TWI691685B - 浴室環境調整裝置 - Google Patents

Abstract

浴室環境調整裝置(100)，具備：風產生裝置(210)、外裝構件(101)、開閉構件(102)與霧產生裝置(1)。風產生裝置(210)使風產生。外裝構件(101)具有使風送出之第一開口(104)及第二開口(105)。開閉構件(102)相對於第一開口(104)為開閉自如，於關閉狀態時覆蓋第一開口(104)。霧產生裝置(1)使除菌液之霧產生。霧產生裝置(1)對應於第二開口(105)而配置。於開閉構件(102)為關閉狀態時，風產生裝置(210)所產生之風朝向第二開口(105)。藉由朝向第二開口(105)之風，除菌液之霧被進行送風。

Description

浴室環境調整裝置

本發明係關於浴室環境調整裝置。

於專利文獻1揭示有將除菌液散布於浴室而對浴室進行除菌的裝置。詳細而言，於專利文獻1揭示有自設置於浴室的天花板之噴嘴，將除菌液之霧朝向浴室的特定之部位噴出的霧氣產生裝置。具體而言，專利文獻1之霧氣產生裝置中，噴嘴朝向浴缸噴出除菌液之霧。又，專利文獻1之霧氣產生裝置將自噴嘴噴出的除菌液之霧，藉由螺槳風扇而從浴室的天花板面向下方吹出。

又，專利文獻1記載有進行浴室之暖氣、換氣等的浴室空調裝置。專利文獻1之浴室空調裝置中，藉由風扇旋轉，從浴室通過吸入口而進入之空氣經由加熱器部而被加溫，被加溫的暖風自吹出口吹出至浴室。

專利文獻1：日本特開2007-064566號公報

然而，專利文獻1之構成中，必須分別於霧氣產生裝置及浴室空調裝置設置風扇。

本發明是鑒於上述課題而完成，其目的在於提供一種浴室環境調整裝置，該浴室環境調整裝置可將於風產生裝置產生之風用於除菌液之霧的送風，並且也可以切換至除菌液之霧的送風以外之用途。

本發明之浴室環境調整裝置具備風產生裝置、外裝構件、開閉構件與霧產生裝置。該風產生裝置使風產生。該外裝構件具有使該風送出之第一開口及第二開口。該開閉構件相對於該第一開口為開閉自如，於關閉 狀態時覆蓋該第一開口。該霧產生裝置使除菌液之霧產生。該霧產生裝置對應於該第二開口而配置。於該開閉構件為關閉狀態時，藉由朝向該第二開口之該風，對該除菌液之霧進行送風。

根據本發明，可將於風產生裝置產生之風用於除菌液之霧的送風，並且也可以切換至除菌液之霧的送風以外之用途。

1:除菌液散布裝置

21:收容部

22:電極對

23:超音波產生元件

40:控制裝置

100:浴室環境調整裝置

210:送風裝置

220:控制裝置

251:引導面

S:天花板部

SS:天花板面

WS:壁面

圖1係本發明之實施形態1的浴室環境調整裝置之底視圖。

圖2係表示本發明之實施形態1的浴室環境調整裝置之構成的圖。

圖3係放大表示本發明之實施形態1的本體單元之一部分的圖。

圖4係表示本發明之實施形態1的浴室環境調整裝置之風路的圖。

圖5係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之俯視圖。

圖6係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之截面圖。

圖7係表示本發明之實施形態1的除菌液之霧的流動之圖。

圖8的(a)係本發明之實施形態1的第二單元之俯視圖。(b)係本發明之實施形態1的第二單元之底視圖。

圖9係本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之截面圖。

圖10係表示本發明之實施形態1的第二單元自第一單元分離的狀態之圖。

圖11係表示本發明之實施形態1的浴室環境調整裝置之框圖。

圖12係表示本發明之實施形態1的控制裝置所執行的處理之流程圖。

圖13係表示本發明之實施形態1的控制裝置所執行的處理的其他例之流程圖。

圖14的(a)係表示銀離子濃度的時間變化之圖表。(b)係表示銀離子的除菌效果之圖表。

圖15的(a)係表示本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之變形例的圖。(b)係表示本發明之實施形態1的除菌液散布裝置之其他變形例的圖。

圖16係本發明之實施形態2的除菌液散布裝置之截面圖。

圖17係本發明之實施形態3的除菌液散布裝置之正視圖。

圖18係本發明之實施形態3的除菌液散布裝置之截面圖。

圖19係本發明之其他實施形態的除菌液散布裝置的截面圖。

圖20係本發明之又一其他實施形態的除菌液散布裝置的截面圖。

圖21係表示本發明之又一其他實施形態的浴室環境調整裝置之風路的圖。

圖22的(a)係表示本發明之又一其他實施形態的浴室環境調整裝置之風路的圖。(b)係除菌液散布裝置之俯視圖。

以下，參照圖式說明本發明之實施形態。但是，本發明並非限定於以下的實施形態。再者，針對圖中相同或相當部分標註相同的參照符號而不重複進行說明。又，關於說明重複處亦有適當地省略說明之情形。

〔實施形態1〕

圖1係實施形態1的浴室環境調整裝置100之底視圖。浴室環境調整裝置100被設置於浴室之天花板部。如圖1所示，浴室環境調整裝置100具備除菌液散布裝置1。又，浴室環境調整裝置100具備面板101、可動風向板102與霧氣噴嘴203。關於霧氣噴嘴203，參照圖2而於後面敘述。本實施形態中，浴室環境調整裝置100為附霧氣三溫暖之浴室暖氣乾燥裝置。

面板101自浴室之天花板面露出。於面板101形成有吸入口103及吹出口104(第一開口)。吹出口104形成為橫長方形狀。於面板101進而形成有吹出口105(第二開口)。除菌液散布裝置1被配置在對應於面板101之吹出口105的位置。除菌液散布裝置1為使除菌液之霧產生的霧產生裝置。關於除菌液散布裝置1的構成於後面敘述。

可動風向板102被設置於吹出口104(第一開口)。可動風向板102具有對應於吹出口104之形狀。可動風向板102相對於吹出口104為開閉自如。本實施形態中，可動風向板102為旋動自如，藉由可動風向板102旋動，可變更自吹出口104被送出之風的送風方向。又，可動風向板102於浴室環境調整裝置100停止暖氣運轉、乾燥運轉及霧氣三溫暖運轉時閉塞(覆蓋)吹出口104，於浴室環境調整裝置100執行暖氣運轉、乾燥運轉或霧氣三溫暖運轉時開放吹出口104。又，可動風向板102於除菌液散布裝置1進行除菌運轉時閉塞(覆蓋)吹出口104。再者，圖1表示可動風向板102閉塞吹出口104之狀態。

接著參照圖2，針對浴室環境調整裝置100(附霧氣三溫暖之浴室暖氣乾燥裝置)之構成進行說明。圖2係表示實施形態1之浴室環境調整裝置100的構成之圖。

如圖2所示，浴室環境調整裝置100具備本體單元200與熱源機300。本體單元200被設置於浴室的天花板部。熱源機300被設置於屋外。再者，參照圖1進行了說明之面板101作為本體單元200之外裝構件而被安裝於本體單元200。

熱源機300將暖氣用之熱媒及供熱水用水進行加熱。熱源機300具備使暖氣用之熱媒循環的循環泵。暖氣用之熱媒例如為溫水或防凍液。熱源機300連接於供給路301，將供給自供給路301之供熱水用水進行加熱。

本體單元200具備溫水循環流路201、霧氣用通水路202、霧氣噴嘴203、暖氣用熱交換器204、霧氣用熱交換器205、驅動裝置206、送風裝置210、控制裝置220與除菌液散布裝置1。

溫水循環流路201使暖氣用之熱媒於本體單元200與熱源機300之間循環。具體而言，藉由熱源機300所具備之循環泵運作，自暖源機300流出之熱媒流通於溫水循環流路201。詳細而言，熱媒經由暖氣用熱交換器204及霧氣用熱交換器205之此順序，返回熱源機300。

霧氣用通水路202為自供給路301分歧之通水路，使霧氣用之水通過。霧氣用通水路202配設成經由霧氣用熱交換器205而到達霧氣用噴嘴203。霧氣用噴嘴203將供給自霧氣用通水路202之水霧化而對浴室進行噴霧。

本實施形態中，除菌液散布裝置1之供給管13為自供給路301分歧之通水路，藉由打開調整閥15，水自供給路301流入至除菌液散布裝置1之供給管13。再者，於使水自供給路301流入至除菌液散布裝置1之供給管13時，霧氣用通水路202以不使水通過的方式，關閉設置於霧氣用通水路202之電磁閥。

暖氣用熱交換器204與可動風向板102及除菌液散布裝置1對向。暖氣用熱交換器204將自參照圖1進行了說明的吸入口103吸入之空氣轉換為暖風。霧氣用熱交換器205將流通於霧氣用通水路202之水轉換為溫水。

驅動裝置206使可動風向板102於既定之旋轉角度範圍內旋動。驅動裝置206例如為電動馬達。藉由驅動裝置206使可動風向板102旋動，可動風向板102之姿勢從參照圖1進行說明之閉塞吹出口104的姿勢，改變為打開吹出口104的姿勢。又，根據可動風向板102之旋動角度，被供給至浴室的暖風之送風方向改變。

送風裝置210為使風產生之風產生裝置。送風裝置210具備旋轉風扇211與風扇馬達212。風扇馬達212使旋轉風扇211旋轉。旋轉風扇211例如為多翼式送風機(sirocco fan)。

藉由旋轉風扇211旋轉，自參照圖1進行了說明之吸入口103吸入空氣。自吸入口103吸入之空氣，於可動風向板102開放參照圖1進行了說明的吹出口104之情形時，藉由旋轉風扇211之旋轉，經由暖氣用熱交換器204而自吹出口104吹出。另一方面，於可動風向板102閉塞參照圖1進行了說明之吹出口104之情形時，自吸入口103吸入之空氣藉由旋轉風扇211之旋轉，經由暖氣用熱交換器204而向參照圖1進行了說明的吹出口105(第二開口)流動。換言之，空氣向除菌液散布裝置1流動。

控制裝置220進行浴室環境調整裝置100之運轉控制。具體而言，控制浴室環境調整裝置100之暖氣動作、乾燥動作以及霧氣三溫暖動作。進而，控制裝置220控制除菌液散布裝置1之除菌動作。

控制裝置220具備處理器以及半導體記憶體。處理器例如為CPU(Central Processing Unit)或MPU(Micro Processing Unit)。控制裝置220例如具備RAM(Random Access Memory)及ROM(Read Only Memory)作為半導體記憶體。處理器根據儲存於半導體記憶體之控制程式(電腦程式)，執行各種處理。

接著參照圖3，針對本體單元200進一步進行說明。圖3係放大表示本體單元200之一部分的圖。如圖3所示，本體單元200進而具備架體(holder)230。

架體230可旋動地支承可動風向板102。具體而言，可動風向板102具備兩個旋轉軸102a，架體230可旋動地支承兩個旋轉軸102a。兩個旋轉軸 102a之一者與驅動裝置206之輸出軸連接。又，架體230支承除菌液散布裝置1。具體而言，支承除菌液散布裝置1所具備的第一單元10之本體部121。

接著參照圖3，針對實施形態1之除菌液散布裝置1進行說明。如圖3所示，本體部121之蓋體121a具有開口125。本實施形態中，對於除菌液之霧的送風，利用參照圖2說明之浴室環境調整裝置100的送風裝置210。

接著參照圖4，針對本體單元200進一步進行說明。圖4係表示浴室環境調整裝置100之風路的圖。如圖4所示，本體單元200進而具備固定風向板207。固定風向板207使自暖氣用熱交換器204流出之風的方向整合為既定之方向(本實施形態中為下方向)。

又，架體230以除菌液散布裝置1之第一單元10的一部分(下部)從吹出口105(第二開口)突出之方式，支承第一單元10的本體部121。結果，除菌液散布裝置1所具備的第二單元20以位於面板101之下方的方式被支承。

接著參照圖4，針對本實施形態之除菌動作進行說明。於執行除菌動作時，如圖4所示，可動風向板102成為關閉之狀態。結果，自固定風向板207流出之風流入除菌液散布裝置1之第一單元10(本體部121的蓋體121a)所具有的開口125。因此，產生自開口125朝向除菌液之液面流動的風，除菌液之霧藉由除菌液散布裝置1的引導面251而被引導至天花板面。

以下，具體地說明除菌液散布裝置1之構成。圖5為實施形態1之除菌液散布裝置1的俯視圖。如圖5所示，除菌液散布裝置1具有送出口1a。除菌液散布裝置1將除菌液之霧自送出口1a送出，將除菌液散布於浴室。

又，如圖5所示，除菌液散布裝置1具備第一單元10與第二單元20。再者，本實施形態中，送出口1a為形成於第一單元10與第二單元20之間的間隙。

第一單元10具備支承體12、供給管13、水栓14與調整閥15。

支承體12支承第二單元20。本實施形態中，支承體12具備本體部121與複數個支承構件122。

本實施形態中，本體部121具備蓋體121a。較佳為蓋體121a於中央部具有開口125。藉由於蓋體121a之中央部形成開口125，能夠以除菌液散布裝置1為中心，而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。換言之，可抑制除菌液之霧偏向特定的方向而被送出。因此，可將除菌液之霧不偏向特定之方向而送出，對更廣範圍進行除菌。

複數個支承構件122自本體部121向外側突出而支承第二單元20。本實施形態中，本體部121於俯視時為矩形，支承構件122自本體部121的各邊之中心突出。再者，送出口1a形成於本體部121之周圍。詳細而言，送出口1a形成於複數個支承構件122之間。本實施形態中，送出口1a於俯視時為L字狀，除菌液散布裝置1具有4個送出口1a。藉由4個送出口1a，能夠從本體部121之周圍的大致整周送出除菌液之霧。

供給管13將水供給至第二單元20。例如，供給管13供給自來水。水栓14被設置於供給管13。水栓14為可開閉。於水栓14為打開狀態之情形時，供給管13能夠供給水。於水栓14為關閉狀態之情形時，經由供給管13進行之水的供給被阻斷。本實施形態中，水栓14被配置於蓋體121a。調整閥15被設置於供給管13。關於調整閥15，參照圖6於後面敘述。

接著參照圖6，針對除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖6係實施形態1之除菌液散布裝置1的截面圖。詳細而言，圖6表示沿著圖5之VI-VI線的截面。

如圖6所示，支承體12之本體部121具有下面開放之箱形狀，除了蓋體121a外，進而具備壁部121b。壁部121b自蓋體121a之端部往下方突出。 支承構件122連接於壁部121b之下端部。供給管13自支承體12的蓋體121a延伸至第二單元20之內部。

接著參照圖6，針對第二單元20進行說明。第二單元20具備收容部21、電極對22、超音波產生元件23、水位感測器24與引導構件25。再者，參照圖5進行了說明之送出口1a形成於引導構件25之上端與支承體12之本體部121(壁部121b)之間。

收容部21收容溶劑。本實施形態中溶劑為水L。收容部21具有上面開放的箱形狀。再者，本實施形態中，供給管13延伸至收容部21的內側。

電極對22浸漬於溶劑(水L)。本實施形態中，電極對22配置於收容部21之底面。藉由對電極對22施加電壓，於溶劑(水L)中生成除菌成分。結果，於收容部21內生成混合了溶劑(水L)與除菌成分之除菌液。換言之，收容部21收容除菌液。

本實施形態中，除菌成分為銀離子。具體而言，構成電極對22之各電極為由銀單體構成之金屬板。或者，各電極為由板狀之鈦金屬與承載於鈦金屬的表面之一部分或全部之銀構成的金屬板。例如，於將構成電極對22之各電極的板尺寸設為5mm×30mm(厚度0.3mm)，將電極間距離設為3mm，在收容部21收容pH7.6、硬度45mg/L的自來水100mL之情形時，若對電極對22施加DC5V之電壓，則150mA以上且170mA以下之電流流通於電極間，銀離子自陽極溶析。

超音波產生元件23對除菌液施與超音波振動，使除菌液之霧產生。詳細而言，超音波產生元件23配置於收容部21之底面。換言之，超音波產生元件23浸漬於除菌液。超音波產生元件23自液中朝向液面照射超音波。結果，藉由音壓於液面產生噴水狀的液柱，自液柱產生霧(除菌液之霧)。

當除菌液散布裝置1散布除菌液時，收容於收容部21之除菌液的水位(液面之高度)變動。藉由超音波使霧產生之情形時，必須以超音波的節位於液面之方式，調整液面的位置(水位)。

水位感測器24偵測除菌液的液面之位置。調整閥15為可開閉。於調整閥15為打開狀態之情形時，藉由供給管13供給水。於調整閥15為關閉狀態之情形時，經由供給管13之水的供給被阻斷。調整閥15根據水位感測器24之偵測結果進行開閉，以超音波的節位於液面之方式控制經由供給管13進行之水的供給。調整閥15例如為電磁閥。水位感測器24例如為浮控開關。於水位感測器24為浮控開關之情形時，水位感測器24偵測超音波之節是否位於液面。詳細而言，水位感測器24偵測除菌液之水位是否為既定之水位。既定之水位是依據超音波的波長而設定。

引導構件25具有引導面251。具體而言，引導構件25之內側面形成引導面251。引導面251以藉由送風裝置210(圖2)而被送風之除菌液的霧沿著劃分浴室之面中的既定之面流動的方式，將除菌液之霧引導至既定之面。詳細而言，本實施形態中，自送風裝置210(圖2)產生的風朝向除菌液的液面。藉由朝向除菌液的液面之風，除菌液之霧朝向引導面251被進行送風。結果，藉由送風裝置210(圖2)而被送風之除菌液之霧經由引導面251而被引導至既定之面。

本實施形態中，引導面251將除菌液之霧引導至浴室的天花板面。詳細而言，引導構件25自收容部21的側壁之上端朝向外側'往斜上方突出。因此，引導面251為傾斜面，以越遠離收容部21變得越接近面板101之方式傾斜。結果，除菌液之霧自引導面251被往斜上方送出，經由面板101到達浴室之天花板面後，沿著浴室之天花板面流動。換言之，除菌液之霧自送出口1a被往斜上方送出。或者，除菌液之霧自引導面251(送出口1a)從水 平方向遍及至上方向而被送出。再者，存在有除菌液之霧自引導面251(送出口1a)被往水平方向送出的情形。例如，於引導面251之上端與面板101之間的間隙狹窄的情形時，存在有除菌液之霧被往水平方向送出的情形。

接著參照圖7，針對除菌液之霧的流動進行說明。圖7係表示本發明之實施形態1的除菌液之霧的流動之圖。再者，箭頭D1~箭頭D3表示除菌液之霧流動的方向。

如圖7所示，自除菌液散布裝置1被送出的除菌液之霧於沿著面板101流動後，沿著浴室的天花板面SS流動。又，沿著天花板面SS被引導至浴室之壁面WS的除菌液之霧沿著壁面WS往下方流動。

以上，參照圖1~圖7，針對本實施形態之浴室環境調整裝置100進行了說明。根據本實施形態，由於除菌液之霧沿著面板101及浴室的天花板面SS(既定之面的一例)流動，因此可同時對面板101與天花板面SS之更廣範圍進行除菌。進而，根據本實施形態，能夠以除菌液散布裝置1為中心而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。藉此，能夠對天花板面SS之更廣範圍進行除菌。

又，根據本實施形態，沿著天花板面SS被引導至浴室之壁面WS的除菌液之霧沿著壁面WS往下方流動。因此，可將除菌液散布至浴室的壁面WS。

又，根據本實施形態，除菌液之霧朝向面板101被送出，而沿著天花板面SS及壁面WS流動。因此，可抑制於除菌液之噴霧中進入浴室的人吸入除菌液之霧。又，可抑制除菌液附著於進入浴室的人。

接著參照圖8的(a)、圖8的(b)、圖9及圖10，針對本實施形態之除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖8的(a)係實施形態1之第二單元20的俯視圖。圖8的(b)係實施形態1的第二單元20之底視圖。

如圖8的(a)、圖8的(b)所示，第二單元20具有複數個支承孔20a。本實施形態中，引導構件25具有複數個支承孔20a。支承孔20a是貫通引導構件25之貫通孔。複數個支承孔20a形成於與參照圖5進行了說明之複數個支承構件122對應之位置。

又，本實施形態中，引導面251為環狀。藉由引導面251為環狀，能夠以除菌液散布裝置1為中心而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。換言之，能夠抑制除菌液之霧偏向特定的方向而被送出。因此，可將除菌液之霧不偏向特定的方向而送出，對更廣範圍進行除菌。

圖9係實施形態1之除菌液散布裝置1的截面圖。詳細而言，圖9表示沿著圖5之IX-IX線之截面。如圖9所示，第一單元10之支承構件122分別被插入於對應的支承孔20a(圖8的(a)及圖8的(b))。藉由支承構件122被插入於支承孔20a，引導構件25被支承構件122支承。換言之，第二單元20被支承構件122支承。

本實施形態中，支承構件122可裝卸地支承引導構件25。換言之，支承構件122可裝卸地支承第二單元20。具體而言，引導構件25及支承構件122中之至少一者是藉由具有彈性之材料形成。例如，引導構件25及支承構件122中之至少一者可藉由丙烯酸樹脂形成。藉由引導構件25及支承構件122中之至少一者具有彈性，可進行支承構件122對支承孔20a之插拔，其結果，可進行第二單元20之裝卸。

圖10係表示第二單元20自第一單元10分離之狀態的圖。本實施形態中，支承構件122可裝卸地支承第二單元20(引導構件25)。因此，如圖10所示，可容易地將第二單元20自第一單元10分離。換言之，可容易地將第二單元20自浴室環境調整裝置100取下。

如參照圖1及圖2進行了說明般，送風裝置210(圖2)自面板101之吸入口103(圖1)吸入浴室的空氣。結果，藉由來自送風裝置210(圖2)之送風，於收容在收容部21之液體(水L或除菌液)中，容易取入來自外部之灰塵及塵埃。又，於水L為自來水之情形時，有自來水之水垢累積於收容部21之可能性。因此，從衛生面來看，必須定期清洗第二單元20之內側。根據本實施形態，由於能夠將第二單元20自第一單元10分離，因此可容易地清洗第二單元20之內側。

進而，使用銀離子作為除菌液的除菌成分之情形時，恐有因銀離子還原聚集而膠體化，從而有以超音波產生元件23之周圍為中心而產生由銀膠體造成的發黑之虞。由於銀膠體可能引起超音波產生元件23之動作不良，故必須定期清洗收容部21之內側而除去銀膠體。根據本實施形態，由於可將第二單元20自第一單元10分離，故可容易地清洗收容部21之內側。

又，本實施形態中，銀離子自電極對22之陽極溶析。因此，依據除菌液散布裝置1之使用期間，陽極(電極)變小。因此，必須定期地交換電極對22。本實施形態中，電極對22被設置於收容部21。又，可將第二單元20自第一單元10分離。因此，可容易地交換電極對22。

再者，較佳為引導構件25及支承構件122均由具有彈性之材料形成。藉由引導構件25及支承構件122均具有彈性，可更容易地將第二單元20自第一單元10分離。又，於自第一單元10取下第二單元20時，較佳為以水不會自供給管13滴垂之方式關閉水栓14。

接著參照圖11，針對浴室環境調整裝置100進一步進行說明。圖11係實施形態1之浴室環境調整裝置100的框圖。如圖11所示，浴室環境調整裝置100進而具備操作部30以及第一電源裝置41~第四電源裝置44。

操作部30接收使用者之操作。操作部30將根據使用者之操作的信號發送至控制裝置220。操作部30例如設置於浴室的壁面或鄰接於浴室的更衣室之壁面。

本實施形態中，操作部30具備暖氣按鈕31、浴室乾燥按鈕32、霧氣三溫暖按鈕33、除菌按鈕34、停止按鈕35以及顯示器36。又，操作部30具備處理器、半導體記憶體及介面電路。處理器例如為CPU或MPU。操作部30例如具備RAM及ROM作為半導體記憶體。處理器根據儲存於半導體記憶體之控制程式(電腦程式)，執行各種處理。介面電路執行操作部30與控制裝置220之間的通信。再者，控制裝置220也具備執行控制裝置220與操作部30之間的通信之介面電路。

暖氣按鈕31為指示暖氣動作(暖氣運轉)開始的按鈕。即，若使用者按下暖氣按鈕31，則操作部30將指示暖氣動作開始的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示暖氣動作開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行暖氣動作(暖氣運轉)。

浴室乾燥按鈕32為指示乾燥動作(乾燥運轉)開始的按鈕。即，若使用者按下浴室乾燥按鈕32，則操作部30將指示乾燥動作開始的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示乾燥動作開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行乾燥動作(乾燥運轉)。

霧氣三溫暖按鈕33為指示霧氣三溫暖動作(霧氣三溫暖運轉)開始的按鈕。即，若使用者按下霧氣三溫暖按鈕33，則操作部30將指示霧氣三溫暖動作開始的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示霧氣三溫暖動作開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行霧氣三溫暖動作(霧氣三溫暖運轉)。

除菌按鈕34為指示除菌動作開始的按鈕。即，若使用者按下除菌按鈕34，則操作部30將指示除菌動作開始的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示除菌動作開始的信號，則除菌液散布裝置1於既定的期間執行除菌動作。

停止按鈕35為指示各種運旋動作停止的按鈕。例如若使用者於暖氣運轉中按下停止按鈕35，則操作部30將指示暖氣動作(暖氣運轉)停止的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示暖氣動作停止的信號，則浴室環境調整裝置100停止暖氣動作(暖氣運轉)。又，若使用者於除菌動作中按下停止按鈕35，則操作部30將指示除菌動作停止的信號發送至控制裝置220。若控制裝置220接收指示除菌動作停止的信號，則除菌液散布裝置1即便於開始除菌動作後經過既定的期間之前，也停止除菌動作。

顯示器36是藉由處理器而被控制，顯示各種資訊。例如，顯示器36顯示表示正在執行中的運旋動作之消息。又例如，顯示器36顯示除菌動作開始後經過之時間、或至除菌動作結束為止之剩餘時間。

本實施形態中，控制裝置220若自操作部30接收指示除菌動作開始的信號，則以除菌動作被執行之方式，控制第一電源裝置41~第四電源裝置44之動作。

第一電源裝置41被控制裝置220控制，生成使電極對22通電之電壓。詳細而言，控制裝置220以電極對22進行通電至銀離子濃度成為既定之濃度為止之方式，控制第一電源裝置41。

第二電源裝置42被控制裝置220控制，生成使超音波產生元件23驅動之電壓。結果，自超音波產生元件23產生超音波。

第三電源裝置43被控制裝置220控制，生成使風扇馬達212驅動的電壓。結果，參照圖2進行說明之旋轉風扇211旋轉而產生風。再者，較佳 為控制裝置220於除菌動作中使風扇馬達212之轉速周期性地改變，而使送風裝置210(圖2)之送風量周期性地改變。藉由使送風裝置210(圖2)之送風量改變，可使除菌液之霧的飛散距離改變，而使除菌液更均勻地附著於面板101、天花板面SS及壁面WS。

第四電源裝置44被控制裝置220控制，生成使調整閥15驅動之電壓。詳細而言，控制裝置220基於水位感測器24之輸出，以除菌液之水位成為既定的水位之方式控制第四電源裝置44。具體而言，若除菌液之水位藉由除菌動作而下降，則控制裝置220打開調整閥15。結果，如參照圖6進行了說明般，水自供給管13供給至收容部21。又，若除菌液之水位上升至既定的水位，則控制裝置220關閉調整閥15。

接著參照圖11及圖12，針對控制裝置220所執行之處理的流程進行說明。圖12係表示實施形態1之控制裝置220所執行的處理之流程圖。詳細而言，圖12表示於除菌動作時控制裝置220所執行的處理之流程。控制裝置220若自操作部30接收指示除菌動作開始的信號，則開始圖12所示之處理。

如圖12所示，若控制裝置220接收指示除菌動作開始的信號，則首先以銀離子的濃度成為既定之濃度的方式，使電極對22通電(步驟S1)。

控制裝置220於使電極對22通電後，自超音波產生元件23使超音波產生(步驟S2)。又，控制裝置220驅動風扇馬達212，產生對除菌液之霧進行送風的風(步驟S2)。結果，自參照圖5及圖6進行了說明之送出口1a送出除菌液之霧。

若開始送出除菌液之霧，則控制裝置220基於水位感測器24之輸出，判定除菌液之水位是否為既定之水位(步驟S3)。

控制裝置220若判定除菌液之水位為既定之水位(步驟S3之是)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過既定之期間(步驟S4)。

另一方面，控制裝置220若判定為除菌液之水位並非既定之水位(步驟S3之否)，則以除菌液之水位成為既定之水位的方式驅動調整閥15(步驟S5)。換言之，控制裝置220如參照圖6進行了說明般，自供給管13將水供給至收容部21，使除菌液之水位上升至既定之水位。

若除菌液之水位上升至既定之水位，則控制裝置220於關閉調整閥15後，以銀離子的濃度成為既定之濃度的方式使電極對22通電(步驟S6)。控制裝置220於使電極對22通電後，判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過既定期間(步驟S4)。

控制裝置220若判定為未經過既定期間(步驟S4之否)，則處理返回步驟S3之處理。另一方面，控制裝置220若判定為經過既定期間(步驟S4之是)，則結束圖12所示之處理。

以上，參照圖11及圖12，針對控制裝置220所執行之處理的流程進行了說明。根據圖12所示之處理，可將除菌液中之銀離子的濃度維持於既定之濃度，並將除菌液散布於浴室。

接著參照圖11及圖13，針對控制裝置220所執行之其他處理的流程進行說明。圖13係表示實施形態1之控制裝置220所執行的處理之其他例的流程圖。詳細而言，圖13表示於除菌動作時控制裝置220所執行的處理之其他例。控制裝置220若自操作部30接收指示除菌動作開始之信號，則開始圖13所示之處理。以下，針對與圖12所示的處理不同之處進行說明。

如圖13所示，控制裝置220若判定為除菌液之水位為既定之水位(步驟S3之是)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過第一既定期間(步驟S11)。

又，控制裝置220若驅動調整閥15而使除菌液之水位回到既定之水位(步驟S5)，則判定自接收指示除菌動作開始的信號起，是否已經過第二既定期間(步驟S12)。第二既定期間為較第一既定期間更短的期間。

控制裝置220若判定為未經過第二既定期間(步驟S12之否)，則以銀離子之濃度成為既定的濃度之方式使電極對22通電(步驟S6)。另一方面，控制裝置220若判定為經過第二既定期間(步驟S12之是)，則不使電極對22通電。因此，若經過第二既定期間，則每次自供給管13供給水至收容部21時，銀離子之濃度降低。

本實施形態中，第二既定期間設定為於經過第一既定期間前，被收容於收容部21之液體從除菌液回復為一般水L。因此，於經過第一既定期間前，超音波產生元件23對水L施與超音波振動而使水之霧產生，送風裝置210(圖2)對水L之霧進行送風。

以上，參照圖11及圖13，針對控制裝置220所執行的其他處理之流程進行了說明。根據圖13所示之處理，可於使除菌液附著於面板101、天花板面SS及壁面WS後，使水附著於面板101、天花板面SS及壁面WS，使藉由銀離子而得之除菌效果長時間維持。詳細而言，若除菌液乾燥，則銀膠體析出。銀膠體對黴菌或一般細菌之除菌效果小。因此，為了使藉由附著於面板101、天花板面SS及壁面WS的銀離子而得之除菌效果長時間維持，必須防止除菌液之乾燥。相對於此，根據圖13所示之處理，可防止附著於面板101、天花板面SS及壁面WS的除菌液之乾燥。由此，可使藉由附著於面板101、天花板面SS及壁面WS的銀離子而得之除菌效果長時間維持。

進而，若除菌液乾燥而銀膠體析出，則於面板101、天花板面SS及壁面WS產生由銀膠體造成之發黑，外觀變差。相對於此，根據圖13所示之處理，可防止附著於面板101、天花板面SS及壁面WS的除菌液之乾燥。由此，可抑制產生發黑。

再者，圖13所示之處理中，雖接續於除菌液之散布而散布一般水，但亦可自除菌液之散布結束起經過一定期間後散布一般水。此情形時，即使除菌液乾燥而銀膠體析出，也能夠使銀膠體溶解而生成銀離子。又，即使產生發黑，也可以藉由使銀膠體溶解，而使發黑不易明顯。

接著參照圖14的(a)及圖14的(b)，針對電極對22之通電時間進行說明。圖14的(a)係表示銀離子濃度之時間變化的圖表。圖14的(b)係表示銀離子之除菌效果的圖表。

圖14的(a)中，縱軸表示銀離子濃度，橫軸表示經過時間。詳細而言，圖14的(a)表示以如下方式測量出之銀離子濃度：於收容部21收容pH7.6、硬度45mg/L之自來水100mL，且對電極對22施加DC5V之電壓。再者，構成電極對22之各電極的板尺寸設為5mm×30mm(厚度0.3mm)。又，將電極間距離設為3mm。如圖14的(a)所示，銀離子濃度於經過時間為3分鐘時，達到500ppb。又，於經過時間為5分鐘時，銀離子濃度成為1000ppb以上。

圖14的(b)中，縱軸表示除菌率，橫軸表示銀離子濃度。又，圖14的(b)中，×符號之曲線表示金黃色葡萄球菌之除菌率，黑色圓圈符號之曲線表示黑黴菌之除菌率。如圖14的(b)所示，一般細菌(例如金黃色葡萄球菌)可藉由濃度50ppb以上且100ppb以下之銀離子而除菌90%以上。又，黑黴菌(Cladosporium，分枝孢子菌屬)可藉由濃度400ppb以上且500ppb以下之銀離子而除菌90%以上。

因此，藉由使電極對22通電3分鐘左右，可使能夠將一般細菌及黴菌進行除菌之銀離子溶析。

以上，針對實施形態1進行了說明。根據實施形態1，可使除菌液不偏向特定之範圍而均勻地附著於浴室的天花板面SS及壁面WS。又，可使除菌液均勻地附著於浴室環境調整裝置100之面板101。

再者，本實施形態中，引導面251雖為傾斜面，但引導面251亦可包含水平面。例如，引導面251可包含與面板101或天花板面SS平行之水平面。此情形時，除菌液之霧自引導面251朝向水平方向被送出，而沿著面板101及天花板面SS流動。

又，本實施形態中，除菌液散布裝置1雖具有4個L字狀的送出口1a，但送出口1a的數量及形狀並不特別限定。圖15的(a)係表示實施形態1之除菌液散布裝置1的變形例之圖。

如圖15的(a)所示，除菌液散布裝置1可具有複數個圓形狀之送出口1a。具體而言，圖15的(a)所示的除菌液散布裝置1中，複數個圓形狀之送出口1a在支承體12的本體部121之周圍，沿著周方向配置。又，支承體12具備支承引導構件25(第二單元20)之凸緣部124，以取代參照圖5及圖6進行了說明之複數個支承構件122。複數個圓形狀之送出口1a形成於凸緣部124。再者，圖15的(a)所示之除菌液散布裝置1中，存在有除菌液之霧自送出口1a被往上方送出之情形。例如，在送出口1a離凸緣部124之外緣遠之情形時，存在有除菌液之霧被往上方送出的情形。

又，本實施形態中，引導構件25(第二單元20)之外形於俯視時為矩形狀，但引導構件25(第二單元20)之外形形狀並不特別限定。圖15的(b)係表示實施形態1之除菌液散布裝置1之其他變形例的圖。如圖15的(b)所示，引導構件25(第二單元20)之外形也可以於俯視時為圓形狀。 再者，引導構件25之外形為圓形狀之情形時，也可以於引導構件25之內側面與支承體12的凸緣部124之外周面，形成相互對應的螺槽。即，也可以使第二單元20旋轉，使支承體12之凸緣部124支承引導構件25。

又，本實施形態中，支承體12之本體部121於俯視時為矩形狀，但本體部121之外形形狀並不特別限定。例如如圖15的(b)所示，本體部121之外形也可以於俯視時為圓形狀。

〔實施形態2〕

接著參照圖16針對本發明之實施形態2進行說明。但是，說明與實施形態1不同之事項，省略針對與實施形態1相同之事項的說明。實施形態2中的電極對22之位置與實施形態1不同。

圖16係實施形態2之除菌液散布裝置1之截面圖。如圖16所示，第二單元20具備與收容部21之內側面連接的支承構件26。支承構件26支承電極對22。詳細而言，支承構件26以電極對22位於超音波產生元件23之正上方的方式，支承電極對22。藉由電極對22位於超音波產生元件23之正上方，可對構成電極對22之兩個電極間的除菌液施予超音波振動。

以上，針對實施形態2進行了說明。根據實施形態2，可對兩個電極間的除菌液施予超音波振動。因此，可使兩個電極間的除菌液擺動，抑制銀膠體附著於電極。

〔實施形態3〕

接著參照圖17及圖18，針對本發明之實施形態3進行說明。但是，說明與實施形態1及2不同之事項，省略針對與實施形態1及2相同之事項的說明。實施形態3中的除菌成分與實施形態1及2不同。具體而言，實施形態3之除菌成分為次氯酸鈉。

圖17係實施形態3之除菌液散布裝置1之正視圖。如圖17所示，實施形態3中，支承體12之本體部121具有食鹽之投入口123。具體而言，投入口123為貫通本體部121之壁部121b之貫通孔。若使用者自投入口123投入食鹽，則食鹽落下至收容部21。再者，所投入之食鹽較佳為具有易於自投入口123投入之形狀的塊狀物。例如，食鹽較佳為岩鹽或食鹽粒。

圖18係實施形態3之除菌液散布裝置1的截面圖。本實施形態中，電極對22包含兩個鉑電極。如參照圖17進行了說明般，若使用者自投入口123投入食鹽，則食鹽落下至收容部21，於水L中溶解。若以食鹽溶存(溶解)於水L中之狀態對電極對22通電，則生成氯系之除菌成分。詳細而言，對電極對22通電而進行電解，藉此生成次氯酸鈉水。

接著參照圖11、圖17、圖18，針對實施形態3之除菌液散布裝置1的動作進行說明。使用者於除菌動作開始前自投入口123投入既定之量的食鹽。之後，使用者按下操作部30之除菌按鈕34，使除菌液散布裝置1執行除菌動作。

控制裝置220若自操作部30接收指示除菌動作開始之信號，則驅動調整閥15，將既定量之原水L注入至收容部21內，使食鹽溶解。再者，食鹽之添加量較佳為0.1重量%以上且5重量%以下。

控制裝置220若將既定量之原水L注入至收容部21內，則使電極對22通電。結果，於收容部21內進行電解。例如，在對於構成電極對22之各電極使用直徑1mm、長度30mm之鉑塗層鈦電極，將電極間距離設為3mm，將1g之食鹽投入收容部21內並且將100ml之原水L注入至收容部21內之情形，換言之，在食鹽之添加量為1重量%之情形時，若對電極對22施加DC5V之電壓，則150mA以上且170mA以下之電流流通於電極間而進行電解，次氯酸的濃度增加，於1分鐘左右之電解可生成約10ppm之次氯酸鈉。

詳細而言，於電極對22之陽極生成氫離子(H⁺)。又，產生氧氣及氯氣(式(1)及式(2))。

H₂O→(1/2)O₂↑+2H⁺+2e^-...式(1)

2Cl→Cl₂+2e^-...式(2)

氯氣容易溶於水，如式(3)及式(4)所示，於水中轉變為次氯酸及次氯酸離子。

因此，藉由進行電解，可生成使次氯酸鈉之濃度增加的除菌水。再者，次氯酸鈉的濃度較佳為有效氯濃度5ppm以上且未達50ppm。有效氯濃度較佳為5ppm以上之原因在於，能夠將黴菌等有孢子菌於游離狀態進行除菌之最低濃度為有效氯濃度5ppm。又，有效氯濃度較佳為未達50ppm之原因在於，若有效氯濃度成為50ppm以上，則變得容易從除菌液之霧感受到氯臭味。

控制裝置220於使電極對22通電後，如於實施形態1中進行了說明般，使超音波自超音波產生元件23產生。又，控制裝置220驅動風扇馬達212，使對除菌液之霧進行送風的風產生。結果，除菌液之霧自送出口1a被送出。

以上，針對實施形態3進行了說明。根據本實施形態，可藉由超音波元件將次氯酸水霧化，利用來自送風裝置210(圖2)之送風，將次氯酸水之霧經由引導面251而自送出口1a送出。因此，與實施形態1同樣地，也可以使除菌液不偏向特定之範圍，均勻地附著於面板101、天花板面SS及壁面WS。

再者，本實施形態中，針對自投入口123投入食鹽之形態進行了說明，但亦可經由實施形態1中所說明之送出口1a投入食鹽。

以上，針對本發明之實施形態一邊參照圖式一邊進行了說明。根據本實施形態，可利用浴室環境調整裝置100之送風裝置210(圖2)，對除菌液之霧進行送風。換言之，可將於送風裝置210產生之風用於除菌液之霧的送風，並且也可以切換至除菌液之霧的送風以外之用途。再者，本發明並非限定於上述之實施形態，可於不脫離其要旨之範圍內在各種態樣中實施。

例如，本發明之實施形態中，浴室環境調整裝置100為附霧氣三溫暖之浴室暖氣乾燥裝置，但浴室環境調整裝置100也可以為浴室暖氣乾燥裝置、浴室暖氣裝置或浴室乾燥裝置。

又，本發明之實施形態中，浴室環境調整裝置100被設置於浴室的天花板部，但浴室環境調整裝置100也可以設置於浴室的壁面部。例如，浴室環境調整裝置100可被設置於壁面部之上部。

又，本發明之實施形態中，引導面251將除菌液之霧引導向浴室之天花板面SS，但引導面251也可以將除菌液之霧引導至浴室的壁面WS。

又，本發明之實施形態中，例示浮控開關作為水位感測器24，但水位感測器24只要可偵測除菌液之水位，則並不特別限定。例如，作為水位感測器24，也可以使用測距感測器或重量感測器。

又，本發明之實施形態中，電極對22被設置於第二單元20，但例如圖19所示般，電極對22也可以被設置於第一單元10。圖19係其他實施形態之除菌液散布裝置1的截面圖。圖19所示之除菌液散布裝置1中，第一單元10具備支承電極對22之支承構件16。支承構件16自第一單元10突出，使電極對22浸漬於水L或除菌液中。

又，本發明之實施形態中，引導面251為平坦的傾斜面，但引導面251也可以例如如圖20所示般包含曲面。圖20係又一其他實施形態之除菌液散布裝置1的截面圖。

圖20所示之除菌液散布裝置1中，收容部21具備往內側膨脹的側壁，該側壁作為引導構件25而發揮功能。換言之，收容部21之側壁的內側面作為引導面251而發揮功能。再者，圖20所示之除菌液散布裝置1中，支承構件122可裝卸地支承收容部21。

又，本發明之實施形態中，引導面251為傾斜面，但引導面251亦可包含鉛直面。例如，於浴室環境調整裝置100被設置於浴室的壁面部之情形時，引導面251可包含與浴室之壁面WS平行的鉛直面。此情形時，除菌液之霧自引導面251向上方向被送出，沿著浴室的壁面WS流動。

又，參照圖4、圖6、圖9、圖16、圖18~圖20而於以上敘述之說明中，除菌液散布裝置1具備引導除菌液之霧的流動方向之引導面251，但除菌液散布裝置1也可以不具備引導面251。例如，收容部21具備直立設置於垂直方向且上端與面板101對向之側壁，除菌液之霧可自收容部21之上端與面板101之間的間隙被送出。

又，參照圖4、圖6、圖9、圖16、圖18~圖20而於以上敘述之說明中，於引導構件25或收容部21之內側面形成引導面251，但例如圖21所示，亦可於收容部21之外側面形成引導面251。圖21所示之除菌液散布裝置1具備收容部21、電極對22、超音波產生元件23與水位感測器24。例如除菌液散布裝置1是在面板101中可動風向板102以外之處被支承。

收容部21收容溶劑。本實施形態中溶劑為水L。收容部21具有上面開放的箱形狀。電極對22浸漬於溶劑(水L)。本實施形態中，電極對22配置於收容部21之底面。藉由對電極對22施加電壓，於溶劑(水L)中生成 除菌成分。結果，於收容部21內生成混合了溶劑(水L)與除菌成分之除菌液。換言之，收容部21收容除菌液。

與圖4、圖6、圖9、圖16、圖18~圖20所示之除菌液散布裝置1不同，本實施形態之除菌液散布裝置1中，引導面251形成於收容部21之外側面。被送至收容於收容部21之除菌液的液面之風，於靠近除菌液後，返回面板101之內側，沿著收容部21之外側面(引導面251)流動，自吹出口105擴散至面板101之外部。

又，參照圖4、圖6、圖9、圖16、圖18~圖21而於上敘述之說明中，除菌液散布裝置1具備超音波產生元件23，但本發明並非限定於此。除菌液散布裝置1亦可不具備超音波產生元件23。

圖22的(a)係表示浴室環境調整裝置100之風路的圖。除菌液散布裝置1具備平板部21A。例如平板部21A是在面板101中可動風向板102以外之處被支承。

於供給管13的前端設置有噴霧噴嘴13A。噴霧噴嘴13A被配置於平板部21A之上。又，於供給管13設置有調整閥15，並且於調整閥15之上游側設置有銀離子產生部15A。銀離子產生部15A使銀離子產生於流動於供給管13之水L中。結果，銀離子產生部15A中生成除菌液，除菌液從供給管13被供給至噴霧噴嘴13A。噴霧噴嘴13A使供給自供給管13之除菌液成為霧狀而噴出。

圖22的(b)為除菌液散布裝置1之俯視圖。如圖22的(b)所示，較佳為複數個噴霧噴嘴13A配置成等間隔地朝向複數個方向。藉由複數個噴霧噴嘴13A等間隔地朝向複數個方向，能夠以除菌液散布裝置1為中心而將除菌液之霧自除菌液散布裝置1放射狀地送出。換言之，可抑制除菌液之 霧偏向特定方向而被送出。因此，可不偏向特定方向而送出除菌液之霧，對更廣的範圍進行除菌。

本案進而揭示以下之附註。再者，以下之附註並非限定本發明之內容。

〔附註1〕

一種浴室環境調整裝置，具備：風產生裝置，使風產生；外裝構件，具有使該風送出之第一開口及第二開口；開閉構件，相對於該第一開口為開閉自如，於關閉狀態時覆蓋該第一開口；與霧產生裝置，使除菌液之霧產生；該霧產生裝置對應於該第二開口而配置，於該開閉構件為關閉狀態時，藉由朝向該第二開口之該風，對該除菌液之霧進行送風。

〔附註2〕

如附註1記載的浴室環境調整裝置，該霧產生裝置具備將該除菌液之霧送至水平方向或斜上方向的引導面，該引導面被配置於該外裝構件之外側，於該引導面與該外裝構件之間，形成該除菌液之霧流出的間隙。

〔附註3〕

如附註2記載的浴室環境調整裝置，該霧產生裝置具備：引導構件，形成該引導面；以及支承部，可裝卸地支承該引導構件。

〔附註4〕

如附註1至附註3中任一者記載的浴室環境調整裝置，該霧產生裝置具備：收容部，收容溶劑；與電極對，浸漬於該溶劑；該除菌液含有該溶劑與混合於該溶劑的除菌成分，藉由對該電極對施加電壓，於該溶劑內生成該除菌成分。

〔附註5〕

如附註4記載的浴室環境調整裝置，該霧產生裝置具備對該除菌液施與超音波振動而使該除菌液之霧產生的超音波產生元件。

〔附註6〕

如附註5記載的浴室環境調整裝置，該電極對含有兩個電極，該超音波產生元件對該兩個電極間之該除菌液施與該超音波振動。

〔附註7〕

如附註5或附註6記載的浴室環境調整裝置，該超音波產生元件對水施與超音波振動，使該水之霧產生，於該開閉構件為關閉狀態時，藉由朝向該第二開口之該風，該水之霧被進行送風。

〔附註8〕

如附註4至附註7中任一者記載的浴室環境調整裝置，該風產生裝置所產生之該風，於該開閉構件為關閉狀態時，朝向該除菌液之液面。

〔附註9〕

如附註1至附註8中任一者記載的浴室環境調整裝置，該除菌液含有銀離子或次氯酸鈉。

〔附註10〕

如附註1或附註2記載的浴室環境調整裝置，該霧產生裝置具備： 收容部，收容溶劑；電極對，浸漬於該溶劑；與支承部，可裝卸地支承該收容部；該除菌液含有該溶劑與混合於該溶劑的除菌成分，藉由對該電極對施加電壓，於該溶劑內生成該除菌成分。

〔附註11〕

如附註1至附註10中任一者記載的浴室環境調整裝置，具備使該送風裝置的送風量改變之控制裝置。

〔附註12〕

如附註2記載的浴室環境調整裝置，該引導面包含傾斜面。

〔附註13〕

如附註2或附註12記載的浴室環境調整裝置，該引導面為環狀。

〔附註14〕

如附註2、附註12或附註13記載的浴室環境調整裝置，該引導面包含曲面。

本發明對於對浴室進行除菌之裝置有用。

1:浴室環境調整裝置

20:第二單元

100:浴室環境調整裝置

101:面板

102:可動風向板(關閉構件)

103:吸入口

104:吹出口(第一開口)

105:吹出口(第二開口)

203:霧氣噴嘴

Claims (7)

1. 一種浴室環境調整裝置，其特徵在於，具備：風產生裝置，使風產生；外裝構件，從浴室的天花板面露出，且具有使該風送出之第一開口及第二開口；開閉構件，設於該第一開口，且相對於該第一開口為開閉自如；與霧產生裝置，使除菌液之霧產生；該霧產生裝置對應於該第二開口而配置，於該開閉構件為打開狀態時，該開閉構件以能夠將自該第一開口送出之該風之送風方向變更的方式而開閉自如；於該開閉構件為關閉狀態時，藉由朝向該第二開口之該風，對該除菌液之霧進行送風。
2. 如申請專利範圍第1項的浴室環境調整裝置，其中，該霧產生裝置係自該第二開口向下方突出。
3. 如申請專利範圍第2項的浴室環境調整裝置，其中，該開閉構件以旋轉軸為中心而旋動自如；該開閉構件於打開狀態時，自該第一開口送出之該風之送風方向主要係與該旋轉軸延伸的方向正交的方向；該霧產生裝置係相對於該開閉構件，於該開閉構件為打開狀態時，位於與自該第一開口送出該風的主側為不同的側。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項的浴室環境調整裝置，其中，該霧產生裝置具備將該除菌液之霧送至水平方向或斜上方向的引導面，該引導面被配置於該外裝構件之外側，於該引導面與該外裝構件之間，形成該除菌液之霧流出的間隙。
5. 如申請專利範圍第4項的浴室環境調整裝置，其中，該霧產生裝置具備：引導構件，形成該引導面；以及支承部，可裝卸地支承該引導構件。
6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項的浴室環境調整裝置，其中，該霧產生裝置具備：收容部，收容溶劑；與電極對，浸漬於該溶劑；該除菌液含有該溶劑與混合於該溶劑的除菌成分，藉由對該電極對施加電壓，於該溶劑內生成該除菌成分。
7. 如申請專利範圍第6項的浴室環境調整裝置，其中，該霧產生裝置具備對該除菌液施與超音波振動而使該除菌液之霧產生的超音波產生元件。

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