TWI681036B - 發光化合物調配物 - Google Patents

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菲利普 史托希爾
克里斯多夫 普夫路姆
安佳 傑許
喬琴 凱瑟
安娜 海爾
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Abstract

本發明係關於用於製造具有低失效率之有機電子裝置的包含有機材料的調配物。

Description

發光化合物調配物
本發明係關於包含具有小的單態-三重態之差的發光化合物的調配物及其用於製造有機電子裝置之用途。
在例如US 4539507、US 5151629、EP 0676461和WO 98/27136中揭示一種特定有機電子裝置之結構體，其中利用有機半導體作為功能材料。彼為一種有機發光二極體(OLED)，就是選自有機電發光裝置群組之特定裝置。在此所利用之發射材料也特別是有機金屬銥和鉑錯合物，其顯現出磷光而非螢光(M.A.Baldo et al..Appl.Phys.Lett.1999,75,4-6)。基於量子力學的緣故，使用有機金屬化合物作為磷光發射體，可使能量和功率效率增加達4倍。
雖利用有機金屬銥及鉑錯合物可達成良好結果，但也具有很多缺點：例如，銥和鉑是稀有且昂貴之金屬。因此，由於要節約資源，會想要能避免使用這些稀有金屬。另外，此種金屬錯合物在某些情況中，具有比純有機化合 物低之熱穩定性，以致純有機化合物之使用也因這理由而會是有利的，只要彼導致同等良好之效率。另外，僅可在技術困難性下達成具有高效率及長使用壽命之藍(尤其是深藍)磷光之銥和鉑發射體，以致在此也需要有改良。另外，若OLED係在高溫下操作(如某些應用所需)，則需要尤其是改良包含Ir或Pt發射體之磷光OLED的壽命。另外，很多已知之用於製造電子裝置的有機半導體材料係藉由利用真空昇華的蒸氣沉積來施用，此在某些情況中係極複雜且昂貴的。此外，並非所有的材料可藉由蒸氣沉積作用來施用，亦即某些有機材料由於其差的加工性而不能用在電子裝置中，即使有良好光電性質。尤其是為大量製造電子產品，有機材料之廉價的加工性具有極大的商業利益。可由溶液加工之高度有效的有機分子因此是令人滿意的。
磷光金屬錯合物之發展的另一方案是使用展現熱活化型延遲螢光(thermally activated delayed fluorescence)(TADF)的發射體(例如H.Uoyama et al.,Nature 2012,Vol.492,234)。這些是有機材料，其中最低三重態(lowest triplet state)T1與第一激發單態(first excited singlet state)S1之間的能量差(energetic separation)是如此的小以致該能量差是更小的或在熱能量區(region of thermal energy)中。基於量子統計學的緣故，在該OLED中之電子激發時，75%程度之激發態出現在該三重態中且25%程度出現在該單態中。因為純的有機分子通常無法由 該三重態發光，75%之激發態無法被用於發光，亦即原則上僅25%之激發能量可轉換成光。然而，若最低三重態與最低激發單態之間的能量差並非大於或並非明顯地大於藉由kBT所描述之熱能量(其中kB表示波茲曼(Boltzmann)常數且T表示溫度)，則該分子之第一激發單態可透過熱激發而由三重態達到的且可為熱佔用(occupied thermally)。因為此單態為可有螢光之發射態，此態可用於產生光。因此，在使用純有機材料作為發射體時，達100%之電能轉換成光原則上是可能的。因此，先前技術中描述大於19%之外部量子效率，此大小與關於磷光OLED者係在相同等級上。因此可能使用此種純有機材料以達成極良好之效率且同時避免使用稀有金屬諸如銥或鉑。另外，也可能使用此等材料以獲致高效藍光OLED。
在先前技術中描述之展現TADF的化合物皆藉由利用昇華之真空蒸氣沉積來施用，以製造包含這些化合物之電子裝置。
通常，在先前技術之化合物的情況中仍明顯需要改良，尤其是在加工性上。特別是，製造有機電子裝置(諸如OLED)之失效率(failure rate)仍是太大，其不利地影響該製造方法之經濟效率。
作為本發明之基礎的技術目的因此係包括提供物質組 成物，該物質組成物使有機電子裝置(尤其是OLED)能廉價地製造，其中該等裝置具有極良好之效能數據且該等裝置之製造失效率係經改良。
令人驚訝地，已發現：該技術目的係利用以下更加詳述之調配物達成。這些調配物使得能由溶液加工以製造有機電子裝置(尤其是OLED)。利用根據本發明之調配物所製造之裝置具有極良好之效能數據且在該製程期間顯現出明顯減低之失效率(failure rate)。根據本發明之調配物因此克服在先前技藝中已知的缺點。電子裝置可容易地由溶液加工。該調配物因此適合電子裝置之廉價且可靠的量產。
本發明因此關於包含至少一種有機發光化合物(TADF化合物)以及至少一有機溶劑的調配物，其特徵在於，該TADF化合物之最低三重態T1與第一激發單態S1之間的差(separation)為小於或等於0.15eV。
本申請案中之調配物係指除了至少一TADF分子外也包含有機溶劑或有機溶劑混合物的組成物。該溶劑或溶劑混合物在此較佳係過量存在。
在本申請案中之溶劑混合物係指至少二種不同溶劑之混合物。
另外，該調配物較佳是液體形式。該調配物在此可以是真溶液、乳液、微乳液(miniemulsion)、分散液或懸浮液，其中該調配物更佳為真溶液。
如在本發明之他處所顯示的，該調配物係用於製造有 機電子裝置之層，尤其是OLED之發光層。在該層之製造期間，溶劑或溶劑混合物係被移出，以使TADF化合物相對於殘留之溶劑或溶劑混合物而言係過量存在。溶劑或溶劑混合物即使存在，也較佳僅微量存在於該有機電子裝置之層中。溶劑或溶劑混合物更佳係已完全移除且因此在所施加之層中不再被發現。
TADF化合物是不含金屬之含碳化合物。尤其，TADF化合物是由元素C、H、D、B、Si、N、P、O、S、F、Cl、Br及I所構成之有機化合物。
TADF化合物之S1與T1之間的差(separation)較佳為小於或等於0.12eV，特佳為小於或等於0.10eV，更特佳為小於或等於0.08eV且尤佳為小於或等於0.05eV。
在一較佳具體例中，TADF化合物之S1能階具有比T1能階高之能量。S1與T1之能階差則定義如下：△E=E(S1)-E(T1)，其中△E為小於或等於0.15eV，較佳為小於或等於0.12eV，特佳為小於或等於0.10eV，更特佳為小於或等於0.08eV，尤佳為小於或等於0.05eV。
在本發明之概念中，發光化合物係指在室溫下、於如同有機電發光裝置內所存在之環境中、於光學激發時能發光的化合物。該化合物具有之發光量子效率較佳為至少40%，特佳為至少50%，更特佳為至少60%且尤佳為至少70%。發光量子效率(luminescence quantum efficiency)在此係在與基質材料混合的層中測定，如欲於有機電發光裝置中採用者。用於本發明之目的所進行之發光量子產率 (luminescence quantum yield)的測定方式係在實例部分概括詳述。
另外，TADF化合物較佳具有短的衰變期(decay time)。該衰變期較佳小於或等於50μs。用於本發明之目的，該衰變期之測定方式係在實例部分中概括詳述。
最低激發單態(S1)之能量和最低三重態(T1)之能量係藉由量子化學計算(quantum-chemical calculation)來測定。在本發明之概念中，此測定之進行方式係在實例部分中概括詳述。
TADF化合物較佳是具有供體以及受體取代基二者之芳香族化合物，其中該化合物之LUMO和HOMO較佳僅顯現出弱的空間重疊(spatial overlap)。
TADF化合物的分子軌域(涉及某些電子躍遷(電荷轉移狀態))較佳具有小的空間重疊Λ。
在本申請案中該分子軌域之小的重疊意指該參數Λ之值是0.3或更低，較佳是0.2或更低，更佳是0.15或更低，更為特佳是0.1或更低且尤佳是0.05或更低。在本發明之概念中，參數Λ之測定的進行方式係在實例部分中概括詳述。
供體或受體取代基之意義對習此技藝之人士係合適地知曉。適合之供體取代基尤其是二芳基胺基和二雜芳基胺基以及咔唑基或咔唑衍生物，其各較佳係經由N與芳香族化合物鍵結。此等基團也可另經取代。適合之受體取代基尤其是氰基，但也可以是例如缺電子之雜芳基，彼也可另 經取代。
受體基團A(也稱為受體取代基)在本申請案中意思是為電子受體基團之基團。習於此技藝之人士周知理解為受體基團者。受體基團較佳具有負誘導效應(negative inductive effect)(-I)及/或負共振效應(negative mesomeric effect)(-M)。藉Hammett等式(Hammett equation)測定該等參數對習此技藝之人士也是已知的。適合之受體取代基尤其是氰基，但也可以是CF3，及例如缺電子之雜芳基，其也可另經取代。較佳之缺電子的雜芳基的實例係選自由三
Figure 104107761-A0202-12-0007-21
類、嘧啶類、膦氧化物類及酮類所組成之群組。
供體基團D(也稱為供體取代基)在本申請案中意思是為電子供體基團的基團。習於此技藝之人士周知理解為供體基團者。供體基團較佳具有正效應(positive inductive effect)(+I)及/或正共振效應(positive mesomeric effect)(+M)。藉Hammett等式測定該等參數對習此技藝之人士是已知的。適合之供體取代基尤其是二芳基胺基或二雜芳基胺基以及咔唑基或咔唑衍生物諸如茚并咔唑類或吲哚并咔唑類，其各較佳經由N與橋(bridge)V或基團A鍵結。此等基團也可以另經取代。
展現TADF之適合分子的實例是在以下概要中所示之結構。
Figure 104107761-A0202-12-0008-1
Figure 104107761-A0202-12-0009-2
多種TADF化合物在此技術領域中係已知的，且從先前技術選擇TADF化合物對習此技藝之人士而言絕無困難(先前技術係例如：Tanaka et al.,Chemistry of Materials 25(18),3766(2013),Zhang et al.,Nature Photonics advance online publication,1(2014),doi：10.1038/nphoton. 2014.12,Serevicius et al.,Physical Chemistry Chemical Physics 15(38),15850(2013),Youn Lee et al.,Applied Physics Letters 101(9),093306(2012),Nasu et al.,ChemComm,49,10385(2013),WO 2013/154064,WO 2013/161437,WO 2013/081088,WO 2013/011954)。
TADF化合物因此較佳是含有供體和受體取代基二者之芳香族化合物。
使用之溶劑或諸溶劑(在溶劑混合物的情況中)的表面張力較佳為至少28mN/m，較佳為至少30mN/m，更佳為至少32mN/m，特佳為至少35mN/m。
另外，溶劑或諸溶劑之沸點或昇華點(sublimation point)較佳低於300℃，較佳低於260℃。
溶劑之黏度或溶劑混合物之不同溶劑的黏度更佳是大於3mPa*s且較佳大於5mPa*s。
另外，溶劑或諸溶劑之分子量較佳為小於或等於1000g/mol(克/莫耳)，較佳為小於或等於700g/mol，更佳為小於或等於500g/mol，特佳為小於或等於300g/mol。
如已經說明的，溶劑或溶劑混合物之諸溶劑與TADF化合物相比係過量存在於該調配物中。TADF化合物在調配物中之濃度以整個調配物計，為在1至20重量%之範圍內，較佳在3至15重量%之範圍內，更佳在5至12重量%之範圍內。
習此技藝之人士將能從多種溶劑及溶劑混合物中選擇 以製備根據本發明之調配物。
適合且較佳之溶劑為例如甲苯，苯甲醚，鄰-、間-或對-二甲苯，苯甲酸甲酯，
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(mesitylene)，四氫萘，藜蘆素(veratrol)，THF，甲基-THF，THP，氯苯，二
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烷、苯氧基甲苯(尤其是3-苯氧基甲苯)，(-)-葑酮，1,2,3,5-四甲基苯，1,2,4,5-四甲基苯，1-甲基萘，2-甲基苯并噻唑，2-苯氧基乙醇，2-吡咯啶酮，3-甲基苯甲醚，4-甲基苯甲醚，3,4-二甲基苯甲醚，3,5-二甲基苯甲醚，苯乙酮，萜品醇，苯并噻唑，苯甲酸丁酯，異丙苯，環己醇，環己酮，環己苯，十氫萘，十二烷基苯，苯甲酸乙酯，二氫茚，苯甲酸甲酯，NMP，對-異丙基甲苯，苯乙醚，1,4-二異丙基苯，二苄基醚，二乙二醇丁基甲基醚，三乙二醇丁基甲基醚，二乙二醇二丁基醚，三乙二醇二甲基醚，二乙二醇單丁基醚，三丙二醇二甲基醚，四乙二醇二甲基醚，2-異丙基萘，戊基苯，己基苯，庚基苯，辛基苯，1,1-雙(3,4-二甲基苯基)乙烷或該等溶劑之混合物。
本發明之調配物較佳可包含0.01至20重量%、更佳包含0.05至10重量%、特佳包含0.1至5重量%、尤佳地包含0.5至5重量%之低分子量有機半導體材料，其中，低分子量有機半導體材料(例如TADF化合物、基質材料、發射體(emitter)、電洞傳輸及電子傳輸材料、電洞及電子阻擋材料)意思是那些具有分子量小於或等於2000克/莫耳、較佳為小於或等於1500克/莫耳、更佳為 小於或等於1000克/莫耳、特佳為小於或等於700克/莫耳、尤佳為小於或等於600克/莫耳者。
本發明之調配物包含一或更多有機溶劑，較佳至少一芳香族溶劑。溶劑較佳係選自由下列所組成之群組：芳香族烴類，諸如甲苯，鄰-、間-或對-二甲苯，苯氧基甲苯類、三甲基苯類(例如1,2,3-、1,2,4-、1,3,5-三甲基苯類)，四氫萘(tetralin)，其它單-、二-、三-和四烷基苯類(例如二乙基苯類、甲基異丙苯(cumene)、四甲基苯類等)，芳香族醚類(例如苯甲醚，烷基苯甲醚類，例如甲基苯甲醚之2-、3-及4-異構物，二甲基苯甲醚之2,3-、2,4-、2,5-、2,6-、3,4-及3,5-異構物)，萘衍生物，烷基萘衍生物(例如1-及2-甲基萘)，二-及四氫萘(tetrahydronaphthalene)衍生物。同樣較佳的是芳香族酯類(例如苯甲酸烷酯)，芳香族酮類(例如苯乙酮、苯丙酮)，烷基酮類(例如環己酮)，雜芳香族溶劑(例如噻吩，單-、二-及三烷基噻吩，2-烷基噻唑，苯并噻唑等，吡啶類)，鹵基伸芳基(haloarylene)類，及苯胺衍生物。這些溶劑可含有鹵原子。
特佳是：3-氟-三氟甲基苯、三氟甲基苯、二
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烷、三氟甲氧基苯、4-氟苯三氟化物、3-氟吡啶、甲苯、2-氟甲苯、2-氟苯三氟化物、3-氟甲苯、吡啶、4-氟甲苯、2,5-二氟甲苯、1-氯-2,4-二氟苯、2-氟吡啶、3-氯氟苯、1-氯-2,5-二氟苯、4-氯氟苯、氯苯、2-氯氟苯、對-二甲苯、間-二甲苯、鄰-二甲苯、2,6-二甲吡啶、2-氟-間-二甲苯、3- 氟-鄰-二甲苯、2-氯苯三氟化物、二甲基甲醯胺、2-氯-6-氟甲苯、2-氟苯甲醚、苯甲醚、2,3-二甲基吡
Figure 104107761-A0202-12-0013-25
、溴苯、4-氟苯甲醚、3-氟苯甲醚、3-三氟甲基苯甲醚、2-甲基苯甲醚、苯基乙基醚、苯二
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呃(benzenedioxole)、4-甲基苯甲醚、3-甲基苯甲醚、4-氟-3-甲基苯甲醚、1,2-二氯苯、2-氟苄腈、4-氟藜蘆素、2,6-二甲基苯甲醚、苯胺、3-氟苄腈、2,5-二甲基苯甲醚、3,4-二甲基苯甲醚、2,4-二甲基苯甲醚、苄腈、3,5-二甲基苯甲醚、N,N-二甲基苯胺、1-氟-3,5-二甲氧基苯、乙酸苯酯、N-甲基苯胺、苯甲酸甲酯、N-甲基吡咯啶酮、
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啉、1,2-二氫萘、1,2,3,4-四氫萘、鄰-苯乙腈、藜蘆素、苯甲酸乙酯、N,N-二乙基苯胺、苯甲酸丙酯、1-甲基萘、苯甲酸丁酯、2-甲基聯苯、2-苯基吡啶或2,2'-聯
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(2,2'-bitolyl)。
特佳是芳香族烴類(尤其是甲苯、苯氧基甲苯、二甲基苯(dimethylbenzene)類(二甲苯(xylene)類)、三甲基苯類、四氫萘、甲基萘類)，芳香族醚類(尤其是苯甲醚)、及芳香族酯類(尤其是苯甲酸甲酯)。
特佳是芳香族醚類(尤其是苯甲醚及其衍生物，諸如烷基苯甲醚)，芳香族酯類(尤其是苯甲酸甲酯)。
這些溶劑可用作為二、三、或更多者之混合物。
較佳之有機溶劑可具有之韓森溶解度參數(Hansen solubility parameter)為：在17.0至23.2MPa0.5範圍內之溶解度參數Hd，在0.2至12.5MPa0.5範圍內之Hp，及在0.9至14.2MPa0.5範圍內之Hh。特佳之有機溶劑具有之韓 森溶解度參數為：在18.5至21.0MPa0.5範圍內之溶解度參數Hd，在2.0至6.0MPa0.5範圍內之Hp，在2.0至6.0MPa0.5範圍內之Hh。
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Figure 104107761-A0202-12-0016-4
Figure 104107761-A0202-12-0017-5
Figure 104107761-A0202-12-0018-6
溶劑所具有之沸點或昇華溫度在所利用之壓力下、更佳在大氣壓(1013hPa)下，較佳為<300℃、特佳為
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260℃、尤佳為
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220℃。蒸發也可例如經由利用熱及/或減壓而加速。可透過使用沸點為至少100℃、較佳為至少130℃之溶劑而達成無法預期之改良。
有機溶劑具有之表面張力可通常為至少28mN/m，較佳為至少30mN/m，更佳為至少32mN/m且特佳為至少35mN/m。可使用FTA(First Ten Angstrom)125接觸角測角器，在25℃下測量表面張力。該方法之細節可由 First Ten Angstrom取得，如發表於Roger P.Woodward,Ph.D.“Surface Tension Measurements Using the Drop Shape Method”。較佳可使用懸滴法(pendant drop method)測量表面張力。
為粗略地估計，可使用韓森溶解度參數，利用在韓森溶解度參數中所述之公式以計算表面張力：A User’s Handbook,Second Edition,C.M.Hansen(2007),Taylor and Francis Group,LLC(HSPiP manual)。
表面張力=0.0146×(2.28x δ Hd 2+δ Hp 2+δ Hh 2)×MVol0.2，其中：Hd係指該分散作用(dispersion contribution)
Hp係指該極性作用(polar contribution)
Hh係指該氫鍵作用(hydrogen bonding contribution)
MVol係指莫耳體積。
韓森溶解度參數可利用可從Hanson和Abbot等人取得之Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP)program(2nd Edition)來測定。
溶劑可具有之相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)較佳為至少0.01，較佳為至少0.1，較佳為至少0.5，特佳為至少5，更特佳為至少10，尤其佳是至少20。相對蒸發速率可根據DIN 53170：2009-08來測定。為供粗略評估，相對蒸發速率可利用韓森溶解度參數、使用如上下文中提及之HSPiP程式來計算。
本發明之調配物較佳包含至少70重量%、特佳至少 80重量%、尤其佳至少90重量%之一或更多有機溶劑。
在另一較佳具體例中，本發明之調配物包含至少一種聚合型材料作為惰性黏合劑。這意思是該聚合物不具有半導體性質或不與組成物中之半導體化合物中之一者起化學反應。惰性聚合型黏合劑之低傳導性質可測定為低介電係數(permittivity)。根據本發明之較佳黏合劑是具有低介電常數之材料，亦即在1,000Hz下具有3.3或更小之介電常數(ε)者。有機黏合劑較佳在1,000Hz下具有小於3.0、更佳為2.9或更小之介電常數。有機黏合劑較佳在1,000Hz下具有大於1.7之介電常數。黏合劑之介電常數特佳是在2.0至2.9範圍中。如上下文中使用之"化學反應"一詞指明在用於調配物和OLED裝置之製造、貯存、輸送及/或使用之條件下，非傳導性添加劑與有機發光材料及/或電荷傳輸材料之可能的氧化或其他化學反應。
聚合型黏合劑具有之重量平均分子量較佳係在1,000至50,000,000克/莫耳、特佳1,500至10,000,000克/莫耳、尤佳2,000至5,000,000克/莫耳之範圍內。可利用具有重量平均分子量較佳
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10,000克/莫耳、特佳
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100,000克/莫耳之聚合物達成令人驚訝之效果。
尤其，聚合物可具有之多分散性指數(polydispersity index)Mw/Mn係在1.0至10.0範圍內，特佳在1.1至5.0範圍內，尤其佳在1.2至3之範圍內。
聚合型黏合劑通常可分散或可溶於上下文中所述之本案之組成物的溶劑中。聚合型黏合劑較佳可溶於有機溶 劑，聚合型黏合劑在溶劑中的溶解度為至少1克/升，特佳為至少5克/升，尤其較佳為至少10克/升。
根據本發明之特別具體例中，組成物較佳可包含0.1至10重量%、特佳0.25至5重量%、尤佳0.5至4重量%之聚合型黏合劑。
根據一特別具體例，聚合型黏合劑較佳含有由苯乙烯及/或烯烴類所衍生之重複單元。較佳之聚合型黏合劑可含有至少80重量%、較佳90重量%、特佳99重量%之由苯乙烯單體及/或烯烴類所衍生之重複單元。
苯乙烯單體係本技術領域所習知的。這些單體包括苯乙烯，在側鏈上經烷基取代基取代之苯乙烯類諸如α-甲基苯乙烯及α-乙基苯乙烯，在環上經烷基取代基取代的苯乙烯類諸如乙烯基甲苯及對-甲基苯乙烯，鹵化之苯乙烯類諸如單氯苯乙烯類、二氯苯乙烯類、三溴苯乙烯類及四溴苯乙烯類。
烯烴類為由氫和碳原子組成之單體。這些單體包括乙烯、丙烯、丁烯、異戊二烯及1,3-丁二烯。
根據本發明一特別態樣，聚合型黏合劑為具有重量平均分子量在50,000至2,000,000克/莫耳範圍內、較佳在100,000至750,000克/莫耳範圍內、特佳在150,000至600,000克/莫耳範圍內、尤其佳在200,000至500,000克/莫耳範圍內的聚苯乙烯。
根據本發明之另一具體例，聚合型黏合劑為具有重量平均分子量在40,000至120,000克/莫耳範圍內、特佳在 60,000至100,000克/莫耳範圍內的聚-4-甲基苯乙烯。
特別地，黏合劑可為具有重量平均分子量在1,000至20,000克/莫耳範圍內、特佳在1,500至6,000克/莫耳範圍內的聚-α-甲基苯乙烯。
適用且較佳之聚合型黏合劑具有之韓森溶解度參數為：在15.7至23.0MPa0.5範圍內之Hd，在0.0至20.0MPa0.5範圍內之Hp，及在0.0至12.5MPa0.5範圍內之Hh。特佳之聚合型黏合劑具有之韓森溶解度參數為：在17.0至21.0MPa0.5範圍內之Hd，在1.0至5.0MPa0.5範圍內之Hp，及在2.0至10.0MPa0.5範圍內之Hh。尤其佳之聚合型黏合劑具有之韓森溶解度參數為：在19.0至21.0MPa0.5範圍內之Hd，在1.0至3.0MPa0.5範圍內之Hp，及在2.5至5.0MPa0.5範圍內之Hh。
韓森溶解度參數可利用可從Hanson和Abbot等人取得之Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP)program(2nd edition)來測定。
適用之聚合型黏合劑的實例係在WO 2011/076325 A1之表1中描述。
根據本發明之較佳具體例，惰性黏合劑是具有玻璃轉換溫度在-70至160℃、較佳在0至150℃、特佳在50至140℃、尤佳在70至130℃之範圍內的聚合物。玻璃轉換溫度藉由測量聚合物之DSC而測定(DIN EN ISO 11357，加熱速率每分鐘10℃)。
根據本發明之調配物可另包含一或多種另外成分諸如 表面活性化合物、潤滑劑、潤溼劑、分散劑、疏水劑、黏著劑、流動改良劑、消泡劑、除氣劑、可為反應性或非反應性之稀釋劑、輔劑、著色劑、染料或顏料、敏化劑、穩定劑、奈米粒子或抑制劑。然而，這些另外之成分不應是氧化或者能與有機半導體材料起化學反應或對有機半導體材料賦予電摻雜效應(electrically doping effect)。
利用揮發性潤溼劑可達成令人驚訝之改良。如上下文中所用之"揮發性"一詞意指在這些材料沉積在OLED裝置之基材上之後，該劑可在不明顯破壞這些材料或OLED裝置之條件(諸如溫度及/或減壓)下，藉由蒸發而由有機半導體材料移除。此較佳意指在所利用之壓力下、更佳在大氣壓(1013hPa)下，潤溼劑所具有之沸點或昇華溫度為<350℃，特佳
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300℃，尤其佳
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250℃。蒸發也可例如透過使用熱及/或減壓而加速。
可使用包含具有類似沸點之揮發性成分的調配物而達成令人驚訝之效果。潤溼劑與有機溶劑間之沸點的差較佳係在-50℃至50℃範圍內，特佳在-30℃至30℃範圍內，尤其佳在-20℃至20℃範圍內。
較佳之潤溼劑是非芳香族化合物。潤溼劑另外較佳為非離子性化合物。特別適用之潤溼劑所具有之表面張力為至多35mN/m，較佳為至多30mN/m，特佳為至多25mN/m。表面張力可使用FTA(First Ten Angstrom)125接觸角測角計，在25℃下測量。該方法之細節係可由如發表之First Ten Angstrom獲得。較佳可使用懸滴法 (pendant drop method)測定表面張力。
根據本發明之一特別態樣，有機溶劑與潤溼劑間之表面張力的差較佳為至少1mN/m，較佳為至少5mN/m，特佳為至少10mN/m。
根據本發明之一特別態樣，潤溼添加劑所具有之相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)可為至少0.01，較佳為至少0.1，較佳為至少0.5，特佳為至少5，更特佳為至少10,尤其佳為至少20。
使用包含溶劑和具有類似之相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)的潤溼劑的組成物，可以達成令人意外之改良。潤溼劑與有機溶劑之間的相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)的差較佳在-20至20範圍內，特佳在-10至10範圍內。根據本發明之一較佳具體例，潤溼劑之相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)對有機溶劑之相對蒸發速率(乙酸丁酯=100)的比率可在230：1至1：230範圍內，較佳在20：1至1：20範圍內，特佳在5：1至1：5範圍內。
令人意外之改良可藉由具有分子量為至少100克/莫耳、較佳至少150克/莫耳、特佳至少180克/莫耳、尤其佳至少200克/莫耳的潤溼劑來達成。
不將OSC材料氧化或不與OSC材料起化學反應之適合且較佳的潤溼劑係選自由下列所組成之群組：矽氧烷類、烷類、胺類、烯類、炔類、醇類及/或這些化合物之鹵化衍生物。另外，可以使用氟醚類、氟酯類及/或氟酮類。這些化合物特佳係選自具有6至20個碳原子(特別 是具有8至16個碳原子)之甲基矽氧烷類；C7-C14烷類、C7-C14烯類、C7-C14炔類、具有7至14個碳原子之醇類、具有7至14個碳原子之氟醚類、具有7至14個碳原子之氟酯類及具有7至14個碳原子之氟酮類。特佳之潤溼劑是具有8至14個碳原子之甲基矽氧烷類。
適用且較佳之作為潤溼劑之化合物的實例係在WO 2011/076325 A1中揭示。
調配物較佳包含至多5重量%、特佳至多3重量%、尤其佳至多1重量%之潤溼添加劑。組成物較佳包含0.01至5重量%、特佳0.05至3重量%、尤其佳0.1至1重量%之潤溼劑。
根據本發明之調配物可包含另外的化合物。該另外之化合物可以是無機或有機化合物。該另外之化合物較佳是有機半導體材料，其更佳係選自由下列所組成之群組：螢光發射體、磷光發射體、主體材料、基質材料、電子傳輸材料、電子注入材料、電洞傳導材料、電洞注入材料、n-摻雜劑、寬能帶間隙材料、電子阻擋材料和電洞阻擋材料。
於本發明之概念中，螢光發射體(也稱為螢光摻雜劑)是指其中係透過自旋允許躍遷(spin-allowed transition)(較佳為由激發單態之躍遷)而產生發光的化合物。
磷光發射體(也稱為磷光摻雜劑)一詞通常包含下述化合物：其中係透過自旋禁阻躍遷(spin-forbidden transition)而產生發光，該躍遷係例如由三重態或具有較高自旋量子數(spin quantum number)之態(例如五重態(quintet))之躍遷，該躍遷較佳係由三重態之躍遷。
適合之磷光摻雜劑特別是下述化合物：其在適當激發時較佳在可見光區發光且另含有至少一原子其具有之原子序為大於20、較佳大於38且小於84、特佳大於56且小於80。使用之磷光摻雜劑較佳是含有銅、鉬、鎢、鍊、釕、鋨、銠、銥、鈀、鉑、銀、金或銪的化合物，特別是含有銥、鉑或銅的化合物。
為本案之目的，所有發光的銥、鉑或銅錯合物係視為磷光化合物。
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在包含基質材料和摻雜劑之系統中的摻雜劑在本申請案中通常是指在該混合物中所佔比例較小的成分。相應地，在包含基質材料和摻雜劑之系統中的基質材料在本申請案中通常是指在該混合物中所佔比例較大的成分。
上述可存在於根據本發明之調配物中的另外之化合物係習此技藝之人士所已知的。習此技藝之人士因此將能從大範圍之已知化合物中作選擇。
在一較佳具體例中，調配物係包含至少一有機基質材料作為另外之化合物，其中該有機基質材料較佳為咔唑類、茚并咔唑類、吲哚并咔唑類(例如EP 13001800.5)、三
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類、嘧啶類、內醯胺類、酮類、膦氧化物類(例如在 EP 13001797.3中所揭示的)、聯伸三苯(triphenylene)類、二芳基茀類(尤其是9,9-二芳基茀，如在WO 2009/124627中所揭示的)或二苯并呋喃。
基質材料較佳是電洞傳導基質材料，其較佳係選自咔唑類、茚并咔唑類及吲哚并咔唑類之群組。
另外，基質材料較佳是電子傳導基質材料，其較佳係選自三
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類、嘧啶類、內醯胺類、酮類及膦氧化物類之群組。
另外，調配物較佳包含聯伸三苯基質。較佳用於本發明之目的的典型聯伸三苯基質化合物係揭示於EP 1888708中。
調配物也較佳包含二苯并呋喃基質。
在調配物中存在之有機基質材料及TADF化合物較佳滿足以下條件：〔LUMO(TADF)-HOMO(基質)〕係大於或等於〔S1(TADF)-0.4eV〕，其中，S1(TADF)是該TADF化合物之第一激發單態S1。LUMO(TADF)是該TADF化合物之LUMO能量且HOMO(基質)是該基質之HOMO能量。
除了第一基質材料以外，調配物特佳還包含第二基質材料。混合型基質系統顯出特別有利的效果。包含這些混合型基質系統的電子裝置常具有極良好之效能數據。混合 型基質系統係揭示於例如US 6,392,250 B1及US 6,803,720 B2中。
第一基質材料特佳是電子傳輸基質材料且第二基質材料特佳是電洞傳輸基質材料；電子傳輸基質材料較佳是三
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類、嘧啶類、內醯胺類、酮類或膦氧化物類；電洞傳輸基質材料較佳是咔唑類、茚并咔唑類或吲哚并咔唑類。
第一基質材料以及第二基質材料兩者又更佳是電子傳輸基質材料，其較佳為三
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類、嘧啶類、內醯胺類、酮類或膦氧化物類。
第一基質材料以及第二基質材料兩者也較佳為電洞傳輸基質材料，其較佳是咔唑類、茚并咔唑類或吲哚并咔唑類。
第一基質料尤佳為電子傳輸基質材料或電洞傳輸基質材料且第二基質材料尤佳為具有大的能帶間隙(band gap)的化合物。這些化合物也稱為寬能帶間隙(wide-band-gap)材料(US 7,294,849)。
該寬能帶間隙材料所具有之能帶間隙較佳為2.5eV或更寬，較佳為3.0eV或更寬，更佳為3.2eV或更寬，更特佳為3.5eV或更寬，尤其佳為3.7eV或更寬。在本申請案中之能帶間隙係由HOMO與LUMO之能階差所計算。
TADF化合物可在電子裝置中被利用以作為發射體。在本發明之另一具體例中，該TADF化合物也可作為基質材料。在此情況中，該TADF化合物將其能量傳輸給發射 體，該發射體至終由該電子裝置發射輻射。任何發射體基本上適合此目的。使用TADF化合物作為基質材料可使電子裝置具有特別有利之效能數據(performance data)。該發射體特佳為奈米粒子。
因此，調配物極有利是包含奈米結晶化合物或奈米粒子。奈米晶體和奈米粒子包括量子點及量子棒(quantum rod)。藉由這些化合物，可廉價地製造具有極低失效率且展現具有窄帶(narrow band)之發射的有效率的OLED和其他有機電子裝置。另外，可以獲得展現優異色純度及色彩品質(colour quality)(CRI-顯色指數)的發光裝置。另外，此等OLED之發射色彩(CIE 1931 RGB)可極容易且精確地被調整。
除了奈米粒子和TADF化合物以外，調配物更佳還包含另外之基質化合物，其較佳是上述電子傳輸基質化合物或上述電洞傳輸基質化合物。
可極簡單地製造量子點及量子棒二者。可以容易地調整該等粒子之尺寸，其代表所發射之輻射之色彩的決定因素。另外，量子點和量子棒可溶於很多常見的溶劑中且極適合於溶液系製造方法。
包含半導材料之第一單分散膠態量子點(monodisperse colloidal quantum dot)是基於CdE(E=S、Se、Te)且藉由稱作TOPO(氧化三辛基膦(trioctylphosphine oxide))方法而製造(J.Am.Chem.Soc.115〔19〕,8706-8715,1993)。
多種製造量子點和量子棒之方法係習此技藝之人士所已知的，較佳為使用用於無機量子點之經控制的成長的膠態系統的溶液系方法(Science 271：933(1996)；J.Am.Chem.Soc.30：7019-7029(1997)；J.Am.Chem.Soc.115：8706(1993))。
用於量子點及量子棒之適合的半導體係選自由下列元素所組成之群組：II至VI族元素，例如CdSe、CdS、CdTe、ZnSe、ZnO、ZnS、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe，及其混合物例如CdZnSe；III至V族元素例如InAs、InP、GaAs、GaP、InN、GaN、InSb、GaSb、AlP、AlAs、AlSb，及其混合物例如InAsP、CdSeTe、ZnCdSe、InGaAs；IV至VI族元素例如PbSe、PbTe和PbS以及其混合物；III至VI族元素例如InSe、InTe、InS、GaSe以及其混合物例如InGaSe、InSeS；IV族半導體元素例如Si、Ge、及其混合物，以及上述材料之混合物。
另外適合用於量子點及量子棒之半導體包括那些在US10/796,832中所揭示者且包括含有II至VI、III至V、IV至VI及IV族半導體元素之任何類型的半導體。特別適合之半導體的選擇是Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C(也包括鑽石)、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlS、AlSb、BaS、BaSe、BaTe、CaS、CaSe、CaTe、 GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、Cul、Si3N4、Ga3N4、Al2O3、(Al、Ga、In)2(S、Se、Te)3、Al2CO、及該等半導體之二或更多者的適當組合。
該等量子點或量子棒較佳係選自II-VI、III-V、IV-VI及IV半導體元素，更佳選自ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、及其組合。
在QD和QR中，光致發光(photoluminescence)和電發光(electroluminescence)係由奈米粒子之能帶邊緣態(band edge state)所引起。由奈米粒子之輻射性能帶邊緣發射(radiative band-edge emission)係與源自表面電子態(surface electronic state)之非輻射性衰變頻道(non-radiative decay channel)競爭，如X.Peng,et al.,J.Am.Chem.Soc.Vol119：7019-7029(1997)所報告的。
具有核/殼結構之量子點和量子棒也已證實為特別有 利(J.Am.Chem.Soc.Vol119：7019-7029(1997))。
若使用含有殼材料之有機金屬先質作為先質(precursor)，則可獲得核/殼結構。將這些先質添加至具有核奈米粒子(core nanoparticle)的反應混合物。製造方法之進一步細節為習此技藝之人士可由先前技藝得知。
在一較佳具體例中，使用ZnS作為殼材料。
該量子點和量子棒另外較佳是II-VI族之半導體材料、其混合物及其核/殼結構。CdSe、CdS、CdTe、ZnSe、ZnS、ZnTe及其混合物在此是更佳的。
該量子點和量子棒可含有與該粒子表面鍵結之另外的配位基(ligand)。適合此目的之配位基在此技藝中是習知的且揭示於例如US 10/656910和US 60/578236中。這使該量子點和量子棒之多種性質被改良。這使在某些溶劑、基質材料和聚合物中的溶解度被改良。另外較佳之配位基係揭示於US 2007/0034833A1和US 20050109989A1中。
在本文中使用之量子點和量子棒二詞表示實質上具有單分散尺寸分布(monodisperse size distribution)的奈米粒子。該等粒子之尺寸為500nm或更小至約1nm之尺寸。
單分散(monodisperse)是指該等粒子具有之尺寸分布為該等粒子之尺寸的±10%。
量子棒之典型結構和製造方法係在US 2013/0135558A1中揭示。
根據本發明之調配物可用於製造電子裝置中之層，其中利用根據本發明之調配物所製造之層係由溶液所施加。
在有機電子裝置(例如OLED)之製造中，在二種基本不同之方法之間有所區別。在第一方法中，相關之化合物係藉由真空蒸氣沉積(vacuum vapour deposition)來施加。此方法是極複雜且昂貴的。在第二方法中，相關之化合物係由溶液施加。
某些電子裝置係由多層系統所建構。在製造此類型之多層系統中，可以利用上述二方法。通常，各別層係藉由蒸氣沉積來施加，但其他層係由溶液來加工。
本發明因此另外關於製造有機電子裝置的方法，其特徵在於該電子裝置之至少一層係藉根據本發明之調配物，由溶液製造。
由溶液製造層之典型方法是例如旋轉塗覆或任何想要之印刷方法例如網版印刷(screen printing)、柔版印刷(flexographic printing)、平版印刷或噴嘴印刷(nozzle printing)，但特佳為LITI(光致熱成像(light induced thermal imaging)、熱轉印刷(thermal transfer printing))或噴墨印刷。為此目的需要調配物。
有機電子裝置較佳為有機積體電路(organic integrated circuit)(OIC)、有機場效應電晶體(OFET)、有機薄膜電晶體(OTFT)、有機電發光裝置、有機太陽能電池(OSC)、有機光學偵測器、有機感光器(organic photoreceptor)，但較佳為有機電發光裝置(organic electroluminescent device)。
極佳之有機電發光裝置是有機發光電晶體(OLET)、有機場淬熄裝置(organic field-quench device)(OFQD)、有機發光電化學電池(OLEC、LEC、LEEC)、有機雷射二極體(O-雷射)及有機發光二極體(OLED)，較佳為OLEC和OLED，更佳為OLED。
調配物可藉由習此技藝之人士極熟悉之方法製備。通常，調配物之個別成分被混合且攪拌，若需要也在熱供應下。調配物通常也經脫氣或使用以惰性氣體過飽和之溶劑製備。整體而言，必須確保僅使用極高純度之溶劑和其他成分，以防止該電子裝置受有害化合物之汙染。尤其是，必須確保在調配物中水、氧及鹵素含量保持低的狀態，因為，尤其是，有機電發光裝置之效能數據可因彼之存在而大幅受損。
根據本發明之調配物可因一或更多以下令人驚訝之優點而與先前技術有所區別：
1.藉由根據本發明之調配物所製造之有機電子裝置(特別是有機電發光裝置)具有極良好之穩定性。尤其是，相較於藉由真空蒸發所製造之電子裝置，藉由該調配物者，其失效(failure)數明顯降低。
2.相較於先前技藝之裝置，藉由根據本發明之調配物所製造之有機電子裝置(尤其是有機電發光裝置)具有相當之效率及電壓。
3.藉由根據本發明之調配物所製造之有機電子裝置(尤其是有機電發光裝置)可容易且廉價地被製造且因此特別適合商品之量產。
4.藉由根據本發明之調配物，有機電子裝置(尤其是在包含多重成分(例如多重基質化合物)的有機電發光裝置)之層可以極簡單且廉價方式製造。
5.藉由根據本發明之調配物，該等製造方法可極容易地適合新需求。
應指出：在本發明中所述之具體例的變化型係落在本發明之範圍內。在本發明中所揭示之各特徵除非明確地排除，否則可以藉由供以相同、相當或類似目的之替代的特徵所取代。因此，在本發明所揭示之各特徵除非另外陳述，否則要視為通用系列之實例或相當或類似特徵。
本發明之所有特徵可用任何方式互相結合，除非某些特徵及/或步驟係互相矛盾。這尤其適用於本發明之較佳特徵。同等地，可以分開地(非結合地)使用非必要結合的特徵。
應另外指出：很多特徵，尤其是本發明之較佳具體例者，本身是具進步性的且非僅被視為本發明之具體例的部分。對於這些特徵，可以另外或替代地尋求對本案所請求之各發明的獨立保護。
與本發明一同揭示之關於技術作用的教示可被擷取且與其他實例結合。
本發明藉由以下實例更詳細說明，但不希望被彼等限 制。
習此技藝之人士將能在無需創作勞動下使用該等描述以製造根據本發明之另外的電子裝置且因此實施在整個所請求之範圍內的發明。
本發明藉由以下實例更詳細地說明，但不希望被彼等限制。習此技藝之人士將能在無需創作勞動下使用該等描述以實施在整個所揭露範圍內的發明且製造根據本發明之另外的有機電發光裝置。
實例 實例1 測定方法 HOMO、LUMO、單能階(singlet level)及三重能階(triplet level)的測定
材料之分子軌域的能階和最低三重態T1或最低激發單態S1的能量係經由量子化學計算(quantum-chemical calculation)來決定。就此目的，在本申請案中使用"Gaussian09,Revision D.01"套裝軟體(Gaussian Inc.)。為要計算不含金屬之有機物質(註明為"org."方法)，首先，以使用電荷0及多重性(multiplicity)1之半經驗方法(semi-empirical method)AM1(Gaussian input line "# AM1 opt")，進行幾何最佳化(geometry optimisation)。在這之後是基於該經最佳化之幾何，對該電子基態和三重態 的能量計算(單一點)。TDDFT(時間依賴性密度泛函理論(time dependent density functional theory))方法B3PW91與6-31G(d)基礎設定(Gaussian input line "# B3PW91/6-31G(d)td=(50-50,nstates=4)")在此被使用(電荷0，多重性1)。對於有機金屬化合物(註明為"org.-m"方法)，使用Hartree-Fock方法及LanL2MB基礎設定(Gaussian input line "# HF/LanL2MB opt")(電荷0，多重性1)，將該幾何最佳化。如上述，能量之計算係類似於有機物質者而進行，差異在於"LanL2DZ"基礎設定係用於金屬原子且"6-31G(d)"基礎設定係用於配位基(Gaussian input line "#B3PW91/gen pseudo=lanl2 td=(50-50,nstates=4)")。能量計算係獲得例如單位為哈崔(hartree)之HOMO，為被二個電子佔用之最後軌域(Alpha occ.eigenvalues)；和LUMO，為第一未佔用軌域(alpha virt.eigenvalues)，其中，HEh和LEh分別代表單位為哈崔之HOMO能量和單位為哈崔之LUMO能量。以類似方式獲得單位為哈崔之其他能階的能量諸如HOMO-1、HOMO-2、…LUMO+1、LUMO+2等之能量。
為本申請案之目的，參照CV測量((HEh*27.212)-0.9899)/1.1206)所校正之各值(單位為eV)視為經佔用軌域之能階。
為本申請案之目的，參照CV測量((LEh*27.212)-2.0041)/1.385)所校正之各值(單位為eV)視為未佔用軌域之能階。
材料之最低三重態T1係定義為具有由量子化學能量計算(quantum-chemical energy calculation)所產生之最低能量的三重態的相對激發能量(單位為eV)。
最低激發單態S1係定義為具有由量子化學能量計算所產生之第二最低能量的單態的相對激發能量(單位為eV)。
本文中所述之方法與使用之套裝軟體係獨立的且總是獲得相同結果。常用於此目的之程式的實例是"Gaussian09W"(Gaussian Inc.)及Q-Chem 4.1(Q-Chem,Inc.)。在本申請案中，使用"Gaussian09W"套裝軟體以計算該等能量。
表2顯示不同材料之HOMO和LUMO能階以及S1和T1。
分子軌域重疊之測定
在某些電子躍遷(電荷傳輸狀態)中所涉及之分子軌域的重疊係以參數Λ來描述。該參數Λ之意義對係此技藝之人士係習知的。利用先前技藝中所述之方法測定該參數係對習此技藝之人士來說絕無困難。為本發明之目的，該參數Λ係由根據D.J.Tozer et al.(J.Chem.Phys.128,044118(2008))之PBHT法測定，其係在例如Q-Chem,Inc.之Q-Chem 4.1套裝軟體中執行。分子軌域在此係藉由上述方法計算。經佔用之分子軌域φi和未佔用(假想)之分子軌域φa之所有可能對(pair)的空間重疊隨後由以下 等式決定：O ia =〈|φ i |||φ a |〉
其中係使用該等軌域之絕對值來計算。
然後參數Λ係由根據以下等式之由加權總和(weighted sum)除以經佔用和未佔用分子軌域之所有對(pair)ia所產生
Figure 104107761-A0202-12-0049-17
其中，κia之值係藉由Tozer等人之方法、由該解析的TD(時間依賴性)特徵值方程式(eigenvalue equation)的激發向量(excitation vector)中的軌域係數(orbital coefficient)所測定，且其中0
Figure 104107761-A0202-12-0049-38
Λ
Figure 104107761-A0202-12-0049-39
1。
PL量子效率(PLQE)之測定
使用之發光層的50奈米厚的膜被施加至石英基材。此膜包含與對應之OLED之發光層中者相同濃度的相同的材料，除非該發光層包含一或更多另外的成分(例如，量子點、無機半導體或有機半導體)。在此情況中，用於測量該PLQE的膜包含在該另外的成分以外的所有材料，且所含之材料的混合比率對應於OLED之發光層中者。與用於OLED之發光層的製造相同之製造條件係用在用於測量PLQE之膜的製造中。膜之吸收光譜係在350-500奈米之波長範圍中測量。就此目的，樣品之反射光譜R(λ)和 透射光譜T(λ)係在入射角度6°(亦即實際上垂直入射)下被測定。在本申請案之概念中，吸收光譜係定義為A(λ)=1-R(λ)-T(λ)。
若在350-500奈米範圍中之A(λ)係小於或等於0.3，則屬於在350-500奈米範圍中之吸收光譜的最大值的波長係定義為λexc。若A(λ)對任何波長而言係大於0.3，則在A(λ)由小於0.3之值變成大於0.3之值或由大於0.3之值變成小於0.3之值處的最大波長係定義為λexc。
PLQE係使用Hamamatsu C9920-02測量系統來測定。其原理係基於該樣品藉由所界定之波長的光所激發以及所吸收和所發射之輻射的測量。該樣品在測量期間係置於Ulbricht球體("整合之球體(integrating sphere)")中。激發光的光譜係約Gaussian，其具有小於10奈米之半高寬(full width at half maximum)以及如以上定義之峰波長λexc。
PLQE係藉由常用於該測量系統之評估方法來測定。必要確定該樣品在任何時候不與氧接觸，因為在S1與T1之間具有小的能量差的材料的PLQE會因為氧而大幅地降低(H.Uoyama et al.,Nature 2012,Vol.492,234)。該測量係在室溫下進行。
衰變時間之測定
使用如在前文"PL量子效率(PLQE)之測定"中所述 所製造之樣品，測定衰變時間(decay time)。該樣品係在室溫下藉由雷射脈衝(波長266nm、脈寬(pulse duration)1.5ns、脈衝能量200μJ、束直徑(beam diameter)4mm)來激發。該樣品在此係置於真空(低於10-5毫巴(mbar))中。在該激發(定義為t=0)後，測量所發射之光致發光強度隨時間的改變。該光致發光(photoluminescence)在開始時顯現出陡降，其歸因於TADF化合物之及時螢光(prompt fluorescence)。隨著時間持續，觀察到較緩慢之下降，延遲螢光(參見例如H.Uoyama et al.,Nature,vol.492,no.7428,234-238,2012以及K.Masui et al.,Organic Electronics,vol.14,no.11,pp.2721-2726,2013)。在本發明之概念中，衰變時間ta是該延遲螢光(delayed fluorescence)的衰變時間且係測定如下：選擇及時螢光已明顯地衰變至低於該延遲螢光之強度的時間td，以使接下來衰變時間之測定不受該及時螢光所影響。習此技藝之人士可作出此選擇且其屬於一般專業知識。對於來自時間td之測量數據，衰變時間ta=te-td被測定。在此，te是在t=td後之時間，在此te，強度首次降至其在t=td時之值的1/e。
實例2 裝置實例
以下實例所需之材料顯示於表1中。相關之HOMO和LUMO能階以及S1和T1係在表2中指明。
真空處理之OLED
以厚度50奈米之結構化之ITO(氧化銦錫)塗覆的玻璃板係經溼式清潔(實驗室級洗碗機，Merck Extran清潔劑)，隨後在250℃氮氣氛下加熱乾燥15分鐘且在該塗覆前以氧電漿處理130秒。這些經電漿處理之玻璃板形成待施加OLED之基材。該基材在塗覆前仍處於真空中。塗覆至遲在該電漿處理後10分鐘開始。
材料係在真空室中藉由熱蒸氣沉積(thermal vapour deposition)施加。發光層在此總是由至少一基質材料(主體材料)和發光材料所組成。這與該基質材料藉由共蒸發作用(co-evaporation)以某體積比例摻混。諸如IC1(60%)：WB1(30%)：D1(10%)之表示方式意思是材料IC1係以60體積%之比例存在於該層中，WB1係以30體積%之比例存在於該層中，D1係以10體積%之比例存在於該層中。類似地，電子傳輸層也可由二材料之混合物組成。
為定性該等OLED，測量電流/電壓/發光密度之特徵線(characteristic line)。發光密度係使用經校正的光二極體測定。另外，電發光之光譜係在1000cd/m2之發光密度下測量。外部量子效率(EQE，測量為百分率)係假設郎伯發光特性(Lambert emission characteristic)，由彼等計算。
根據先前技術之實例V1：
藉由熱蒸發作用，將順序為40奈米之BPA1、然後60奈米之IC1(60%)：WB1(30%)：D1(10%)、然後10奈米之ST1、然後40奈米之ST1(50%)：LiQ(50%)、最後100奈米之鋁作為陰極的層施加於所製備之基材上。
發光層顯現出84%之PLQE(λexc=350奈米)及4.9μs之衰變時間(td=6μs)。
該OLED顯現出綠色發光，在1000cd/m2下15.1%之EQE，且此發光密度需要7.2V之電壓。由此實例製造64個組件。在20mA/cm2下操作200小時後，組件中的7個組件失效，亦即彼等完全不再顯出任何發光。
根據先前技術之實例V2：
藉由熱蒸發作用，將順序為40奈米之BPA1、然後60奈米之IC1(30%)：WB1(60%)：D1(10%)、然後10奈米之ST1、然後40奈米之ST1(50%)：LiQ(50%)、最後100奈米之鋁作為陰極的層施加於所製備之基材上。
發光層顯現出79%之PLQE(λexc=350奈米)及5.1μs之衰變時間(td=7μs)。
該OLED顯現出綠色發光，在1000cd/m2下13.9%之EQE，且此發光密度需要6.8V之電壓。由此實例製造64個組件。在20mA/cm2下操作200小時後，組件中的5個 組件失效，亦即彼等完全不再顯出任何發光。
具有經溶劑處理之發光層的OLED
藉由基於溶液之方法且藉由基於真空之方法所施加的層在以下討論之實例中係組合於OLED內，以致該獲得且包括該發光層之處理係由溶液及在隨後之層中藉由熱真空蒸發進行。
經塗覆結構化之ITO(氧化銦錫)之厚度50奈米的經清潔的玻璃板(在Miele實驗室級洗碗機中以Merck Extran清潔劑清潔)以UV臭氧電漿處理20分鐘且隨後塗覆20奈米之PEDOT：PSS(聚(3,4-二氧乙基噻吩)聚(苯乙烯磺酸酯)(poly(3,4-ethylcnedioxythiophene)poly(styrenesulfonate))，購自Heraeus Precious Metals GmbH,Germany之CLEVIOSTM P VP AI 4083，藉由旋轉塗覆，由水溶液施加)。這些基材隨後藉由在180℃下加熱10分鐘而乾燥。
厚度20奈米之電洞傳輸層係施加至這些基材。彼係由以下結構式之聚合物組成：
Figure 104107761-A0202-12-0054-18
該聚合物已根據WO 2010/097155合成。該材料係溶於甲苯。該溶液之固體含量是5g/l。厚度20奈米之層係 藉由在氮氣氛下之旋轉塗覆，由該溶液施加。該樣品隨後係藉由在180℃之氮氣氛下加熱60分鐘而乾燥。
隨後施加發光層。該層總是由至少一基質材料(主體材料)及發射摻雜劑(發射劑)組成。諸如IC2(60%)：WB1(30%)：D1(10%)之表示方式意思是材料IC2係以60重量%之比例、WB1係以30重量%之比例、D1係以10重量%之比例存在於製造該發光層之溶液中。用於該發射層之對應的固體混合物係溶在甲苯中。固體含量是18g/l。該發光層係藉由在氮氣氛下之旋轉塗覆施加且藉由在180℃之氮氣氛下加熱10分鐘而乾燥。
該等樣品隨後在不接觸空氣下置入真空室中，且另外的層係藉由熱蒸發作用施加。若此類型之層係由多重材料所組成，上述之用於藉由熱蒸氣沉積作用所施加之層的命名適用於個別成分之混合比率。
OLED之定性係如真空處理之OLED中所述。
根據本發明之實例E1：使用IC2(60%)：WB1(30%)：D1(10%)之固體混合物於該發光層。厚度60奈米之發光層係如上述般由該混合物製造。接著，厚度10奈米之材料ST1的層、隨後為厚度40奈米的ST1(50%)：LiQ(50%)的層係藉由熱真空蒸發作用來施加。接著，厚度100奈米之鋁層係藉由真空蒸發作用被施加以作為陰極。
發光層顯現出82%之PLQE(λexc=350奈米)及4.6μs之衰變時間(td=5μs)。
OLED顯現出綠色發光，在1000cd/m2下14.2%之EQE，且此發光密度需要7.4V之電壓。由此實例製造64個組件。在20mA/cm2下操作200小時後，組件中的2個組件失效，亦即彼等完全不再顯出任何發光。
根據本發明之實例E2：該OLED對應於實例E1，差異在於IC2(60%)：WB1(30%)：D1(10%)混合物係以混合物IC2(30%)：WB1(60%)：D1(10%)取代。
發光層顯現出75%之PLQE(λexc=350奈米)及4.7μs之衰變時間(td=5μs)。
OLED顯現出綠色發光，在1000cd/m2下12.9%之EQE，且此發光密度需要6.9V之電壓。由此實例製造64個組件。在20mA/cm2下操作200小時後，組件均未失效。
具有真空處理之發光層的實例V3(根據先前技術)
該OLED對應於實例E1者，差異在於該發光層係經真空處理，亦即厚度60奈米之IC2(60%)：WB1(30%)：D1(10%)發光層係藉由真空蒸發作用製造。
發光層顯現出86%之PLQE(λexc=350奈米)及4.7μs之衰變時間(td=5μs)。
OLED顯現出綠色發光，在1000cd/m2下13.5%之EQE，且此發光密度需要7.5V之電壓。由此實例製造64個組件。在20mA/cm2下操作200小時後，組件中的4個 組件失效，亦即彼等完全不再顯出任何發光。
實例之比較
在根據該先前技術之實例V1、V2和根據本發明之實例E1、E2中，利用極類似之材料，其適用於各別之處理類型。特別地，在所有實例中利用化合物D1作為TADF材料。
實例V1與E1或V2與E2的比較顯示利用溶液處理之發光層可達成與利用真空處理之發光層相當之效率和電壓。然而，該真空處理之OLED在操作時之失效率係明顯較高的。
在實例V3和E1中，使用相同材料，而其差異在於在E1中，發光層係由溶液製造，而在V3中，發光層係藉由真空蒸發作用製造。效能數據是相當的，但具有溶液處理之發光層之OLED顯現出明顯更少之失效。
具有含量子棒之發光層的OLED
該OLED對應於實例1，差異在於IC2(60%)：WB1(30%)：D1(10%)混合物係以混合物IC2(45%)：WB1(23%)：D1(7%)：QRod(25%)取代。QRod在此為含有直徑3.9奈米之CdSe核心之紅色發光量子棒，長度35奈米之周圍的棒(surrounding rod)係由CdS組成。使用之封頂劑(capping agent)是十八烷基磺酸(octadecylphosphonic acid)。QRod之峰值波長 (peak wavelength)是635奈米，半值寬度(half-value width)是30奈米。
不含QRod之發光層顯現出81%之PLQE(λexc=350奈米)及4.8μs之衰變時間(td=5μs)。
OLED顯現出黃色發光，亦即D1之綠色發光與QRod之紅色發光的混合。在1000cd/m2下為8.4%之EQE，此發光密度需要9.4V之電壓。
Figure 104107761-A0202-12-0059-19
Figure 104107761-A0202-12-0060-20

Claims (16)

  1. 一種包含至少一種有機發光化合物、有機溶劑或不同有機溶劑之混合物、第一有機基質材料以及第二有機基質材料的調配物，其特徵在於，該有機發光化合物為TADF化合物且該TADF化合物之最低三重態T1與第一激發單態S1之間的差(separation)為小於或等於0.15eV，該第一有機基質材料是電子傳輸基質材料且第二有機基質材料是電洞傳輸基質材料。
  2. 如申請專利範圍第1項之調配物，其中，該TADF化合物之S1與T1之間的差為小於或等於0.10eV。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該TADF化合物是含有供體和受體取代基兩者之芳香族化合物。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該溶劑之表面張力為至少28mN/m。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該溶劑之沸點或昇華點係低於300℃。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該溶劑或溶劑混合物中之各溶劑的黏度係大於3mPa*s。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該溶劑或溶劑混合物中所用之溶劑的分子量係小於或等於1000克/莫耳。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該TADF化合物在該調配物中之濃度以整個調配物計為在1 至20重量%之範圍內。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該溶劑係選自由下列所組成之群組：甲苯，苯甲醚，鄰-、間-或對-二甲苯，苯甲酸甲酯，
    Figure 104107761-A0305-02-0064-1
    (mesitylene)，四氫萘，藜蘆素(veratrol)，THF，甲基-THF，THP，氯苯，二
    Figure 104107761-A0305-02-0064-2
    烷，苯氧基甲苯，(-)-葑酮，1,2,3,5-四甲基苯，1,2,4,5-四甲基苯，1-甲基萘，2-甲基苯并噻唑，2-苯氧基乙醇，2-吡咯啶酮，3-甲基苯甲醚，4-甲基苯甲醚，3,4-二甲基苯甲醚，3,5-二甲基苯甲醚，苯乙酮，α-萜品醇，苯并噻唑，苯甲酸丁酯，異丙苯，環己醇，環己酮，環己苯，十氫萘，十二烷基苯，苯甲酸乙酯，二氫茚，苯甲酸甲酯，NMP，對-異丙基甲苯，苯乙醚，1,4-二異丙基苯，二苄基醚，二乙二醇丁基甲基醚，三乙二醇丁基甲基醚，二乙二醇二丁基醚，三乙二醇二甲基醚，二乙二醇單丁基醚，三丙二醇二甲基醚，四乙二醇二甲基醚，2-異丙基萘，戊基苯，己基苯，庚基苯，辛基苯，1,1-雙(3,4-二甲基苯基)乙烷或該等溶劑之混合物。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其包含選自有機半導體材料、無機半導體材料或選自量子點或量子棒之至少另一成分。
  11. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，該有機基質材料為咔唑類、茚并咔唑類、吲哚并咔唑類、三
    Figure 104107761-A0305-02-0064-3
    類、嘧啶類、內醯胺類、酮類、膦氧化物類、聯伸三苯類、二芳基茀類或二苯并呋喃。
  12. 如申請專利範圍第1或2項之調配物，其中，以下者係用於該TADF化合物之最低未佔用分子軌域(LUMO)LUMO(TADF)與該基質之最高佔用分子軌域(HOMO)HOMO(基質)：〔LUMO(TADF)-HOMO(基質)〕係大於或等於〔S1(TADF)-0.4eV〕，其中，S1(TADF)是該TADF化合物之第一激發單態S1。
  13. 如申請專利範圍第1項之調配物，其中，該第二有機基質材料是在HOMO與LUMO之間的能帶間隙為大於或等於3.5eV的化合物。
  14. 一種如申請專利範圍第1至13項中一或多項之調配物的用途，其係用於由溶液製造有機電子裝置之一或多層。
  15. 一種製造有機電子裝置之方法，其特徵在於，該電子裝置之至少一層係藉如申請專利範圍第1至13項中一或多項之調配物而由溶液製造。
  16. 如申請專利範圍第15項之方法，其中，該電子裝置是有機電發光裝置。
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