JP2019103771A - 除菌液散布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】より広い範囲を除菌することができる除菌液散布装置を提供する。【解決手段】除菌液散布装置１は、浴室に除菌液を散布する。除菌液散布装置１は、超音波発生素子２３と、送風装置１１と、ガイド面２５１とを備える。超音波発生素子２３は、除菌液に超音波振動を与えて、除菌液の霧を発生させる。送風装置１１は、除菌液の霧を送風する。ガイド面２５１は、送風された除菌液の霧が、浴室を区画する面のうちの所定の面に沿って流れるように、除菌液の霧を所定の面に導く。除菌液の霧は、ガイド面２５１から、水平方向から上方向にわたって送出される。あるいは、除菌液の霧は、ガイド面２５１から、水平方向、斜め上方向又は上方向に送出される。【選択図】図２

Description

本発明は、浴室に除菌液を散布する除菌液散布装置に関する。

浴室に除菌液を散布して浴室を除菌する装置が特許文献１に開示されている。詳しくは、特許文献１には、浴室の天井に設置されたノズルから、除菌液の霧を、浴室の特定の部位に向けて噴出する装置が開示されている。具体的には、ノズルは、浴槽に向けて除菌液の霧を噴出する。また、特許文献１には、ノズルから噴出させた除菌液の霧を、プロペラファンによって、浴室の天井面から下方に向けて吹き出す装置が開示されている。

特開２００７−０６４５６６号公報

しかしながら、浴室の天井に設置されたノズルから浴室の特定の部位に向けて除菌液の霧を噴出する構成では、特定の狭い範囲に偏って除菌液が散布される可能性がある。また、除菌液の霧をプロペラファンによって天井面から下方に向けて吹き出す構成では、浴室の床面のうちのプロペラファンに対向する箇所に偏って除菌液が散布される可能性がある。したがって、特許文献１に開示された装置では、除菌できる範囲が狭くなる可能性がある。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、より広い範囲を除菌することができる除菌液散布装置を提供することにある。

本発明に係る除菌液散布装置は、浴室に除菌液を散布する。当該除菌液散布装置は、超音波発生素子と、送風装置と、ガイド面とを備える。前記超音波発生素子は、前記除菌液に超音波振動を与えて、前記除菌液の霧を発生させる。前記送風装置は、前記除菌液の霧を送風する。前記ガイド面は、送風された前記除菌液の霧が、前記浴室を区画する面のうちの所定の面に沿って流れるように、前記除菌液の霧を前記所定の面に導く。前記除菌液の霧は、前記ガイド面から、水平方向から上方向にわたって送出される。あるいは、水平方向、斜め上方向又は上方向に送出される。

本発明によれば、浴室の所定の面に沿って除菌液の霧が流れるため、より広い範囲を除菌することができる。

本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置の上面図である。 本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の実施形態１に係る除菌液の霧の流れを示す図である。 （ａ）は、本発明の実施形態１に係る第２ユニットの上面図である。（ｂ）は、本発明の実施形態１に係る第２ユニットの底面図である。 本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の実施形態１に係る第２ユニットが第１ユニットから分離した状態を示す図である。 本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置のブロック図である。 本発明の実施形態１に係る制御装置が実行する処理を示すフローチャートである。 本発明の実施形態１に係る制御装置が実行する処理の他例を示すフローチャートである。 （ａ）は、銀イオン濃度の時間変化を示すグラフである。（ｂ）は、銀イオンの除菌効果を示すグラフである。 （ａ）は、本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置の変形例を示す図である。（ｂ）は、本発明の実施形態１に係る除菌液散布装置の他の変形例を示す図である。 本発明の実施形態２に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の実施形態３に係る除菌液散布装置の正面図である。 本発明の実施形態３に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の実施形態４に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の実施形態５に係る浴室環境調整装置の底面図である。 本発明の実施形態５に係る浴室環境調整装置の構成を示す図である。 本発明の実施形態５に係る本体ユニットの一部を拡大して示す図である。 本発明の実施形態５に係る浴室環境調整装置の風路を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る除菌液散布装置の断面図である。 本発明の更なる他の実施形態に係る除菌液散布装置の断面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。また、説明が重複する箇所についても適宜説明を省略する場合がある。

［実施形態１］
図１は、実施形態１に係る除菌液散布装置１の上面図である。図１に示すように、除菌液散布装置１は、送出口１ａを有する。除菌液散布装置１は、除菌液の霧を送出口１ａから送出して、浴室に除菌液を散布する。

また、図１に示すように、除菌液散布装置１は、第１ユニット１０と、第２ユニット２０とを備える。なお、本実施形態において、送出口１ａは、第１ユニット１０と第２ユニット２０との間に形成された隙間である。

第１ユニット１０は、送風装置１１と、支持体１２と、供給管１３と、水栓１４と、調整弁１５とを備える。

送風装置１１は、除菌液の霧を送風する。本実施形態において、送風装置１１は、複数枚の羽根１１１と、ファンモータ１１２とを備える。ファンモータ１１２は、複数枚の羽根１１１を回転させる。複数枚の羽根１１１が回転することにより、風が発生して、除菌液の霧が送風される。送風装置１１は、例えばＤＣファンである。送風装置１１がＤＣファンである場合、ファンモータ１１２の回転数の調整が容易となる。換言すると、送風装置１１の送風量の調整が容易となる。

支持体１２は、送風装置１１及び第２ユニット２０を支持する。本実施形態において、支持体１２は、本体部１２１と、複数の支持部材１２２とを備える。

本体部１２１は、送風装置１１を支持する。本実施形態において、本体部１２１は蓋体１２１ａを備え、蓋体１２１ａが送風装置１１を支持する。好ましくは、蓋体１２１ａは、送風装置１１を中央部において支持する。蓋体１２１ａの中央部に送風装置１１が配置されることにより、除菌液散布装置１を中心として除菌液の霧を除菌液散布装置１から放射状に送出することができる。換言すると、除菌液の霧が特定の方向に偏って送出されることを抑制することができる。したがって、除菌液の霧を特定の方向に偏ることなく送出して、より広い範囲を除菌することができる。

複数の支持部材１２２は、本体部１２１から外側に向けて突出して、第２ユニット２０を支持する。本実施形態において、本体部１２１は平面視矩形状であり、本体部１２１の各辺の中心から支持部材１２２が突出する。なお、送出口１ａは本体部１２１の周囲に形成される。詳しくは、複数の支持部材１２２の間に送出口１ａが形成される。本実施形態において、送出口１ａは平面視Ｌ字状であり、除菌液散布装置１は４つの送出口１ａを有する。４つの送出口１ａにより、本体部１２１の周りの略全周から除菌液の霧を送出することができる。

供給管１３は、第２ユニット２０に水を供給する。例えば、供給管１３は、水道水を供給する。水栓１４は、供給管１３に設けられる。水栓１４は開閉可能である。水栓１４が開状態である場合、供給管１３は水を供給することができる。水栓１４が閉状態である場合、供給管１３による水の供給が遮断される。本実施形態において、水栓１４は蓋体１２１ａに配置される。調整弁１５は、供給管１３に設けられる。調整弁１５については、図２を参照して後述する。

続いて図２を参照して、除菌液散布装置１について更に説明する。図２は、実施形態１に係る除菌液散布装置１の断面図である。詳しくは、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面を示す。図２に示すように、除菌液散布装置１は浴室の天井部Ｓに設置される。詳しくは、第１ユニット１０が浴室の天井部Ｓに設置される。

続いて図２を参照して、第１ユニット１０について更に説明する。図２に示すように、支持体１２の本体部１２１は、下面が開放された箱形状を有し、蓋体１２１ａに加えて壁部１２１ｂを更に備える。壁部１２１ｂは、蓋体１２１ａの端部から下方に突出する。支持部材１２２は、壁部１２１ｂの下端部に接続する。送風装置１１は、本体部１２１の外側から吸い込んだ空気を、第２ユニット２０へ向けて送風する。供給管１３は、支持体１２の蓋体１２１ａから第２ユニット２０の内部まで延びている。

続いて図２を参照して、第２ユニット２０について説明する。第２ユニット２０は、収容部２１と、電極対２２と、超音波発生素子２３と、水位センサー２４と、ガイド部材２５とを備える。なお、図１を参照して説明した送出口１ａは、ガイド部材２５の上端と支持体１２の本体部１２１（壁部１２１ｂ）との間に形成される。

収容部２１は、溶媒を収容する。本実施形態において溶媒は水Ｌである。収容部２１は、上面が開放された箱形状を有する。なお、本実施形態において、供給管１３は、収容部２１の内側まで延びている。

電極対２２は、溶媒（水Ｌ）に浸漬される。本実施形態において、電極対２２は、収容部２１の床面に配置される。電極対２２に電圧が印加されることにより、溶媒（水Ｌ）の中で除菌成分が生成される。この結果、溶媒（水Ｌ）と除菌成分とが混合された除菌液が収容部２１内で生成される。換言すると、収容部２１は除菌液を収容する。

本実施形態において、除菌成分は銀イオンである。具体的には、電極対２２を構成する各電極は、銀単体からなる金属プレートである。あるいは、各電極は、プレート状のチタン金属と、チタン金属の表面の一部又は全部に担持された銀とからなる金属プレートである。例えば、電極対２２を構成する各電極のプレートサイズを５ｍｍ×３０ｍｍ（厚さ０．３ｍｍ）とし、電極間距離を３ｍｍとし、収容部２１にｐＨ７．６、硬度４５ｍｇ／Ｌの水道水を１００ｍｌ収容した場合、電極対２２にＤＣ５Ｖの電圧を印加すると、１５０ｍＡ以上１７０ｍＡ以下の電流が電極間を流れて、陽極から銀イオンが溶出する。

超音波発生素子２３は、除菌液に超音波振動を与えて、除菌液の霧を発生させる。詳しくは、超音波発生素子２３は、収容部２１の床面に配置される。換言すると、超音波発生素子２３は、除菌液に浸漬される。超音波発生素子２３は、液中から液面に向けて超音波を照射する。この結果、音圧により液面に噴水状の液柱が発生し、液柱から霧（除菌液の霧）が発生する。

除菌液散布装置１が除菌液を散布すると、収容部２１に収容されている除菌液の水位（液面の高さ）が変動する。超音波によって霧を発生させる場合、超音波の節が液面に位置するように、液面の位置（水位）を調整する必要がある。

水位センサー２４は、除菌液の液面の位置を検知する。調整弁１５は、開閉可能である。調整弁１５が開状態である場合、供給管１３によって水が供給される。調整弁１５が閉状態である場合、供給管１３による水の供給が遮断される。調整弁１５は、水位センサー２４の検知結果に基づいて開閉して、超音波の節が液面に位置するように、供給管１３による水の供給を制御する。調整弁１５は、例えば電磁弁である。水位センサー２４は、例えばフロートスイッチである。水位センサー２４がフロートスイッチである場合、水位センサー２４は、超音波の節が液面に位置するか否かを検知する。詳しくは、水位センサー２４は、除菌液の水位が所定の水位であるか否かを検知する。所定の水位は、超音波の波長に応じて設定する。

ガイド部材２５は、ガイド面２５１を有する。具体的には、ガイド部材２５の内側面がガイド面２５１を形成する。ガイド面２５１は、送風装置１１によって送風された除菌液の霧が、浴室を区画する面のうちの所定の面に沿って流れるように、除菌液の霧を所定の面に導く。詳しくは、本実施形態において、送風装置１１は、除菌液の液面へ向かう風を発生させる。除菌液の液面へ向かう風により、除菌液の霧がガイド面２５１へ向けて送風される。この結果、送風装置１１によって送風された除菌液の霧が、ガイド面２５１によって所定の面に導かれる。

本実施形態において、ガイド面２５１は、浴室の天井面ＳＳに除菌液の霧を導く。詳しくは、ガイド部材２５は、収容部２１の側壁の上端から外側へ向かって斜め上方に突出している。したがって、ガイド面２５１は、傾斜面であり、収容部２１から離れるほど浴室の天井面ＳＳに近くなるように傾斜している。この結果、除菌液の霧がガイド面２５１から斜め上方に送出されて、天井面ＳＳに沿って流れる。換言すると、除菌液の霧が送出口１ａから斜め上方に送出される。あるいは、除菌液の霧は、ガイド面２５１（送出口１ａ）から、水平方向から上方向にわたって送出される。なお、除菌液の霧は、ガイド面２５１（送出口１ａ）から水平方向に送出される場合がある。例えば、ガイド面２５１の上端と天井面ＳＳとの間の隙間が狭い場合、除菌液の霧が水平方向に送出される場合がある。

続いて図３を参照して、除菌液の霧の流れについて説明する。図３は、本発明の実施形態１に係る除菌液の霧の流れを示す図である。なお、矢印Ｄ１〜矢印Ｄ３は、除菌液の霧が流れる方向を示す。

図３に示すように、ガイド面２５１によって浴室の天井面ＳＳに導かれた除菌液の霧は、天井面ＳＳに沿って流れる。また、天井面ＳＳに沿って浴室の壁面ＷＳまで導かれた除菌液の霧は、壁面ＷＳに沿って下方に流れる。

以上、図１〜図３を参照して、本実施形態に係る除菌液散布装置１について説明した。本実施形態によれば、浴室の天井面ＳＳ（所定の面の一例）に沿って除菌液の霧が流れるため、天井面ＳＳのより広い範囲を除菌することができる。更に、本実施形態によれば、除菌液散布装置１を中心として除菌液の霧を除菌液散布装置１から放射状に送出することができる。よって、天井面ＳＳのより広い範囲を除菌することができる。

また、本実施形態によれば、天井面ＳＳに沿って浴室の壁面ＷＳまで導かれた除菌液の霧が、壁面ＷＳに沿って下方に流れる。したがって、浴室の壁面ＷＳに除菌液を散布することができる。

また、本実施形態によれば、除菌液の霧は、天井面ＳＳに向けて送出されて、天井面ＳＳ及び壁面ＷＳに沿って流れる。したがって、除菌液の噴霧中に浴室に立ち入った人が除菌液の霧を吸入することを抑制することができる。また、浴室に立ち入った人に除菌液が付着することを抑制することができる。

続いて図４（ａ）、図４（ｂ）、図５及び図６を参照して、本実施形態に係る除菌液散布装置１について更に説明する。図４（ａ）は、実施形態１に係る第２ユニット２０の上面図である。図４（ｂ）は、実施形態１に係る第２ユニット２０の底面図である。

図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、第２ユニット２０は、複数の支持孔２０ａを有する。本実施形態では、ガイド部材２５が複数の支持孔２０ａを有する。支持孔２０ａは、ガイド部材２５を貫通する貫通孔である。複数の支持孔２０ａは、図１を参照して説明した複数の支持部材１２２に対応する位置に形成されている。

また、本実施形態において、ガイド面２５１は環状である。ガイド面２５１が環状であることにより、除菌液散布装置１を中心として除菌液の霧を除菌液散布装置１から放射状に送出することができる。換言すると、除菌液の霧が特定の方向に偏って送出されることを抑制することができる。したがって、除菌液の霧を特定の方向に偏ることなく送出して、より広い範囲を除菌することができる。

図５は、実施形態１に係る除菌液散布装置１の断面図である。詳しくは、図５は、図１のＶ−Ｖ線に沿った断面を示す。図５に示すように、第１ユニット１０の支持部材１２２はそれぞれ、対応する支持孔２０ａに挿入される。支持部材１２２が支持孔２０ａに挿入されることより、ガイド部材２５が支持部材１２２によって支持される。換言すると、第２ユニット２０が支持部材１２２によって支持される。

本実施形態において、支持部材１２２は、ガイド部材２５を着脱可能に支持する。換言すると、支持部材１２２は、第２ユニット２０を着脱可能に支持する。具体的には、ガイド部材２５及び支持部材１２２のうちの少なくとも一方が、弾性を有する材料によって形成される。例えば、ガイド部材２５及び支持部材１２２のうちの少なくとも一方は、アクリル樹脂によって形成され得る。ガイド部材２５及び支持部材１２２のうちの少なくとも一方が弾性を有することにより、支持孔２０ａへの支持部材１２２の挿抜が可能となり、その結果、第２ユニット２０の着脱が可能となる。

図６は、第２ユニット２０が第１ユニット１０から分離した状態を示す図である。本実施形態において、支持部材１２２は、第２ユニット２０（ガイド部材２５）を着脱可能に支持する。したがって、図６に示すように、第２ユニット２０を第１ユニット１０から容易に分離することができる。換言すると、第２ユニット２０を浴室の天井部Ｓから容易に取り外すことができる。

図２を参照して説明したように、送風装置１１は外部から空気を吸い込み、送風するため、収容部２１に収容されている液体（水Ｌ又は除菌液）中に、外部からの塵や埃が取り込まれやすい。また、水Ｌが水道水である場合、収容部２１に水道水のスケールが溜まる可能性がある。したがって、衛生面から、第２ユニット２０の内側を定期的に洗浄する必要がある。本実施形態によれば、第２ユニット２０を第１ユニット１０から分離することができるため、第２ユニット２０の内側を容易に洗浄することができる。

更に、除菌液の除菌成分として銀イオンを用いる場合、銀イオンが還元凝集してコロイド化することにより、超音波発生素子２３の周りを中心に銀コロイドによる黒ずみが発生するおそれがある。銀コロイドは、超音波発生素子２３の動作不良を引き起こす可能性があるため、収容部２１の内側を定期的に洗浄して、銀コロイドを取り除く必要がある。本実施形態によれば、第２ユニット２０を第１ユニット１０から分離することができるため、収容部２１の内側を容易に洗浄することができる。

また、本実施形態では、電極対２２の陽極から銀イオンが溶出する。このため、除菌液散布装置１の使用期間に応じて陽極（電極）が小さくなる。したがって、電極対２２を定期的に交換する必要がある。本実施形態では、電極対２２は収容部２１に設けられている。また、第２ユニット２０を第１ユニット１０から分離することができる。したがって、電極対２２を容易に交換することができる。

なお、ガイド部材２５及び支持部材１２２が共に、弾性を有する材料によって形成されることが好ましい。ガイド部材２５及び支持部材１２２が共に弾性を有することにより、第２ユニット２０を第１ユニット１０からより容易に分離することができる。また、浴室の天井部Ｓから第２ユニット２０を取り外す際には、供給管１３から水が垂れてこないように、水栓１４を閉じることが好ましい。

続いて図７を参照して、除菌液散布装置１について更に説明する。図７は、実施形態１に係る除菌液散布装置１のブロック図である。図７に示すように、除菌液散布装置１は、操作部３０、制御装置４０、及び第１電源装置４１〜第４電源装置４４を更に備える。

操作部３０は、ユーザーの操作を受け付ける。操作部３０は、ユーザーの操作に応じた信号を制御装置４０に送信する。操作部３０は、例えば、浴室の壁面、又は浴室に隣接する脱衣所の壁面に設置される。

本実施形態において、操作部３０は、除菌ボタン３１、停止ボタン３２、及びディスプレー３３を備える。また、操作部３０は、プロセッサ、半導体メモリー及びインターフェース回路を備える。プロセッサは、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）又はＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）である。操作部３０は、半導体メモリーとして、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）及びＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）を備える。プロセッサは、半導体メモリーに記憶された制御プログラム（コンピュータプログラム）に従って、各種の処理を実行する。インターフェース回路は、操作部３０と制御装置４０との間の通信を実行する。

除菌ボタン３１は、除菌動作の開始を指示するボタンである。すなわち、ユーザーが除菌ボタン３１を押下すると、操作部３０は、除菌動作の開始を指示する信号を制御装置４０に送信する。制御装置４０が除菌動作の開始を指示する信号を受信すると、除菌液散布装置１は、所定の期間、除菌動作を実行する。

停止ボタン３２は、除菌動作の停止を指示するボタンである。すなわち、ユーザーが停止ボタン３２を押下すると、操作部３０は、除菌動作の停止を指示する信号を制御装置４０に送信する。制御装置４０が除菌動作の停止を指示する信号を受信すると、除菌液散布装置１は、除菌動作を開始してから所定の期間が経過する前であっても、除菌動作を停止する。

ディスプレー３３は、プロセッサによって制御されて、各種の情報を表示する。例えば、ディスプレー３３は、除菌液散布装置１が除菌動作を実行している場合、除菌動作が実行されていることを示すメッセージを表示する。また例えば、ディスプレー３３は、除菌動作が開始してから経過した時間、又は、除菌動作が終了するまでの残り時間を表示する。

制御装置４０は、除菌液散布装置１の動作を制御する。具体的には、制御装置４０は、プロセッサ、半導体メモリー、及びインターフェース回路を備える。プロセッサは、例えば、ＣＰＵ又はＭＰＵである。制御装置４０は、半導体メモリーとして、例えば、ＲＡＭ及びＲＯＭを備える。プロセッサは、半導体メモリーに記憶された制御プログラム（コンピュータプログラム）に従って、各種の処理を実行する。インターフェース回路は、制御装置４０と操作部３０との間の通信を実行する。本実施形態において、制御装置４０は、除菌動作の開始を指示する信号を操作部３０から受信すると、除菌動作が実行されるように、第１電源装置４１〜第４電源装置４４の動作を制御する。

第１電源装置４１は、制御装置４０によって制御されて、電極対２２を通電させる電圧を生成する。詳しくは、制御装置４０は、銀イオンの濃度が所定の濃度となるまで電極対２２が通電するように、第１電源装置４１を制御する。

第２電源装置４２は、制御装置４０によって制御されて、超音波発生素子２３を駆動させる電圧を生成する。この結果、超音波発生素子２３から超音波が発生する。

第３電源装置４３は、制御装置４０によって制御されて、ファンモータ１１２を駆動させる電圧を生成する。この結果、図１を参照して説明した複数枚の羽根１１１が回転して、除菌液の霧を送風する風が発生する。なお、制御装置４０は、ファンモータ１１２の回転数を周期的に変化させて、送風装置１１の送風量を周期的に変化させることが好ましい。送風装置１１の送風量を変化させることで、除菌液の霧の飛散距離を変化させて、天井面ＳＳや壁面ＷＳにより均一に除菌液を付着させることができる。

第４電源装置４４は、制御装置４０によって制御されて、調整弁１５を駆動させる電圧を生成する。詳しくは、制御装置４０は、水位センサー２４の出力に基づき、除菌液の水位が所定の水位となるように第４電源装置４４を制御する。具体的には、除菌動作によって除菌液の水位が下がると、制御装置４０は、調整弁１５を開く。この結果、図２を参照して説明したように、収容部２１に供給管１３から水が供給される。また、制御装置４０は、除菌液の水位が所定の水位まで上昇すると、調整弁１５を閉じる。

続いて図７及び図８を参照して、制御装置４０が実行する処理の流れについて説明する。図８は、実施形態１に係る制御装置４０が実行する処理を示すフローチャートである。制御装置４０は、除菌動作の開始を指示する信号を操作部３０から受信すると、図８に示す処理を開始する。

図８に示すように、制御装置４０は、除菌動作の開始を指示する信号を受信すると、まず、銀イオンの濃度が所定の濃度となるように電極対２２を通電させる（ステップＳ１）。

制御装置４０は、電極対２２を通電させた後、超音波発生素子２３から超音波を発生させる（ステップＳ２）。また、制御装置４０は、ファンモータ１１２を駆動して、除菌液の霧を送風する風を発生させる（ステップＳ２）。この結果、図１及び図２を参照して説明した送出口１ａから除菌液の霧が送出される。

制御装置４０は、除菌液の霧の送出を開始すると、水位センサー２４の出力に基づいて、除菌液の水位が所定の水位であるか否かを判定する（ステップＳ３）。

制御装置４０は、除菌液の水位が所定の水位であると判定すると（ステップＳ３のＹｅｓ）、除菌動作の開始を指示する信号を受信してから所定期間が経過したか否かを判定する（ステップＳ４）。

一方、制御装置４０は、除菌液の水位が所定の水位でないと判定すると（ステップＳ３のＮｏ）、除菌液の水位が所定の水位となるように調整弁１５を駆動する（ステップＳ５）。換言すると、制御装置４０は、図２を参照して説明したように、供給管１３から収容部２１に水を供給して、除菌液の水位を所定の水位まで上昇させる。

制御装置４０は、除菌液の水位が所定の水位まで上昇すると、調整弁１５を閉じた後、銀イオンの濃度が所定の濃度となるように電極対２２を通電させる（ステップＳ６）。制御装置４０は、電極対２２を通電させた後、除菌動作の開始を指示する信号を受信してから所定期間が経過したか否かを判定する（ステップＳ４）。

制御装置４０が、所定期間が経過していないと判定すると（ステップＳ４のＮｏ）、処理はステップＳ３の処理に戻る。一方、制御装置４０が、所定期間が経過していると判定すると（ステップＳ４のＹｅｓ）、図８に示す処理が終了する。

以上、図７及び図８を参照して、制御装置４０が実行する処理の流れについて説明した。図８に示す処理によれば、除菌液における銀イオンの濃度を所定の濃度に維持して、除菌液を浴室に散布することができる。

続いて図７及び図９を参照して、制御装置４０が実行する他の処理の流れについて説明する。図９は、実施形態１に係る制御装置４０が実行する処理の他例を示すフローチャートである。制御装置４０は、除菌動作の開始を指示する信号を操作部３０から受信すると、図９に示す処理を開始する。以下、図８に示す処理と異なる点について説明する。

図９に示すように、制御装置４０は、除菌液の水位が所定の水位であると判定すると（ステップＳ３のＹｅｓ）、除菌動作の開始を指示する信号を受信してから第１所定期間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１１）。

また、制御装置４０は、調整弁１５を駆動して除菌液の水位を所定の水位に戻すと（ステップＳ５）、除菌動作の開始を指示する信号を受信してから第２所定期間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１２）。第２所定期間は、第１所定期間よりも短い期間である。

制御装置４０は、第２所定期間が経過していないと判定すると（ステップＳ１２のＮｏ）、銀イオンの濃度が所定の濃度となるように電極対２２を通電させる（ステップＳ６）。一方、制御装置４０は、第２所定期間が経過していると判定すると（ステップＳ１２のＹｅｓ）、電極対２２を通電させない。したがって、第２所定期間が経過すると、供給管１３から収容部２１に水が供給される度に、銀イオンの濃度が低下する。

本実施形態において、第２所定期間は、第１所定期間が経過する前に、収容部２１に収容されている液体が除菌液から通常水Ｌに戻るように設定される。したがって、第１所定期間が経過する前に、超音波発生素子２３は、超音波振動を水Ｌに与えて水の霧を発生させ、送風装置１１は水Ｌの霧を送風する。

以上、図７及び図９を参照して、制御装置４０が実行する他の処理の流れについて説明した。図９に示す処理によれば、天井面ＳＳや壁面ＷＳに除菌液を付着させた後に、天井面ＳＳや壁面ＷＳに水を付着させて、銀イオンによる除菌効果を長時間維持させることができる。詳しくは、除菌液が乾燥すると、銀コロイドが析出する。銀コロイドは、カビや一般細菌に対する除菌効果が小さい。したがって、天井面ＳＳや壁面ＷＳに付着した銀イオンによる除菌効果を長時間維持するためには、除菌液の乾燥を防ぐ必要がある。これに対し、図９に示す処理によれば、天井面ＳＳや壁面ＷＳに付着した除菌液の乾燥を防ぐことができる。よって、天井面ＳＳや壁面ＷＳに付着した銀イオンによる除菌効果を長時間維持させることができる。

更に、除菌液が乾燥して銀コロイドが析出すると、天井面ＳＳや壁面ＷＳに銀コロイドによる黒ずみが発生し、外観が悪くなる。これに対し、図９に示す処理によれば、天井面ＳＳや壁面ＷＳに付着した除菌液の乾燥を防ぐことができる。よって、黒ずみの発生を抑制することができる。

なお、図９に示す処理では除菌液の散布に続けて通常水が散布されたが、除菌液の散布が終了してから一定期間経過後に通常水を散布してもよい。この場合、除菌液が乾燥して銀コロイドが析出しても、銀コロイドを溶解させて銀イオンを生成することができる。また、黒ずみが発生しても、銀コロイドを溶解させることで、黒ずみを目立ちにくくすることができる。

続いて図１０（ａ）及び図１０（ｂ）を参照して、電極対２２の通電時間について説明する。図１０（ａ）は、銀イオン濃度の時間変化を示すグラフである。図１０（ｂ）は、銀イオンの除菌効果を示すグラフである。

図１０（ａ）において、縦軸は銀イオン濃度を示し、横軸は経過時間を示す。詳しくは、図１０（ａ）は、収容部２１にｐＨ７．６、硬度４５ｍｇ／Ｌの水道水を１００ｍｌ収容し、電極対２２にＤＣ５Ｖの電圧を印加して測定した銀イオン濃度を示す。なお、電極対２２を構成する各電極のプレートサイズは５ｍｍ×３０ｍｍ（厚さ０．３ｍｍ）とした。また、電極間距離は３ｍｍとした。図１０（ａ）に示すように、銀イオン濃度は、経過時間３分で５００ｐｐｂに達した。また、経過時間５分で、銀イオン濃度は１０００ｐｐｂ以上となった。

図１０（ｂ）において、縦軸は除菌率を示し、横軸は銀イオン濃度を示す。また、図１０（ｂ）において、×印のグラフは黄色ブドウ球菌の除菌率を示し、黒丸のグラフは黒カビの除菌率を示す。図１０（ｂ）に示すように、一般細菌（例えば、黄色ブドウ球菌）は、濃度５０ｐｐｂ以上１００ｐｐｂ以下の銀イオンによって９０％以上除菌することができる。また、黒カビ（クラドスポリウム）は、濃度４００ｐｐｂ以上５００ｐｐｂ以下の銀イオンによって９０％以上除菌することができる。

したがって、電極対２２を３分程度通電させることにより、一般細菌やカビの除菌が可能な銀イオンを溶出させることができる。

以上、実施形態１について説明した。実施形態１によれば、特定の範囲に偏ることなく、浴室の天井面ＳＳや壁面ＷＳに均一に除菌液を付着させることができる。

なお、本実施形態において、ガイド面２５１は傾斜面であったが、ガイド面２５１は水平面を含んでもよい。例えば、ガイド面２５１は、天井面ＳＳと平行な水平面を含み得る。この場合、除菌液の霧は、ガイド面２５１から水平方向へ送出されて、天井面ＳＳに沿って流れる。

また、本実施形態において、除菌液散布装置１は４つのＬ字状の送出口１ａを有したが、送出口１ａの数や形状は特に限定されない。図１１（ａ）は、実施形態１に係る除菌液散布装置１の変形例を示す図である。

図１１（ａ）に示すように、除菌液散布装置１は、複数の円形状の送出口１ａを有してもよい。具体的には、図１１（ａ）に示す除菌液散布装置１において、複数の円形状の送出口１ａは、支持体１２の本体部１２１の周りに、周方向に沿って配置される。また、支持体１２は、図１及び図２を参照して説明した複数の支持部材１２２に替えて、ガイド部材２５（第２ユニット２０）を支持する鍔部１２４を備える。複数の円形状の送出口１ａは、鍔部１２４に形成される。なお、図１１（ａ）に示す除菌液散布装置１において、除菌液の霧は、送出口１ａから上方に送出される場合がある。例えば、送出口１ａが鍔部１２４の外縁から遠い場合、除菌液の霧が上方に送出される場合がある。

また、本実施形態において、ガイド部材２５（第２ユニット２０）の外形は平面視矩形状であったが、ガイド部材２５（第２ユニット２０）の外形形状は特に限定されない。図１１（ｂ）は、実施形態１に係る除菌液散布装置１の他の変形例を示す図である。図１１（ｂ）に示すように、ガイド部材２５（第２ユニット２０）の外形は平面視円形状であってもよい。なお、ガイド部材２５の外形が円形状である場合、ガイド部材２５の内側面と、支持体１２の鍔部１２４の外周面とに、互い対応するねじ溝を形成してもよい。すなわち、第２ユニット２０を回転させて、支持体１２の鍔部１２４にガイド部材２５を支持させてもよい。

また、本実施形態において、支持体１２の本体部１２１は平面視矩形状であったが、本体部１２１の外形形状は特に限定されない。例えば図１１（ｂ）に示すように、本体部１２１の外形は平面視円形状であってもよい。

［実施形態２］
続いて図１２を参照して本発明の実施形態２について説明する。但し、実施形態１と異なる事項を説明し、実施形態１と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態２は、電極対２２の位置が実施形態１と異なる。

図１２は、実施形態２に係る除菌液散布装置１の断面図である。図１２に示すように、第２ユニット２０は、収容部２１の内側面に接続する支持部材２６を備える。支持部材２６は、電極対２２を支持する。詳しくは、支持部材２６は、超音波発生素子２３の直上に電極対２２が位置するように、電極対２２を支持する。超音波発生素子２３の直上に電極対２２が位置することにより、電極対２２を構成する２つの電極間の除菌液に超音波振動を与えることができる。

以上、実施形態２について説明した。実施形態２によれば、２つの電極間の除菌液に超音波振動を与えることができる。したがって、２つの電極間の除菌液を揺動させて、銀コロイドが電極に付着することを抑制できる。

［実施形態３］
続いて図１３及び図１４を参照して本発明の実施形態３について説明する。但し、実施形態１及び２と異なる事項を説明し、実施形態１及び２と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態３は、除菌成分が実施形態１及び２と異なる。具体的には、実施形態３に係る除菌成分は、次亜塩素酸ナトリウムである。

図１３は、実施形態３に係る除菌液散布装置１の正面図である。図１３に示すように、実施形態３において、支持体１２の本体部１２１は、食塩の投入口１２３を有する。具体的には、投入口１２３は、本体部１２１の壁部１２１ｂを貫通する貫通孔である。ユーザーが投入口１２３から食塩を投入すると、食塩は、収容部２１に落下する。なお、投入する食塩は、投入口１２３から投入しやすい形状を有する塊物であることが好ましい。例えば、食塩は、岩塩や食塩ペレットであることが好ましい。

図１４は、実施形態３に係る除菌液散布装置１の断面図である。本実施形態において、電極対２２は、２つの白金電極を含む。図１３を参照して説明したように、ユーザーが投入口１２３から食塩を投入すると、食塩は収容部２１に落下して、水Ｌ中において溶ける。食塩が水Ｌ中に溶存（溶解）している状態で電極対２２を通電すると、塩素系の除菌成分が生成される。詳しくは、電極対２２を通電して電気分解を行うことにより、次亜塩素酸ナトリウム水が生成される。

続いて図７、図１３及び図１４を参照して、実施形態３に係る除菌液散布装置１の動作について説明する。ユーザーは、除菌動作の開始前に投入口１２３から所定の量の食塩を投入する。その後、ユーザーは、操作部３０の除菌ボタン３１を押下して、除菌液散布装置１に除菌動作を実行させる。

制御装置４０は、除菌動作の開始を指示する信号を操作部３０から受信すると、調整弁１５を駆動して、収容部２１内に所定量の原水Ｌを注水し、食塩を溶解させる。なお、食塩の添加量は、０．１重量％以上５重量％以下が望ましい。

制御装置４０は、収容部２１内に所定量の原水Ｌを注水すると、電極対２２を通電させる。この結果、収容部２１内において電気分解が行われる。例えば、電極対２２を構成する各電極に、直径１ｍｍ、長さ３０ｍｍの白金コートチタン電極を用い、電極間距離を３ｍｍとし、１ｇの食塩を収容部２１内に投入するとともに１００ｍｌの原水Ｌを収容部２１内に注水した場合、換言すると、食塩の添加量が１重量％である場合、電極対２２にＤＣ５Ｖの電圧を印加すると、１５０ｍＡ以上１７０ｍＡ以下の電流が電極間を流れて電気分解が行われ、次亜塩素酸の濃度が増加し、１分程度の電気分解で約１０ｐｐｍの次亜塩素酸ナトリウムを生成することができる。

詳しくは、電極対２２の陽極において水素イオン（Ｈ⁺）が生成される。また、酸素ガスや塩素ガスが発生する（式（１）及び式（２））。
Ｈ₂Ｏ→（１／２）Ｏ₂↑＋２Ｈ⁺＋２ｅ^-・・・式（１）
２Ｃｌ→Ｃｌ₂＋２ｅ^-・・・式（２）

塩素ガスは水に容易に溶け、式（３）及び式（４）に示すように、水中において次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオンに変化する。

したがって、電気分解を行うことにより、次亜塩素酸ナトリウムの濃度を増加させた除菌水を生成することができる。なお、次亜塩素酸ナトリウムの濃度は、有効塩素濃度５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ未満であることが望ましい。有効塩素濃度が５ｐｐｍ以上であることが望ましいのは、カビ等の有胞子菌を遊離状態で除菌できる最低濃度が有効塩素濃度５ｐｐｍであるためである。また、有効塩素濃度が５０ｐｐｍ未満であることが望ましいのは、有効塩素濃度が５０ｐｐｍ以上になると、除菌液の霧から塩素臭を感じやすくなるためである。

制御装置４０は、電極対２２を通電させた後、実施形態１において説明したように、超音波発生素子２３から超音波を発生させる。また、制御装置４０は、ファンモータ１１２を駆動して、除菌液の霧を送風する風を発生させる。この結果、送出口１ａから除菌液の霧が送出される。

以上、実施形態３について説明した。本実施形態によれば、次亜塩素酸水を超音波素子によって霧化し、送風装置１１からの送風により、次亜塩素酸水の霧を、ガイド面２５１を介して送出口１ａから送出することができる。したがって、実施形態１と同様に、特定の範囲に偏ることなく、浴室の天井面ＳＳや壁面ＷＳに均一に除菌液を付着させることができる。

なお、本実施形態では、投入口１２３から食塩を投入する形態について説明したが、実施形態１において説明した送出口１ａを介して食塩を投入してもよい。

［実施形態４］
続いて図１５を参照して本発明の実施形態４について説明する。但し、実施形態１〜３と異なる事項を説明し、実施形態１〜３と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態４は、第１ユニット１０の構成が実施形態１〜３と異なる。

図１５は、実施形態４に係る除菌液散布装置１の断面図である。図１５に示すように、本実施形態に係る除菌液散布装置１は、中空部材５１と、メッシュ状部材５２とを更に備える。より具体的には、第１ユニット１０が、中空部材５１と、メッシュ状部材５２とを更に備える。

中空部材５１は、超音波発生素子２３の上方に配置される。より具体的には、中空部材５１は、超音波発生素子２３の直上であって、水Ｌ（溶媒）の液面、すなわち除菌液の液面よりも高い位置に配置される。

中空部材５１は、中空部材５１の内側と外側とを連通させる第１開口５１１を有する。第１開口５１１は、超音波発生素子２３に対向する。より具体的には、第１開口５１１は、超音波発生素子２３の直上であって、水Ｌ（溶媒）の液面、すなわち除菌液の液面よりも高い位置に配置される。

本実施形態の中空部材５１は鉛直方向に延びる筒状体であり、第１開口５１１に加えて、中空部材５１の内側と外側とを連通させる第２開口５１２を更に有する。第２開口５１２は、鉛直方向において第１開口５１１に対向する。

中空部材５１は、収容部２１に収容されている液体（水Ｌ又は除菌液）の液面から発生する液柱よりも大きい径を有する。詳しくは、液柱の表面から発生する霧を、送風装置１１が発生させる風によって、中空部材５１の第１開口５１１から中空部材５１の外へ流すことができるように、中空部材５１の径を設定する。なお、液柱は、実施形態１において説明したように、超音波発生素子２３が液体（水Ｌ又は除菌液）に超音波振動を与えることによって発生する。

本実施形態において、支持体１２は、中空部材５１を支持する。より具体的には、蓋体１２１ａが中空部材５１を支持し、中空部材５１は、蓋体１２１ａの上方から第２ユニット２０の内部まで延びる。

メッシュ状部材５２は、中空部材５１の内部に配置される。具体的には、メッシュ状部材５２は、メッシュ状部材５２の最上位面の液面からの高さが液柱の最大高さよりも低くなるように配置される。本実施形態において、メッシュ状部材５２は、上方に向かって突出する凸形状を有する。メッシュ状部材５２は、例えば金属メッシュである。金属メッシュの材料は、例えばステンレスである。

送風装置１１は、メッシュ状部材５２の上方に配置される。送風装置１１が発生させる風は、メッシュ状部材５２に向かって流れる。この結果、液柱の表面から発生する霧が、送風装置１１から発生する風によって、第１開口５１１を介して中空部材５１の外へ流れる。

本実施形態において、送風装置１１は、中空部材５１の内部に配置される。より具体的には、送風装置１１は、第２開口５１２付近に配置される。なお、送風装置１１を配置する位置は、メッシュ状部材５２に向けて風を流すことができる限り特に限定されない。但し、液柱が送風装置１１に衝突することを防ぐために、送風装置１１は、液面からの高さが液柱の最大高さよりも高くなるように配置することが好ましい。

以上、図１５を参照して、本実施形態に係る除菌液散布装置１について説明した。本実施形態によれば、収容部２１に収容されている液体（水Ｌ又は除菌液）の液面から発生する液柱を、中空部材５１の内部に収容することができる。また、メッシュ状部材５２によって液柱の最大高さを抑制することができる。したがって、除菌液散布装置１の外へ液体（水Ｌ又は除菌液）が漏れ出ることを抑制することができる。

詳しくは、超音波振動によって発生する液柱の高さは変動する。液柱の高さの変動は、液面の振動（振幅）を大きくする。具体的には、液柱の高さの変動幅が大きい程、液面の振動（振幅）が大きくなる。したがって、液柱の高さの変動幅によっては、図１を参照して説明した送出口１ａから除菌液散布装置１の外へ液体（水Ｌ又は除菌液）が漏れ出る可能性がある。これに対して、本実施形態によれば、メッシュ状部材５２によって液柱の最大高さを抑制することができる。したがって、液柱の高さの変動幅を抑制して、除菌液散布装置１の外へ液体（水Ｌ又は除菌液）が漏れ出ることを抑制することができる。

また、本実施形態では、メッシュ状部材５２を使用して、液柱の最大高さを抑制する。したがって、板状部材を使用して液柱の最大高さを抑制する構成と比べて、霧化効率の低下を抑制することができる。すなわち、板状部材を使用する構成と比べて、霧の発生量が低下し難くなる。詳しくは、板状部材によって液柱の最大高さを抑制した場合、液柱の形状が崩れて霧化効率が低下する可能性がある。これに対し、メッシュ状部材５２によって液柱の最大高さを抑制した場合、板状部材を使用する場合と比べて、液柱の形状が崩れ難い。したがって、霧化効率の低下を抑制することができる。

また、本実施形態のメッシュ状部材５２は、上方に向かって突出する凸形状を有する。メッシュ状部材５２がこのような形状を有することにより、液柱の形状が崩れ難くなり、霧化効率の低下を抑制することができる。

続いて、メッシュ状部材５２の最上位面の位置について説明する。メッシュ状部材５２の最上位面の液面からの高さは、液柱の最大高さよりも低い限り、特に限定されない。但し、メッシュ状部材５２の最上位面の液面からの高さが液柱の標準高さ（平均高さ）よりも低い場合、液柱の高さが制限され過ぎて、霧化効率が低下する可能性がある。したがって、メッシュ状部材５２は、メッシュ状部材５２の最上位面の液面からの高さが液柱の標準高さ（平均高さ）よりも高くなるように配置することが好ましい。

続いて、メッシュ状部材５２のメッシュのピッチについて説明する。メッシュのピッチは、液柱がメッシュ状部材５２を通過することができる限り特に限定されないが、液柱の形状が崩れ難いピッチであることが好ましい。例えば、メッシュのピッチは、３ｍｍ以上５ｍｍ以下である。

なお、本実施形態の中空部材５１の形状は筒状であったが、中空部材５１の形状は、除菌液散布装置１の外へ水Ｌ（溶媒）又は除菌液がこぼれ出ることを抑制できる限り、特に限定されない。例えば、中空部材５１は、筒状体の側壁の一部にスリット状の開口が形成された形状を有してもよい。

また、本実施形態の中空部材５１は、蓋体１２１ａの上方から第２ユニット２０の内部まで延びたが、中空部材５１の長さは、メッシュ状部材５２の最上位面の液面からの高さが液柱の最大高さよりも低くなる位置でメッシュ状部材５２を支持できる限り、特に限定されない。

また、本実施形態の送風装置１１は中空部材５１の内部に配置されたが、送風装置１１を配置する位置は、メッシュ状部材５２に向けて風を流すことができる限り、特に限定されない。例えば、送風装置１１は、中空部材５１の上方に配置されてもよい。

［実施形態５］
続いて図１６〜図１９を参照して本発明の実施形態５について説明する。但し、実施形態１〜４と異なる事項を説明し、実施形態１〜４と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態５は、除菌液散布装置１が浴室環境調整装置１００に設置される点で実施形態１〜４と異なる。

図１６は、実施形態５に係る浴室環境調整装置１００の底面図である。浴室環境調整装置１００は、浴室の天井部に設置される。図１６に示すように、浴室環境調整装置１００は除菌液散布装置１を備える。また、浴室環境調整装置１００は、パネル１０１と、可動風向板１０２と、ミストノズル２０３とを備える。ミストノズル２０３については図１７を参照して後述する。本実施形態において、浴室環境調整装置１００は、ミストサウナ付きの浴室暖房乾燥装置である。

パネル１０１は、浴室の天井面から露出する。パネル１０１には、吸込み口１０３及び吹出し口１０４（第１開口）が形成されている。吹出し口１０４は横長矩形状に形成されている。パネル１０１には更に、図示しない開口（第２開口）が形成されており、第２開口から、実施形態１〜４において説明した除菌液散布装置１の第１ユニット１０の一部が突出する。換言すると、除菌液散布装置１は、パネル１０１の第２開口に対応する位置に配置され、除菌液散布装置１の第２ユニット２０が、パネル１０１の下方において支持される。

可動風向板１０２は、吹出し口１０４に設けられる。可動風向板１０２は、吹出し口１０４に対応する形状を有する。可動風向板１０２は、吹出し口１０４に対して開閉自在である。本実施形態において、可動風向板１０２は回動自在であり、可動風向板１０２が回動することにより、吹出し口１０４から送出される風の送風方向を変更することができる。また、可動風向板１０２は、浴室環境調整装置１００が暖房運転、乾燥運転及びミストサウナ運転を停止している際に吹出し口１０４を閉塞し（覆い）、浴室環境調整装置１００が暖房運転、乾燥運転、又はミストサウナ運転を実行している際に吹出し口１０４を開放する。また、可動風向板１０２は、除菌液散布装置１が除菌運転している際に吹出し口１０４を閉塞する（覆う）。なお、図１６は、可動風向板１０２が吹出し口１０４を閉塞している状態を示している。

続いて図１７を参照して、浴室環境調整装置１００（ミストサウナ付きの浴室暖房乾燥装置）の構成について説明する。図１７は、実施形態５に係る浴室環境調整装置１００の構成を示す図である。

図１７に示すように、浴室環境調整装置１００は、本体ユニット２００と、熱源機３００とを備える。本体ユニット２００は浴室の天井部に設置される。熱源機３００は屋外に設置される。なお、図１６を参照して説明したパネル１０１は、本体ユニット２００の外装部材として、本体ユニット２００に装着される。

熱源機３００は、暖房用の熱媒、及び給湯用水を加熱する。熱源機３００は、暖房用の熱媒を循環させる循環ポンプを備える。暖房用の熱媒は、例えば温水又は不凍液である。熱源機３００は供給路３０１に接続し、供給路３０１から供給される給湯用水を加熱する。

本体ユニット２００は、温水循環流路２０１と、ミスト用通水路２０２と、ミストノズル２０３と、暖房用熱交換器２０４と、ミスト用熱交換器２０５と、駆動装置２０６と、送風装置２１０と、制御装置２２０とを備える。

温水循環流路２０１は、暖房用の熱媒を本体ユニット２００と熱源機３００との間で循環させる。具体的には、熱源機３００が備える循環ポンプが作動することにより、熱源機３００から流れ出た熱媒が温水循環流路２０１を流れる。詳しくは、熱媒は、暖房用熱交換器２０４及びミスト用熱交換器２０５をこの順に経由して、熱源機３００に戻る。

ミスト用通水路２０２は、供給路３０１から分岐する通水路であり、ミスト用の水を通水する。ミスト用通水路２０２は、ミスト用熱交換器２０５を経由してミストノズル２０３に至るように配設されている。ミストノズル２０３は、ミスト用通水路２０２から供給される水をミスト化して浴室に噴霧する。

本実施形態において、除菌液散布装置１の供給管１３は、供給路３０１から分岐する通水路であり、調整弁１５が開くことにより、供給路３０１から除菌液散布装置１の供給管１３に水が流入する。なお、供給路３０１から除菌液散布装置１の供給管１３に水を流入させる際には、ミスト用通水路２０２が水を通水しないように、ミスト用通水路２０２に設けられた電磁弁を閉める。

暖房用熱交換器２０４は、可動風向板１０２及び除菌液散布装置１に対向する。暖房用熱交換器２０４は、吸込み口１０３から吸い込まれた空気を温風に変換する。ミスト用熱交換器２０５は、ミスト用通水路２０２を流れる水を温水に変換する。

駆動装置２０６は、可動風向板１０２を所定の回転角度範囲内で回動させる。駆動装置２０６は、例えば電動モータである。駆動装置２０６が可動風向板１０２を回動させることにより、可動風向板１０２の姿勢が、図１６を参照して説明した吹出し口１０４を閉塞する姿勢から、吹出し口１０４を開く姿勢に変化する。また、可動風向板１０２の回転角度に応じて、浴室に供給される温風の送風方向が変化する。

送風装置２１０は、風を発生させる風発生装置である。送風装置２１０は、回転ファン２１１と、ファンモータ２１２とを備える。ファンモータ２１２は、回転ファン２１１を回転させる。回転ファン２１１は、例えばシロッコファンである。

回転ファン２１１が回転することにより、図１６を参照して説明した吸込み口１０３から空気が吸い込まれる。吸込み口１０３から吸い込まれた空気は、図１６を参照して説明した吹出し口１０４を可動風向板１０２が開放している場合、回転ファン２１１の回転により、暖房用熱交換器２０４を介して吹出し口１０４から吹き出す。一方、可動風向板１０２が、図１６を参照して説明した吹出し口１０４を閉塞している場合、吸込み口１０３から吸い込まれた空気は、回転ファン２１１の回転により、暖房用熱交換器２０４を介して、除菌液散布装置１に向けて流れる。

制御装置２２０は、浴室環境調整装置１００の運転制御を行う。具体的には、浴室環境調整装置１００の暖房動作、乾燥動作、及びミストサウナ動作を制御する。更に、制御装置２２０は、除菌液散布装置１の除菌動作を制御する。したがって、本実施形態において、除菌液散布装置１は、実施形態１において説明した制御装置４０を備えていない。

制御装置２２０は、プロセッサ、及び半導体メモリーを備える。プロセッサは、例えば、ＣＰＵ又はＭＰＵである。制御装置４０は、半導体メモリーとして、例えば、ＲＡＭ及びＲＯＭを備える。プロセッサは、半導体メモリーに記憶された制御プログラム（コンピュータプログラム）に従って、各種の処理を実行する。

続いて図１８を参照して、本体ユニット２００について更に説明する。図１８は、本体ユニット２００の一部を拡大して示す図である。図１８に示すように、本体ユニット２００は、ホルダー２３０を更に備える。

ホルダー２３０は、可動風向板１０２を回動可能に支持する。具体的には、可動風向板１０２は２つの回転軸１０２ａを備え、ホルダー２３０は２つの回転軸１０２ａを回動可能に支持する。２つの回転軸１０２ａの一方は、駆動装置２０６の出力軸と接続している。また、ホルダー２３０は除菌液散布装置１を支持する。具体的には、ホルダー２３０は、第１ユニット１０の本体部１２１を支持する。

続いて図１８を参照して、実施形態５に係る除菌液散布装置１について説明する。図１８に示すように、本体部１２１の蓋体１２１ａは、開口１２５を有する。換言すると、本実施形態に係る除菌液散布装置１は、実施形態１において説明した送風装置１１を備えていない。本実施形態では、除菌液の霧の送風に、図１７を参照して説明した浴室環境調整装置１００の送風装置２１０が利用される。

続いて図１９を参照して、本体ユニット２００について更に説明する。図１９は、浴室環境調整装置１００の風路を示す図である。図１９に示すように、本体ユニット２００は、固定風向板２０７を更に備える。固定風向板２０７は、暖房用熱交換器２０４から流れ出た風の向きを所定の方向（本実施形態では下方向）に整合させる。

続いて図１９を参照して、本実施形態における除菌動作について説明する。除菌動作が実行される際には、図１９に示すように、可動風向板１０２は閉じた状態となっている。この結果、固定風向板２０７から流れ出た風が、除菌液散布装置１の第１ユニット１０（支持体１２の蓋体１２１ａ）が有する開口１２５に流れ込む。したがって、開口１２５から除菌液の液面へ向けて流れる風が発生し、実施形態１において説明したように、除菌液の霧が、ガイド面２５１によって天井面に導かれる。

以上、実施形態５について説明した。本実施形態によれば、浴室環境調整装置１００の送風装置２１０を利用して、除菌液の霧を送風することができる。なお、本実施形態において、浴室環境調整装置１００の制御装置２２０が除菌動作を制御する構成について説明したが、除菌液散布装置１が、実施形態１の除菌液散布装置１と同様に、制御装置４０を備えてもよい。また、除菌液散布装置１は、図１５を参照して説明した中空部材５１及びメッシュ状部材５２を更に備えてもよい。また、本実施形態において、浴室環境調整装置１００はミストサウナ付きの浴室暖房乾燥装置であったが、浴室環境調整装置１００は、浴室暖房乾燥装置、浴室暖房装置、又は浴室乾燥装置であってもよい。

以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。

例えば、本発明による実施形態では、除菌液散布装置１が浴室の天井部に設置されたが、除菌液散布装置１は、浴室の壁面部に設置されてもよい。例えば、除菌液散布装置１は、壁面部の上部に設置され得る。

また、本発明による実施形態では、ガイド面２５１が浴室の天井面ＳＳへ除菌液の霧を導いたが、ガイド面２５１は、浴室の壁面ＷＳに除菌液の霧を導いてもよい。

また、本発明による実施形態では、水位センサー２４としてフロートスイッチを例示したが、水位センサー２４は、除菌液の水位を検知できる限り、特に限定されない。例えば、水位センサー２４として、測距センサー、又は重量センサーが用いられてもよい。

また、本発明による実施形態では、電極対２２は第２ユニット２０に設けられたが、例えば図２０に示すように、電極対２２は第１ユニット１０に設けられてもよい。図２０は、他の実施形態に係る除菌液散布装置１の断面図である。図２０に示す除菌液散布装置１において、第１ユニット１０は、電極対２２を支持する支持部材１６を備える。支持部材１６は、第１ユニット１０から突出して、電極対２２を水Ｌ又は除菌液の中に浸漬させる。

また、本発明による実施形態では、ガイド面２５１が平坦な傾斜面であったが、ガイド面２５１は、例えば図２１に示すように曲面を含んでもよい。図２１は、更なる他の実施形態に係る除菌液散布装置１の断面図である。

図２１に示す除菌液散布装置１において、収容部２１は、内側に膨らむ側壁を備え、この側壁がガイド部材２５として機能する。換言すると、収容部２１の側壁の内側面が、ガイド面２５１として機能する。なお、図２１に示す除菌液散布装置１において、支持部材１２２は、収容部２１を着脱可能に支持する。

また、本発明による実施形態では、ガイド面２５１が傾斜面であったが、ガイド面２５１は鉛直面を含んでもよい。例えば、除菌液散布装置１が浴室の壁面部に設置される場合、ガイド面２５１は浴室の壁面ＷＳと平行な鉛直面を含み得る。この場合、除菌液の霧は、ガイド面２５１から上方向へ送出されて、浴室の壁面ＷＳに沿って流れる。

本願は、更に以下の付記を開示する。なお、以下の付記は、本発明を限定するものではない。

［付記１］
浴室に除菌液を散布する除菌液散布装置であって、
前記除菌液に超音波振動を与えて、前記除菌液の霧を発生させる超音波発生素子と、
前記除菌液の霧を送風する送風装置と、
送風された前記除菌液の霧が、前記浴室を区画する面のうちの所定の面に沿って流れるように、前記除菌液の霧を前記所定の面に導くガイド面と
を備え、
前記除菌液の霧は、前記ガイド面から、水平方向から上方向にわたって、あるいは、水平方向、斜め上方向又は上方向に送出される、除菌液散布装置。

［付記２］
前記送風装置は、前記除菌液の液面へ向かう風を発生させる、付記１に記載の除菌液散布装置。

［付記３］
溶媒を収容する収容部と、
前記溶媒に浸漬された電極対と
を備え、
前記除菌液は、前記溶媒と、前記溶媒に混合された除菌成分とを含み、
前記電極対に電圧が印加されることにより、前記溶媒内に前記除菌成分が生成される、付記１又は付記２に記載の除菌液散布装置。

［付記４］
前記電極対は、２つの電極を含み、
前記超音波発生素子は、前記２つの電極間の前記除菌液に前記超音波振動を与える、付記３に記載の除菌液散布装置。

［付記５］
前記ガイド面を形成するガイド部材と、
前記ガイド部材を着脱可能に支持する支持部と
を備える、付記１から付記４のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記６］
前記除菌液は、銀イオン又は次亜塩素酸ナトリウムを含む、付記１から付記５のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記７］
前記超音波発生素子は、超音波振動を水に与えて、前記水の霧を発生させ、
前記送風装置は、前記水の霧を送風する、付記１から付記６のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記８］
前記収容部は、前記ガイド面を含む、付記３又は付記４に記載の除菌液散布装置。

［付記９］
前記収容部を着脱可能に支持する支持部を備える、付記８に記載の除菌液散布装置。

［付記１０］
前記超音波発生素子の上方に配置される中空部材と、
前記中空部材の内部に配置されるメッシュ状部材と
を更に備え、
前記中空部材は、前記超音波発生素子に対向する開口を有する、付記１から付記９のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１１］
前記メッシュ状部材は、上方に向かって突出する凸形状を有する、付記１０に記載の除菌液散布装置。

［付記１２］
前記超音波発生素子が前記除菌液に超音波振動を与えると、前記除菌液の液面から、高さが変動する液柱が発生し、
前記メッシュ状部材の最上位面の前記液面からの高さは、前記液柱の標準高さよりも高く、前記液柱の最大高さよりも低い、付記１０又は付記１１に記載の除菌液散布装置。

［付記１３］
前記ガイド面は、傾斜面を含む、付記１から付記１２のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１４］
前記ガイド面は、環状である、付記１から付記１３のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１５］
前記ガイド面は、曲面を含む、付記１から付記１４のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１６］
前記ガイド面は、前記浴室の天井面に前記除菌液の霧を導く、付記１から付記１５のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１７］
前記送風装置の送風量を変化させる制御装置を備える、付記１から付記１６のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１８］
前記除菌液散布装置は、前記浴室の天井部に設置される、付記１から付記１７のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記１９］
前記除菌液散布装置は、前記浴室の壁部に設置される、付記１から付記１７のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記２０］
前記除菌液散布装置は、浴室環境調整装置に設置される、付記１から付記１７のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

［付記２１］
前記除菌液散布装置は、前記浴室の上部に設置される、付記１から付記２０のいずれか１つに記載の除菌液散布装置。

本発明は、浴室を除菌する装置に有用である。

１ 除菌液散布装置
１１ 送風装置
２１ 収容部
２２ 電極対
２３ 超音波発生素子
４０ 制御装置
１００ 浴室環境調整装置
２１０ 送風装置
２２０ 制御装置
２５１ ガイド面
Ｓ 天井部
ＳＳ 天井面
ＷＳ 壁面

Claims (10)

1. 浴室に除菌液を散布する除菌液散布装置であって、
   前記除菌液に超音波振動を与えて、前記除菌液の霧を発生させる超音波発生素子と、
   前記除菌液の霧を送風する送風装置と、
   送風された前記除菌液の霧が、前記浴室を区画する面のうちの所定の面に沿って流れるように、前記除菌液の霧を前記所定の面に導くガイド面と
   を備え、
   前記除菌液の霧は、前記ガイド面から、水平方向から上方向にわたって、あるいは、水平方向、斜め上方向又は上方向に送出される、除菌液散布装置。
2. 前記送風装置は、前記除菌液の液面へ向かう風を発生させる、請求項１に記載の除菌液散布装置。
3. 溶媒を収容する収容部と、
   前記溶媒に浸漬された電極対と
   を備え、
   前記除菌液は、前記溶媒と、前記溶媒に混合された除菌成分とを含み、
   前記電極対に電圧が印加されることにより、前記溶媒内に前記除菌成分が生成される、請求項１又は請求項２に記載の除菌液散布装置。
4. 前記電極対は、２つの電極を含み、
   前記超音波発生素子は、前記２つの電極間の前記除菌液に前記超音波振動を与える、請求項３に記載の除菌液散布装置。
5. 前記ガイド面を形成するガイド部材と、
   前記ガイド部材を着脱可能に支持する支持部と
   を備える、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の除菌液散布装置。
6. 前記除菌液は、銀イオン又は次亜塩素酸ナトリウムを含む、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の除菌液散布装置。
7. 前記超音波発生素子は、超音波振動を水に与えて、前記水の霧を発生させ、
   前記送風装置は、前記水の霧を送風する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の除菌液散布装置。
8. 前記超音波発生素子の上方に配置される中空部材と、
   前記中空部材の内部に配置されるメッシュ状部材と
   を更に備え、
   前記中空部材は、前記超音波発生素子に対向する開口を有する、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の除菌液散布装置。
9. 前記メッシュ状部材は、上方に向かって突出する凸形状を有する、請求項８に記載の除菌液散布装置。
10. 前記超音波発生素子が前記除菌液に超音波振動を与えると、前記除菌液の液面から、高さが変動する液柱が発生し、
    前記メッシュ状部材の最上位面の前記液面からの高さは、前記液柱の標準高さよりも高く、前記液柱の最大高さよりも低い、請求項８又は請求項９に記載の除菌液散布装置。

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