TWI668020B - 除菌液散布裝置 - Google Patents
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Abstract
除菌液散布裝置(1)將除菌液散布於浴室。除菌液散布裝置(1)具備超音波產生元件(23)、送風裝置(11)與引導面(251)。超音波產生元件(23)對除菌液施與超音波振動，使除菌液之霧產生。送風裝置(11)對除菌液之霧進行送風。引導面(251)以被進行送風的除菌液之霧沿著劃分浴室之面中的既定之面流動的方式，將除菌液之霧引導至既定之面。除菌液之霧自引導面(251)從水平方向遍及至上方向。或者除菌液之霧自引導面(251)被往水平方向、斜上方向或上方向送出。
Description
本發明係關於將除菌液散布於浴室的除菌液散布裝置。
於專利文獻1揭示有將除菌液散布於浴室而對浴室進行除菌的裝置。詳細而言，於專利文獻1揭示有自設置於浴室的天花板之噴嘴，將除菌液之霧朝向浴室的特定之部位噴出的裝置。具體而言，噴嘴朝向浴缸噴出除菌液之霧。又，於專利文獻1揭示有將自噴嘴使其噴出的除菌液之霧，藉由螺槳風扇而從浴室的天花板面向下方吹出的裝置。
專利文獻1：日本特開2007-064566號公報
然而，自設置於浴室的天花板之噴嘴朝向浴室的特定之部位噴出除菌液之霧的構成中，有偏向特定之狹窄範圍散布除菌液的可能性。又，將除菌液之霧藉由螺槳風扇而自天花板面向下方吹出的構成中，有偏向浴室的地面中與螺槳風扇對向處而散布除菌液的可能性。因此，專利文獻1所揭示的裝置中，有可除菌的範圍變狹窄的可能性。
本發明是鑒於上述課題而成，其目的在於提供一種可對更廣範圍進行除菌之除菌液散布裝置。
本發明之除菌液散布裝置將除菌液散布於浴室。該除菌液散布裝置具備超音波產生元件、送風裝置與引導面。該超音波產生元件對該除菌液施與超音波振動，使該除菌液之霧產生。該送風裝置對該除菌液之霧進行送風。該引導面以被進行送風的該除菌液之霧沿著劃分該浴室之面中的既定之面流動的方式，將該除菌液之霧引導至該既定之面。該除菌液之霧
自該引導面從水平方向遍及至上方向而被送出。或者被往水平方向、斜上方向或上方向送出。
根據本發明，由於除菌液之霧沿著浴室之既定的面流動，因此可對更廣範圍進行除菌。
1‧‧‧除菌液散布裝置
11‧‧‧送風裝置
21‧‧‧收容部
22‧‧‧電極對
23‧‧‧超音波產生元件
40‧‧‧控制裝置
100‧‧‧浴室環境調整裝置
210‧‧‧送風裝置
220‧‧‧控制裝置
251‧‧‧引導面
S‧‧‧天花板部
SS‧‧‧天花板面
WS‧‧‧壁面
圖1係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之俯視圖。
圖2係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之截面圖。
圖3係表示本發明之實施形態1的除菌液之霧的流動之圖。
圖4的(a)係本發明之實施形態1的第二單元之俯視圖。(b)係本發明之實施形態1的第二單元之底視圖。
圖5係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之截面圖。
圖6係表示本發明之實施形態1的第二單元自第一單元分離之狀態的圖。
圖7係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之框圖。
圖8係表示本發明之實施形態1的控制裝置所執行的處理之流程圖。
圖9係表示本發明之實施形態1的控制裝置所執行的處理之其他例的流程圖。
圖10的(a)係表示銀離子濃度的時間變化之圖表。(b)係表示銀離子的除菌效果之圖表。
圖11的(a)係表示本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之變形例的圖。(b)係表示本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之其他變形例的圖。
圖12係本發明之實施形態2的除菌液散布裝置之截面圖。
圖13係本發明之實施形態3的除菌液散布裝置之正視圖。
圖14係本發明之實施形態3的除菌液散布裝置之截面圖。
圖15係本發明之實施形態4的浴室環境調整裝置之底視圖。
圖16係表示本發明之實施形態4的浴室環境調整裝置之構成的圖。
圖17係放大表示本發明之實施形態4的本體單元之一部分的圖。
圖18係表示本發明之實施形態4的浴室環境調整裝置之風路的圖。
圖19係本發明之其他實施形態的除菌液散布裝置的截面圖。
圖20係本發明之又一其他實施形態的除菌液散布裝置的截面圖。
以下，參照圖式說明本發明之實施形態。但是，本發明並非限定於以下的實施形態。再者，針對圖中相同或相當部分標註相同的參照符號而不重複進行說明。又，關於說明重複處亦有適當地省略說明之情形。
〔實施形態1〕
圖1係實施形態1的除菌液散布裝置1之俯視圖。如圖1所示，除菌液散布裝置1具有送出口1a。除菌液散布裝置1將除菌液之霧自送出口1a送出，而將除菌液散布於浴室。
又，如圖1所示，除菌液散布裝置1具備第一單元10與第二單元20。再者，本實施形態中，送出口1a為形成於第一單元10與第二單元20之間的間隙。
第一單元10具備送風裝置11、支承體12、供給管13、水栓14與調整閥15。
送風裝置11對除菌液之霧進行送風。本實施形態中，送風裝置11具備複數片葉片111與風扇馬達112。風扇馬達112使複數片葉片111旋轉。藉由複數片葉片111進行旋轉，產生風而除菌液之霧被進行送風。送風裝置
11例如為DC風扇。於送風裝置11為DC風扇之情形時，風扇馬達112之轉速的調整變得容易。換言之，送風裝置11之送風量的調整變得容易。
支承體12支承送風裝置11及第二單元20。本實施形態中，支承體12具備本體部121與複數個支承構件122。
本體部121支承送風裝置11。本實施形態中，本體部121具備蓋體121a，蓋體121a支承送風裝置11。較佳為蓋體121a於中央部支承送風裝置11。送風裝置11被配置於蓋體121a之中央部，藉此能夠以除菌液散布裝置1為中心，而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。換言之，可抑制除菌液之霧偏向特定的方向而被送出。因此，除菌液之霧不偏向特定之方向而被送出，可對更廣範圍進行除菌。
複數個支承構件122自本體部121向外側突出而支承第二單元20。本實施形態中，本體部121於俯視時為矩形，支承構件122自本體部121的各邊之中心突出。再者，送出口1a形成於本體部121之周圍。詳細而言，送出口1a形成於複數個支承構件122之間。本實施形態中，送出口1a於俯視時為L字狀，除菌液散布裝置1具有4個送出口1a。藉由4個送出口1a，能夠從本體部121之周圍的大致整周送出除菌液之霧。
供給管13將水供給至第二單元20。例如，供給管13供給自來水。水栓14被設置於供給管13。水栓14為可開閉。於水栓14為打開狀態之情形時，供給管13能夠供給水。於水栓14為關閉狀態之情形時，經由供給管13進行之水的供給被阻斷。本實施形態中，水栓14被配置於蓋體121a。調整閥15被設置於供給管13。關於調整閥15，參照圖2於後面敘述。
接著參照圖2，針對除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖2係實施形態1之除菌液散布裝置1的截面圖。詳細而言，圖2表示沿著圖1之II-II線
的截面。如圖2所示，除菌液散布裝置1被設置於浴室之天花板部S。詳細而言，第一單元10被設置於浴室之天花板部S。
接著參照圖2，針對第一單元10進一步進行說明。如圖2所示，支承體12之本體部121具有下面開放之箱形狀，除了蓋體121a外，進而具備壁部121b。壁部121b自蓋體121a之端部往下方突出。支承構件122連接於壁部121b之下端部。送風裝置11將自本體部121之外側吸入的空氣朝向第二單元20進行送風。供給管13自支承體12的蓋體121a延伸至第二單元20之內部。
接著參照圖2，針對第二單元20進行說明。第二單元20具備收容部21、電極對22、超音波產生元件23、水位感測器24與引導構件25。再者，參照圖1進行了說明之送出口1a，形成於引導構件25之上端與支承體12之本體部121(壁部121b)之間。
收容部21收容溶劑。本實施形態中溶劑為水L。收容部21具有上面開放的箱形狀。再者，本實施形態中，供給管13延伸至收容部21的內側。
電極對22浸漬於溶劑(水L)。本實施形態中，電極對22配置於收容部21之底面。藉由對電極對22施加電壓，於溶劑(水L)中生成除菌成分。結果，於收容部21內生成混合了溶劑(水L)與除菌成分之除菌液。換言之，收容部21收容除菌液。
本實施形態中，除菌成分為銀離子。具體而言，構成電極對22之各電極為由銀單體構成之金屬板。或者，各電極為由板狀之鈦金屬與承載於鈦金屬的表面之一部分或全部之銀構成的金屬板。例如，於將構成電極對22之各電極的板尺寸設為5mm×30mm(厚度0.3mm)，將電極間距離設為3mm，在收容部21收容pH7.6、硬度45mg/L的自來水100mL之情形時，若對電極對22施加DC5V之電壓，則150mA以上且170mA以下之電流流通於電極間，銀離子自陽極溶析。
超音波產生元件23對除菌液施與超音波振動，使除菌液之霧產生。詳細而言，超音波產生元件23配置於收容部21之底面。換言之，超音波產生元件23浸漬於除菌液。超音波產生元件23自液中朝向液面照射超音波。結果，藉由音壓於液面產生噴水狀的液柱，自液柱產生霧(除菌液之霧)。
當除菌液散布裝置1散布除菌液時，收容於收容部21之除菌液的水位(液面之高度)變動。藉由超音波使霧產生之情形時，必須以超音波的節位於液面之方式，調整液面的位置(水位)。
水位感測器24偵測除菌液的液面之位置。調整閥15為可開閉。於調整閥15為打開狀態之情形時，藉由供給管13供給水。於調整閥15為關閉狀態之情形時，經由供給管13之水的供給被阻斷。調整閥15根據水位感測器24之偵測結果進行開閉，以超音波的節位於液面之方式控制經由供給管13進行之水的供給。調整閥15例如為電磁閥。水位感測器24例如為浮控開關。於水位感測器24為浮控開關之情形時，水位感測器24偵測超音波之節是否位於液面。詳細而言，水位感測器24偵測除菌液之水位是否為既定之水位。既定之水位是依據超音波的波長而設定。
引導構件25具有引導面251。具體而言，引導構件25之內側面形成引導面251。引導面251以藉由送風裝置11而被送風之除菌液的霧沿著劃分浴室之面中的既定之面流動的方式，將除菌液之霧引導至既定之面。詳細而言，本實施形態中，送風裝置11使朝向除菌液的液面之風產生。藉由朝向除菌液的液面之風，除菌液之霧朝向引導面251被進行送風。結果，藉由送風裝置11而被送風之除菌液之霧經由引導面251而被引導至既定之面。
本實施形態中，引導面251將除菌液之霧引導至浴室的天花板面SS。詳細而言，引導構件25自收容部21的側壁之上端朝向外側往斜上方突出。因此，引導面251為傾斜面，以越遠離收容部21變得越接近浴室的天花
板面SS之方式傾斜。結果，除菌液之霧自引導面251被往斜上方送出，沿著天花板面SS流動。換言之，除菌液之霧自送出口1a被往斜上方送出。或者，除菌液之霧自引導面251(送出口1a)從水平方向遍及至上方向而被送出。再者，存在有除菌液之霧自引導面251(送出口1a)被往水平方向送出的情形。例如，於引導面251之上端與天花板面SS之間的間隙狹窄的情形時，存在有除菌液之霧被往水平方向送出的情形。
接著參照圖3，針對除菌液之霧的流動進行說明。圖3係表示本發明之實施形態1的除菌液之霧的流動之圖。再者，箭頭D1~箭頭ID3表示除菌液之霧流動的方向。
如圖3所示，藉由引導面251而被引導至浴室的天花板面SS之除菌液之霧沿著天花板面SS流動。又，沿著天花板面SS被引導至浴室之壁面WS的除菌液之霧沿著壁面WS往下方流動。
以上，參照圖1~圖3，針對本實施形態之除菌液散布裝置1進行了說明。根據本實施形態，由於除菌液之霧沿著浴室的天花板面SS(既定之面的一例)流動，因此可對天花板面SS之更廣範圍進行除菌。進而，根據本實施形態，能夠以除菌液散布裝置1為中心而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。藉此，能夠對天花板面SS之更廣範圍進行除菌。
又，根據本實施形態，沿著天花板面SS被引導至浴室之壁面WS的除菌液之霧沿著壁面WS往下方流動。因此，可將除菌液散布至浴室的壁面WS。
又，根據本實施形態，除菌液之霧朝向天花板面SS被送出，而沿著天花板面SS及壁面WS流動。因此，可抑制於除菌液之噴霧中進入浴室的人吸入除菌液之霧。又，可抑制除菌液附著於進入浴室的人。
接著參照圖4的(a)、圖4的(b)、圖5及圖6，針對本實施形態之除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖4的(a)係實施形態1之第二單元20的俯視圖。圖4的(b)係實施形態1的第二單元20之底視圖。
如圖4的(a)、圖4的(b)所示，第二單元20具有複數個支承孔20a。本實施形態中，引導構件25具有複數個支承孔20a。支承孔20a是貫通引導構件25之貫通孔。複數個支承孔20a形成於與參照圖1進行了說明之複數個支承構件122對應之位置。
又，本實施形態中，引導面251為環狀。藉由引導面251為環狀，能夠以除菌液散布裝置1為中心而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。換言之，能夠抑制除菌液之霧偏向特定的方向而被送出。因此，使除菌液之霧不會偏向特定的方向送出，而能夠對更廣範圍進行除菌。
圖5係實施形態1之除菌液散布裝置1的截面圖。詳細而言，圖5表示沿著圖1之V-V線之截面。如圖5所示，第一單元10之支承構件122分別被插入於對應的支承孔20a。藉由支承構件122被插入於支承孔20a，引導構件25被支承構件122支承。換言之，第二單元20被支承構件122支承。
本實施形態中，支承構件122可裝卸地支承引導構件25。換言之，支承構件122可裝卸地支承第二單元20。具體而言，引導構件25及支承構件122中之至少一者是藉由具有彈性之材料形成。例如，引導構件25及支承構件122中之至少一者可藉由丙烯酸樹脂形成。藉由引導構件25及支承構件122中之至少一者具有彈性，可進行支承構件122對支承孔20a之插拔，其結果，可進行第二單元20之裝卸。
圖6係表示第二單元20自第一單元10分離之狀態的圖。本實施形態中，支承構件122可裝卸地支承第二單元20(引導構件25)。因此，如圖6
所示，可容易地將第二單元20自第一單元10分離。換言之，可容易地將第二單元20自浴室的天花板部S取下。
如參照圖2進行了說明般，送風裝置11自外部吸入空氣，由於進行送風，因此在收容於收容部21之液體(水L或除菌液)中，容易取入來自外部之灰塵及塵埃。又，於水L為自來水之情形時，有自來水之水垢累積於收容部21之可能性。因此，從衛生面來看，必須定期清洗第二單元20之內側。根據本實施形態，由於能夠將第二單元20自第一單元10分離，因此可容易地清洗第二單元20之內側。
進而，使用銀離子作為除菌液的除菌成分之情形時，恐有因銀離子還原聚集而膠體化，從而以超音波產生元件23之周圍為中心而產生由銀膠體造成的發黑之虞。由於銀膠體可能引起超音波產生元件23之動作不良，故必須定期清洗收容部21之內側而除去銀膠體。根據本實施形態，由於可將第二單元20自第一單元10分離，故可容易地清洗收容部21之內側。
又，本實施形態中，銀離子自電極對22之陽極溶析。因此，依據除菌液散布裝置1之使用期間，陽極(電極)變小。因此，必須定期地交換電極對22。本實施形態中，電極對22被設置於收容部21。又，可將第二單元20自第一單元10分離。因此，可容易地交換電極對22。
再者，較佳為引導構件25及支承構件122均由具有彈性之材料形成。藉由引導構件25及支承構件122均具有彈性，可更容易地將第二單元20自第一單元10分離。又，於自浴室之天花板部S取下第二單元20時，較佳為以水不會自供給管13滴垂之方式關閉水栓14。
接著參照圖7，針對除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖7係實施形態1之除菌液散布裝置1的框圖。如圖7所示，除菌液散布裝置1進而具備操作部30、控制裝置40以及第一電源裝置41~第四電源裝置44。
操作部30接收使用者之操作。操作部30將根據使用者之操作的信號發送至控制裝置40。操作部30例如設置於浴室的壁面或鄰接於浴室的更衣室之壁面。
本實施形態中，操作部30具備除菌按鈕31、停止按鈕32以及顯示器33。又，操作部30具備處理器、半導體記憶體及介面電路。處理器例如為CPU(Central Processing Unit)或MPU(Micro Processing Unit)。操作部30例如具備RAM(Random Access Memory)及ROM(Read Only Memory)作為半導體記憶體。處理器根據儲存於半導體記憶體之控制程式(電腦程式)，執行各種處理。介面電路執行操作部30與控制裝置40之間的通信。
除菌按鈕31為指示除菌動作開始的按鈕。即，若使用者按下除菌按鈕31，則操作部30將指示除菌動作開始的信號發送至控制裝置40。若控制裝置40接收指示除菌動作開始的信號，則除菌液散布裝置1於既定的期間執行除菌動作。
停止按鈕32為指示除菌動作停止的按鈕。即，若使用者按下停止按鈕32，則操作部30將指示除菌動作停止的信號發送至控制裝置40。若控制裝置40接收指示除菌動作停止的信號，則除菌液散布裝置1即便於開始除菌動作後經過既定的期間之前，也停止除菌動作。
顯示器33是藉由處理器而被控制，顯示各種資訊。例如，顯示器33於除菌液散布裝置1執行除菌動作之情形時，顯示表示除菌動作正在被執行之消息。又例如，顯示器33顯示除菌動作開始後經過之時間、或至除菌動作結束為止之剩餘時間。
控制裝置40控制除菌液散布裝置1之動作。具體而言，控制裝置40具備處理器、半導體記憶體以及介面電路。處理器例如為CPU或MPU。控制裝置40例如具備RAM或ROM作為半導體記憶體。處理器根據儲存於半導
體記憶體之控制程式(電腦程式)，執行各種處理。介面電路執行控制裝置40與操作部30之間的通信。本實施形態中，控制裝置40若自操作部30接收指示除菌動作開始的信號，則以除菌動作被執行之方式，控制第一電源裝置41~第四電源裝置44之動作。
第一電源裝置41被控制裝置40控制，生成使電極對22通電之電壓。詳細而言，控制裝置40以電極對22進行通電至銀離子濃度成為既定之濃度為止之方式，控制第一電源裝置41。
第二電源裝置42被控制裝置40控制，生成使超音波產生元件23驅動之電壓。結果，自超音波產生元件23產生超音波。
第三電源裝置43被控制裝置40控制，生成使風扇馬達112驅動的電壓。結果，參照圖1進行說明之複數片葉片111旋轉，產生對除菌液之霧進行送風的風。再者，較佳為控制裝置40使風扇馬達112之轉速周期性地改變，而使送風裝置11之送風量周期性地改變。藉由使送風裝置11之送風量改變，可使除菌液之霧的飛散距離改變，而使除菌液更均勻地附著於天花板面SS及壁面WS。
第四電源裝置44被控制裝置40控制，生成使調整閥15驅動之電壓。詳細而言，控制裝置40基於水位感測器24之輸出，以除菌液之水位成為既定的水位之方式控制第四電源裝置44。具體而言，若除菌液之水位藉由除菌動作而下降，則控制裝置40打開調整閥15。結果，如參照圖2進行了說明般，水自供給管13供給至收容部21。又，若除菌液之水位上升至既定的水位，則控制裝置40關閉調整閥15。
接著參照圖7及圖8，針對控制裝置40所執行之處理的流程進行說明。圖8係表示實施形態1之控制裝置40所執行的處理之流程圖。控制裝置40若自操作部30接收指示除菌動作開始的信號，則開始圖8所示之處理。
如圖8所示，控制裝置40若接收指示除菌動作開始的信號，則首先以銀離子的濃度成為既定之濃度的方式，使電極對22通電(步驟S1)。
控制裝置40於使電極對22通電後，自超音波產生元件23使超音波產生(步驟S2)。又，控制裝置40驅動風扇馬達112，產生對除菌液之霧進行送風的風(步驟S2)。結果，自參照圖1及圖2進行了說明之送出口1a送出除菌液之霧。
若開始送出除菌液之霧，則控制裝置40基於水位感測器24之輸出，判定除菌液之水位是否為既定之水位(步驟S3)。
控制裝置40若判定除菌液之水位為既定之水位(步驟S3之Yes)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過既定之期間(步驟S4)。
另一方面，控制裝置40若判定為除菌液之水位並非既定之水位(步驟S3之No)，則以除菌液之水位成為既定之水位的方式驅動調整閥15(步驟S5)。換言之，控制裝置40如參照圖2進行了說明般，自供給管13將水供給至收容部21，使除菌液之水位上升至既定之水位。
若除菌液之水位上升至既定之水位，則控制裝置40於關閉調整閥15後，以銀離子的濃度成為既定之濃度的方式使電極對22通電(步驟S6)。控制裝置40於使電極對22通電後，判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過既定期間(步驟S4)。
控制裝置40若判定為未經過既定期間(步驟S4之No)，則處理返回步驟S3之處理。另一方面，控制裝置40若判定為經過既定期間(步驟S4之Yes)，則結束圖8所示之處理。
以上，參照圖7及圖8，針對控制裝置40所執行之處理的流程進行了說明。根據圖8所示之處理，可將除菌液中之銀離子的濃度維持於既定之濃度，並將除菌液散布於浴室。
接著參照圖7及圖9，針對控制裝置40所執行之其他處理的流程進行說明。圖9係表示實施形態1之控制裝置40所執行的處理之其他例的流程圖。控制裝置40若自操作部30接收指示除菌動作開始之信號，則開始圖9所示之處理。以下，針對與圖8所示的處理不同之處進行說明。
如圖9所示，控制裝置40若判定為除菌液之水位為既定之水位(步驟S3之Yes)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過第一既定期間(步驟S11)。
又，控制裝置40若驅動調整閥15而使除菌液之水位回到既定之水位(步驟S5)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過第二既定期間(步驟S12)。第二既定期間為較第一既定期間更短的期間。
控制裝置40若判定為未經過第二既定期間(步驟S12之No)，則以銀離子之濃度成為既定的濃度之方式使電極對22通電(步驟S6)。另一方面，控制裝置40若判定為經過第二既定期間(步驟S12之Yes)，則不使電極對22通電。因此，若經過第二既定期間，則每次自供給管13供給水至收容部21時，銀離子之濃度降低。
本實施形態中，第二既定期間設定為於經過第一既定期間前，被收容於收容部21之液體從除菌液回復為一般水L。因此，於經過第一既定期間前，超音波產生元件23對水L施與超音波振動而使水之霧產生，送風裝置11對水L之霧進行送風。
以上，參照圖7及圖9，針對控制裝置40所執行的其他處理之流程進行了說明。根據圖9所示之處理，可於使除菌液附著於天花板面SS及壁面
WS後，使水附著於天花板面SS及壁面WS，使藉由銀離子而得之除菌效果長時間維持。詳細而言，若除菌液乾燥，則銀膠體析出。銀膠體對黴菌或一般細菌之除菌效果小。因此，為了使藉由附著於天花板面SS及壁面WS的銀離子而得之除菌效果長時間維持，必須防止除菌液之乾燥。相對於此，根據圖9所示之處理，可防止附著於天花板面SS及壁面WS的除菌液之乾燥。由此，可使藉由附著於天花板面SS及壁面WS的銀離子而得之除菌效果長時間維持。
進而，若除菌液乾燥而銀膠體析出，則於天花板面SS及壁面WS產生由銀膠體造成之發黑，外觀變差。相對於此，根據圖9所示之處理，可防止附著於天花板面SS及壁面WS的除菌液之乾燥。由此，可抑制產生發黑。
再者，圖9所示之處理中，雖接續於除菌液之散布而散布一般水，但亦可自除菌液之散布結束起經過一定期間後散布一般水。此情形時，即使除菌液乾燥而銀膠體析出，也能夠使銀膠體溶解而生成銀離子。又，即使產生發黑，也可藉由使銀膠體溶解，而使發黑不易明顯。
接著參照圖10的(a)及圖10的(b)，針對電極對22之通電時間進行說明。圖10的(a)係表示銀離子濃度之時間變化的圖表。圖10的(b)係表示銀離子之除菌效果的圖表。
圖10的(a)中，縱軸表示銀離子濃度，橫軸表示經過時間。詳細而言，圖10的(a)表示以如下方式測量出之銀離子濃度：於收容部21收容pH7.6、硬度45mg/L之自來水100mL，且對電極對22施加DC5V之電壓。再者，構成電極對22之各電極的板尺寸設為5mm×30mm(厚度0.3mm)。又，將電極間距離設為3mm。如圖10的(a)所示，銀離子濃度於經過時間為3分鐘時，達到500ppb。又，於經過時間為5分鐘時，銀離子濃度成為1000ppb以上。
圖10的(b)中，縱軸表示除菌率，橫軸表示銀離子濃度。又，圖10的(b)中，×符號之曲線表示金黃色葡萄球菌之除菌率，黑色圓圈符號之曲線表示黑黴菌之除菌率。如圖10的(b)所示，一般細菌(例如金黃色葡萄球菌)可藉由濃度50ppb以上且100ppb以下之銀離子而除菌90%以上。又，黑黴菌(Cladosporium，分枝孢子菌屬)可藉由濃度400ppb以上且500ppb以下之銀離子而除菌90%以上。
因此，藉由使電極對22通電3分鐘左右，可使能夠將一般細菌及黴菌進行除菌之銀離子溶析。
以上，針對實施形態1進行了說明。根據實施形態1，可使除菌液不偏向特定之範圍而均勻地附著於浴室的天花板面SS及壁面WS。
再者，本實施形態中，引導面251雖為傾斜面，但引導面251亦可包含水平面。例如，引導面251可包含與天花板面SS平行之水平面。此情形時，除菌液之霧自引導面251朝向水平方向被送出，而沿著天花板面SS流動。
又，本實施形態中，除菌液散布裝置1雖具有4個L字狀的送出口1a，但送出口1a的數量及形狀並不特別限定。圖11的(a)係表示實施形態1之除菌液散布裝置1的變形例之圖。
如圖11的(a)所示，除菌液散布裝置1可具有複數個圓形狀之送出口1a。具體而言，圖11的(a)所示的除菌液散布裝置1中，複數個圓形狀之送出口1a在支承體12的本體部121之周圍，沿著周方向配置。又，支承體12具備支承引導構件25(第二單元20)之凸緣部124，以取代參照圖1及圖2進行了說明之複數個支承構件122。複數個圓形狀之送出口1a形成於凸緣部124。再者，圖11的(a)所示之除菌液散布裝置1中，存在有除菌液之霧自送出口1a被往上方送出之情形。例如，在送出口1a離凸緣部124之外緣遠之情形時，存在有除菌液之霧被往上方送出的情形。
又，本實施形態中，引導構件25(第二單元20)之外形於俯視時為矩形狀，但引導構件25(第二單元20)之外形形狀並不特別限定。圖11的(b)係表示實施形態1之除菌液散布裝置1之其他變形例的圖。如圖11的(b)所示，引導構件25(第二單元20)之外形也可以於俯視時為圓形狀。再者，引導構件25之外形為圓形狀之情形時，也可以於引導構件25之內側面與支承體12的凸緣部124之外周面，形成相互對應的螺槽。即，也可以使第二單元20旋轉，使支承體12之凸緣部124支承引導構件25。
又，本實施形態中，支承體12之本體部121於俯視時為矩形狀，但本體部121之外形形狀並不特別限定。例如如圖11的(b)所示，本體部121之外形也可以於俯視時為圓形狀。
〔實施形態2〕
接著參照圖12針對本發明之實施形態2進行說明。但是，說明與實施形態1不同之事項，省略針對與實施形態1相同之事項的說明。實施形態2中的電極對22之位置與實施形態1不同。
圖12係實施形態2之除菌液散布裝置1之截面圖。如圖12所示，第二單元20具備與收容部21之內側面連接的支承構件26。支承構件26支承電極對22。詳細而言，支承構件26以電極對22位於超音波產生元件23之正上方的方式，支承電極對22。藉由電極對22位於超音波產生元件23之正上方，可對構成電極對22之兩個電極間的除菌液施予超音波振動。
以上，針對實施形態2進行了說明。根據實施形態2，可對兩個電極間的除菌液施予超音波振動。因此，可使兩個電極間的除菌液擺動，抑制銀膠體附著於電極。
〔實施形態3〕
接著參照圖13及圖14，針對本發明之實施形態3進行說明。但是，說明與實施形態1及2不同之事項，省略針對與實施形態1及2相同之事項的說明。實施形態3中的除菌成分與實施形態1及2不同。具體而言，實施形態3之除菌成分為次氯酸鈉。
圖13係實施形態3之除菌液散布裝置1之正視圖。如圖13所示，實施形態3中，支承體12之本體部121具有食鹽之投入口123。具體而言，投入口123為貫通本體部121之壁部121b之貫通孔。若使用者自投入口123投入食鹽，則食鹽落下至收容部21。再者，所投入之食鹽較佳為具有易於自投入口123投入之形狀的塊狀物。例如，食鹽較佳為岩鹽或食鹽粒。
圖14係實施形態3之除菌液散布裝置1的截面圖。本實施形態中，電極對22包含兩個鉑電極。如參照圖13進行了說明般，若使用者自投入口123投入食鹽，則食鹽落下至收容部21，於水L中溶解。若以食鹽溶存(溶解)於水L中之狀態對電極對22通電，則生成氯系之除菌成分。詳細而言，對電極對22通電而進行電解，藉此生成次氯酸鈉水。
接著參照圖7、圖13、圖14，針對實施形態3之除菌液散布裝置1的動作進行說明。使用者於除菌動作開始前自投入口123投入既定之量的食鹽。之後，使用者按下操作部30之除菌按鈕31，使除菌液散布裝置1執行除菌動作。
控制裝置40若自操作部30接收指示除菌動作開始之信號，則驅動調整閥15，將既定量之原水L注入至收容部21內，使食鹽溶解。再者，食鹽之添加量較佳為0.1重量%以上且5重量%以下。
控制裝置40若將既定量之原水L注入至收容部21內，則使電極對22通電。結果，於收容部21內進行電解。例如，在對於構成電極對22之各電極使用直徑1mm、長度30mm之鉑塗層鈦電極，將電極間距離設為3mm，將
1g之食鹽投入收容部21內並且將100ml之原水L注入至收容部21內之情形，換言之，在食鹽之添加量為1重量%之情形時，若對電極對22施加DC5V之電壓，則150mA以上且170mA以下之電流流通於電極間而進行電解，次氯酸的濃度增加，於1分鐘左右之電解可生成約10ppm之次氯酸鈉。
詳細而言，於電極對22之陽極生成氫離子(H+)。又，產生氧氣及氯氣(式(1)及式(2))。
H2O→(1/2)O2↑+2H++2e-...式(1)
2Cl→Cl2+2e-...式(2)
氯氣容易溶於水，如式(3)及式(4)所示，於水中轉變為次氯酸及次氯酸離子。
因此，藉由進行電解，可生成使次氯酸鈉之濃度增加的除菌水。再者，次氯酸鈉的濃度較佳為有效氯濃度5ppm以上且未達50ppm。有效氯濃度較佳為5ppm以上之原因在於，能夠將黴菌等有孢子菌於游離狀態進行除菌之最低濃度為有效氯濃度5ppm。又，有效氯濃度較佳為未達50ppm之原因在於，若有效氯濃度成為50ppm以上，則變得容易從除菌液之霧感受到氯臭味。
控制裝置40於使電極對22通電後，如於實施形態1中進行了說明般，使超音波自超音波產生元件23產生。又，控制裝置40驅動風扇馬達112，使對除菌液之霧進行送風的風產生。結果，除菌液之霧自送出口1a被送出。
以上，針對實施形態3進行了說明。根據本實施形態，可藉由超音波元件將次氯酸水霧化，利用來自送風裝置11之送風，將次氯酸水之霧經
由引導面251而自送出口1a送出。因此，與實施形態1同樣地，可使除菌液不偏向特定之範圍，均勻地附著於浴室之天花板面SS及壁面WS。
再者，本實施形態中，針對自投入口123投入食鹽之形態進行了說明，但亦可經由實施形態1中所說明之送出口1a投入食鹽。
〔實施形態4〕
接著參照圖15~圖18，針對本發明之實施形態4進行說明。但是，說明與實施形態1~3不同之事項，省略針對與實施形態1~3相同之事項的說明。實施形態4中的將除菌液散布裝置1設置於浴室環境調整裝置100這一點與實施形態1~3不同。
圖15係實施形態4之浴室環境調整裝置100之底視圖。浴室環境調整裝置100被設置於浴室之天花板部。如圖15所示，浴室環境調整裝置100具備除菌液散布裝置1。又，浴室環境調整裝置100具備面板101、可動風向板102與霧氣噴嘴203。關於霧氣噴嘴203，參照圖16而於後面敘述。本實施形態中，浴室環境調整裝置100為附霧氣三溫暖(mist sauna)之浴室暖氣乾燥裝置。
面板101自浴室之天花板面露出。於面板101形成有吸入口103及吹出口104(第一開口)。吹出口104形成為橫長矩形狀。於面板101進而形成有未圖示之開口(第二開口)，於實施形態1~3中說明之除菌液散布裝置1的第一單元10之一部分自第二開口突出。換言之，除菌液散布裝置1被配置於與面板101之第二開口對應的位置，除菌液散布裝置1之第二單元20於面板101之下方被支承。
可動風向板102被設置於吹出口104。可動風向板102具有與吹出口104對應之形狀。可動風向板102相對於吹出口104為可開閉自如。本實施形態中，可動風向板102可旋動自如，藉由可動風向板102旋動，能夠變更自
吹出口104送出之風的送風方向。又，可動風向板102於浴室環境調整裝置100停止暖氣運轉、乾燥運轉及霧氣三溫暖運轉時閉塞(覆蓋)吹出口104，於浴室環境調整裝置100執行暖氣運轉、乾燥運轉或霧氣三溫暖運轉時開放吹出口104。又，可動風向板102於除菌液散布裝置1進行除菌運轉時閉塞(覆蓋)吹出口104。再者，圖15表示可動風向板102閉塞吹出口104之狀態。
接著參照圖16，針對浴室環境調整裝置100(附霧氣三溫暖之浴室暖氣乾燥裝置)之構成進行說明。圖16係表示實施形態4之浴室環境調整裝置100之構成的圖。
如圖16所示，浴室環境調整裝置100具備本體單元200與熱源機300。本體單元200被設置於浴室的天花板部。熱源機300被設置於屋外。再者，參照圖15進行了說明之面板101作為本體單元200之外裝構件而被安裝於本體單元200。
熱源機300將暖氣用之熱媒及供熱水用水進行加熱。熱源機300具備使暖氣用之熱媒循環的循環泵。暖氣用之熱媒例如為溫水或防凍液。熱源機300連接於供給路301，將供給自供給路301之供熱水用水進行加熱。
本體單元200具備溫水循環流路201、霧氣用通水路202、霧氣噴嘴203、暖氣用熱交換器204、霧氣用熱交換器205、驅動裝置206、送風裝置210與控制裝置220。
溫水循環流路201使暖氣用之熱媒於本體單元200與熱源機300之間循環。具體而言，藉由熱源機300所具備之循環泵運作，自暖源機300流出之熱媒流通於溫水循環流路201。詳細而言，熱媒經由暖氣用熱交換器204及霧氣用熱交換器205之此順序，返回熱源機300。
霧氣用通水路202為自供給路301分歧之通水路，使霧氣用之水通過。霧氣用通水路202配設成經由霧氣用熱交換器205而到達霧氣用噴嘴
203。霧氣用噴嘴203將供給自霧氣用通水路202之水霧化而對浴室進行噴霧。
本實施形態中，除菌液散布裝置1之供給管13為自供給路301分歧之通水路，藉由打開調整閥15，水自供給路301流入至除菌液散布裝置1之供給管13。再者，於使水自供給路301流入至除菌液散布裝置1之供給管13時，霧氣用通水路202以不使水通過的方式，關閉設置於霧氣用通水路202之電磁閥。
暖氣用熱交換器204與可動風向板102及除菌液散布裝置1對向。暖氣用熱交換器204將自吸入口103吸入之空氣轉換為暖風。霧氣用熱交換器205將流通於霧氣用通水路202之水轉換為溫水。
驅動裝置206使可動風向板102於既定之旋轉角度範圍內旋動。驅動裝置206例如為電動馬達。藉由驅動裝置206使可動風向板102旋動，可動風向板102之姿勢從參照圖15進行說明之閉塞吹出口104的姿勢，改變為打開吹出口104的姿勢。又，根據可動風向板102之旋轉角度，被供給至浴室的暖風之送風方向改變。
送風裝置210為使風產生之風產生裝置。送風裝置210具備旋轉風扇211與風扇馬達212。風扇馬達212使旋轉風扇211旋轉。旋轉風扇211例如為多翼式送風機(sirocco fan)。
藉由旋轉風扇211旋轉，自參照圖15進行了說明之吸入口103吸入空氣。自吸入口103吸入之空氣，於可動風向板102開放參照圖15進行了說明的吹出口104之情形時，藉由旋轉風扇211之旋轉，經由暖氣用熱交換器204而自吹出口104吹出。另一方面，於可動風向板102閉塞參照圖15進行了說明之吹出口104之情形時，自吸入口103吸入之空氣藉由旋轉風扇211之旋轉，經由暖氣用熱交換器204而向除菌液散布裝置1流動。
控制裝置220進行浴室環境調整裝置100之運轉控制。具體而言，控制浴室環境調整裝置100之暖氣動作、乾燥動作以及霧氣三溫暖動作。進而，控制裝置220控制除菌液散布裝置1之除菌動作。因此，本實施形態中，除菌液散布裝置1不具備實施形態1中所說明之控制裝置40。
控制裝置220具備處理器以及半導體記憶體。處理器例如為CPU或MPU。控制裝置40例如具備RAM或ROM作為半導體記憶體。處理器根據儲存於半導體記憶體之控制程式(電腦程式)，執行各種處理。
接著參照圖17，針對本體單元200進一步進行說明。圖17係放大表示本體單元200之一部分的圖。如圖17所示，本體單元200進而具備架體(holder)230。
架體230可旋動地支承可動風向板102。具體而言，可動風向板102具備兩個旋轉軸102a，架體230可旋動地支承兩個旋轉軸102a。兩個旋轉軸102a之一者與驅動裝置206之輸出軸連接。又，架體230支承除菌液散布裝置1。具體而言，架體230支承第一單元10之本體部121。
接著參照圖17，針對實施形態4之除菌液散布裝置1進行說明。如圖17所示，本體部121之蓋體121a具有開口125。換言之，本實施形態之除菌液散布裝置1不具備實施形態1中所說明之送風裝置11。本實施形態中，對於除菌液之霧的送風，利用參照圖16說明之浴室環境調整裝置100的送風裝置210。
接著參照圖18，針對本體單元200進一步進行說明。圖18係表示浴室環境調整裝置100之風路的圖。如圖18所示，本體單元200進而具備固定風向板207。固定風向板207使自暖氣用熱交換器204流出之風的方向整合為既定之方向(本實施形態中為下方向)。
接著參照圖18，針對本實施形態之除菌動作進行說明。於執行除菌動作時，如圖18所示，成為可動風向板102關閉之狀態。結果，自固定風向板207流出之風流入除菌液散布裝置1之第一單元10(支承體12的蓋體121a)所具有的開口125。因此，產生自開口125朝向除菌液之液面流動的風，如實施形態1中進行了說明般，除菌液之霧藉由引導面251被引導至天花板面。
以上，針對實施形態4進行了說明。根據本實施形態，可利用浴室環境調整裝置100之送風裝置210，對除菌液之霧進行送風。再者，本實施形態中，雖針對浴室環境調整裝置100之控制裝置220控制除菌動作的構成進行了說明，但除菌液散布裝置1與實施形態1之除菌液散布裝置1同樣地，也可以具備控制裝置40。又，本實施形態中，浴室環境調整裝置100為附霧氣三溫暖之浴室暖氣乾燥裝置，但浴室環境調整裝置100也可為浴室暖氣乾燥裝置、浴室暖氣裝置或浴室乾燥裝置。
以上，針對本發明之實施形態一邊參照圖式一邊進行了說明。但是，本發明並非限定於上述之實施形態，可於不脫離其要旨之範圍內在各種態樣中實施。
例如，本發明之實施形態中，除菌液散布裝置1被設置於浴室的天花板部，但除菌液散布裝置1也可以設置於浴室的壁面部。例如，除菌液散布裝置1可被設置於壁面部之上部。
又，本發明之實施形態中，引導面251將除菌液之霧引導向浴室之天花板面SS，但引導面251也可以將除菌液之霧引導至浴室的壁面WS。
又，本發明之實施形態中，例示浮控開關作為水位感測器24，但水位感測器24只要可偵測除菌液之水位，則並不特別限定。例如，作為水位感測器24，也可以使用測距感測器或重量感測器。
又，本發明之實施形態中，電極對22被設置於第二單元20，但例如圖19所示般，電極對22也可以被設置於第一單元10。圖19係其他實施形態之除菌液散布裝置1的截面圖。圖19所示之除菌液散布裝置1中，第一單元10具備支承電極對22之支承構件16。支承構件16自第一單元10突出，使電極對22浸漬於水L或除菌液中。
又，本發明之實施形態中，引導面251為平坦的傾斜面，但引導面251也可以例如如圖20所示般包含曲面。圖20係又一其他實施形態之除菌液散布裝置1的截面圖。
圖20所示之除菌液散布裝置1中，收容部21具備往內側膨脹的側壁，該側壁作為引導構件25而發揮功能。換言之，收容部21之側壁的內側面作為引導面251而發揮功能。再者，圖20所示之除菌液散布裝置1中，支承構件122可裝卸地支承收容部21。
又，本發明之實施形態中，引導面251為傾斜面，但引導面251也可以包含鉛直面。例如，於除菌液散布裝置1被設置於浴室的壁面部之情形時，引導面251可包含與浴室之壁面WS平行的鉛直面。此情形時，除菌液之霧自引導面251向上方向被送出，沿著浴室的壁面WS流動。
本案進而揭示以下之附註。再者，以下之附註並非限定本發明之內容。
〔附註1〕
一種除菌液散布裝置，將除菌液散布於浴室，其具備：超音波產生元件，對該除菌液施與超音波振動，使該除菌液之霧產生；送風裝置，對該除菌液之霧進行送風；與引導面，以被進行送風的該除菌液之霧沿著劃分該浴室之面中的既定之面流動的方式，將該除菌液之霧引導至該既定之面；
該除菌液之霧自該引導面從水平方向遍及至上方向，或者被往水平方向、斜上方向或上方向送出。
〔附註2〕
如附註1記載的除菌液散布裝置，該送風裝置使朝向該除菌液之液面的風產生。
〔附註3〕
如附註1或附註2記載的除菌液散布裝置，其具備：收容部，收容溶劑；與電極對，浸漬於該溶劑；該除菌液含有該溶劑與混合於該溶劑的除菌成分，藉由對該電極對施加電壓，於該溶劑內生成該除菌成分。
〔附註4〕
如附註3記載的除菌液散布裝置，該電極對含有兩個電極，該超音波產生元件對該兩個電極間之該除菌液施與該超音波振動。
〔附註5〕
如附註1至附註4之任一者記載的除菌液散布裝置，其具備：引導構件，形成該引導面；與支承部，可裝卸地支承該引導構件。
〔附註6〕
如附註1至附註5之任一者記載的除菌液散布裝置，該除菌液含有銀離子或次氯酸鈉。
〔附註7〕
如附註1至附註6之任一者記載的除菌液散布裝置，該超音波產生元件對水施與超音波振動，使該水之霧產生，
該送風裝置對該水之霧進行送風。
〔附註8〕
如附註3或附註4記載的除菌液散布裝置，該收容部包含該引導面。
〔附註9〕
如附註8記載的除菌液散布裝置，具備可裝卸地支承該收容部的支承部。
〔附註10〕
如附註1至附註9之任一者記載的除菌液散布裝置，該引導面包含傾斜面。
〔附註11〕
如附註1至附註10之任一者記載的除菌液散布裝置，該引導面為環狀。
〔附註12〕
如附註1至附註11之任一者記載的除菌液散布裝置，該引導面包含曲面。
〔附註13〕
如附註1至附註12之任一者記載的除菌液散布裝置，該引導面將該除菌液之霧引導至該浴室的天花板面。
〔附註14〕
如附註1至附註13之任一者記載的除菌液散布裝置，具備使該送風裝置之送風量改變的控制裝置。
〔附註15〕
如附註1至附註14之任一者記載的除菌液散布裝置，該除菌液散布裝置被設置於該浴室的天花板部。
〔附註16〕
如附註1至附註14之任一者記載的除菌液散布裝置，該除菌液散布裝置被設置於該浴室的壁部。
〔附註17〕
如附註1至附註14之任一者記載的除菌液散布裝置，該除菌液散布裝置被設置於浴室環境調整裝置。
〔附註18〕
如附註1至附註17之任一者記載的除菌液散布裝置，該除菌液散布裝置被設置於該浴室之上部。
本發明對於對浴室進行除菌之裝置有用。
Claims (9)
- 一種除菌液散布裝置，將除菌液散布於浴室，其特徵在於，具備：超音波產生元件，對該除菌液施與超音波振動，使該除菌液之霧產生；送風裝置，對該除菌液之霧進行送風；與引導面，以被進行送風的該除菌液之霧沿著劃分該浴室之面中的既定之面流動的方式，將該除菌液之霧引導至該既定之面；該除菌液之霧自該引導面從水平方向遍及至上方向，或者被往水平方向、斜上方向或上方向送出；該送風裝置使直接朝向該除菌液之液面的風產生。
- 如申請專利範圍第1項的除菌液散布裝置，其具備：收容部，收容溶劑；與電極對，浸漬於該溶劑；該除菌液含有該溶劑與混合於該溶劑的除菌成分，藉由對該電極對施加電壓，於該溶劑內生成該除菌成分。
- 如申請專利範圍第2項的除菌液散布裝置，其中，該電極對含有兩個電極，該超音波產生元件對該兩個電極間之該除菌液施與該超音波振動。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其具備：引導構件，形成該引導面；與支承部，可裝卸地支承該引導構件。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其中，該除菌液含有銀離子或次氯酸鈉。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其中，該超音波產生元件對水施與超音波振動，使該水之霧產生， 該送風裝置對該水之霧進行送風。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其具備：收容部，收容該除菌液；以及引導構件，形成該引導面；該引導構件從該收容部的側壁往外側突出。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其具備：收容部，收容該除菌液；以及送出口，送出該除菌液之霧；該送出口位於該收容部的側壁之外側。
- 如申請專利範圍第1或2項的除菌液散布裝置，其中，該送風裝置與該除菌液之液面對向。
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