TWI682247B - 光學裝置、投影光學系統、曝光設備及物品製造方法 - Google Patents

Abstract

所提供的是一種用於使鏡的反射面變形的可變形鏡裝置，該裝置包括：音圈電動機，其具有被安裝在相對於反射面的面上的磁體、以及被設置在面對磁體的位置處的線圈；保持線圈的基準底座；傳熱桿，其連接到被保持在基準底座中的線圈；以及收集來自傳熱桿的熱的流路。傳熱桿在與連接到線圈的端部相對的導熱單元的端部處具有自由端。

Description

光學裝置、投影光學系統、曝光設備及物品製造方法

本發明關於光學裝置、曝光設備及物品製造方法。

已知存在光學裝置，在此光學裝置中，可以藉由使用反射面具有可變形形狀的鏡來校正光學系統中的像差。此種鏡被設置在光學系統的光路上，且為了調整鏡的形狀，已經有一種使用音圈電動機(voice coil motor)的方法被提出，音圈電動機在磁體被接合到鏡的背面且線圈被設置在從磁體稍微地隔開並對面磁體的位置處的狀態下被驅動。

此方法使得線圈與磁體必須被互相鄰近地設置。接著，在驅動時由線圈所產生的熱會經由空氣層而從線圈傳遞到磁體，並從磁體傳遞到鏡。因此，難以將鏡變形為期望的形狀。在R.Biasi等所著的“VLT Deformable Secondary Mirror：integration and electromechanical tests results”,Proc.SPIE 8447,Adaptive Optics Systems III,84472G(September 13,2012)中揭露了一種構造，在該構造中，在接合到冷卻板的銅桿的端部處配設線圈，且接著，由線圈所產生的熱被收集到銅桿中，以減少鏡的溫度的升高。

在R.Biasi等所揭露的構造中，線圈僅由在鏡的法線方向上延伸的銅桿所保持。在與各個音圈電動機對應的基準底座中配設距離感測器，以測量基準底座與鏡之間的距離，並基於所測量的值來控制鏡的形狀。在R.Biasi等所揭露的構造的情況下，需要在各個音圈電動機中配設距離感測器，且接著，如果鏡具有大的直徑，則需要100個或更多個的距離感測器。因此，這可能導致成本的增加。因此，需要一種減少距離感測器的數量的構造。如果從各個音圈電動機中去除各個距離感測器，則需要以前饋方式產生期望的力並控制鏡的形狀。但是，在R.Biasi等所揭露的構造的情況下，銅桿的熱膨脹改變了線圈與磁體之間的距離，並改變了推力常數(thrust constant)，使得音圈電動機不能以前饋方式產生目標力。為了減少線圈與磁體之間的距離的改變，需要將線圈固定在基準底座上。在這種情況下，基準底座被構造為經由線圈和銅桿而被耦接到冷卻板上。因此，如果銅桿和冷卻板產生熱變形，則基準底座也會由於從變形的銅桿和冷卻板所接收到的力而變形，且線圈的位置被偏移，這將改變推力常數。所以，在音圈電動機的線圈被固定到基準板上的構造中，存在對如下構造的需求，此構造可在線圈能 夠被冷卻的同時減少由於對基準板所提供的熱變形而導致的影響。

本發明提供一種，例如，在光學系統的性能提升方面有利的光學裝置。

根據本發明的一面向的光學裝置是用於使光學元件的反射面變形的光學裝置，該光學裝置包括：致動器，其具有被安裝在相對於反射面的面上的磁體、以及被設置在面對磁體的位置處的線圈；底板，其保持線圈；導熱單元，其連接到被保持在底板中的線圈；以及冷卻單元，其收集來自導熱單元的熱，其中，導熱單元在與連接到線圈的端部相對的導熱單元的端部處具有自由端。

從例示性實施例參照所附圖式的以下描述，本發明的進一步特徵將變得清楚明瞭。

50‧‧‧曝光設備

51‧‧‧控制單元

52‧‧‧梯形鏡

52a‧‧‧第一面

52b‧‧‧第二面

53‧‧‧凹面鏡

53a‧‧‧第一面

54‧‧‧凸面鏡

55‧‧‧光罩

56‧‧‧基板

100‧‧‧可變形鏡裝置

101‧‧‧鏡

102‧‧‧鏡固定部

103‧‧‧音圈電動機

104‧‧‧磁體

105‧‧‧線圈

106‧‧‧組件

121‧‧‧基準底座

122‧‧‧保持器

123‧‧‧位移感測器

124‧‧‧傳熱桿

125‧‧‧冷卻板

126‧‧‧流路

127‧‧‧螺釘

300‧‧‧可變形鏡裝置

301‧‧‧空氣層

400‧‧‧可變形鏡裝置

401‧‧‧彈性體

402‧‧‧孔

500‧‧‧可變形鏡裝置

501‧‧‧基準底座

502‧‧‧流路

503‧‧‧空氣層

600‧‧‧可變形鏡裝置

602‧‧‧流路

IL‧‧‧照明光學系統

MS‧‧‧光罩台

PO‧‧‧投影光學系統

WS‧‧‧基板台

圖1A至圖1C是顯示光學裝置的基本構造的示意圖。

圖2是顯示根據第一實施例的光學裝置的構造的示意圖。

圖3是顯示根據第二實施例的光學裝置的構造的示意圖。

圖4是顯示根據第三實施例的光學裝置的構 造的示意圖。

圖5是顯示根據第四實施例的光學裝置的構造的示意圖。

圖6是顯示應用光學裝置的曝光設備的構造的示意圖。

下面將參照附圖描述本發明的例示性實施例。

(第一實施例)

圖1A是顯示可變形鏡裝置100的例示性基本構造的截面圖。被稱為光學裝置的可變形鏡裝置100被構造為允許改變作為光學元件的鏡101的反射面的形狀。在圖1A至圖5中，X軸係設置為與變形前的鏡101的反射面垂直的方向，且Y軸和Z軸係設置為在與X軸垂直的平面(亦即，與變形前的鏡101的反射面平行的平面)中互相垂直。鏡101是薄的鏡，且使反射面的背面(在下文中稱為“鏡背面”)的中心藉由鏡固定部102而固定到基準底座121。適合於要使用的光的波長的塗層被施加到鏡101的反射面上。為了抑制由於熱變形(heat distortion)而導致的形狀誤差的發生，在本實施例中將低熱膨脹光學玻璃設置為鏡101的材料。此外，在本實施例中，儘管未特別限制鏡的尺寸，但鏡通常為對於大約0.1米至2米的 外直徑具有大約幾毫米至幾厘米的厚度。例如，鏡101的外直徑大約為1米，且厚度大約為1厘米。

被稱為底板的基準底座121保持鏡101、位移感測器123以及用於固定致動器的保持器122。此外，基準底座121經由保持器122保持線圈105。鏡101經由鏡固定部102而被保持在基準底座121中。保持在基準底座121中的位移感測器123測量鏡101的表面形狀。為了減少由來自致動器等的熱所造成的熱變形而導致的測量精度的降低，在本實施例中，將基準底座121的材料設置為低熱膨脹材料。

鏡固定部102具有圓柱形狀，並固定鏡101和基準底座121。在本實施例中，鏡固定部102被設置為使得鏡101的中心線和鏡固定部102的中心線匹配。然而，本實施例不限於這樣的構造，且因此，若是在本文的範圍內，則可以改變鏡固定部102的位置、形狀和數量。鏡固定部102的材料較佳地具有低的熱膨脹性，以減少熱變形的影響，且在本實施例中，與基準底座121相同的低熱膨脹材料被使用來作為鏡固定部102的材料。音圈電動機103被驅動，使得鏡101變形為目標形狀，然而，由於鏡固定部102將鏡101固定使其不發生位移，鏡101既不會在X方向上平移也不會繞著與X方向垂直的軸旋轉。例如，當音圈電動機103被驅動時，由音圈電動機103所產生的總作用力不一定為零。然而，與音圈電動機103的力矩相抵消的力矩在鏡固定部102處被產生，且因此鏡 101不會旋轉。結果，能夠在所需的精度範圍內維持鏡101的姿勢，且因此不需要控制鏡101的姿勢。

音圈電動機103是由磁體104和線圈105所構成的致動器單元。圖1B是顯示根據本實施例的在鏡背面中的磁體104的設置的例子。被稱為可移動單元的磁體104被徑向地放置在與鏡101的反射面相對的面上，且被稱為固定單元的線圈105經由保持器122而被保持在基準底座121中，使線圈105與磁體104稍微地間隔開。可以根據鏡101的目標形狀和所需的精度來決定音圈電動機103的數量和設置。音圈電動機103藉由對線圈105施加電流而在與磁體和線圈交叉的軸的方向上產生勞侖茲力(Lorentz force)。又，音圈電動機103具有能夠使鏡101的反射面變形為期望的形狀的推力和驅動量。例如，可以使用具有高磁通密度的釹作為磁體104。推力隨著線圈105和磁體104之間的間隙的增大而減少，且因此有必要使線圈105接近磁體104至，例如，距磁體104的端面大約0.1毫米至幾毫米。

組件(pack)106被設置在磁體104和鏡101之間，且黏合劑固定組件106與磁體104之間的部分、以及組件106與鏡101之間的部分。組件106被設置在鏡101和磁體104之間，從而減少磁體104的熱變形對鏡101的影響。組件106的材料是與鏡101相同的低熱膨脹材料。保持器122是用於將線圈105固定到基準底座121的保持單元。

複數個被稱為測量單元的位移感測器123被設置在基準底座121上面對鏡背面的位置處。藉由將基準底座121設置為基準並測量從基準底座121至鏡背面的距離，獲取鏡的形狀資訊。圖1B中的位移感測器123被徑向地設置，然而，可以根據鏡101的目標形狀和所需的精度來決定位移感測器123的設置和數量。在本實施例中，在縮減成本的觀點上，顯示了使得位移感測器123的數量少於致動器單元的數量(即，線圈105的數量)的例示性構造，然而，本實施例不限於此。

傳熱桿124是熱傳導器(導熱單元)，傳熱桿124被連接以耦接線圈105和冷卻板125，並將線圈的熱傳遞到冷卻板125。傳熱桿124經由導熱油脂藉由螺釘127而被固定到冷卻板125。傳熱桿124為，例如，由具有高導熱率的銅或鋁所製成，或為像是具有高導熱率的導熱管的單元。根據線圈的加熱量和所需的熱阻值來決定傳熱桿124的長度和厚度。此外，線圈105和傳熱桿124經由黏合劑被接合。

冷卻板(板)125被與連接到線圈105的傳熱桿124的端部間隔開地設置，且被稱為冷卻單元的流路126被形成在冷卻板125中。從溫度控制器(未示出)所供給的溫度控制冷卻劑在流路126中流動。圖1C是顯示接合到冷卻板125的傳熱桿124以及流路126的例子的圖。由傳熱桿124所收集的線圈105的熱被收集到形成在冷卻板125中的流路126中。冷卻板125可以由像是銅或 鋁之具有高導熱率的材料所製成。可以根據收集線圈的熱所需的熱阻值、冷卻劑的壓力損失等來決定流路126的形狀和冷卻劑的流量。在本實施例中，流路126為複數個，且複數個流路被設置為平行構造，以減少壓力損失。此外，考慮到冷卻板的裝配特性，冷卻板125可被構造為被分離的。

音圈電動機103具有用於藉由對線圈105施加電流而產生推力的結構，且因此，線圈105在驅動時產生熱。線圈的熱經由空氣層從線圈105被傳遞到磁體104，並經由組件106從磁體104被傳遞到鏡101。且接著，鏡101經歷熱變形，且因此無法將鏡101變形並控制為期望的形狀。此外，如果線圈的熱經由保持器122而造成基準底座121的熱變形，則鏡101和基準底座121之間的位置關係改變。此外，如果基準底座121產生熱變形，則位移感測器123的位置偏移，並從而無法精確地測量鏡101的形狀。因此，有必要藉由冷卻板125透過傳熱桿124收集線圈105的熱，以及減少基準底座121和鏡101的熱變形。

然而，傳熱桿124由於對線圈105的熱的收集而熱膨脹。特別是，由於傳熱桿124通常由銅或鋁作為材料而製成，且具有大的線性膨脹係數和大的楊氏模量，傳熱桿124產生大的熱應力。由於傳熱桿124的兩端分別被固定到冷卻板125和基準底座121，傳熱桿124依據熱膨脹而對基準底座121和冷卻板125施加力。尤其是，如 果力經由保持器122被施加到基準底座121，則基準底座121發生變形，且無法使鏡101變形並控制為期望的形狀。

因此，本實施例提供了一種構造，其中，由傳熱桿124的熱膨脹所導致的基準底座121的變形被減少。在下文中，將參照圖2具體地描述本實施例中的線圈105的冷卻構造。圖2是根據第一實施例的可變形鏡裝置300的示意性截面圖。冷卻板125的厚度為幾毫米到幾十毫米。本實施例的可變形鏡裝置300具有彼此間隔地設置的傳熱桿124和冷卻板125，且具有配設在傳熱桿124和冷卻板125之間的空氣層301。傳熱桿124和冷卻板125之間的距離為，例如，幾微米到幾毫米。傳熱桿124和冷卻板125之間的傳熱效率與嵌合(engage)到冷卻板125的傳熱桿124與冷卻板125之間的面對面積(facing area)成比例。此外，傳熱桿124和冷卻板125之間的傳熱效率與空氣層301的厚度成反比。因此，可以根據線圈的加熱量和鏡101的容許溫升值來決定空氣層301的厚度和嵌合部分的面對面積。可以藉由冷卻板125的厚度和傳熱桿124的直徑來調整面對面積。構成空氣層301的氣體不限於空氣，且可以是單一成分的氣體。

傳熱桿124在冷卻板125的側具有自由端，並因此從耦接到線圈105的端部作為起點而自由地熱膨脹。因此，傳熱桿124可以減少基準底座121的變形量，而不會對基準底座121施加大的力。因此，線圈105和磁 體104之間的距離的改變被減少，且音圈電動機103的推力常數的變化量亦變得對於本實施例是可接受的。因此，藉由使用本實施例，可以在前饋控制下使用音圈電動機103產生期望的力並控制鏡的形狀。

此外，由於傳熱桿124與冷卻板125被間隔開地設置，能夠防止冷卻板125的振動經由傳熱桿124而傳遞到基準底座121。此外，在本實施例中，可以容易地進行裝配而不需使用螺釘127等來將傳熱桿124接合到冷卻板125。例如，在基準底座121中裝配線圈105和傳熱桿124之後，冷卻板125還可同樣被裝配為與傳熱桿124對齊。此時，如果冷卻板125被構造為被分離的，將進一步地有利於裝配。此外，在冷卻板125與基準底座121對齊之後，藉由將傳熱桿124從冷卻板125插入基準底座121並基於冷卻板125對齊傳熱桿124，保持器122亦可被固定到基準底座121。在這種情況下，管理空氣層301的厚度變得容易。基準底座121和冷卻板藉由未顯示的透鏡筒來固定。

如上所述，本實施例中的可變形鏡裝置300被構造為使得儘管冷卻板125和傳熱桿124未直接地相互接合，其亦通過空氣層301而熱接合。因此，藉由將由線圈105所產生的熱經由傳熱桿124收集到冷卻板125內、並同時藉由減少由傳熱桿124的熱膨脹所造成的基準底座121的變形，可能提升光學裝置的形狀控制精度。

(第二實施例)

將參照圖3描述另一個實施例。在下面的描述中，將對與上面的實施例相同或等效的部件給予與上面的實施例中的標號相同的標號，並省略或簡化其描述。圖3是根據第二實施例的可變形鏡裝置400的示意性截面圖。本實施例的傳熱桿124在靠近其端部處具有截錐形狀之低剛性的彈性體401。此外，冷卻板125在對應到傳熱桿124的位置處具有與彈性體401相同的截錐形狀的孔402，以允許彈性體401與孔402嵌合。孔402可被形成小於彈性體401，使得彈性體401可以與孔402接觸而沒有任何間隙。

在本實施例中，傳熱桿124和冷卻板125之間的間隙被以彈性體401填充。如果使用樹脂、橡膠或傳熱片作為彈性體401的材料，則彈性體401的導熱率比空氣之0.026W/mK(23℃)的導熱率大幾十到幾百倍。因此，即使將傳熱桿124與冷卻板125之間的間隙(彈性體401的厚度)設置為等於第一實施例中的空氣層或比第一實施例中的空氣層大幾倍，相較於空氣層的傳熱效率，能夠提升從傳熱桿124到冷卻板125的傳熱效率。

在此，傳熱桿124由於線圈105的熱而熱膨脹。然而，在本實施例中，由於彈性體401因傳熱桿124的熱膨脹而彈性地變形，傳熱桿124從與線圈105耦接的端部作為起點發生熱膨脹，且因傳熱桿124的熱膨脹而由基準底座121所接收到的力被減少。換言之，能夠藉由應 用具有足夠低的剛性的彈性體401來將基準底座121的變形減少到容許範圍內。彈性體401可以具有10GPa或更小的楊氏模量，且可由，例如，樹脂、橡膠等所製成。此時，同樣可能將音圈電動機103的推力常數的變化值設置為可接受的，並在前饋控制下使用音圈電動機103產生期望的力，以及控制鏡的形狀。

此外，由於可以使傳熱桿124與冷卻板125之間的間隙大於在空氣層的情況下的傳熱桿124與冷卻板125之間的間隙，如果可變形鏡裝置400被裝配，則傳熱桿124和冷卻板125容易被對齊。換言之，即使傳熱桿124的中心與冷卻板125的孔402的中心被偏移，彈性體401亦被彈性地變形，且因此彈性體401和冷卻板125可以互相緊密接觸。如上所述，藉由插入用於將傳熱桿124接合到冷卻板125的彈性體401，根據本實施例的可變形鏡裝置400可提升從傳熱桿124到冷卻板125的傳熱效率。此外，藉由將彈性體401插入到傳熱桿124和冷卻板125之間的間隙，能夠減少基準底座121因傳熱桿124的熱膨脹而引起的變形並且可以提升光學裝置的形狀控制精度。

(第三實施例)

在下文中，將參照圖4描述另一個實施例。在下面的描述中，將對與上述的實施例相同或等效的部件給予與前面的實施例中的標號相同的標號，並省略或簡化 其描述。圖4是根據第三實施例的可變形鏡裝置500的示意性截面圖。在本實施例的基準底座501中形成有被稱為冷卻單元的流路502。因此，根據本實施例的可變形鏡裝置500不具有第一實施例和第二實施例中所使用的分離形式的冷卻板125。流路502被設置在傳熱桿124之間。可以根據線圈的加熱量或需要的熱阻值來決定流路的直徑和長度。流路502可被設置在傳熱桿124的附近，從而提升冷卻效率。此外，在本實施例中，存在複數個流路502，且流路被設置為平行構造。藉由縮短平行構造的各個流路的長度，可以減少壓力損失，並可以抑制因冷卻劑的溫度升高所導致的冷卻能力的降低。本實施例中的傳熱桿124的直徑被構造為使得基準底座501和傳熱桿124之間的被稱為間隙的空氣層503為大約幾微米到幾毫米。

接下來，將給出本實施例的效果的描述。可變形鏡裝置500可將線圈105中所產生的熱傳遞到傳熱桿124、進一步經由空氣層503傳遞到基準底座501、並在流路502中收集熱。由於基準底座501具有比在第一實施例和第二實施例中的冷卻板125的厚度更厚的厚度，相對於第一實施例和第二實施例，本實施例具有基準底座501面對傳熱桿124的更大的面積，從而提升了傳熱效率。此外，傳熱桿124從與線圈105耦接的端部作為起點發生熱膨脹，且因此可以抑制基準底座501的變形而不會接收到大的力。

在本實施例中，由於不存在分離形式的冷卻 板125，可變形鏡裝置可被作成為比第一實施例和第二實施例更小。此外，由於簡化的構造而有利於其裝配。由於流路502被形成在基準底座501中，基準底座501的溫度實質上變成冷卻劑的溫度，且即使可變形鏡裝置500的環境溫度變化，也減少基準底座501的溫度變化。在本實施例中，儘管傳熱桿124和基準底座501之間的間隙是空氣層503，也可以插入與第二實施例中類似的彈性體。如上所述，由於在本實施例的可變形鏡裝置500中，流路502被形成在基準底座501中，且傳熱桿124和冷卻板125被設置為其間具有空氣層503，能夠減少由傳熱桿124的熱膨脹而導致的基準底座501的變形。

(第四實施例)

在下文中，將參照圖5給出另一個實施例的描述。在下面的描述中，將對與上面的實施例相同或等效的部件給予與前面的實施例中的標號相同的標號，並省略或簡化其描述。圖5是根據第四實施例的可變形鏡裝置600的示意性截面圖。本實施例中的可變形鏡裝置600與第三實施例中的可變形鏡裝置500之間的不同之處在於，本實施例中的可變形鏡裝置600不包括傳熱桿124，且被設置在基準底座501中之被稱為冷卻單元的流路602被設置在各個線圈105之間。可以根據線圈105的加熱量和需要的熱阻值來決定流路602的直徑和長度。流路602可被設置為靠近線圈105以提高冷卻效率。此外，在本實施例 中，如同第三實施例中的流路502，存在複數個流路602，且流路被設置為平行構造。藉由縮短平行構造的各個流路602的長度，可以減少壓力損失，並可以抑制因冷卻劑的溫度升高所導致的冷卻能力的降低。在本實施例中被稱為導熱單元的保持器122由具有高導熱性的材料所製成。

接下來，將給出本實施例的效果的描述。可變形鏡裝置600可將在線圈105中產生的熱經由保持器122傳遞到基準底座501，並藉由流路602收集熱。此外，由於本實施例中的可變形鏡裝置600不具有傳熱桿，基準底座501可抑制基準底座501的變形而不會接收到大的力。此外，在本實施例中，保持器122可與線圈105間隔開地延伸，並增加保持器122和基準底座501的接觸面積。在此構造中，傳熱效率可進一步地被提升。

由於此構造不具有分離形式的冷卻板125，相對於第一實施例和第二實施例，本實施例可以減少構造的尺寸。此外，由於簡化的構造而有利於其裝配。由於流路602被形成在基準底座501中，基準底座501的溫度實質上變成冷卻劑的溫度。且因此，即使可變形鏡裝置600的環境溫度變化，也減少基準底座501的溫度變化。如上所述，由於本實施例中的可變形鏡裝置600可以將在線圈105中所產生的熱經由保持器122傳遞到基準底座501，並在流路602中收集熱，傳熱桿為非必需的，且因此，可以抑制由傳熱桿的熱膨脹而導致的基準底座501的變形。

(曝光設備的實施例)

圖6是顯示應用根據第一實施例至第四實施例中的一個實施例的光學裝置的曝光設備的構造的示意圖。曝光設備50包括照明光學系統IL、投影光學系統PO、保持光罩55且可移動的光罩台MS、保持基板56且可移動的基板台WS以及控制基板56的曝光處理的控制單元51。Z軸被設置為與從照明光學系統IL出射的光的光軸平行，且X軸和Y軸被設置為在與Z軸垂直的平面中互相垂直。照明光學系統IL包括光源和狹縫(二者均未示出)。從被包括在照明光學系統IL中的光源所射出的光可藉由被包括在照明光學系統IL中的狹縫來，例如，在光罩55上形成XY方向上的長的弧形曝光區域。光罩55和基板56分別由光罩台MS和基板台WS所保持，且被設置在通過投影光學系統PO的實質上光學共軛的位置(投影光學系統PO的物面和像面的位置)處。投影光學系統PO具有預定的投影倍率，且將形成在光罩55上的圖案投影到基板56上。接著，光罩台MS和基板台WS在與投影光學系統PO的物面平行的方向上(例如，XY方向)以對應於投影光學系統PO的投影倍率的速度比被掃描。結果，能夠將形成在光罩55上的圖案轉印到基板56上。

投影光學系統PO被構造為包括梯形鏡52、凹面鏡53和凸面鏡54。梯形鏡52的第一面52a使從照明光學系統IL射出並經由光罩55透射的曝光光線的光路 彎折。接著，曝光光線入射在凹面鏡53的第一面53a上。被凹面鏡53的反射面53a所反射的曝光光線被凸面鏡54反射並入射在凹面鏡53的反射面53a上。藉由梯形鏡52的第二面52b使由凹面鏡53的反射面53a所反射的曝光光線的光路彎折，並使曝光光線在基板上成像。在以這種方式構造的投影光學系統PO中，凸面鏡54的表面被設置為光瞳。

在上述的曝光設備50的構造中，可以在投影光學系統中使用，例如，在第一實施例至第四實施例中的一個實施例中所描述的光學裝置，以作為使凹面鏡53的反射面變形的裝置。藉由在曝光設備50中使用第一實施例至第四實施例中的任意一個實施例中的光學裝置，能夠使凹面鏡53的反射面53a變形並可以精確地校正投影光學系統PO中的光學像差。

在上述實施例中，描述了應用到曝光設備的例子，然而，根據上述任意一個實施例的光學裝置適用的設備包括，例如，在基板上形成抗蝕劑潛像圖案的光刻設備。此外，可以將光學裝置應用到雷射處理設備、眼底攝影設備(fundus photography apparatus)、望遠鏡、投影光學系統等。

(物品製造方法的實施例)

根據本發明的實施例的物品製造方法較佳地用於製造，例如，微型裝置(諸如，半導體裝置等)、具 有微型結構的元件等的物品。物品製造方法可包括使用前述曝光設備在物體上形成潛像圖案的步驟(例如，曝光處理)；以及對其上已經在前面步驟中形成了潛像圖案的物體進行顯影的步驟。此外，物品製造方法可包括其他的已知步驟(氧化、成膜、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、接合、封裝等)。相較於傳統的裝置製造方法，本實施例的物品製造方法在物品的性能、質量、生產率和生產成本中的至少一方面具有優勢。

雖然已經參照例示性實施例描述了本發明，但應理解的是，本發明不限於所揭露的例示性實施例。以下申請專利範圍的範疇應被賦予最寬廣的解釋，以涵蓋所有這類型的修改以及等效的結構和功能。

本申請案請求2016年1月27日提交的日本專利第2016-013620號申請案以及2016年11月29日提交的日本專利第2016-231794號申請案的優先權，其全部內容在此藉由引用被併入。

101‧‧‧鏡

102‧‧‧鏡固定部

103‧‧‧音圈電動機

104‧‧‧磁體

105‧‧‧線圈

106‧‧‧組件

121‧‧‧基準底座

122‧‧‧保持器

123‧‧‧位移感測器

124‧‧‧傳熱桿

125‧‧‧冷卻板

300‧‧‧可變形鏡裝置

301‧‧‧空氣層

Claims (15)

1. 一種光學裝置，其用於使光學元件的反射面變形，該光學裝置包括：致動器，其具有被安裝在相對於該光學元件的該反射面的面上的磁體、以及被設置在面對該磁體的位置處的線圈；底板，其保持該線圈；及導熱單元，其連接到被保持在該底板中的該線圈，其中，該導熱單元在與連接到該線圈的端部相對的該導熱單元的端部處具有自由端，且該導熱單元經由連接到該線圈的該端部傳遞該線圈所產生的熱到該自由端。
2. 如申請專利範圍第1項之光學裝置，進一步包含冷卻單元，其收集來自該導熱單元的熱。
3. 如申請專利範圍第2項之光學裝置，其中，該導熱單元與該冷卻單元被互相間隔開地設置。
4. 如申請專利範圍第2項之光學裝置，其中，該冷卻單元是使冷卻劑流動的流路，且該流路被包括在板中，該板在與連接到該線圈的該導熱單元的該端部間隔開的位置處與該導熱單元間隔開地設置。
5. 如申請專利範圍第2項之光學裝置，其中，該冷卻單元是使冷卻劑流動的流路，且該流路被包括在該底板中。
6. 如申請專利範圍第2項之光學裝置，還包括具有導熱性的彈性體，該彈性體在該導熱單元和該冷卻單元之 間。
7. 如申請專利範圍第6項之光學裝置，其中，該彈性體具有10GPa或更小的楊氏模量。
8. 如申請專利範圍第6項之光學裝置，其中，該彈性體為樹脂。
9. 如申請專利範圍第6項之光學裝置，其中，該彈性體為橡膠。
10. 如申請專利範圍第4項之光學裝置，其中，存在複數個該流路，且該複數個流路被設置為平行構造。
11. 如申請專利範圍第5項之光學裝置，其中，存在複數個該流路，且該複數個流路被設置為平行構造。
12. 如申請專利範圍第1項之光學裝置，還包括測量單元，該測量單元被設置在該底板中，並藉由測量該底板與相對於該反射面的該面之間的距離來獲取該光學元件的形狀資訊，其中，該測量單元的數量小於該致動器的數量。
13. 一種投影光學系統，其包括如申請專利範圍第1至12項中的任一項之光學裝置。
14. 一種曝光設備，其具有用於對光罩進行照明的照明光學系統、以及如申請專利範圍第13項之投影光學系統，該投影光學系統將形成在該光罩上的圖案投影到基板上。
15. 一種物品製造方法，包括：利用如申請專利範圍第14項之曝光設備對基板進行 曝光；以及對已曝光的該基板進行顯影。

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