TWI840491B - 除菌液散布裝置以及包括其的浴室環境調整裝置 - Google Patents

Abstract

提供能夠抑制除菌液向水槽之外飛散的除菌液散布裝置。除菌液散布裝置1包括送出口1a、水槽26、超音波產生元件23、限制部5。水槽26收容除菌液。水槽26是上端26t位於比送出口1a更上方。超音波產生元件23對除菌液賦予超音波振動，以相對於液面Ls傾斜的方式使除菌液的液柱Lp產生。限制部5限制除菌液向水槽26之外飛散。超音波產生元件23使液柱Lp產生，藉此使霧產生。

Description

除菌液散布裝置以及包括其的浴室環境調整裝置

本發明是關於除菌液散布裝置以及包括其的浴室環境調整裝置。

已知對液體照射超音波振動藉此使霧產生的技術。例如，在專利文獻1，揭示了以使霧化量提升為目的的超音波霧化單元。在專利文獻1揭示的超音波霧化單元將超音波振動子的振動面相對於水槽的底面傾斜而配置。

[專利文獻1]日本特許公開公報「實開昭62-143131號公報」。

然而，若使超音波振動子的振動面相對於水槽的底面傾斜而配置，則液柱相對於液面傾斜而產生，有從液柱落下的液體的一部分向水槽的外部飛散的疑慮。

本發明是鑑於上述課題而成者，其目的在於，提供能夠抑制除菌液向水槽之外飛散的除菌液散布裝置以及浴室環境調整裝置。

本發明的除菌液散布裝置散布除菌液。該除菌液散布裝置包括：送出口、水槽、超音波產生元件、以及限制部。水槽收容該除菌液。該水槽是上端位於比該送出口更上方。該超音波產生元件是以對該除菌液賦予超音波振動，相對於該除菌液的液面傾斜的方式使該除菌液的液柱產生。該限制部限制該除菌液向該水槽之外飛散。該超音波產生元件使該液柱產生，藉此使該霧產生。

根據本發明，能夠抑制除菌液向水槽之外飛散。

以下，參照圖式而說明本發明的實施方式。但是，本發明不是限定為以下的實施方式者。另外，圖中，對於相同或者相當部分賦予相同的參照符號且不重複說明。又，針對重複說明的位置也有省略適當說明的情況。

[實施方式1] 首先，參照圖1，針對實施方式1的除菌液散布裝置1進行說明。圖1是表示實施方式1的除菌液散布裝置1的圖。除菌液散布裝置1使除菌液的霧產生，例如，在如浴室般的室內散布除菌液。在本實施方式中，除菌液散布裝置1配置在浴室。

如圖1所示，浴室包含天花板部C以及壁面部W。天花板部C包含天花板面CS。壁面部W包含壁面WS。在本實施方式中，除菌液散布裝置1配置在天花板部C的天花板面CS。

除菌液散布裝置1包括第一單元10、第二單元20。又，除菌液散布裝置1包含開口1a。開口1a形成在第一單元10與第二單元20之間。開口1a設置在比天花板面CS更下方。除菌液的霧從開口1a的至少一部分被送出。換言之，開口1a的至少一部分作為除菌液的霧的送出口發揮功能。

從開口1a送出的除菌液的霧，如以第一箭頭D1、以及第二箭頭D2所示，沿著天花板面CS向水平方向流動。又，沿著天花板面CS被導引到浴室的壁面WS的除菌液的霧，如以第三箭頭D3所示般，沿著壁面WS向下方流動。

接著，參照圖2，針對實施方式1的除菌液散布裝置1的構成進行說明。圖2是實施方式1的除菌液散布裝置1的俯視圖。

如圖2所示，第一單元10包括送風裝置11、支撐體12、供應管13、水龍頭(faucet)14、調整閥15。送風裝置11是第一送風裝置的例子。

送風裝置11使風產生。送風裝置11包括複數枚葉片111、風扇馬達112。風扇馬達112使複數枚葉片111旋轉。在本實施方式中，複數枚葉片111以向上下方向延伸的軸心RX為中心旋轉。換言之，從送風裝置11產生的風的朝向是相對於液面Ls大致正交。送風裝置11是例如DC風扇。在送風裝置11是DC風扇的情況，風扇馬達112的轉速的調整變得容易。換言之，送風裝置11的送風量的調整變得容易。

支撐體12支撐送風裝置11以及第二單元20。在本實施方式中，支撐體12包括本體部121、複數個支撐部件122。

本體部121支撐送風裝置11。本體部121包括蓋體121a。蓋體121a支撐送風裝置11。在本實施方式中，蓋體121a是俯視大致矩形形狀，在中央部支撐送風裝置11。

複數個支撐部件122從本體部121朝向下方突出。複數個支撐部件122裝卸自如地支撐第二單元20。複數個支撐部件122的各個具有彈性力。複數個支撐部件122的各個嵌入至設置在第二單元20的嵌合孔，藉此支撐第二單元20。另外，開口1a形成在本體部121的周圍。詳細而言，在複數個支撐部件122之間形成開口1a。

供給管13對第二單元20供給水。例如，供給管13供給自來水。水龍頭14設置在供給管13。水龍頭14為可開關。在水龍頭14為開啟狀態的情況，供給管13能夠供給水。在水龍頭14為關閉狀態的情況，切斷藉由供給管13的水的供給。在本實施方式中，水龍頭14配置在蓋體121a。調整閥15設置在供給管13。針對調整閥15，參照圖3並於後述。

接著參照圖3，針對除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖3是實施方式1的除菌液散布裝置1的剖面圖。詳細而言，圖3是表示沿著圖2的III-III線的剖面。如圖3所示，第一單元10設置在浴室的天花板部C。

接著參照圖3，針對第一單元10進一步進行說明。如圖3所示，支撐體12的本體部121具有下表面被敞開的箱形狀，除了蓋體121a之外還包括壁部121b。壁部121b從蓋體121a的端部向下方突出。支撐部件122連接到壁部121b的下端部。送風裝置11將從本體部121的外側吸入的空氣朝向第二單元20送。供給管13從支撐體12的蓋體121a延伸到第二單元20的內部。

接著參照圖3，針對第二單元20進行說明。第二單元20包括收容部21、電極對22、超音波產生元件23、水位感測器24、第一導引部件25、水槽26。另外，開口1a形成在第一導引部件25的上端與支撐體12的壁部121b之間。

收容部21具有上表面被敞開的箱形狀。在本實施方式中，收容部21是俯視大致矩形形狀。收容部21的外形尺寸比水槽26的外形尺寸大。收容部21的外形形狀是與水槽26的外形形狀大致相同。若在收容部21收容水槽26，則在收容部21與水槽26之間形成霧流通空間S。在本實施方式中，霧流通空間S沿著水槽26的外緣平均地形成。換言之，水槽26配置在收容部21的大致正中間。霧流通空間S與開口1a連通。

水槽26收容溶劑。在本實施方式中溶劑是水L。水槽26的上端26t位於比開口1a更上方。水槽26具有上表面被敞開的箱形狀。水槽26是俯視大致矩形形狀，包含四個槽壁部。四個槽壁部構成水槽26的外緣。另外，供給管13延伸到四個槽壁部(水槽26)的內側。

電極對22浸漬在溶劑(水L)。在本實施方式中，電極對22配置在水槽26的地板面。對電極對22施加電壓，藉此在溶劑(水L)之中產生除菌成分。其結果，溶劑(水L)與除菌成分被混合的除菌液在水槽26內產生。換言之，水槽26收容除菌液。

在本實施方式中，除菌成分是銀離子。具體而言，構成電極對22的各電極是包含銀單體的金屬板。或者，各電極是包含板狀的鈦金屬、以及被擔持在鈦金屬的表面的一部分或者全部的銀的金屬板。例如，將構成電極對22的各電極的板尺寸設為5mm×30mm(厚度0.3mm)，將電極間距離設為3mm，在收容部21收容了100ml pH7.6、硬度45mg/L的自來水的情況，若對電極對22施加DC5V的電壓，則150mA以上170mA以下的電流流過電極間，從陽極析出銀離子。

超音波產生元件23對除菌液賦予超音波振動，使除菌液的霧產生。詳細而言，超音波產生元件23包含壓電元件23a、基座部件23b。壓電元件23a對除菌液賦予超音波振動。壓電元件23a包含振動面231。基座部件23b以振動面231相對於水槽26的地板面傾斜的方式支撐壓電元件23a。相對於水槽26的地板面的振動面231的第一傾斜角度α1是例如7度以上10度以下。另外，超音波的頻率是，例如，1.6MHz。

在本實施方式中，基座部件23b配置在水槽26的地板面。基座部件23b包含收容空間232。收容空間232是上表面被敞開。壓電元件23a以振動面231朝向收容空間232的上表面側的方式，配置在收容空間232。又，壓電元件23a以振動面231相對於水槽26的地板面傾斜的方式，配置在收容空間232。具體而言，壓電元件23a成為相對於水槽26的地板面傾斜的姿勢。

詳細而言，基座部件23b是，在收容空間232之中，與壓電元件23a的振動面231側為相反側的部分，以抑制水L以及除菌液流入的方式，支撐壓電元件23a。以下，將收容空間232之中，與壓電元件23a的振動面231側為相反側的部分記載為「壓電元件23a的背面側的空間」。例如，基座部件23b，在構成收容空間232的壁部，包含嵌合壓電元件23a的外周部的環狀的溝部。環狀的溝部是傾斜的，壓電元件23a的外周部嵌合在溝部，藉此壓電元件23a以傾斜的姿勢被支撐在基座部件23b。又，壓電元件23a的外周部嵌合在溝部，藉此抑制水L以及除菌液流入壓電元件23a的背面側的空間。

超音波產生元件23從液中朝向液面Ls照射超音波。其結果，藉由音壓在液面Ls以噴水狀的液柱Lp相對於液面Ls傾斜的方式產生，從液柱Lp產生霧(除菌液的霧)。另外，相對於液面Ls的液柱Lp的第二傾斜角度α2是，例如，80度以上85度以下。以下，將液柱Lp傾斜的方向之中的水平方向記載為「傾斜方向WD1」。

送風裝置11使風產生。在本實施方式中，送風裝置11使朝向液面Ls的風產生，藉此將從液柱Lp產生的霧朝向霧流通空間S送。其結果，霧通過霧流通空間S，從開口1a被送出。換言之，除菌液被散布。

另外，以下，將水槽26所包含的四個槽壁部之中，位於比液柱Lp產生的位置更為傾斜方向WD1的下游側的槽壁部設為「第一槽壁部261」，將相對於第一槽壁部261隔著液柱Lp對向的槽壁部設為「第二槽壁部262」而說明實施方式。又，將除菌液散布裝置1的第一槽壁部261側的端部設為「後端部1b」，將其相反側的端部設為「前端部1f」而說明實施方式。進一步，將除菌液散布裝置1的前端部1f側設為「除菌液散布裝置1的前側」，將其相反側設為「除菌液散布裝置1的後側」而說明實施方式。在本實施方式中，在後端部1b，設置有第一限制部件51。因此，從後端部1b側的開口1a送出的霧量比從前端部1f側的開口1a送出的霧量少。換言之，從前端部1f側的開口1a送出的霧量比從後端部1b側的開口1a送出的霧量多。另外，除菌液散布裝置1的後端部1b是第一側部的例子，除菌液散布裝置1的前端部1f是第二端部的例子。

若除菌液散布裝置1散布除菌液，則被收容在水槽26的除菌液的水位(液面Ls的高度)變動。在藉由超音波使霧產生的情況，有以超音波的調(tune)位於液面Ls的方式，調整液面Ls的位置(水位)的必要。

水位感測器24偵測除菌液的液面Ls的位置。調整閥15為可開關。在調整閥15為開啟狀態的情況，藉由供給管13供給水。在調整閥15為關閉狀態的情況，切斷藉由供給管13的水的供給。調整閥15基於水位感測器24的偵測結果開關，以超音波的調位於液面Ls的方式，控制藉由供給管13的水的供給。調整閥15是例如電磁閥。水位感測器24是例如浮標開關(float switch)。在水位感測器24是浮標開關的情況，水位感測器24偵測超音波的調是否位於液面Ls。詳細而言，水位感測器24偵測除菌液的水位是否為既定的水位。既定的水位是與超音波的波長相應而設定。既定的水位是，例如，調整為從振動面231起30mm以上40mm以下。

第一導引部件25包含導引面251。在本實施方式中，第一導引部件25的上表面形成導引面251。導引面251向大致水平方向延伸。導引面251將從開口1a送出的除菌液的霧向除菌液散布裝置1的外部引導。

又，除菌液散布裝置1還包括限制部5。限制部5限制除菌液向水槽26之外飛散。詳細而言，限制部5限制從液柱Lp落下的除菌液向水槽26之外飛散。限制部5相對於液柱Lp設置在傾斜方向WD1的下游側。

在本實施方式中，限制部5包含第一限制部件51。第一限制部件51是側視大致矩形形狀的板狀的部件，包含限制面511以及背面512。限制面511是，第一限制部件51所包含的兩個主面之中，與液柱Lp對向的側的面。背面512是與限制面511為相反側的面。換言之，背面512是，第一限制部件51所包含的兩個主面之中，離液柱Lp遠的側的面。另外，在除菌液散布裝置1的左右方向中，第一限制部件51的長度是水槽26的長度以上，未滿收容部21的長度。左右方向中的第一限制部件51的長度為水槽26的長度以上，藉此抑制第一限制部件51沉沒在除菌液。由此，確保第一限制部件51與液面Ls之間的間隙。

限制面511限制除菌液向水槽26之外飛散。詳細而言，限制面511抑制從液柱Lp落下的除菌液向水槽26之外飛散。

第一限制部件51是以限制面511成為比第一槽壁部261更內側的方式設置。換言之，第一限制部件51是以限制面511成為比水槽26的外緣更內側的方式設置。在本實施方式中，第一限制部件51是以限制面511相對於液面Ls大致正交的方式配置。

第一限制部件51配置在比液面Ls更上方。詳細而言，限制面511的下端位於比液面Ls更上方。在本實施方式中，第一限制部件51配置在比水槽26的上端26t更上方。因此，即便在被收容在水槽26的除菌液成為滿水的情況，也在第一限制部件51與液面Ls之間確保間隙。由此，能夠抑制從後端部1b側的開口1a送出的霧量的下降。因此，能夠謀求從後端部1b側的開口1a送出的霧量與從前端部1f側的開口1a送出的霧量的平均化。

第一限制部件51包含下端51u以及上端51t。另外，下端51u是比上端51t更接近液面Ls。下端51u位於比液面Ls更上方。在本實施方式中，下端51u與水槽26的上端26t連接。詳細而言，下端51u是，與水槽26所包含的四個槽壁部之中，在左右方向中對向的兩個槽壁部的上端26t連接。上端51t連接到本體部121。上端51t是，例如，被固定在本體部121。

接著參照圖4，針對除菌液散布裝置1進一步進行說明。圖4是實施方式1的除菌液散布裝置1的方塊圖。如圖4所示，除菌液散布裝置1還包括操作部30、控制裝置40、以及第一電源裝置41~第四電源裝置44。

操作部30接受使用者的操作。操作部30將與使用者的操作相應的信號發送到控制裝置40。操作部30是，例如，設置在浴室的壁面、或者與浴室相鄰的更衣間的壁面。

在本實施方式中，操作部30包括除菌按鈕31、停止按鈕32、以及顯示器33。又，操作部30包括處理器、半導體記憶體以及介面電路。處理器是，例如，CPU(Central Processing Unit)或者MPU(Micro Processing Unit)。操作部30包括，作為半導體記憶體，例如，RAM(Random Access Memory)以及ROM(Read Only Memory)。處理器是按照被記憶在半導體記憶體的控制程式(電腦程式)，執行各種的處理。介面電路執行操作部30與控制裝置40之間的通信。

除菌按鈕31是指示除菌動作的開始的按鈕。即，若使用者按下除菌按鈕31，則操作部30將指示除菌動作的開始的信號發送到控制裝置40。若控制裝置40接收指示除菌動作的開始的信號，則除菌液散布裝置1在既定的期間，執行除菌動作(除菌液散布處理)。

停止按鈕32是指示除菌動作的停止的按鈕。即，若使用者按下停止按鈕32，則操作部30將指示除菌動作的停止的信號發送到控制裝置40。若控制裝置40接收指示除菌動作的停止的信號，則除菌液散布裝置1即便是從開始除菌動作之後，經過既定的時間前，也停止除菌動作。

顯示器33由處理器控制，顯示各種的資訊。例如，顯示器33是，在除菌液散布裝置1執行除菌動作的情況，顯示表示執行除菌動作的訊息。又例如，顯示器33顯示從除菌動作開始之後經過了的時間、或者、到除菌動作結束的剩餘時間。

控制裝置40控制除菌液散布裝置1的動作。具體而言，控制裝置40包括處理器、半導體記憶體以及介面電路。處理器是，例如，CPU或者MPU。控制裝置40包括，作為半導體記憶體，例如RAM以及ROM。處理器是按照被記憶在半導體記憶體的控制程式(電腦程式)，執行各種的處理。介面電路執行控制裝置40與操作部30之間的通信。在本實施方式中，若控制裝置40從操作部30接收指示除菌動作的開始的信號，則以執行除菌動作的方式，控制第一電源裝置41~第四電源裝置44的動作。

第一電源裝置41由控制裝置40控制，產生使電極對22通電的電壓。詳細而言，控制裝置40是以銀離子的濃度到成為既定的濃度為止電極對22通電的方式，控制第一電源裝置41。既定的濃度是，例如，2ppm。

第二電源裝置42由控制裝置40控制，產生使超音波產生元件23驅動的電壓。其結果，從超音波產生元件23產生超音波。

第三電源裝置43由控制裝置40控制，產生使風扇馬達112驅動的電壓。其結果，旋轉參照圖2而說明的複數枚葉片111，產生送除菌液的霧的風。另外，控制裝置40較佳為使風扇馬達112的轉速週期性地變化，使送風裝置11的送風量週期性地變化。使送風裝置11的送風量變化，藉此能夠使除菌液的霧的飛散距離變化，更平均地使除菌液附著在天花板面CS、壁面WS。

第四電源裝置44由控制裝置40控制，產生使調整閥15驅動的電壓。詳細而言，控制裝置40基於水位感測器24的輸出，以除菌液的水位成為既定的水位的方式控制第四電源裝置44。具體而言，若藉由除菌動作，除菌液的水位下降，則控制裝置40開啟調整閥15。其結果，如參照圖2而說明般的，從供給管13供給水至收容部21。又，控制裝置40是，若除菌液的水位上升到既定的水位，則關閉調整閥15。

接著參照圖4以及圖5，針對控制裝置40執行的處理的流程進行說明。圖5是表示實施方式1的控制裝置40執行的處理的流程圖。控制裝置40若從操作部30接收指示除菌動作的開使的信號，則開始圖5所示的處理。

如圖5所示，控制裝置40若接收指示除菌動作的開始的信號，則以銀離子的濃度成為既定的濃度的方式使電極對22通電(步驟S1)。

控制裝置40使電極對22通電後，從超音波產生元件23使超音波產生(步驟S2)。又，控制裝置40驅動風扇馬達112，使送除菌液的霧的風產生(步驟S2)。其結果，從參照圖1而說明的開口1a送出除菌液的霧。

控制裝置40若開始除菌液的霧的送出，則基於水位感測器24的輸出，判定除菌液的水位是否為既定的水位(步驟S3)。

控制裝置40若判定除菌液的水位為既定的水位(步驟S3的是)，則判定從接收指示除菌動作的開始的信號之後，是否經過了既定期間(步驟S4)。

另一方面，控制裝置40若判定除菌液的水位不為既定的水位(步驟S3的否)，以除菌液的水位成為既定的水位的方式驅動調整閥15(步驟S5)。換言之，控制裝置40，如參照圖2而說明般的，從供給管13供給水至收容部21，使除菌液的水位上升到既定的水位。

控制裝置40，若除菌液的水位上升到既定的水位，則關閉了調整閥15後，以銀離子的濃度成為既定的濃度的方式使電極對22通電(步驟S6)。控制裝置40使電極對22通電後，判定從接收指示除菌動作的開始的信號之後，是否經過了既定期間(步驟S4)。

若控制裝置40判定未經過既定期間(步驟S4的否)，則處理返回到步驟S3的處理。另一方面，若控制裝置40判定經過既定期間(步驟S4的是)，則使超音波產生元件23以及風扇馬達112的驅動停止，結束圖5所示的處理。既定期間是，例如，從除菌液散布處理開始之後，五分鐘以上十分鐘以下。

以上，針對實施方式1進行了說明。本實施方式的除菌液散布裝置1包括限制部5。限制部5是相對於液柱Lp而配置在傾斜方向WD1的下游側。因此，抑制從液柱Lp落下的除菌液向水槽26之外飛散。

又，為了使霧化效率提升，有將除菌液的水位設為既定的水位的必要。換言之，有將水槽26設為既定的深度以上的必要。如參照圖1而說明般的，開口1a設置在比天花板面CS更下方。在本實施方式中，將水槽26的上端26t的位置設為比開口1a更上方，藉此確保水槽26的深度。然而，在水槽26的上端26t的位置為比開口1a更上方的構成中，若除菌液向水槽26之外飛散，則有從開口1a洩漏除菌液的疑慮。若從開口1a洩漏除菌液，則有使用者誤解產生了漏液的疑慮。或者，例如，除菌液落下至使用者的頭上，藉此對使用者賦予不舒服的感覺。又，落下的除菌液乾燥，藉此在落下的位置中，除菌液的濃度變高。根據本實施方式，限制部5抑制除菌液向水槽26之外飛散。因此，即便在水槽26的上端26t位於比開口1a更上方的情況，也抑制除菌液向水槽26之外飛散。因此，抑制除菌液向除菌液散布裝置1的外部洩漏。其結果，抑制使使用者誤解產生了漏水。又，例如，抑制除菌液落下至使用者的頭上，藉此對使用者賦予不舒服的感覺。進一步，抑制落下的除菌液乾燥，藉此在落下的位置中，除菌液的濃度變高。

又，作為將水槽26設為既定的深度以上的其他方法，有使從第二單元20的天花板面CS的突出量增加的方法。然而，若從第二單元20的天花板面CS的突出量增加，則美觀上不是優選。根據本實施方式，除菌液散布裝置1一邊抑制從天花板面CS的突出量，一邊確保水槽26的深度。因此，能夠抑制美觀的下降。

又，根據本實施方式，抑制從天花板面CS的第二單元20的突出量，藉此能夠抑制保養維護的工作效率的下降。

另外，在本實施方式中，雖然第一限制部件51設置成相對於液面Ls大致垂直，但第一限制部件51不限定為設置成相對於液面Ls大致垂直的構成。圖6是實施方式1的除菌液散布裝置1的第一其他例的剖面圖。例如，如圖6所示，第一限制部件51也可以相對於液面Ls傾斜。詳細而言，第一限制部件51也可以是隨著限制面511從液面Ls分離而朝向水槽26的外側傾斜。換言之，第一限制部件51也可以是以下端51u成為比上端51t更為水槽26的內側的方式傾斜。由此，抑制除菌液向水槽26之外飛散。

又，以下端51u成為比上端51t更為水槽26的內側的方式，第一限制部件51傾斜，藉此能夠確保上端51t與液柱Lp的頂點之間的距離。由此，抑制第一限制部件51成為霧的產生的妨礙。因此，能夠使霧化效率提升。

又，以下端51u成為比上端51t更為水槽26的內側的方式，第一限制部件51傾斜，藉此從液柱Lp飛散的除菌液順著限制面511而變得容易向水槽26返回。因此，抑制除菌液向水槽26之外飛散。

又，第一限制部件51較佳為以下端51u位於水槽26的中央部的方式傾斜。由此，進一步抑制順著限制面511而返回到水槽26的除菌液向水槽26之外飛散。

又，在限制面511相對於液面Ls傾斜的構成中，如圖7所示，送風裝置11也可以使朝向第一限制部件51的下端51u的風產生。圖7是實施方式1的除菌液散布裝置1的第二其他例的剖面圖。如圖7所示，送風裝置11是，以在蓋體121a之中，與配置第一限制部件51的側為相反側配置，複數枚葉片111的軸心RX相對於液面Ls傾斜的方式配置。送風裝置11是複數枚葉片111旋轉，藉此使朝向第一限制部件51的下端51u的風產生。其結果，從液柱Lp產生的霧朝向後端部1b側流動。由此，能夠抑制從後端部1b側的開口1a送出的霧量的下降。因此，能夠謀求從前端部1f側的開口1a送出的霧量與從後端部1b側的開口1a送出的霧量的平均化。

又，如圖8所示，除菌液散布裝置1也可以還包括空氣流通部6。圖8是實施方式1的除菌液散布裝置1的第三其他例的剖面圖。空氣流通部6包含第二導引部件61。第二導引部件61配置在第一限制部件51的上方，在與本體部121之間形成空氣流通路62。

在空氣流通路62，從送風裝置11產生的風流過。空氣流通路62包含第一流通路621、第二流通路622、以及第三流通路623。

第一流通路621形成在除菌液散布裝置1的上部。詳細而言，第一流通路621形成在第二導引部件61的上表面與蓋體121a的內壁面之間。第一流通路621向水平方向延伸。第一流通路621的一端與設置在送風裝置11的下方的空間連接。

第二流通路622朝向下方延伸。第二流通路622的一端與第一流通路621的另一端連接。第二流通路622形成在第二導引部件61的側面、與壁部121b的內壁面之間。

第三流通路623朝向下方延伸。第三流通路623的一端與第二流通路622的另一端連接。第三流通路623形成在第一限制部件51的背面512、與壁部121b的內壁面之間。第三流通路623的另一端與後端部1b側的霧流通空間S連通。因此，送風裝置11產生的風流過第一流通路621、第二流通路622、第三流通路623、以及後端部1b側的霧流通空間S，從後端部1b側的開口1a被送出。換言之，從送風裝置11產生的風流過空氣流通路62而從後端部1b側的開口1a被送出。若從送風裝置11產生的風流過空氣流通路62，則因文土里效應(venturi effect)霧被吸入到空氣流通路62。其結果，能夠抑制從後端部1b側的開口1a送出的霧量的下降。因此，能夠謀求從前端部1f的開口1a送出的霧量與從後端部1b側的開口1a送出的霧量的平均化。另外，在除菌液散布裝置1為包括空氣流通部6的構成的情況，本體部121的形狀也可以不同。本體部121也可以是配置第一限制部件51的側的上部朝向外側突出。

又，如圖9所示，除菌液散布裝置1也可以還包括逆返回限制部7。圖9是實施方式1的除菌液散布裝置1的第四其他例的剖面圖。如圖9所示，逆返回限制部7從第一限制部件51的背面512朝向後端部1b側突出。逆返回限制部7具有側視大致三角形狀，包含上表面71、以及傾斜面72。上表面71是以隨著從第一限制部件51的背面512接近後端部1b側而接近液面Ls的方式傾斜。傾斜面72是上端與上表面71連接。傾斜面72以隨著接近液面Ls而成為水槽26的內側的方式傾斜。除菌液散布裝置1包括逆返回限制部7，藉此逆返回限制部7限制被吸入至空氣流通部6的霧向液面Ls返回。

又，在本實施方式中，雖然說明了第一限制部件51的上端51t被固定在蓋體121a的構成，但上端51t也可以在蓋體121a旋轉自如地被支撐。換言之，第一限制部件51也可以是以第一限制部件51的上端51t為中心而旋轉自如。如參照圖2而說明般的，第二單元20是相對於第一單元10安裝自如。因此，在使第二單元20安裝在第一單元10的情況中，若使第二單元20從下方向上方移動，則第一限制部件51的下端51u與水槽26的上端26t接觸。在第一限制部件51的下端51u與水槽26的上端26t已接觸的狀態中，若使第二單元20進一步向上方移動，則第一限制部件51以上端51t為中心旋轉。由此，第一限制部件51相對於液面Ls傾斜。因此，能夠確實地確保第一限制部件51與液面Ls之間的間隙。其結果，能夠抑制從後端部1b側的開口1a送出的霧量的下降。因此，能夠謀求從前端部1f側的開口1a送出的霧量與從後端部1b側的開口1a送出的霧量的平均化。

又，如圖10所示，除菌液散布裝置1也可以還包括第二限制部件52。圖10是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置1的第五其他例的剖面圖。如圖10所示，第二限制部件52隔著水槽26而與第一限制部件51對向。具體而言，第二限制部件52是將複數枚葉片111的軸心RX作為軸，設置成與第一限制部件51線對稱。第二限制部件52是，與第一限制部件51同樣地，以隨著從液面Ls分離而朝向水槽26的外側傾斜。另外，供給管13貫通設置在第二限制部件52的貫通孔。第二限制部件52隔著水槽26而設置成與第一限制部件51線對稱，藉此從送風裝置11產生的風的流動在除菌液散布裝置1的內部中被平均化。具體而言，隔著送風裝置11的軸心RX而空氣的流動成為對稱。因此，能夠謀求從前端部1f的開口1a送出的霧量與從後端部1b側的開口1a送出的霧量的平均化。

又，在本實施方式中，雖然說明了第一限制部件51為板狀部件的構成，但第一限制部件51能夠抑制除菌液向水槽26之外飛散即可，不限定為板狀部件。圖11是實施方式1的除菌液散布裝置1的第六其他例的剖面圖。例如，如圖11所示，第一限制部件51也可以是在兩端包含開口的中空的筒狀部件。筒狀部件的開口具有比從液面Ls產生的液柱Lp大的徑。筒狀部件是一方的開口設置在能夠將從液面Ls產生的液柱Lp收容在內部的位置。送風裝置11是以與筒狀部件的另一方的開口對向的方式配置。筒狀部件設置成相對於液面Ls大致垂直。另外，筒狀部件也可以設置成相對於液面Ls傾斜。藉由圖11所示的構成，抑制除菌液向水槽26之外飛散。

[實施方式2] 接著參照圖12針對本發明的實施方式2進行說明。但是，說明與實施方式1不同的事項，割愛針對與實施方式1相同的事項的說明。實施方式2是收容部21中的水槽26的位置不同。

圖12是實施方式2的除菌液散布裝置1的剖面圖。如圖12所示，水槽26，在收容部21的內部中，配置在比配置實施方式1說明的水槽26的位置更為傾斜方向WD1的下游側。詳細而言，水槽26是以外緣的一部分與本體部121接觸的方式配置。具體而言，水槽26是以第一槽壁部261的外壁面與位於傾斜方向WD1的下游側的壁部121b接觸的方式配置在收容部21。換言之，在第一槽壁部261與收容部21之間，沒有形成霧流通空間S。因此，霧僅從後端部1b側的開口1a的一部分被送出。詳細而言，霧不從後端部1b側的開口1a之中，與第一槽壁部261對向的開口1a被送出，從後端部1b側的開口1a之中，不與第一槽壁部261對向的開口1a被送出。換言之，在本實施方式中，從前端部1f側的開口1a送出的霧量比從後端部1b側的開口1a送出的霧量多。

送風裝置11，在比蓋體121a的中央部更為傾斜方向WD1的下游側中，被支撐在蓋體121a。送風裝置11是，例如，在蓋體121a之中，與液柱Lp的頂點對向的位置中，被支撐在蓋體121a。在本實施方式中，複數枚葉片111的軸心RX向上下方向延伸。換言之，從送風裝置11產生的風的朝向是相對於液面Ls大致正交。

在本實施方式中，限制部5由本體部121的壁部121b構成，限制面511由壁部121b的壁面構成。詳細而言，限制面511是由與壁部121b的水槽26接觸的側的內壁面之中，比水槽26更上方的內壁面構成。

以上，針對實施方式2進行了說明。根據本實施方式，水槽26接觸到本體部121的壁部121b之中，位於傾斜方向WD1的下游側的壁部121b，壁部121b構成限制部5。因此，即便在液柱Lp相對於液面Ls傾斜而產生的情況，也抑制除菌液向水槽26之外飛散。

又，根據本實施方式，限制面511由本體部121的內壁面構成。換言之，限制部5由本體部121(壁部121b)構成。因此，除菌液散布裝置1與包括第一限制部件51的構成比較，能夠減少部件個數。因此，能夠簡單化除菌液散布裝置1的構成。

另外，在本實施方式中，雖然說明了複數枚葉片111的軸心RX與上下方向一致的情況，但如圖13所示，複數枚葉片111的軸心RX也可以相對於液面Ls傾斜。圖13是實施方式2的除菌液散布裝置1的其他例的剖面圖。在圖13所示的構成中，複數枚葉片111的軸心RX是以送風裝置11產生朝向與傾斜方向WD1為相反方向的風的方式傾斜。換言之，送風裝置11是以產生朝向與傾斜方向WD1為相反方向的風的方式配置。其結果，有利於霧的送出的風量增加。由此，能夠使從開口1a送出的霧量增加。又，送風裝置11是以使朝向與傾斜方向WD1為相反方向的風產生的方式配置，藉此從液柱Lp飛散的除菌液返回到水槽26的中央部。其結果，抑制除菌液向水槽26之外飛散。

[實施方式3] 接著參照圖14~圖18針對本發明的實施方式3進行說明。但是，說明與實施方式1~2不同的事項，割愛針對與實施方式1~2相同的事項的說明。實施方式3是在除菌液散布裝置1設置在浴室環境調整裝置100的點與實施方式1~2不同。

圖14是實施方式3的浴室環境調整裝置100的仰視圖。另外，圖14所示的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。浴室環境調整裝置100是，例如，設置在浴室的天花板部C(參照圖1)。

如圖14所示，浴室環境調整裝置100包括除菌液散布裝置1。本實施方式的除菌液散布裝置1是與在實施方式2說明的除菌液散布裝置1大致同樣的構成。詳細而言，如參照實施方式2而說明般的，從後端部1b側的開口1a送出的霧量比從前端部1f側的開口1a送出的霧量少。

浴室環境調整裝置100包括板101、可動風向板102、霧噴管203。針對霧噴管203參照圖15並於後述。在本實施方式中，浴室環境調整裝置100是附有霧蒸氣浴(mist sauna)的浴室暖氣乾燥裝置。

板101從浴室的天花板面CS(參照圖1)露出。在板101，形成有吸入口103以及吹出口104。吸入口103以及吹出口104形成為橫長矩形狀。以下，將吸入口103的長邊方向設為「浴室環境調整裝置100的左右方向」，將吸入口103的短邊方向設為「浴室環境調整裝置100的前後方向」而說明實施方式。在浴室環境調整裝置100的前後方向中，吸入口103與吹出口104對向。以下，將設置吹出口104的側記載為「除菌液散布裝置1的前側」，將其相反側設為「除菌液散布裝置1的後側」而說明實施方式。在本實施方式中，在浴室環境調整裝置100的左右方向中，吸入口103的長度與吹出口104的長度不同。具體而言，在浴室環境調整裝置100的左右方向中，吸入口103的長度比吹出口104的長度長。

吹出口104是將空氣朝向浴室環境調整裝置100的前側吹出。換言之，吹出口104是朝向從吸入口103分離的方向吹出空氣。

可動風向板102設置在吹出口104。可動風向板102具有與吹出口104對應的形狀。可動風向板102是相對於吹出口104開關自如。在本實施方式中，可動風向板102是旋動自如的，藉由可動風向板102旋動，能夠變更從吹出口104吹出的風的朝向。又，可動風向板102是，在浴室環境調整裝置100停止暖氣運轉、乾燥運轉以及霧蒸氣浴運轉時堵塞吹出口104(覆蓋)，在浴室環境調整裝置100執行暖氣運轉、乾燥運轉、或者霧蒸氣浴運轉時敞開吹出口104。又，可動風向板102在除菌液散布裝置1進行除菌運轉時敞開吹出口104。另外，圖14是表示可動風向板102堵塞吹出口104的狀態。

浴室環境調整裝置100還包括安裝部105。安裝部105設置在板101。在本實施方式中，安裝部105是以與吹出口104在左右方向中排列的方式設置。具體而言，安裝部105設置在浴室環境調整裝置100的左右方向的吹出口104的兩個端之中的一方的外側。又，安裝部105設置在比吸入口103更前側。具體而言，設置在比浴室環境調整裝置100的左右方向的吸入口103的兩個端之中的一方更內側。

安裝部105包含安裝口105h。安裝口105h是形成在板101的開口1a。在安裝口105h，安裝除菌液散布裝置1(第一單元10)。從除菌液散布裝置1送出的霧藉由從吹出口104吹出的風，朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。

在本實施方式中，除菌液散布裝置1是以後端部1b成為吸入口103側的方式安裝在安裝部105。換言之，除菌液散布裝置1是以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式安裝在安裝部105。另外，除菌液散布裝置1包含的兩個側端部的一方成為吹出口104側。如在實施方式2說明般的，從除菌液散布裝置1的前端部1f側的開口1a送出的霧量比從後端部1b側的開口1a送出的霧量多。因此，以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式在安裝部105安裝除菌液散布裝置1，藉此從除菌液散布裝置1送出的霧藉由從吹出口104吹出的風，朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。又，以後端部1b成為吸入口103側的方式除菌液散布裝置1被安裝在安裝部105，藉此抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入至吸入口103。另外，從除菌液散布裝置1所包含的兩個側端部的一方的側端部側送出的霧藉由從吹出口104吹出的風，朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。

接著參照圖15，針對浴室環境裝置100(附有霧蒸氣浴的浴室暖氣乾燥裝置)的構成進行說明。圖15是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的構成的圖。

如圖15所示，浴室環境調整裝置100包括本體單元200、熱源機300。本體單元200設置在浴室的天花板部C。熱源機300設置在屋外。另外，參照圖14而說明的板101，作為本體單元200的外裝部件，安裝在本體單元200。

熱源機300將暖氣用的熱介質、以及熱水用水加熱。熱源機300包括使暖氣用的熱介質循環的循環泵302。暖氣用的熱介質是，例如熱水或者防凍劑(antifreeze)。熱源機300連接到供給路徑301，將從供給路徑301供給的熱水用水加熱。

本體單元200包括熱水循環流路201、霧用通水路徑202、霧噴管203、暖氣用熱交換器204、霧用熱交換器205、驅動裝置206、送風裝置210、控制裝置220。另外，暖氣用熱交換器204是熱交換器的例子，送風裝置210是第二送風裝置的例子。

熱水循環流路201使暖氣用的熱介質在本體單元200與熱源機300之間循環。具體而言，熱源機300包括的循環泵302動作，藉此從熱源機300流出的熱介質流過熱水循環流路201。詳細而言，熱介質是將暖氣用熱交換器204以及霧用熱交換器205依此順序地經過，返回到熱源機300。

霧用通水路徑202是從供給路徑301分歧的通水路徑，將霧用的水通水。霧用通水路徑202是以經過霧用熱交換器205而到霧噴管203的方式設置。霧噴嘴203將從霧用通水路徑202供給的水霧化而對浴室噴霧。

在本實施方式中，除菌液散布裝置1的供給管13是從供給路徑301分歧的通水路徑，開啟調整閥15，藉此水從供給路徑301流入到除菌液散布裝置1的供給管13。另外，在使水從供給路徑301流入到除菌液散布裝置1的供給管13時，以霧用通水路徑202不將水通水的方式，將設置在霧用通水路徑202的電磁閥關閉。

暖氣用熱交換器204是與可動風向板102以及除菌液散布裝置1對向。暖氣用熱交換器204將被吸入到吸入口103的空氣變換成熱風。霧用熱交換器205將流過霧用通水路徑202的水變換成熱水。

驅動裝置206使可動風向板102在既定的旋轉角度範圍內旋動。驅動裝置206，例如是電動馬達。驅動裝置206使可動風向板102旋動，藉此可動風向板102的姿勢從堵塞參照圖14而說明的吹出口104的姿勢，變化成開啟吹出口104的姿勢。又，與可動風向板102的旋轉角度相應，變化供給至浴室的熱風的送風方向。

送風裝置210是使風產生的風產生裝置。送風裝置210包括旋轉風扇211、風扇馬達212。風扇馬達212使旋轉風扇211旋轉。旋轉風扇211是，例如西洛哥扇風機(sirocco fan)。

旋轉風扇211旋轉，藉此空氣被吸入到參照圖14而說明的吸入口103。被吸入到吸入口103的空氣在可動風向板102將參照圖14而說明的吹出口104開啟的情況，旋轉風扇211旋轉，藉此經由暖氣用熱交換器204從吹出口104吹出。又，在可動風向板102開啟的情況，被吸入到吸入口103的空氣，藉由旋轉風扇211的旋轉，經由暖氣用熱交換器204，朝向除菌液散布裝置1流動。

控制裝置220進行浴室環境調整裝置100的運轉控制。具體而言，控制浴室環境調整裝置100的暖氣動作、乾燥動作、以及霧蒸氣浴動作。進一步，控制裝置220控制除菌液散布裝置1的除菌動作。因此，在本實施方式中，除菌液散布裝置1未包括在實施方式1說明的控制裝置40。

控制裝置220包括處理器、以及半導體記憶體。處理器是，例如，CPU或者MPU。控制裝置40包括，作為半導體記憶體，例如RAM以及ROM。處理器是按照被記憶在半導體記憶體的控制程式(電腦程式)，執行各種的處理。

接著參照圖16，針對本體單元200進一步進行說明。圖16是放大實施方式3的本體單元200的一部分而表示的圖。詳細而言，圖16是從上方觀察本體單元200的一部分的圖。如圖16所示，本體單元200還包括支架230。

支架230可旋動地支撐可動風向板102。具體而言，可動風向板102包括兩個旋轉軸102a，支架230可旋動地支撐兩個旋轉軸102a。兩個旋轉軸102a的一方與驅動裝置206的輸出軸連接。又，支架230支撐除菌液散布裝置1。具體而言，支架230支撐第一單元10的本體部121。

接著參照圖17，針對實施方式3的浴室環境調整裝置100進行說明。圖17是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的構成的圖。詳細而言，圖17是表示浴室環境調整裝置100的風路。

如圖17所示，本體部121的蓋體121a包含貫通蓋體121a的貫通孔125。換言之，本實施方式的除菌液散布裝置1未包括在實施方式1中說明的送風裝置11。在本實施方式中，除菌液的霧利用參照圖15而說明的浴室環境調整裝置100的送風裝置210而散布。

接著參照圖17，針對本體單元200進一步進行說明。如圖17所示，本體單元200還包括第一固定風向板207。第一固定風向板207使從暖氣用熱交換器204流出的風的朝向整合到既定的方向(在本實施方式為下方向)。

接著參照圖18，針對浴室環境調整裝置100進一步進行說明。圖18是實施方式3的浴室環境調整裝置100的方塊圖。如圖18所示，浴室環境調整裝置100除了操作部30、以及第一電源裝置41、第二電源裝置42、以及第四電源裝置44之外，包括第五電源裝置45。

操作部30接受使用者的操作。操作部30將與使用者的操作相應的信號發送到控制裝置220。操作部30是，例如，設置在浴室的壁面、或者與浴室相鄰的更衣間的壁面。

在本實施方式中，操作部30包括除菌按鈕31、停止按鈕32、顯示器33、暖氣按鈕34、浴室乾燥按鈕35、以及霧蒸氣浴按鈕36。又，操作部30包括處理器、半導體記憶體以及介面電路。處理器是，例如，CPU或者MPU。操作部30包括，作為半導體記憶體，例如，RAM以及ROM。處理器是按照被記憶在半導體記憶體的控制程式(電腦程式)，執行各種的處理。介面電路執行操作部30與控制裝置220之間的通信。另外，控制裝置220也包括執行控制裝置220與操作部30之間的通信的介面電路。

除菌按鈕31是指示除菌動作的開始的按鈕。即，若使用者按下除菌按鈕31，則操作部30將指示除菌動作的開始的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示除菌動作的開使的信號，則除菌液散布裝置1在既定的期間，執行除菌動作。

停止按鈕32是指示各種的運轉動作的停止的按鈕。例如在暖氣運轉中若使用者按下停止按鈕32，則操作部30將指示暖氣動作(暖氣運轉)的停止的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示暖氣動作的停止的信號，則浴室環境調整裝置100停止暖氣動作(暖氣運轉)。又，在除菌動作中若使用者按下停止按鈕32，則操作部30將指示除菌動作的停止的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示除菌動作的停止的信號，則除菌液散布裝置1即便是從開始除菌動作之後經過既定的時間前，也停止除菌動作。

顯示器33由處理器控制，顯示各種的資訊。例如，顯示器33顯示表示正在執行中的運轉動作的訊息。又例如，顯示器33顯示從除菌動作開始之後經過了的時間、或者、到除菌動作結束的剩餘時間。

暖氣按鈕34是指示暖氣動作(暖氣運轉)的開始的按鈕。即，若使用者按下暖氣按鈕34，則操作部30將指示暖氣動作的開始的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示暖氣動作的開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行暖氣動作(暖氣運轉)。

浴室乾燥按鈕35是指示乾燥動作(乾燥運轉)的開始的按鈕。即，若使用者按下浴室乾燥按鈕35，則操作部30將指示乾燥動作的開始的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示乾燥動作的開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行乾燥動作(乾燥運轉)。

霧蒸氣浴按鈕36是指示霧蒸氣浴動作(霧蒸氣浴運轉)的開始的按鈕。即，若使用者按下霧蒸氣浴按鈕36，則操作部30將指示霧蒸氣浴動作的開始的信號發送到控制裝置220。若控制裝置220接收指示霧蒸氣浴動作的開始的信號，則浴室環境調整裝置100執行霧蒸氣浴動作(霧蒸氣浴運轉)。

在本實施方式中，若控制裝置220從操作部30接收指示除菌動作的開始的信號，則與參照圖4而說明的控制裝置40同樣地，除了控制第一電源裝置41、第二電源裝置42、以及第四電源裝置44的動作之外，控制第五電源裝置45的動作。由此，參照圖5而說明的處理由控制裝置220執行。

第一電源裝置41由控制裝置220控制，產生使電極對22通電的電壓。詳細而言，控制裝置220是以銀離子的濃度到成為既定的濃度為止電極對22通電的方式，控制第一電源裝置41。既定的濃度是，例如，2ppm。

第二電源裝置42由控制裝置220控制，產生使超音波產生元件23驅動的電壓。其結果，從超音波產生元件23產生超音波。

第四電源裝置44由控制裝置220控制，產生使調整閥15驅動的電壓。詳細而言，控制裝置220基於水位感測器24的輸出，以除菌液的水位成為既定的水位的方式控制第四電源裝置44。具體而言，若藉由除菌動作除菌液的水位下降，則控制裝置220開啟調整閥15。其結果，如參照圖6而說明般的，從供給管13供給水至收容部21。又，控制裝置220是，若除菌液的水位上升到既定的水位，則關閉調整閥15。

第五電源裝置45由控制裝置220控制，產生使風扇馬達212驅動的電壓。其結果，參照圖15而說明的旋轉風扇211旋轉，產生風。另外，控制裝置220，在除菌動作中，較佳為使風扇馬達212的旋轉數週期性地變化，使送風裝置210的送風量週期性地變化。使送風裝置210的送風量變化，藉此能夠使除菌液的霧的飛散距離變化，更平均地使除菌液附著在板101、天花板面CS、以及壁面WS。

以上，針對實施方式3進行了說明。根據本實施方式，利用浴室環境調整裝置100的送風裝置210，能夠送除菌液的霧。由此，與除菌液散布裝置1包括送風裝置的構成比較，能夠減少送風裝置的數量。又，能夠簡單化浴室環境調整裝置100的構成。

又，浴室環境調整裝置100的送風裝置210是比在實施方式1~2說明的送風裝置11風量更大。因此，根據本實施方式，能夠以更大的風量將霧從開口1a送出。其結果，能夠使霧擴散到更廣範圍。

又，根據本實施方式，能夠更寬地確保送風裝置210與液柱Lp之間的距離。因此，能夠抑制除菌液附著在送風裝置210。

又，浴室環境調整裝置100，相較於浴室的天花板面CS的中央部，大多為配置在壁面WS側。在這個情況中，浴室環境調整裝置100，大多為以區劃浴室的壁面WS之中，離浴室環境調整裝置100最遠的壁面WS側成為浴室環境調整裝置100的前側的方式設置。根據本實施方式，以除菌液散布裝置1的前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式，除菌液散布裝置1被安裝在安裝部105。換言之，朝向浴室環境調整裝置100的前側散布的霧量比朝向左右方向以及後方散布的霧量多。因此，除菌液的霧被送出到最遠的壁面WS。其結果，對於區劃浴室的壁面WS能夠使除菌液均勻地附著。

另外，如圖19所示，除菌液散布裝置1也可以還包括第二固定風向板113。圖19是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的其他例的圖。第二固定風向板113配置在貫通孔125的內部。第二固定風向板113是，例如，以送風裝置210產生的風朝向與傾斜方向WD1為相反方向的方式配置。換言之，第二固定風向板113是以從送風裝置210產生的風朝向第二槽壁部262側的霧流通空間S的方式配置。因此，能夠使有利於霧的送出的風量增加。其結果，能夠使從開口1a送出的霧量增加。又，以第二固定風向板113使朝向與傾斜方向WD1為相反方向的風產生的方式配置，藉此從液柱Lp飛散的除菌液返回到水槽26的中央部。其結果，抑制除菌液向水槽26之外飛散。

又，在本實施方式中，雖然說明了在浴室環境調整裝置100的左右方向的吹出口104的端的外側設置安裝部105的情況，但設置安裝部105的位置不限定為此。例如，如圖20所示，安裝部105也可以是，在浴室環境調整裝置100的前後方向中，設置在吹出口104與吸入口103之間。圖20是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的第一其他例的仰視圖。另外，圖20所示的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。在圖20所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1也可以是以後端部1b成為吸入口103側，前端部1f成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105。浴室環境調整裝置100以後端部1b成為吸入口103側的方式在安裝部105安裝除菌液散布裝置1，藉此能夠抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入至吸入口103。又，浴室環境調整裝置100是以前端部1f成為吹出口104側的方式在安裝部105安裝除菌液散布裝置1，藉此能夠藉由從吹出口104吹出的風，將從除菌液散布裝置1送出的霧朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。

又，如圖21所示，安裝部105也可以隔著吹出口104設置在與吸入口103對向的位置。換言之，安裝部105也可以設置在比吹出口104更為浴室環境調整裝置100的前側。圖21是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的第二其他例的仰視圖。另外，圖21所示的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。在圖21所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1也可以是以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式安裝在安裝部105。由此，藉由從吹出口104吹出的風，從除菌液散布裝置1送出的霧朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。又，在圖21所示的構成中，除菌液散布裝置1是以後端部1b成為浴室環境調整裝置100的吸入口103側的方式安裝在安裝部105。由此，抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。

又，如圖22所示，安裝部105也可以設置在兩個吹出口104之間。圖22是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的第三其他例的仰視圖。另外，在圖22的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。如圖22所示，浴室環境調整裝置100包含兩個吹出口104。在圖22所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1也可以是以後端部1b成為吸入口103側的方式安裝在安裝部105。由此，能夠抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。又，在圖22所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1是以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式安裝在安裝部105。由此，藉由從吹出口104吹出的風，從除菌液散布裝置1的前端部1f側的開口1a送出的霧朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。又，除菌液散布裝置1是以兩個側端部的各個成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105。由此，從兩個側端部側的開口1a送出的霧藉由從吹出口104吹出的風，朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。因此，能夠使霧更廣範圍地散布。霧更廣範圍地擴散，藉此能夠謀求浴室內的霧的分布的平均化。

又，在本實施方式中，雖然說明了以後端部1b成為吸入口103側的方式除菌液散布裝置1被安裝在安裝部105的情況，但如圖23所示，除菌液散布裝置1也可以是以前端部1f成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105。圖23是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的第四其他例的仰視圖。另外，圖23所示的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。根據圖23所示的浴室環境調整裝置100，從一方的側端部側的開口1a送出的霧朝向浴室環境調整裝置100的前方散布。又，從前端部1f側的開口1a送出的霧的一部分藉由從吹出口104吹出的風朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。因此，能夠使霧更廣範圍地散布。霧更廣範圍地擴散，藉此能夠謀求浴室內的霧的分布的平均化。

另外，在圖23所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1也可以堵塞側端部側的開口1a。換言之，開口1a也可以僅設置在前端部1f以及後端部1b。由此，能夠使從前端部1f側的開口1a送出的霧量增加。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。因此，能夠使霧更廣範圍地散布。霧更廣範圍地擴散，藉此能夠謀求浴室內的霧的分布的平均化。

又，在本實施方式中，雖然安裝部105設置在吸入口103的前側，但如圖24所示，安裝部105也可以不設置在吸入口103的前側。圖24是表示實施方式3的浴室環境調整裝置100的第五其他例的仰視圖。另外，圖24所示的箭頭是表示從除菌液散布裝置1送出的霧。

在圖24所示的浴室環境調整裝置100中，吸入口103與吹出口104在前後方向中對向。在浴室環境調整裝置100的左右方向中，吸入口103的長度與吹出口104的長度大致一致。安裝部105配置在比左右方向的吹出口104的兩個端部的一方更為外側。因此，安裝部105，在浴室環境調整裝置100的前後方向中，不與吸入口103對向。在此構成中，除菌液散布裝置1是以後端部1b成為浴室環境調整裝置100的後側(吸入口103側)的方式安裝在安裝部105。換言之，以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式在安裝部105安裝除菌液散布裝置1。由此，從前端部1f側的開口1a送出的霧朝向浴室環境調整裝置100的前側散布。又，從一方的側端部側的開口1a送出的霧藉由從吹出口104吹出的風，朝向浴室環境調整裝置100的前側送出。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。因此，能夠使霧更廣範圍地散布。霧更廣範圍地擴散，藉此能夠謀求浴室內的霧的分布的平均化。

又，以後端部1b成為浴室環境調整裝置100的後側(吸入口103側)的方式安裝在安裝部105，藉此抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入吸入口103。

又，在本實施方式中，雖然針對浴室環境調整裝置100的控制裝置220控制除菌動作的構成進行了說明，但除菌液散布裝置1也可以是，與實施方式1的除菌液散布裝置1同樣地，包括控制裝置40。又，在本實施方式中，雖然浴室環境調整裝置100是附有霧蒸氣浴的浴室暖氣乾燥裝置，但浴室環境調整裝置100也可以是浴室暖氣乾燥裝置、浴室暖氣裝置、或者浴室乾燥裝置。

又，在本實施方式中，雖然說明了除菌液散布裝置1是與在實施方式2說明的除菌液散布裝置1大致相同的構成的情況，但除菌液散布裝置1也可以是與在實施方式1說明的除菌液散布裝置1大致相同的構成。

又，在本實施方式中，雖然除菌液散布裝置1包括本體部121，但除菌液散布裝置1也可以不包括本體部121。本體部121由設置在本體單元200或者板101的壁面構成。

[實施方式4] 接著，參照圖25，針對本發明的實施方式4進行說明。但是，說明與實施方式1~3不同的事項，割愛針對與實施方式1~3相同的事項的說明。實施方式4在浴室環境調整裝置100還包括分隔部件106的點與實施方式1~3不同。在本實施方式中，浴室環境調整裝置100包括的除菌液散布裝置1包含與在實施方式1說明的除菌液散布裝置1大致同樣的構成。詳細而言，如在實施方式1說明般的，從前端部1f側的開口1a送出的霧量比從後端部1b側的開口1a送出的霧量少。

圖25是實施方式4的浴室環境調整裝置100的仰視圖。如圖25所示，浴室環境調整裝置100包括分隔部件106。

安裝部105，在浴室環境調整裝置100的前後方向中，設置在與吹出口104大致一致的位置。又，安裝部105設置在浴室環境調整裝置100的左右方向中，吹出口104的兩個端部之中的一方的外側。

分隔部件106限制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。分隔部件106，例如，具有側視大致矩形形狀，從板101朝向下方突出。

分隔部件106，在浴室環境調整裝置100的左右方向中，設置在吸入口103的兩個端部之中，設置安裝部105的側的端部的外側。在本實施方式中，分隔部件106從板101的後端部朝向前側延伸。詳細而言，分隔部件106延伸到吸入口103的前端與吹出口104的後端之間的位置。因此，抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。

以上，針對實施方式4進行了說明。根據本實施方式，抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。因此，浴室環境調整裝置100能夠將霧向四方散布。其結果，浴室環境調整裝置100能夠將霧的分布平均化。

在圖25所示的構成中，除菌液散布裝置1是以兩個側端部之中的一方成為浴室環境調整裝置100的前側的方式配置。又，除菌液散布裝置1是以前端部1f成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105。由此，從前端部1f側的開口1a送出的霧的一部分藉由從吹出口104吹出的風，向浴室環境調整裝置100的前側吹出。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。

又，浴室環境調整裝置100，相較於浴室的天花板面CS的中央部，大多為配置在壁面WS側。在這個情況中，浴室環境調整裝置100，大多為以區劃浴室的壁面WS之中，最遠的壁面WS側成為浴室環境調整裝置100的前側的方式設置。根據本實施方式，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。因此，除菌液的霧被送出到最遠的壁面WS。其結果，能夠對於區劃浴室的壁面WS使除菌液均勻地附著。

另外，在本實施方式中，雖然除菌液散布裝置1是以前端部1f成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105，但如圖26所示，除菌液散布裝置1也可以是以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式安裝在安裝部105。圖26是表示實施方式4的浴室環境調整裝置100的第一其他例的仰視圖。在圖26所示的浴室環境調整裝置100的構成中，除菌液散布裝置1是以前端部1f成為浴室環境調整裝置100的前側的方式安裝在安裝部105。除菌液散布裝置1是以兩個側端部之中的另一方成為吹出口104側的方式安裝在安裝部105。從兩個的側端部之中的另一方側的開口1a送出的霧，藉由從吹出口104吹出的風，向浴室環境調整裝置100的前側吹出。因此，浴室環境調整裝置100能夠使朝向前側散布的霧量增加。

又，在本實施方式中，雖然安裝部105是以在浴室環境調整裝置100的前後方向中，與吹出口104大致一致的方式設置，但如圖27所示，安裝部105也可以配置在吸入口103與吹出口104之間。圖27是表示實施方式4的浴室環境調整裝置100的第二其他例的仰視圖。根據圖27所示的浴室環境調整裝置100，抑制從除菌液散布裝置1送出的霧被吸入到吸入口103。因此，浴室環境調整裝置100能夠將霧向四方散布。其結果，浴室環境調整裝置100能夠將霧的分布平均化。

又，在本實施方式中，雖然說明了除菌液散布裝置1是與在實施方式1說明的除菌液散布裝置1大致相同的構成的情況，但除菌液散布裝置1也可以是與在實施方式2說明的除菌液散布裝置1大致相同的構成。

[實施方式5] 接著，參照圖28以及圖29，針對本發明的實施方式5進行說明。但是，說明與實施方式1~4不同的事項，割愛針對與實施方式1~4相同的事項的說明。實施方式5是在浴室環境調整裝置100繼續除菌液散布動作，並執行除菌液乾燥動作(除菌液乾燥處理)的點與實施方式1~4不同。

圖28是表示實施方式5的浴室環境調整裝置100的構成的方塊圖。如圖28所示，若控制裝置220從操作部30接收指示除菌動作的開始的信號，則除了控制參照圖18而說明的第一電源裝置41、第二電源裝置42、以及第四電源裝置44的動作之外，使參照圖15而說明的熱源機300動作。詳細而言，控制裝置220使循環泵302動作。其結果，循環泵302動作，從熱源機300流出的熱介質流過熱水循環流路201。

接著參照圖29，針對控制裝置220執行的處理的流程進行說明。圖29是表示實施方式5的控制裝置220執行的處理的流程圖。圖29所示的處理是若控制裝置220從操作部30接收指示除菌動作的開使的信號，則開始。

如圖29所示，若控制裝置220判定經過了第一既定期間(步驟S4的是)，則執行除菌液乾燥動作。詳細而言，控制裝置220停止電極對22的通電，使循環泵302動作(步驟S7)。另外，維持風扇馬達212的驅動。由此，藉由暖氣用熱交換器204加熱的空氣藉由送風裝置210在除菌液散布裝置1的內部流通。接著，控制裝置220判定從開始除菌液乾燥動作的執行之後是否經過了第二既定期間(步驟S8)。若控制裝置220判定未經過第二既定期間(步驟S8；否)，則處理返回到步驟S7的處理。另一方面，若控制裝置220判定經過了第二既定期間(步驟S8；是)，則使風扇馬達212以及循環泵302的驅動停止，藉此結束除菌液乾燥動作，結束圖29所示的處理。

以上，針對實施方式5進行了說明。根據本實施方式，能夠使從液柱Lp飛散而附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液乾燥。

又，根據本實施方式，使用者按下參照圖18而說明的除菌按鈕31，藉此除了除菌液散布動作之外，除菌液乾燥動作也繼續被執行。由此，使用者的便利性提升。

[實施方式6] 接著，參照圖30以及圖31，針對本發明的實施方式6進行說明。但是，說明與實施方式1~5不同的事項，割愛針對與實施方式1~5相同的事項的說明。實施方式6是除菌液乾燥動作與實施方式1~5不同。詳細而言，控制裝置220基於除菌液散布裝置1的內部的濕度以及浴室內的濕度判定是否結束除菌液乾燥動作。

圖30是表示實施方式6的浴室環境調整裝置100的構成的方塊圖。如圖30所示，除菌液散布裝置1還包括濕度感測器130。濕度感測器130輸出表示濕度的信號。詳細而言，濕度感測器130包含第一濕度感測器131以及第二濕度感測器132。第一濕度感測器131輸出表示除菌液散布裝置1的內部的濕度的信號。第二濕度感測器132輸出表示浴室的內部的濕度的信號。控制裝置220基於從第一濕度感測器131以及第二濕度感測器132輸出的信號所表示的濕度，結束除菌液乾燥動作。詳細而言，控制裝置220基於第一濕度感測器131所表示的第一濕度、與第二濕度感測器132所表示的第二濕度的差分，結束除菌液乾燥動作。以下，將第一濕度感測器131所表示的第一濕度、與第二濕度感測器132所表示的第二濕度的差分記載為「差分濕度」。

圖31是表示實施方式6的控制裝置220執行的處理的流程圖。如圖31所示，控制裝置220若使循環泵302動作(步驟S7)，則判定差分濕度是否為第一閾值以下(步驟S9)。另外，第一閾值是，例如，由使用者預先設定。第一閾值是，例如，5%。

若控制裝置220判定差分濕度不為第一閾值以下(步驟S9；否)，則處理向步驟S7返回。另一方面，若控制裝置220判定差分濕度為第一閾值以下(步驟S9；是)，則結束除菌液乾燥動作，結束圖31所示的處理。

以上，針對實施方式6進行了說明。根據本實施方式，若控制裝置220判定差分濕度為第一閾值以下則結束除菌液乾燥動作。因此，能夠使附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液乾燥。

另外，在本實施方式中，雖然控制裝置220判定差分閾值是否為第一閾值以上，若差分閾值為第一閾值以上，則結束除菌液乾燥動作，但控制裝置220也可以是判定第一濕度是否未滿第二閾值，若第一濕度判定為未滿第二閾值，則結束除菌液乾燥動作。第二閾值是，例如，由使用者預先設定。

[實施方式7] 接著，參照圖32~圖34，針對本發明的實施方式7進行說明。但是，說明與實施方式1~6不同的事項，割愛針對與實施方式1~6相同的事項的說明。實施方式7是除菌液乾燥動作與實施方式1~6不同。

參照圖32，針對實施方式7的除菌液散布裝置1進行說明。圖32是表示實施方式7的除菌液散布裝置1的構成的剖面圖。如圖32所示，除菌液散布裝置1還包括送風裝置11與加熱部91。送風裝置11是與在實施方式1說明的送風裝置11大致同樣的構成。在本實施方式中，除菌液散布裝置1是包括加熱部91以外的構成與參照實施方式1而說明的除菌液散布裝置1的構成大致相同。本實施方式的送風裝置11在除菌液散布裝置1的內部中使風流通。在本實施方式，複數枚葉片111在蓋體121a的中央部中被支撐。又，複數枚葉片111的軸心RX向上下方向延伸。換言之，送風裝置11產生的風的朝向是相對於液面Ls大致正交。

加熱部91將除菌液散布裝置1的內部的空氣加熱。例如，加熱部91是帕耳帖(Peltier)元件。加熱部91，例如，配置在本體部121的蓋體121a所包含的壁面之中，與水槽26對向的壁面。若加熱部91驅動，則加熱部91的周圍的空氣被加熱，由加熱部91加熱的空氣藉由送風裝置11朝向液面Ls送。

圖33是實施方式7的浴室環境調整裝置100的方塊圖。如圖33所示，浴室環境調整裝置100除了第一電源裝置41~第5電源裝置45之外，還包括第六電源裝置46。另外，以下，將送風裝置210的風扇馬達212記載為「第一風扇馬達212」，將送風裝置11的風扇馬達112記載為「第二風扇馬達112」。

第六電源裝置46由控制裝置40控制，產生使加熱部91驅動的電壓。由此，加熱部91驅動，除菌液散布裝置1的內部的空氣被加熱。其結果，由加熱部91加熱的空氣產生。

圖34是表示實施方式7的控制裝置220執行的處理的流程圖。如圖34所示，若控制裝置220判定經過了第一既定期間(步驟S4的是)，則執行除菌液乾燥動作。詳細而言，控制裝置220停止電極對22的通電，使第二風扇馬達112、循環泵302、以及加熱部91驅動(步驟S10)。另外，維持第一風扇馬達212的驅動。

因此，由暖氣用熱交換器204加熱的空氣進一步由加熱部91加熱。由暖氣用熱交換器204以及加熱部91加熱的空氣藉由第二風扇馬達112以及第一風扇馬達212在除菌液散布裝置1的內部流通。接著，控制裝置220判定從開始除菌液乾燥動作之後是否經過了第二既定期間(步驟S8)。若控制裝置220判定未經過第二既定期間(步驟S8；否)，則處理返回到步驟S10的處理。另一方面，若控制裝置220判定經過了第二既定期間(步驟S8；是)，則使第一風扇馬達212、第二風扇馬達112、循環泵302、以及加熱部91的驅動停止，藉此結束除菌液乾燥動作，結束圖34所示的處理。

以上，針對實施方式7進行了說明。根據本實施方式，控制裝置220是浴室環境調整裝置100利用送風裝置210以及送風裝置11，利用暖氣用熱交換器204以及加熱部91而執行除菌液乾燥動作。因此，能夠使附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液效率良好地乾燥。其結果，能夠縮短除菌液乾燥動作所需的時間。

又，在本實施方式中，除菌液散布裝置1包括第一限制部件51。由此，能夠抑制除菌液附著在浴室環境調整裝置100的內部。

另外，在本實施方式中，雖然複數枚葉片111的軸心RX相對於液面Ls大致正交，但也可以使複數枚葉片111的軸心RX相對於液面Ls傾斜。由此，送風裝置11，例如，能夠朝向除菌液容易附著的地方送空氣。其結果，能夠使除菌液效率良好地乾燥。

又，在本實施方式中，雖然控制裝置220利用加熱部91以及暖氣用熱交換器204而執行除菌液乾燥動作，但控制裝置220也可以僅利用加熱部91以及暖氣用熱交換器204之中的一方而執行除菌液乾燥動作。

[實施方式8] 接著，參照圖35，針對本發明的實施方式8進行說明。但是，說明與實施方式1~7不同的事項，割愛針對與實施方式1~7相同的事項的說明。實施方式8在除菌液乾燥動作包含預備乾燥動作(預備乾燥處理)的點與實施方式1~7不同。

圖35是表示本發明的實施方式8的控制裝置220執行的處理的流程圖。如圖35所示，若控制裝置220判定經過了第二既定期間(步驟S8；是)，則執行預備乾燥動作。詳細而言，若控制裝置220判定經過了第二既定期間(步驟S8；是)，則使第一風扇馬達212以及循環泵302的驅動停止。另外，控制裝置220使第二風扇馬達112(送風裝置11)以及加熱部91的驅動維持。換言之，控制裝置220使由加熱部91加熱的空氣藉由第二風扇馬達112在除菌液散布裝置1的內部流通。接著，控制裝置220判定從執行預備乾燥動作之後是否經過了第三既定期間(步驟S12)。第三既定期間是，例如，一個小時。若控制裝置220判定未經過第三既定期間(步驟S12；否)，則處理向步驟S11返回。另一方面，若控制裝置220判定經過第三既定期間(步驟S12；是)，則使第二風扇馬達112以及加熱部91的驅動停止，結束預備乾燥動作，藉此結束圖35所示的處理。

以上，針對實施方式8進行了說明。根據本實施方式，控制裝置220執行預備乾燥動作。在預備乾燥動作，控制裝置220使第二風扇馬達112以及加熱部91驅動，藉此能夠使附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液乾燥。

又，在本實施方式中，控制裝置220，在預備乾燥動作中，僅使第二風扇馬達112以及加熱部91驅動。因此，能夠以省電將附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液乾燥。

[實施方式9] 參照圖36，針對本發明的實施方式9進行說明。但是，說明與實施方式1~8不同的事項，割愛針對與實施方式1~8相同的事項的說明。實施方式9在除菌液散布裝置1還包括吸水素材92的點與實施方式1~8不同。圖36是實施方式9的除菌液散布裝置1的剖面圖。

如圖36所示，除菌液散布裝置1還包括吸水素材92。吸水素材92吸收從液柱Lp產生的除菌液。吸水素材92配置在除菌液散布裝置1的內部。具體而言，吸水素材92設置在本體121的內壁面。吸水素材92是如海綿般的多孔體。

以上，針對實施方式9進行了說明。根據本實施方式，吸水素材92能夠吸收從液柱Lp飛散的除菌液。由此，抑制附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液的滴肥大化。又，抑制除菌液的滴的肥大化，藉此能夠抑制附著在除菌液散布裝置1的內部的除菌液的落下。另外，被吸收到吸水素材92的除菌液，例如，由送風裝置11乾燥。又，除菌液散布裝置1還包括在實施方式8說明的加熱部91。加熱部91也可以使被吸收到吸水素材92的除菌液乾燥。在這個情況，加熱部91配置在吸水素材92的附近，藉此吸水素材92吸收了的水分效率良好地被蒸發。

以上，針對本發明的實施方式一邊參照圖式一邊進行了說明。但是，本發明不限定為上述的實施方式，在不脫離此主旨的範圍在各種的方案中可實施。

例如，在藉由本發明的實施方式中，雖然除菌液散布裝置1設置在浴室的天花板部C，但除菌液散布裝置1也可以設置在浴室的壁面部。例如，除菌液散布裝置1可設置在壁面部的上部。

又，在藉由本發明的實施方式中，雖然作為水位感測器24例示了浮標開關，但水位感測器24只要是能夠偵測除菌液的水位，則不特別限定。例如，作為水位感測器24，也可以使用測距感測器、或者重量感測器。

又，在藉由本發明的實施方式中，雖然基座部件23b配置在水槽26的地板面，但基座部件23b可配置在水槽26的地板部的下方。在這個情況，水槽26的地板部包含開口。基座部件23b是以堵塞水槽26的地板部的開口的方式，配置在水槽26的地板部的下方。又，基座部件23b是以收容空間232經由水槽26的地板部的開口與水槽26的內側空間聯通的方式，配置在水槽26的地板部的下方。

又，在各實施方式1~9中說明的事項可適當組合。例如，也可以組合在實施方式3說明的事項、在實施方式9說明的事項。

[產業上的利用可能性] 本發明是對將浴室除菌的裝置有用。

1:除菌液散布裝置 1a:開口 1b:後端部 1f:前端部 5:限制部 11:送風裝置(第一送風裝置、第三送風裝置) 12:支撐體 21:收容部 23:超音波產生元件 26:水槽 26t:上端 40:控制裝置 51:第一限制部件 51u:下端 91:加熱部 92:吸水素材 100:浴室環境調整裝置 103:吸入口 104:吹出口 105:安裝部 121:本體部 204:暖氣用熱交換器 210:送風裝置(第二送風裝置) 511:限制面 Lp:液柱 Ls:液面

圖1是表示本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的圖。 圖2是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的俯視圖。 圖3是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的剖面圖。 圖4是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的方塊圖。 圖5是表示本發明的實施方式1的控制裝置執行的處理的流程圖。 圖6是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第一其他例的剖面圖。 圖7是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第二其他例的剖面圖。 圖8是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第三其他例的剖面圖。 圖9是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第四其他例的剖面圖。 圖10是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第五其他例的剖面圖。 圖11是本發明的實施方式1的除菌液散布裝置的第六其他例的剖面圖。 圖12是本發明的實施方式2的除菌液散布裝置的剖面圖。 圖13是本發明的實施方式2的除菌液散布裝置的其他例的剖面圖。 圖14是本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的仰視圖。 圖15是本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的構成的圖。 圖16是放大本發明的實施方式3的本體單元的一部分而表示的圖。 圖17是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的構成的圖。 圖18是本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的方塊圖。 圖19是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的其他例的圖。 圖20是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的第一其他例的仰視圖。 圖21是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的第二其他例的仰視圖。 圖22是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的第三其他例的仰視圖。 圖23是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的第四其他例的仰視圖。 圖24是表示本發明的實施方式3的浴室環境調整裝置的第五其他例的仰視圖。 圖25是表示本發明的實施方式4的浴室環境調整裝置的仰視圖。 圖26是表示本發明的實施方式4的浴室環境調整裝置的第一其他例的仰視圖。 圖27是表示本發明的實施方式4的浴室環境調整裝置的第二其他例的仰視圖。 圖28是表示本發明的實施方式5的浴室環境調整裝置的構成的方塊圖。 圖29是表示本發明的實施方式5的控制裝置執行的處理的流程圖。 圖30是表示本發明的實施方式6的浴室環境調整裝置的構成的方塊圖。 圖31是表示本發明的實施方式6的控制裝置執行的處理的流程圖。 圖32是表示本發明的實施方式7的除菌液散布裝置的構成的剖面圖。 圖33是表示本發明的實施方式7的浴室環境調整裝置的構成的方塊圖。 圖34是表示本發明的實施方式7的控制裝置執行的處理的流程圖。 圖35是表示本發明的實施方式8的控制裝置執行的處理的流程圖。 圖36是本發明的實施方式9的除菌液散布裝置的剖面圖。

1:除菌液散布裝置

1a:開口

1b:後端部

1f:前端部

5:限制部

10:第一單元

11:送風裝置(第一送風裝置、第三送風裝置)

111:葉片

112:風扇馬達

12:支撐體

122:支撐部件

13:供應管

14:調整閥

15:支撐體

20:第二單元

21:收容部

22:電極對

23:超音波產生元件

23a:壓電元件

23b:基座部件

231:振動面

232:收容空間

24:水位感測器

25:第一導引部件

251:導引面

26:水槽

261:第一槽壁部

262:第二槽壁部

26t:上端

51:第一限制部件

51u:下端

51t:上端

121:本體部

121a:蓋體

121b:壁部

511:限制面

512:背面

C:天花板部

CS:天花板面

L:水

Lp:液柱

Ls:液面

RX:軸心

S:霧流通空間

WD1:傾斜方向

α 1:第一傾斜角度

α 2:第二傾斜角度

Claims (8)

1. 一種除菌液散布裝置，其散布除菌液，其包括：水槽，收容該除菌液；送出口，位於比該水槽上端靠下方位置，用於從該水槽周圍向外部送出該除菌液的霧；超音波產生元件，以對該除菌液賦予超音波振動，相對於該除菌液的液面傾斜的方式使該除菌液的液柱產生；以及限制部，限制該除菌液向該水槽之外飛散；其中該超音波產生元件，使該液柱產生，藉此使該霧產生，該限制部包含限制從該液柱落下的該除菌液向該水槽之外飛散的限制面，該限制面位於比該水槽內的該液面靠上方位置，且在該液柱傾斜的方向中比該液柱更下游側設置。
2. 如請求項1的除菌液散布裝置，其中，該限制面的下端位於該液面的上方；該限制面的下端的至少一部分位於比該水槽的外緣更內側。
3. 如請求項1或2的除菌液散布裝置，還包括：第一送風裝置，使風產生；該第一送風裝置使朝向該限制面的下端的風產生。
4. 如請求項1或2的除菌液散布裝置，其包括：收容部，收容該水槽；以及支撐部，支撐該收容部；並且該支撐部包含與該水槽的外緣的一部分接觸的本體部；該本體部中比與該水槽接觸部分靠上側部分作為該限制部發揮功能。
5. 如請求項4的除菌液散布裝置，還包括： 第一送風裝置，被該本體部支撐，使風產生；該第一送風裝置使朝向與該液柱傾斜的方向為相反方向的風產生。
6. 一種浴室環境調整裝置，其包括：吸入口，吸入空氣；吹出口，吹出該空氣；以及安裝部，安裝請求項1至5中任一項的除菌液散布裝置；板，從浴室的天花板面或壁面露出；其中該吸入口及該吹出口在該板中排列設置；該除菌液散布裝置包含：配置該限制部的側的第一側部；以及與該第一側部為相反側的第二側部；該除菌液散布裝置是以該第一側部成為在該板中該吸入口及該吹出口排列方向上的該吸入口所被設置的一側的方式，安裝在該安裝部。
7. 一種浴室環境調整裝置，其包括：吸入口，吸入空氣；吹出口，吹出該空氣；以及安裝部，安裝請求項1至5中任一項的除菌液散布裝置；板，從浴室的天花板面或壁面露出；其中該吸入口及該吹出口在該板中排列設置；該除菌液散布裝置包含：配置該限制部的側的第一側部；以及與該第一側部為相反側的第二側部；該安裝部是，在該板中，在比該吹出口之中的、在與該吸入口及該吹出口排列方向相交的方向中對向的兩個端部的一方更外側配置； 該除菌液散布裝置是以該第二側部成為在該板中該吸入口及該吹出口排列方向上該吹出口所被設置的一側的方式，安裝在該安裝部。
8. 如請求項6或7的浴室環境調整裝置，還包括：熱交換器，將該空氣變換成熱風；第二送風裝置，將該熱風向該除菌液散布裝置送；以及控制裝置，控制該第二送風裝置、以及該超音波產生元件的動作；該控制裝置執行對該除菌液賦予該超音波振動而使該霧產生的除菌液散布處理；若該除菌液散布處理結束，則執行除菌液乾燥處理；在該除菌液乾燥處理中，該控制裝置使該第二送風裝置驅動。

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