信號來提供上拉電流,M3將會依據CWr的控制信號來提供下拉電流,M4將會依據CRd的控制信號來提供上拉電流,Ma1將會依據CWr,CRd的控制信號來提供一第一電流路徑。CWr直接控制M2至M3來供應寫入電壓,CRd直接控制M4來供應讀取電壓,Ma1配合M1至M4的動作來供應常態電壓以及待機電壓。
細胞電壓調節器500的電路至少包含一第一控制節點,一細胞電源終端點,一電源終端點,一接地終端點,一第一電晶體,一第二電晶體,一第三電晶體;可選擇地包含一第二控制節點,一第一電流路徑,一第四電晶體。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應常態電壓以及待機電壓:該第二控制節點直接除能該第四電晶體;該第一控制節點直接致能該第二電晶體以及直接除能該第三電晶體來提供上拉電流。該細胞電源終端點的電流經由該第二電晶體以及該第一電流路徑。除此之外,對於待機電壓也可另外提供一第二電流路徑。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應寫入電壓:該第二控制節點直接除能該第四電晶體;該第一電晶體依據該細胞電源終端點來調節下拉電流;該第一控制節點直接除能該第二電晶體以及直接致能該第三電晶體來提供下拉電流。由於該第二電晶體會有洩漏電流,所以該細胞電源終端點的電流仍會經由該第二電晶體以及該第一電流路徑。
以下的動作手段將會配合圖式來說明該等電子元件如何聯合起來供應讀取電壓:該第一控制節點直接致能該第二電晶體以及直接除能該第三電晶體來提供上拉電流;該第二控制節點直接致能該第四電晶體來提供上拉電流。該細胞電源終端點的電流經由該第二電晶體以及該第四電晶體。
SRAM的存取系統:SRAM的存取系統是指以任何一種SRAM cell為核心元件來結合周邊的存取電路以及控制電路,然後配合資料傳輸介面以及控制介面來完成獨立且完整的記憶功能。該存取系統的實際產品是晶片或者是模組,例如,記憶體晶片、快取記憶體、計算機系統的主記憶體以及數位信號處理器的記憶體。
本發明的第十三實施例:以下參考圖16,這是示例性的電路圖,SRAM晶片的功能方塊圖1000是展示一般的SRAM晶片以及基本的傳輸信號,其中,包含資料匯流排(data bus)、位址匯流排(address bus)、寫入信號(write signal)、讀取信號(read signal)以及晶片選擇信號(chip select signal)。除此之外,本發明在前文所描述的相關電路也在SRAM晶片的功能方塊圖1000之中,後文會詳細說明。
資料匯流排在以下表示成「DBus」,這是多位元資料寬度的匯流排,例如資料位元(data bits)的編號是從0至b,其中,b的數值是資料寬度減一,這是本領域的技藝人士所具備的基本知識。
位址匯流排在以下表示成「ABus」,這是多位元位址寬度的匯流排,經過解碼器之後的位址編號是從0至n,當然也可使用行列解碼器(Row-and-Column Decoder),這是本領域的技藝人士所具備的基本知識。
寫入信號在以下表示成「Wrs」,用於控制該SRAM晶片將目前正在資料匯流排之上的數值寫入至目前位址匯流排所指定的記憶空間(memory space),這是本領域的技藝人士所具備的基本知識。
讀取信號在以下表示成「Rds」,用於控制該SRAM晶片將目前位址匯流排所指定的記憶空間所儲存的數值讀出至資料匯流排,這是本領域的技藝人士所具備的基本知識。
晶片選擇信號在以下表示成「CSs」,用於控制該SRAM晶片來進行正常的存取作業,這是本領域的技藝人士所具備的基本知識。
在SRAM晶片的功能方塊圖1000之中所包含的功能方塊如後:記憶體陣列(Memory Array)1100、存取控制器(Access Controller)1300、功率控制器(Power Controller)1500、動作控制器(Action Controller)1710、位址控制器(Address Controller)1720以及資料緩衝器(Data Buffer)1730。
記憶體陣列1100包含多個細胞群(Cells)1101_0~b,1102_0~b,1103_0~b,1104_0~b,1199_0~b,其中,細胞群的資料寬度是依據資料匯流排的資料寬度,例如資料位元的編號是從0至b,則細胞群的編號也是從0至b。細胞群可以根據細胞供應電壓的配置方法來組成多個電壓群(Voltage Group),例如電壓群1、電壓群2以及電壓群g。
存取控制器1300包含細胞群存取及保持(Cells Access and Hold)1301_0~b,其中又包含多個細胞存取及保持300,數量是依據資料匯流排的資料寬度。
功率控制器1500包含多個細胞電壓調節器1501,1502,1599,可以對記憶體陣列1100改變小區域的電壓,防止全域的電壓變化而影響存取時間,而且可以降低進行存取之時的功率消耗,因此可以根據細胞供應電壓的配置方法來組成多個電壓群(Voltage Group),例如電壓群1、電壓群2以及電壓群g。本領域的技藝人士可以明白如何設定電壓群的數量,也可以對記憶體陣列1100分割成許多區塊來滿足相關的設計規格,配合多區塊的設計規格而將前述的細胞存取及保持的電路分離出細胞保持的電路,然後將細胞保持的電路配置在各區塊之內;其中,各區塊的資料傳輸節點各自耦接傳輸閘(transmission gate)來隔離各細胞保持的電路,這也能抑制各區塊之間的存取干擾,然後使用DRAM晶片內的行列解碼器配合存取信號來控制傳輸閘以及細胞保持的電路。以上的舉例用來表示存取控制器1300與功率控制器1500之間的電路配置皆可依據實際的設計規格而進行簡單的改變。另外,該功率控制器1500也可以被實現在該SRAM晶片1000外部,但是這種連接方法難以對該記憶體陣列1100供應多組的電壓群;除此之外,也可使用切換式電源供應器來實現功率控制器1500,但是該供應器的電器特性會增加存取時間,也有可能提高功率消耗。
以下參考圖17,這是示例性的電路圖,動作控制器1710包含組合邏輯,用於接收來自傳輸介面的各種傳輸信號,然後產生相對應的 控制信號來完成SRAM晶片所需要的各種功能,這是本領域的技藝人士可以配合相關的產品而進行電路設計的一般技術。以下大略說明相關的控制信號以及相互依賴的時序動作:來自傳輸介面的Wrs以及Rds皆先會受到CSs的控制,然後產生該晶片的內部電路所能使用的Wr以及Rd。
存取致能(Access Enable)在以下表示成「AEn」,用於接受Wr以及Rd來控制相關的電路。
細胞寫入(CWr)的控制動作必須晚於Wr的控制動作,也就是等到相關的電路已經準備完成之後才能輸出CWr信號。
細胞讀取(CRd)的控制動作必須早於Rd的控制動作,也就是等到記憶體元件的狀態資料已經被讀出之後才能輸出Rd信號。
細胞保持(CHd)的信號依賴於CWr信號以及CRd信號,並且儘可能地避免與CWr,CRd發生衝突來避免發生破壞性讀出。
待機(Stb)的信號可以直接依賴於CSs的信號,但不以此為限,可以使用其它的實施方式,像是由傳輸介面另外提供輸入信號來控制。
以下參考圖18,這是示例性的電路圖,位址控制器1720包含解碼器(Decoder)721以及選擇器(Selector)722。CSs致能解碼器721來解碼Abus,並且得到位址信號A0至An;AEn致能選擇器722來產生字組線WL_0至WL_n。
以下參考圖19,這是示例性的電路圖,資料緩衝器1730包含二三態閘,分別由Wr,Rd來控制。在接收到Wr的控制信號時,是將來自資料匯流排的Data傳送至BTC;在接收到Rd的控制信號時,是令資料匯流排的Data接收BTD的數值,這是本領域的技藝人士早已明白的一般技術。
DRAM的存取系統:DRAM的存取系統是指以任何一種DRAM cell為核心元件來結合周邊的存取電路以及控制電路,然後配合資料傳輸介面以及控制介面來完成獨立且完整的記憶功能。
本發明的第十四實施例:以下參考圖20,這是示例性的電路圖,DRAM晶片的功能方塊圖2000是展示一般的DRAM晶片以及基本的傳輸信號,其中,包含資料匯流排、位址匯流排、寫入信號、讀取信號以及晶片選擇信號。另外,本發明在前文所描述的相關電路也在DRAM晶片的功能方塊圖2000之中,後文會詳細說明。
在DRAM晶片的功能方塊圖2000之中所包含的功能方塊如後:記憶體陣列2100、存取控制器2300、更新控制器(Refresh Controller)2500、動作控制器2710、位址控制器2720以及資料緩衝器2730。
記憶體陣列2100包含多個細胞群(Cells)2101_0~b,2102_0~b,2103_0~b,2104_0~b,2199_0~b,其中,細胞群的資料寬度是依據資料匯流排的資料寬度。DRAM cell的實施例可以是1T1C、1T1D、1T-SOI或其它。本領域的技藝人士早已明白記憶體陣列2100可以分割成許多區塊來滿足相關的設計規格,配合多區塊的設計規格而將前述的細胞存取及保持的電路分離出細胞保持的電路,然後將細胞保持的電路配置在各區塊之內;其中,各區塊的資料傳輸節點各自耦接傳輸閘來隔離各細胞保持的電路,這也能抑制各區塊之間的存取干擾,然後使用DRAM晶片內的行列解碼器配合存取信號來控制傳輸閘以及細胞保持的電路,以上的舉例用來表示存取控制器2300的電路配置皆可依據實際的設計規格而進行簡單的改變。
存取控制器2300包含細胞群存取及保持(Cells Access and Hold)2301_0~b,其中又包含多個細胞存取及保持300,數量是依據資料匯流排的資料寬度。
更新控制器2500是根據DRAM cell的電器特性而產生的電路,這是本領域的技藝人士早已明白的一般技術。在先前技術,DRAM cell的更新作業必須進行先讀取而後寫入,也就是「讀後寫架構」,但是本發明的更新控制器2500在配合存取控制器2300之後就可以在讀取期間完 成寫入的動作,如此可以加速完成更新作業;其中的原因在於該存取控制器2300能在讀取期間完成回寫作業。
動作控制器2710、位址控制器2720以及資料緩衝器2730可參考動作控制器1710、位址控制器1720以及資料緩衝器1730。
擴展脈波觸發器的特殊應用:正確選擇擴展脈波觸發器的型式,然後組合該等擴展脈波觸發器,最後經由適當處理之後會有如同史密特觸發器(Schmitt trigger)的功能,並且可以獨自調整上升邊緣以及下降邊緣的觸發準位。其中,上升邊緣的觸發準位可高於、等於或低於下降邊緣的觸發準位。所謂適當處理,例如是結合組合邏輯以及循序邏輯(sequential logic)的數位電路。
本發明的第十五實施例:以下參考圖24,這是示例性的電路圖,特殊應用功能方塊圖3100包含一擴展脈波觸發器一寬度一正緣(SPT_W_R)3101,一擴展脈波觸發器一寬度一負緣(SPT_W_F)3102,一SR正反器(SR-FF)3103,一多工器(Mux)3104,一反相器(Not1)。有一輸入信號(Clk_x)耦接SPT_W_R 3101以及SPT_W_F 3102的輸入端點。有一電壓源(Vdd_y)供應至全部元件。有一輸出信號(Clk_y)耦接Mux 3104的輸出端點。SPT_W_R 3101以及SPT_W_F 3102的輸出端點各自耦接SR-FF 3103的第一輸入端點以及第二輸入端點,然後,SR-FF 3103的輸出端點耦接Mux 3104的選擇端點。SPT_W_R 3101以及SPT_W_F 3102的輸出端點又各自耦接Mux 3104的第一輸入端點以及第二輸入端點,最後,Mux 3104受到選擇信號的控制而切換不同的輸入信號並且傳送至輸出端點。
當數位系統之中有一傳送端的邏輯準位低於另一接收端的邏輯準位,這就要升高這一信號的邏輯準位至接收端的邏輯準位。先前技術使用雙極性接面電晶體(BJT),或者使用開路汲極(open drain),還有使用數位式差動電路。該等方法的缺點會增加電流、傳遞延遲或切換時間。當 前述的1T DRAM cell使用高臨界電壓的電晶體並要求前述的存取電路升高該電晶體的閘極電壓,這時可用以下實施例來迅速切換該閘極電壓。
本發明的第十六實施例:以下參考圖25,這是示例性的電路圖,特殊應用功能方塊圖3200包含SPT_W_R 3201,SPT_W_F 3202,SR-FF 3203,Mux 3204,Not1。連接網路如同前一實施例。本實施例之元件SPT_W_R 3201以及SPT_W_F 3202較適合由第7至10實施例來實現,因此該等元件內部電路可參圖10至圖13。在圖25之中,該等元件內部有標示「MT-CMOS(Vdd_H)」用於表示所使用的電晶體在基本上是配合電壓源(Vdd_H)的電壓值而設計最大臨界電壓,並且該電壓值等於接收端的最高邏輯準位。多臨界電壓電晶體(MT-CMOS)3211,3221依據接收端與傳送端之間的最高邏輯準位來設計最大臨界電壓,然後根據輸出信號對輸入信號的邏輯準位的差異值而組成相對應的電壓調節器。例如傳送端的邏輯準位是1V,接收端的邏輯準位是2V,那麼MT-CMOS 3211,3221以及其餘電晶體的最大臨界電壓是2V。
200:蹺蹺板(Seesaw)
201:擴展脈波觸發器一寬度(SPT_W)
204:延遲元件(delay component)
Or1:或閘(OR gate)
Not1,Not2:反閘(NOT gate)

Claims (13)

  1. 一種觸發器,包含:一準位切換器,一第一輸入節點,一第一輸出節點,一第一邏輯閘,以及一第二邏輯閘;其中,當在該第一輸入節點上的電壓準位改變時,該觸發器被組態成將輸入至該第一輸入節點的信號當作觸發信號,在該第一輸出節點上產生一軌對軌的輸出電壓;該準位切換器包含一動作節點,以及一平衡節點;該動作節點連接至該第一輸入節點,該平衡節點連接至該第一邏輯閘的一輸入連接點,該平衡節點連接或耦接至該第二邏輯閘的一輸出連接點,以及該平衡節點和該第二邏輯閘的該輸出連接點構成一連線邏輯(wired-logic);該連線邏輯是一連線及閘(wired-AND)或一連線或閘(wired-OR);當該平衡節點耦接至該第二邏輯閘的該輸出連接點時,在該平衡節點與該第二邏輯閘的該輸出連接點之間的耦接是一延遲元件,以及該延遲元件用於延遲轉態的時間,並且包含一邏輯閘;在該動作節點上的信號控制該平衡節點去和該第二邏輯閘的該輸出連接點一起構成該連線邏輯;以及該第一輸出節點連接或耦接至該第一邏輯閘的一輸出連接點位。
  2. 一種觸發器,包含:一準位切換器,一第一輸入節點,一第一輸出節點,一第一邏輯閘,以及一延遲元件;其中,當在該第一輸入節點上的電壓準位改變時,該觸發器被組態成將輸入至該第一輸入節點的信號當作觸發信號,在該第一輸出節點上產生一軌對軌的輸出電壓;該延遲元件用於延遲轉態的時間,並且包含一邏輯閘;該準位切換器包含一動作節點,以及一平衡節點; 該動作節點連接至該第一輸入節點,該平衡節點連接至該第一邏輯閘的一輸入連接點和該延遲元件的一輸出連接點,以及該平衡節點和該延遲元件的該輸出連接點構成一連線邏輯(wired-logic);該連線邏輯是一連線及閘(wired-AND)或一連線或閘(wired-OR);在該動作節點上的信號控制該平衡節點去和該延遲元件的該輸出連接點一起構成該連線邏輯;以及該第一輸出節點連接或耦接至該第一邏輯閘的一輸出連接點,該第一邏輯閘的該輸出連接點連接至該延遲元件的一輸入連接點。
  3. 一種觸發器,包含:一準位切換器,一第一輸入節點,一第一輸出節點,以及一電壓調節器;其中,當在該第一輸入節點上的電壓準位改變時,該觸發器被組態成將輸入至該第一輸入節點的信號當作觸發信號,在該第一輸出節點上產生一軌對軌的輸出電壓;該電壓調節器包含一電壓控制節點,一電壓輸出節點,一P型電晶體,以及一N型電晶體;該電壓控制節點連接或耦接至該第一輸入節點,該P型電晶體的汲極連接至該N型電晶體的汲極;該準位切換器包含一刺激準位節點,一動作節點,一第一電晶體,一第二電晶體,以及一第三電晶體;該動作節點連接至該第一輸入節點,該動作節點連接或耦接至該第一電晶體的閘極,該第一電晶體的汲極連接至該第二電晶體的汲極和該第三電晶體的閘極,以及耦接至該第一輸出節點;以及該刺激準位節點連接至該第二電晶體的源極和該電壓輸出節點,該第二電晶體的閘極至少連接至該第三電晶體的汲極。
  4. 一種觸發器,包含:一準位切換器,一第一輸入節點,以及一第一輸出節點;其中,當在該第一輸入節點上的電壓準位改變時,該觸發器被組態成將輸入至 該第一輸入節點的信號當作觸發信號,在該第一輸出節點上產生一軌對軌的輸出電壓;其中,該軌對軌的輸出電壓是一軌對軌的脈波信號,並且該脈波信號的脈波寬度是基於該觸發信號而決定;其中,該觸發器操作如下的步驟:初始步驟:該第一輸入節點維持在第一邏輯準位,該準位切換器輸出第一邏輯準位,該第一輸出節點維持在第三邏輯準位;第一步驟:該第一輸入節點從第一邏輯準位變化到第二電壓值,或者在變化到第二電壓值之後又在預定時間內回到第一邏輯準位;第二步驟:該準位切換器偵測到該第一輸入節點的變化之後則立刻從第一邏輯準位轉到第二邏輯準位,並且輸出第二邏輯準位;第三步驟:該第一輸出節點從第三邏輯準位轉到第四邏輯準位;第四步驟:若該第一輸入節點持續在第二邏輯準位,則該第一輸出節點持續在第四邏輯準位;第五步驟:在該第一輸入節點回到第一邏輯準位之後,該第一輸出節點等到該準位切換器回到第一邏輯準位之後才會輸出第三邏輯準位,然後完成擴展脈波寬度的功能。
  5. 一種觸發器,包含:一準位切換器,一第一輸入節點,以及一第一輸出節點;其中,當在該第一輸入節點上的電壓準位改變時,該觸發器被組態成將輸入至該第一輸入節點的信號當作觸發信號,在該第一輸出節點上產生一軌對軌的輸出電壓;其中,該軌對軌的輸出電壓是一軌對軌的時脈信號,並且該時脈信號的輸出波形是基於該觸發信號而循環地產生脈波信號;其中,該觸發器操作如下的步驟:初始步驟:該第一輸入節點維持在第一邏輯準位,該準位切換器輸出第一邏輯準位,該第一輸出節點維持在第三邏輯準位; 第一步驟:該第一輸入節點從第一邏輯準位變化到第二電壓值,或者在變化到第二電壓值之後又在預定時間內回到第一邏輯準位;第二步驟:該準位切換器偵測到該第一輸入節點的變化之後則立刻從第一邏輯準位轉到第二邏輯準位,並且輸出第二邏輯準位;第三步驟:該第一輸出節點在第三邏輯準位與第四邏輯準位之間交替變化;第四步驟:若該第一輸入節點持續在第二邏輯準位,則該第一輸出節點會循環地輸出脈波;第五步驟:在該第一輸入節點回到第一邏輯準位之後,該第一輸出節點等到該準位切換器回到第一邏輯準位之後才會輸出第三邏輯準位,然後停止輸出脈波。
  6. 一種適用於記憶體元件的存取裝置,該記憶體元件的電路結構包含一資料傳輸節點;該存取裝置包含一觸發器,其中,該觸發器是根據於請求項1或3或4之觸發器,該觸發器的該第一輸入節點連接或耦接至該資料傳輸節點。
  7. 一種適用於靜態隨機存取記憶體細胞的存取裝置,該記憶體細胞的電路結構包含一儲存細胞;該存取裝置包含一觸發器,其中,該觸發器是一觸發器屬於請求項1或3或4;其中,該儲存細胞包含一第一電晶體,一第二電晶體,以及一第三電晶體;該第一電晶體也是一第一存取電晶體;在不算入任一存取電晶體時,該儲存細胞具有二電晶體;當沒有對該記憶體細胞進行任何存取之時,也就是維持儲存狀態的期間,該儲存細胞的組成元件會形成一等效電路,該等效電路是由一第一反相器以及一第二反相器所組成,並且將該第一反相器與該第二反相器以回授的連接方法來閂鎖資料;該第一反相器由一或二存取電晶體以及該第三電晶體所組成,並且該等存取電晶體包含該第一存取電晶體;該第二反相器由該第二電晶體以及一漏電電路所組成;該漏電電路包含一二極體或一電容器。
  8. 一種適用於靜態隨機存取記憶體細胞的存取裝置,其中,包含一電源供應裝置,以及一觸發器;該觸發器是一觸發器屬於請求項1或3或4;該電源供應裝置用以向該記憶體細胞供應工作電壓,該工作電壓區分為常態電壓、寫入電壓、讀取電壓以及待機電壓;其中,該讀取電壓等於該常態電壓,該常態電壓不低於該寫入電壓,該寫入電壓不低於該待機電壓,並且常態電壓不高於在該記憶體細胞內部之電晶體的臨界電壓。
  9. 如請求項6之存取裝置,其中,該記憶體元件是一動態隨機存取記憶體細胞;該記憶體細胞的電路結構更包含一儲存細胞,以及一傳輸控制節點,該傳輸控制節點用於控制資料輸入以及輸出;其中,該儲存細胞是由一電晶體以及一電容器所組成,或由一電晶體以及一等效電容所組成。
  10. 一種儲存裝置,包含一記憶體陣列,以及一存取控制器;其特徵在於:該存取控制器包含如請求項6之存取裝置。
  11. 一種儲存裝置,包含一靜態隨機存取記憶體陣列,以及一存取控制器;其特徵在於:該存取控制器包含如請求項7之存取裝置。
  12. 一種儲存裝置,包含一靜態隨機存取記憶體陣列,以及一存取控制器;其特徵在於:該存取控制器包含如請求項8之存取裝置。
  13. 一種準位觸發器,該觸發器從傳送端接收輸入信號,並且送出輸出信號至接收端;其特徵在於:當該輸入信號的邏輯準位等於該輸出信號的邏輯準位之時,該觸發器具有史密特觸發器的功能,並且可以獨自調整上升邊緣以及下降邊緣的觸發準位;當該傳送端的邏輯準位不等於該接收端的邏輯準位之時,該觸發器可以將該輸入信號的邏輯準位轉成該輸出信號的邏輯準位。
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US10685703B2 (en) * 2018-09-12 2020-06-16 Nxp B.V. Transistor body bias control circuit for SRAM cells
US11074946B2 (en) 2019-12-05 2021-07-27 Nxp B.V. Temperature dependent voltage differential sense-amplifier
TWI768633B (zh) * 2020-12-31 2022-06-21 大陸商星宸科技股份有限公司 記憶體裝置、影像處理晶片與記憶體控制方法
CN112711548B (zh) * 2021-01-11 2023-05-16 星宸科技股份有限公司 内存装置、图像处理芯片以及内存控制方法
WO2022168160A1 (ja) * 2021-02-02 2022-08-11 ユニサンティス エレクトロニクス シンガポール プライベート リミテッド 半導体メモリ装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3997881A (en) * 1974-09-26 1976-12-14 Siemens Aktiengesellschaft Static storage element circuit
US4620297A (en) * 1984-08-31 1986-10-28 Texas Instruments Incorporated Schmitt trigger based memory cell with assisted turn on
US5036227A (en) * 1989-11-18 1991-07-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Row address strobe signal input buffer for preventing latch-up
US5391950A (en) * 1993-06-24 1995-02-21 Unisys Corporation Circuit to eliminate signal chatter in the output of a fiber-optic receiver
US5519348A (en) * 1992-12-28 1996-05-21 Oki Electric Industry Co., Ltd. Sense circuit, memory circuit, negative-resistance circuit, schmitt trigger, load circuit, level shifter, and amplifier
US6487139B1 (en) * 2001-09-28 2002-11-26 Jagdish Pathak Memory row line driver circuit
TW201205578A (en) * 2010-07-16 2012-02-01 Univ Nat Chiao Tung A Schmitt Trigger Based FinFET Sub-threshold static random access memory (SRAM) Cells
TW201519576A (zh) * 2013-11-08 2015-05-16 Univ Nat Cheng Kung 數位邏輯電路及數位邏輯元件

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2406352C3 (de) * 1974-02-11 1978-07-20 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Statisches MOS-Speicherelement und Verfahren zu dessen Betrieb
JPS51104279A (zh) * 1975-03-11 1976-09-14 Nippon Electric Co
JPS52111392A (en) * 1976-03-16 1977-09-19 Toshiba Corp Semi-conductor memory
GB1521955A (en) * 1976-03-16 1978-08-23 Tokyo Shibaura Electric Co Semiconductor memory device
JPS52111342A (en) * 1976-03-16 1977-09-19 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JPS5916356B2 (ja) * 1977-04-30 1984-04-14 シャープ株式会社 Cmos・スタチツク・ランダム・アクセス・メモリ
US4763026A (en) 1987-04-09 1988-08-09 National Semiconductor Corporation Sense amplifier for single-ended data sensing
US4802129A (en) * 1987-12-03 1989-01-31 Motorola, Inc. RAM with dual precharge circuit and write recovery circuitry
US5007022A (en) * 1987-12-21 1991-04-09 Texas Instruments Incorporated Two-port two-transistor DRAM
JPH04219696A (ja) * 1990-12-18 1992-08-10 Sony Corp スタティック型半導体メモリ
US5390145A (en) * 1993-04-15 1995-02-14 Fujitsu Limited Resonance tunnel diode memory
EP0735540B1 (en) 1995-03-31 2002-06-19 Infineon Technologies AG Low power sense amplifier for gain memory cells
US5640342A (en) * 1995-11-20 1997-06-17 Micron Technology, Inc. Structure for cross coupled thin film transistors and static random access memory cell
JP3102398B2 (ja) * 1997-12-17 2000-10-23 日本電気株式会社 タイミング信号生成回路
US6229161B1 (en) * 1998-06-05 2001-05-08 Stanford University Semiconductor capacitively-coupled NDR device and its applications in high-density high-speed memories and in power switches
JP3326560B2 (ja) * 2000-03-21 2002-09-24 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 半導体メモリ装置
US6853579B1 (en) * 2003-09-09 2005-02-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Non-refresh four-transistor memory cell
US7054191B1 (en) * 2004-06-03 2006-05-30 T-Ram, Inc. Method and system for writing data to memory cells
JP4716736B2 (ja) * 2005-01-04 2011-07-06 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション ゲート制御ダイオードを使用するメモリ・セルおよびこれの使用方法、半導体構造
US7136296B2 (en) * 2005-02-28 2006-11-14 International Business Machines Corporation Static random access memory utilizing gated diode technology
EP1750273B1 (en) * 2005-08-05 2011-12-07 Infineon Technologies AG Memory cell with increased access reliability
US7209384B1 (en) * 2005-12-08 2007-04-24 Juhan Kim Planar capacitor memory cell and its applications
JP4894306B2 (ja) * 2006-03-09 2012-03-14 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ、メモリシステムおよび半導体メモリの動作方法
US8648403B2 (en) * 2006-04-21 2014-02-11 International Business Machines Corporation Dynamic memory cell structures
EP2287909A2 (en) * 2007-01-24 2011-02-23 Keystone Semiconductor, Inc. Depletion-mode MOSFET circuits and applications
US7583546B2 (en) * 2007-06-08 2009-09-01 Qimonda Ag Apparatus and method of operating an integrated circuit
KR20090070555A (ko) * 2007-12-27 2009-07-01 삼성전자주식회사 데이터 판독 방법, 판독 장치 및 기록 매체
US8773933B2 (en) * 2012-03-16 2014-07-08 Micron Technology, Inc. Techniques for accessing memory cells
JP2010273322A (ja) * 2009-04-23 2010-12-02 Nec Engineering Ltd 多数決回路付きフリップフロップ回路
JP5430484B2 (ja) * 2010-04-15 2014-02-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置、及びその制御方法
CN102169718B (zh) * 2011-01-28 2012-11-21 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所 一种抗单粒子翻转加固的静态存储单元
US9013949B2 (en) * 2011-12-19 2015-04-21 Advanced Micro Devices, Inc. Memory access control system and method
US9093175B2 (en) 2013-03-27 2015-07-28 International Business Machines Corporation Signal margin centering for single-ended eDRAM sense amplifier
CN108806742B (zh) * 2017-05-04 2022-01-04 汤朝景 随机存取存储器并且具有与其相关的电路、方法以及设备

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3997881A (en) * 1974-09-26 1976-12-14 Siemens Aktiengesellschaft Static storage element circuit
US4620297A (en) * 1984-08-31 1986-10-28 Texas Instruments Incorporated Schmitt trigger based memory cell with assisted turn on
US5036227A (en) * 1989-11-18 1991-07-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Row address strobe signal input buffer for preventing latch-up
US5519348A (en) * 1992-12-28 1996-05-21 Oki Electric Industry Co., Ltd. Sense circuit, memory circuit, negative-resistance circuit, schmitt trigger, load circuit, level shifter, and amplifier
US5391950A (en) * 1993-06-24 1995-02-21 Unisys Corporation Circuit to eliminate signal chatter in the output of a fiber-optic receiver
US6487139B1 (en) * 2001-09-28 2002-11-26 Jagdish Pathak Memory row line driver circuit
TW201205578A (en) * 2010-07-16 2012-02-01 Univ Nat Chiao Tung A Schmitt Trigger Based FinFET Sub-threshold static random access memory (SRAM) Cells
TW201519576A (zh) * 2013-11-08 2015-05-16 Univ Nat Cheng Kung 數位邏輯電路及數位邏輯元件

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