TWI653985B - Surface treatment powder using the acid of aminic acid and cosmetics containing the same - Google Patents
Surface treatment powder using the acid of aminic acid and cosmetics containing the sameInfo
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Abstract
本發明之課題係開發兼顧塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性良好之表面處理粉體,藉由調配其處理粉體,而提供塗佈時之觸感柔滑、對肌膚之親和性良好、且化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之化妝料。解決該課題之化妝料用粉體係特徵為經茶胺酸表面處理者。
Description
本發明係關於觸感柔滑且肌膚親和性良好之茶胺酸表面處理粉體及利用其之使用感柔滑且對肌膚之附著良好、化妝膜之均勻性及經時之化妝持續性優異之化妝料。
基於化妝效果與其持續性或觸感調整等為目的,於化妝料中調配無機粉體、有機粉體、色素粉體等各種粉體。然而,尤其是無機粉體由於為無機物故對肌膚之親和性差,因此調配其之化妝料在肌膚上之持續性差,粗糙感亦強,故對皮膚帶來物理性刺激,而損及塗佈時之柔滑感。此外,由於無機粉體彼此之凝聚性高且對油之分散性差,故亦有減低化粧料之長期保存安定性、或化妝效果及紫外線吸收效果者。過去,為解決該等問題,已進行以各種表面處理劑處理粉體之表面。例如,以酯油或金屬皂、卵磷脂、聚矽氧油(參照例如專利文獻1~2)、全氟烷基油(參照例如專利文獻3~4)進行表面處理之方法等多數為已知。
然而,以酯油或金屬皂、聚矽氧油、全氟烷基油等表面處理之粉體雖然為柔滑觸感且對皮膚之物理性刺激低,但對活體之親和性差,故並非可滿足對肌膚之親和性者。且,為了使觸感良好、提高對肌膚之親和性,已知有使用醯化之胺基酸之技術(參照例如專利文獻5~6),或使用使胺基酸之聚合物的多肽經醯化而成之醯化多肽之技術(參照例如專利文獻7~8),但其效果並未令人滿足。
且過去以來,雖要求使用性或觸感良好並且化妝持續性高之化妝料,但滿足該等兩者之要求並不容易。尤其粉末化妝料中,若欲追求化妝持續性,而過度提高與肌膚之附著性,則會喪失柔滑抹開性,而有使用性及使用感變差之傾向。進而亦須要均勻地形成化妝膜,但完全具備該等要求之化妝料實際上有困難。
又,消費者對於化妝料持續性之需求中,亦要求防止因二次附著造成化妝膜脫離(因手或手帕、口罩等接觸塗佈化妝料後之肌膚,而使化妝膜崩塌而消失)。然而,僅提高與肌膚之附著性之化妝料亦難以防止對手或衣服之附著。為了防止二次附著,已知有例如使用有機聚矽氧樹脂之技術(專利文獻9),或使用以特定之皮膜形成劑予以表面被覆之粉體之技術(專利文獻10),調配氮化硼粉末與被膜劑之技術(專利文獻11)等,但其效果或使用時之觸感良好性並非充分滿足者。
[專利文獻1]日本特開平5-339518號公報
[專利文獻2]日本特開2001-072527號公報
[專利文獻3]日本特開平10-167931號公報
[專利文獻4]日本特開平11-335227號公報
[專利文獻5]日本特公平1-50202號公報
[專利文獻6]日本特開平3-200879號公報
[專利文獻7]日本特開平10-226626號公報
[專利文獻8]日本特開平9-328413號公報
[專利文獻9]日本特開平10-218725號公報
[專利文獻10]日本特開2007-302800號公報
[專利文獻11]日本特開2000-302644號公報
本發明之課題係提供觸感柔滑且對肌膚之親和性良好之新穎表面處理粉體,及塗佈時之觸感柔滑、對肌膚之親和性良好、且化妝膜之均勻性及化妝持續性優異之化妝料,進而提供防止因二次附著造成之化妝膜脫離之優異化妝料。
本發明人等鑑於該情況而進行積極研究之結果,發現胺基酸衍生物中,茶胺酸與肌膚之構成成分之角質素之親和性高,藉由使用茶胺酸進行粉體之表面處理,可改善塗佈時之觸感或肌膚親和性,且,將以該茶胺酸進行表面處理之粉體調配於化妝料中,可獲得塗佈時之持續柔滑,對肌膚之親和性優異,且化妝膜之均勻性及化妝持續性優異之化妝料。進而,發現藉由於以茶胺酸進行表面處理之無機粉體中組合有機粉體,而獲得塗佈時之抹開柔滑性或化妝膜之均勻性、經時之化妝持續性進一步提高,防止因二次附著造成之化妝膜脫離之效果亦優異之粉末化妝料,因而完成本發明。
亦即,本發明係一種經茶胺酸表面處理之化妝料用粉體。
另本發明係調配上述經表面處理之粉體之化妝料。
進而本發明係含有經茶胺酸表面處理之無機粉體與有機粉體之粉末化妝料。
又本發明係含有經茶胺酸表面處理之無機粉體及有機粉體,以及氮化硼之粉末化妝料。
本發明所用之茶胺酸與肌膚(皮膚)之構成成分的角質素之親和性優異,故以少量的處理量即可提高粉體對肌膚之親和性,且觸感亦柔滑者。因此,調配該經
茶胺酸表面處理之粉體之化妝料係對肌膚之親和性優異,且抹開柔滑而使用性亦良好者,進而,化妝膜之均勻性或化妝持續效果亦優異。且,組合藉由茶胺酸表面處理之無機粉體與有機粉體之粉末化妝料係塗佈時之抹開柔滑性或化妝膜之均勻性、經時之化妝持續性進一步提高,進而防止因二次附著造成之化妝膜脫離之效果亦優異者。
本發明所用之茶胺酸之化學名為榖胺酸-γ-單乙基醯胺,存在有d體與1體,一般為1體,但本發明亦可包含d體。關於茶胺酸,使用測定ATR解析之波數位移之手法比較各種胺基酸衍生物與角質素之親和性時,確認到氫鍵之低波數位移。茶胺酸之市售品列舉為L-Theanine(栗田工業股份有限公司製)、或Sun-Thernine(太陽化學公司製)等。
本發明之表面處理粉體係使上述之茶胺酸擔持於粉體表面者。經表面處理之粉體若為通常用於化妝料之粉體,則不因球狀、板狀、針狀等形狀,或煙霧狀、微粒子、顏料級等之粒徑、或多孔質、無孔質等之粒子構造等而特別限制,可使用無機粉體類、光亮性粉體、有機粉體類、有
機色素粉體類、複合粉體類等之1種或2種以上,但以無機粉體類、光亮性無機粉體及複合無機粉體類等之無機粉體較佳,更好為無機板狀粉體及氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵等之金屬氧化物顏料。
前述無機粉體類可使用選自氧化鈦、黑色氧化鈦、紺青、群青、鐵丹(Bengala)、黃色氧化鐵、黑色氧化鐵、氧化鋅、氧化鋁、二氧化矽、氧化鎂、氧化鋯、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鉻、氫氧化鉻、碳黑、矽酸鋁、矽酸鎂、矽酸鋁鎂、雲母、合成雲母、絹雲母、滑石、高嶺土、碳化矽、硫酸鋇、膨潤土、蒙脫土及氮化硼等之1種或2種以上。又,該等亦可使用調製成10~80nm左右之微粒子者。
前述光亮性無機粉體類可使用選自氧氯化鉍、被覆氧化鈦之雲母、被覆氧化鐵之雲母、被覆氧化鐵之雲母鈦、被覆氧化鈦之玻璃粉末及鋁粉等之1種或2種以上。光亮性無機粉體類其一部分亦可含有機化合物,但較好表面之一部分或全部以無機化合物被覆。
前述有機粉體類可使用選自尼龍粉、聚甲基丙烯酸甲酯粉、丙烯腈-甲基丙烯酸共聚物粉、偏氯乙烯-甲基丙烯酸共聚物粉、PET樹脂粉末、聚乙烯粉、聚苯乙烯粉、有機聚矽氧烷彈性體粉、聚甲基倍半矽氧烷粉、聚胺基甲酸酯粉、羊毛粉、蠶絲粉、結晶纖維素粉、及N-醯基離胺酸粉等之1種或2種以上。
前述色素粉體類可使用選自有機焦油系顏
料、有機色素之色澱顏料等之1種或2種以上。
前述複合無機粉體類可使用選自微粒子氧化鈦被覆之雲母鈦、微粒子氧化鋅被覆之雲母鈦、硫酸鋇被覆之雲母鈦、含氧化鈦之二氧化矽、含氧化鋅之二氧化矽等之1種或2種以上。複合無機粉體類亦可於其一部分含有有機化合物,但較好表面之一部分或全部以無機化合物被覆。
該等中,尤其,經表面處理之粉體之較佳者為滑石、雲母等之板狀無機粉體、及氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵等之金屬氧化物顏料。例如,氧化鈦之情況下,尤其是微粒子之情況下,在未處理之狀態下容易凝聚,但若使用上述之茶胺酸作為表面處理劑,則經表面處理之氧化鈦之分散性變良好,故可對化妝料有效賦予氧化鈦特徵的UV阻隔效果。
本發明中,粉體之表面處理方法可利用過去以來用以使化妝料中使用之粉體改質所使用之習知處理方法。例如,使用溶劑之濕式法、在氣相中處理之乾式法、伴隨混合粉碎及剪斷之機械化學法等,尤其是使用水系溶劑時,表面處理變均質故較佳。具體而言,可將茶胺酸溶解於50℃之水中,將粉體添加於該水溶液中,以亨歇爾混練機等混合機均勻攪拌混合後,使粉體乾燥‧粉碎而獲得表面處理粉體。
且,本發明之表面處理粉體為了改良對化妝
料基材之分散性、改良觸感等,可進而使用聚矽氧化合物、氟化合物、油劑、油脂、高級醇、蠟、高分子、樹脂等通常習知之表面處理劑複合地被覆處理。
如此所得之表面處理粉體之茶胺酸處理量並無特別限制,但較好為處理粉體中之0.002~20質量%(以下簡稱為「%」),更好為0.1~5%。若為該範圍,則成為觸感或肌膚親和性優異之化妝料用粉體,藉由調配此可獲得塗佈時之持續柔滑,對肌膚之親和性優異,且化妝膜之均勻性及化妝持續性亦優異之化妝料。
本發明之表面處理粉體係將上述茶胺酸擔持於上述粉體表面上而成者,但本發明中之擔持形態並無特別限制,可使茶胺酸以粒狀擔持於粉體表面,亦可與其他成分一起擔持成被膜狀。且,茶胺酸可藉由物理性附著於粉體表面而擔持,亦可以化學鍵結擔持,亦可不於粉體表面全體擔持而擔持於其一部分上。
本發明之化妝料係依據慣用之方法,使上述表面處理粉體之1種或2種以上與習知之化妝料成分組合調配而製造。本發明之化妝料中,該表面處理粉體之調配量並無特別限制,雖隨化妝料之劑型或項目而不同,但為0.1~90%,較好為5~40%。
化妝料中可視需要適當調配可調配成分。例如,可調配油劑、界面活性劑、醇類、水、保濕劑、凝膠
化劑及增黏劑、上述之表面處理粉體以外之粉體、紫外線吸收劑、防腐劑、抗菌劑、抗氧化劑、美膚用成分(美白劑、細胞賦活劑、抗炎症劑、血行促進劑、皮膚收斂劑、抗脂漏劑等)、維他命類、胺基酸類、核酸、賀爾蒙等。
本發明之化妝料之劑型列舉為粉體劑型、水包油型乳化劑型、油包水型乳化劑型、油性劑型、水性劑型、溶劑型等。且,化妝料之形態可列舉為粉末狀、粉末固形狀、油性固形狀、乳霜狀、凝膠狀、液狀、泡沫狀、噴霧狀等。該等中,尤其藉由成為粉體劑型,可使本發明之表面處理粉體之特性發揮至最大限度故較佳。且,本發明之化妝料只要是含有本發明之表面處理粉體者即可,尤其,可較好地使用於粉底、亮眼遮瑕霜(concealer)、蜜粉、眼影、頰紅、化妝粉底、眼影霜、口紅、眉筆、睫毛膏、眼線筆、指甲油等彩妝化妝料,及防曬化妝料。
作為本發明之化妝料,最佳之化妝料為與經茶胺酸表面處理之無機粉體一起調配有機粉體之粉末化妝料。
本發明之粉末化妝料所用之經茶胺酸表面處理之無機粉體係上述之化妝料用粉體中,使用無機粉體作為被處理粉體者。
作為表面處理劑使用之茶胺酸之化學名為榖胺酸-γ-單乙基醯胺,存在有d體1體但一般為1體,本發明亦可包含d體。關於茶胺酸,使用測定ATR解析之波
數位移之手法比較各種胺基酸衍生物與角質素之親和性,確認到氫鍵之低波數位移。茶胺酸之市售品列舉為L-Theanine(栗田工業股份有限公司製)、或Sun-Thernine(太陽化學公司製)等。
經表面處理之無機粉體若為通常於化妝料中所用之粉體,則不因球狀、板狀、針狀等形狀,或煙霧狀、微粒子、顏料級等之粒徑、或多孔質、無孔質等之粒子構造等而特別限制,可使用無機粉體類、光亮性無機粉體類、複合無機粉體類等之1種或2種以上。
前述無機粉體類可使用選自氧化鈦、黑色氧化鈦、紺青、群青、鐵丹、黃色氧化鐵、黑色氧化鐵、氧化鋅、氧化鋁、二氧化矽、氧化鎂、氧化鋯、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鉻、氫氧化鉻、碳黑、矽酸鋁、矽酸鎂、矽酸鋁鎂、雲母、合成雲母、絹雲母、滑石、高嶺土、碳化矽、硫酸鋇、膨潤土、蒙脫土及氮化硼等之1種或2種以上。又,該等亦可使用調製成10~80nm左右之微粒子者。
前述光亮性無機粉體類列舉為氧氯化鉍、被覆氧化鈦之雲母、被覆氧化鐵之雲母、被覆氧化鐵之雲母鈦、被覆氧化鈦之玻璃粉末及鋁粉等。光亮性無機粉體類於其一部分亦可含有有機化合物,但較好表面之一部分或全部以無機化合物被覆。
前述複合無機粉體類可列舉為微粒子氧化鈦被覆之雲母鈦、微粒子氧化鋅被覆之雲母鈦、硫酸鋇被覆之雲母
鈦、含氧化鈦之二氧化矽、含氧化鋅之二氧化矽等。複合無機粉體類亦可於其一部分含有有機化合物,但該情況較好表面之一部分或全部以無機化合物被覆。
該等中,尤其,本發明之經表面處理之粉體之較佳者為滑石、雲母等之板狀無機粉體、及氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵等之金屬氧化物顏料。例如,氧化鈦之情況下,尤其是微粒子之情況下,在未處理之狀態下容易凝聚,但若使用上述之茶胺酸作為表面處理劑,則經表面處理之氧化鈦之分散性變良好,故可對化妝料有效賦予氧化鈦特徵的UV阻隔效果。
本發明中使用之表面處理粉體之表面處理方法可利用過去以來用以使化妝料中使用之粉體改質所使用之習知處理方法。例如,使用溶劑之濕式法、在氣相中處理之乾式法、伴隨混合粉碎及剪斷之機械化學法等,尤其是使用水系溶劑時,表面處理變均質故較佳。具體而言,可將茶胺酸溶解於50℃之水中,將粉體添加於該水溶液中,以亨歇爾混練機等混合機均勻攪拌混合後,使粉體乾燥‧粉碎而獲得表面處理粉體。
本發明中使用之表面處理粉體係將上述茶胺酸擔持於上述粉體之表面而成者,擔持形態並無特別限制,例如可使茶胺酸以粒狀擔持於粉體表面上,亦可與其他成分一起擔持成被膜狀。此外,茶胺酸可藉由物理性附著於粉體表面而擔持,亦可以化學鍵結擔持,亦可不於粉體表面全體上擔持而擔持於其一部分上。
且,茶胺酸之處理量並無特別限制,較好為表面處理粉體中之0.002~20%,更好為0.1~5%。若處理量在該範圍內,則可獲得對肌膚之親和性優異之表面處理粉體,調配其之化妝料為觸感亦良好者。
本發明之粉末化妝料中,經茶胺酸表面處理之無機粉體之含量並無特別限制,但較好為0.1~90%,更好為1~40%。若在該範圍內使用,則可有效發揮表面處理粉體本身對肌膚之親和性,與有機粉體組合作成粉末化妝料時,亦可防止因二次附著造成之化妝膜之脫離效果(以下簡稱為二次附著減低效果)變高故較佳。
另一方面,本發明之粉末化妝料所用之有機粉體若為通常使用於化妝料中之有機粉體,則不因球狀、板狀等形狀、或微粒子等之粒徑、或多孔質、無孔質等之粒子構造等而特別限制。具體而言,可使用選自尼龍粉、聚甲基丙烯酸甲酯粉、聚丙烯酸烷酯粉、丙烯腈-甲基丙烯酸共聚物粉、偏氯乙烯-甲基丙烯酸共聚物粉、PET樹脂粉末、聚乙烯粉、聚苯乙烯粉、有機聚矽氧烷彈性體粉、聚甲基倍半矽氧烷粉、聚胺基甲酸酯粉、羊毛粉、蠶絲粉、結晶纖維素粉、及N-醯基離胺酸粉等之1種或2種以上。該等中尤其以尼龍粉、聚甲基丙烯酸甲酯粉、結晶纖維素粉及有機聚矽氧烷彈性體粉,藉由與茶胺酸表面處理無機粉體組合而可成為柔滑且塗抹性、使用感優異者故較佳。
本發明之粉末化妝料中之有機粉體之含量並
無特別限制,但較好為0.1~30%,更好為5~20%。若為該範圍,則有機粉體附著於朝肌膚表面附近配向之茶胺酸表面處理粉體層之外側,發揮對手或衣服之阻隔效果,且提高二次附著減低效果故較佳。
本發明之粉末化妝料較好進一步含有氮化硼。本發明中使用之氮化硼若為通常化妝料所用之氮化硼則結晶構造並無限制,亦可使用六方晶形、立方晶形等任一種結晶構造者。且其平均粒徑亦無特別限制,較好為1~200μm左右,更好為5~20μm左右。進而其含量亦無特別限制,較好為0.1~30%左右,更好為0.5~5%左右。若為該範圍,則因氮化硼之滑澤性而進一步提高化妝膜之均勻性,故相乘地提高化妝持續性或二次附著減低效果。又,平均粒徑係利用雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置(HORIBA LA-950 PARTICLE ANALYZER)測定之值。
此外,本發明之粉末化妝料除上述成分外,在不損及本發明效果之範圍內可視需要適當調配可調配於通常化妝料之成分。
具體而言可調配例如上述表面處理粉體及有機粉體以外之粉體、油劑、界面活性劑、醇類、水、保濕劑、紫外線吸收劑、防腐劑、抗菌劑、抗氧化劑、美容成分(美白劑、細胞賦活劑、抗炎症劑、血行促進劑、皮膚收斂劑、抗脂漏劑、維他命類、胺基酸類等)。
本發明之粉末化妝料之性狀可列舉為粉末狀、粉末固形狀。
且其製造方法並無特別限制,可為例如將經茶胺酸表面處理之無機粉體、有機粉體及視需要調配之其他粉體混合分散,且視需要於其中添加油劑等並均勻分散者直接填充於容器中,作成粉末狀之化妝料。作成粉末固形狀時,則列舉為使之填充成型於金屬製或樹脂製之碟狀容器中之方法(乾式壓縮成型),或預先分散於溶劑後進行充填,並乾燥成型之方法(濕式成型)。
且,本發明之粉末化妝料可列舉為粉底、亮眼遮瑕霜、蜜粉、眼影、頰紅等彩妝化妝料。
以下列舉實施例等更詳細說明本發明,但本發明並不因該等而受任何限制。
使用茶胺酸作為表面處理劑,藉以下方法調製表面處理粉體。
於氧化鈦(TIPAQUE CR-50:石原產業股份有限公司製)或微粒子氧化鈦(MT-500SA:TAYCA股份有限公司製)49.0g中添加混合將表面處理劑的茶胺酸1.0g溶解於水70g中而成之溶液,使之風乾,以粉碎機粉碎獲得2.0%之處理氧化鈦。
與上述同樣,於紅氧化鐵(TAROX R-516P:鈦工業股份有限公司製)或黃氧化鐵(TAROX IRON OXIDE YP1200P:鈦工業股份有限公司製)或黑氧化鐵(TAROX BLACK BL-100P:鈦工業股份有限公司製)47.5g中添加混合將表面處理劑的茶胺酸2.5g溶解於水70g中而成之溶液,使之風乾,以粉碎機粉碎獲得5.0%之處理氧化鐵。
與上述同樣,於滑石(TALC JA-46R:淺田製粉股份有限公司製)、雲母(雲母粉,TM-20:YAMAGUCHI MICA公司製)或絹雲母(SERICITE FSE:三信擴工業股份有限公司製)49.5g中添加混合將表面處理劑的茶胺酸0.5g溶解於水70g中而成之混合液,使之風乾,以粉碎機粉碎獲得1.0%之處理粉體。
於絹雲母(SERICITE FSE:三信鑛工業股份有限公司製)49.0g中添加混合將表面處理劑的茶胺酸1.0g溶解於水70g中而成之溶液,使之風乾,以粉碎機粉碎獲得茶胺酸(2%)處理之絹雲母。
依據上述製造實施例4,對各種粉體以成為處理量(X%)之量添加茶胺酸,獲得茶胺酸(X%)處理粉體。
除了將上述製造實施例1~3之茶胺酸及水替代成甲基氫聚矽氧烷(KF-99-P:信越化學工業股份有限公司製)以外,餘依據上述製造例,以甲基氫聚矽氧烷表面處理各製造實施例1~3之原料粉體,獲得各粉體。
除了將上述製造實施例1~3之茶胺酸替代成硬脂醯基榖胺酸2鈉以外,餘依據上述製造例,以硬脂醯基榖胺酸2鈉表面處理各製造例1~3之原料粉體,獲得各粉體。
以下述方法評價上述製造實施例5所得之茶胺酸處理粉體。
評價以手指將等量之未處理之各種粉體及製造實施例5所得之處理粉體抹開於化妝品評價專門測試員10名之上腕內側部時之觸感。評價不同處理粉體時,係洗除前一樣品後進行後續評價。與未處理之各樣品比較且針對「柔
滑性」、「肌膚親和性之良好」,各自根據以下評價基準進行評價,接著使用全部測試員評分之平均點數,根據以下判定基準進行判定。
(評價基準)
(判定基準)
藉由以茶胺酸進行表面處理,顯示任一種粉體在廣泛處理量下,與未處理之粉體比較塗佈時之觸感均柔滑,肌膚親和性亦良好。
(化妝料之配方劑)
於以下配方中使用以上述方法調製之表面處理粉體。
〈實施例1~4及比較例1~3:粉狀粉底〉
依據表2之組成及製造方法調製實施例1~4及比較例1~3之粉狀粉底。針對所得各粉狀粉底,藉以下所示方法,針對柔滑使用感、化妝膜之均勻性、化妝持續性、二次附著減低效果進行評價。其結果亦一併示於表2。
A:混合分散成分1~16。
B:將成分17~19添加於A中且均勻混合。
C:以粉碎機粉碎B。
針對前述實施例及比較例之樣品,對化妝品評價專門測試員20名對「柔滑之使用感」、「化妝膜之均勻性」、「化妝持續性」每個項目,各自依據以下評價基準進行7階段評價,再使用全部測試員之評分之平均點,根據以下判定基準進行判定。又,化妝持續性係將各試料塗佈於臉上,過正常之生活,針對6小時後之化妝效果與剛塗佈後進行比較而評價。
(評價結果):(評分)
非常良好:6點
良好:5點
稍良好:4點
普通:3點
稍不良:2點
不良:1點
非常不良:0點
(評分之平均點):(判定)
5.0以上:◎非常良好
3.5以上~未達5.0:○良好
1.5以上~未達3.5:△不良
未達1.5:×非常不良
藉以下基準評價將前述實施例及比較例之各樣品塗佈於全臉並經修飾後,立刻以紙巾按壓額頭部分時,因朝紙巾移行之粉底所致之著色程度。
(評價結果):(評分)
非常良好(未著色):6點
良好(幾乎未著色):5點
稍良好:4點
普通(稍有著色):3點
稍不良:2點
不良(有著色):1點
非常不良:0點
(評分之平均點):(判定)
5.0以上:◎非常良好
3.5以上~未達5.0:○良好
1.5以上~未達3.5:△不良
未達1.5:×非常不良
實施例1~4之粉狀粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性、二次附著減低效果優異之粉狀粉底。另一方面,使用甲基氫聚矽氧烷處理粉體或硬脂醯基榖胺酸鹽處理粉體替代本發明之表面處理粉體之比較例1、2、及不含本發明之表面處理粉體之比較例3係各項目均差者。
依據表3之組成及製造方法調製實施例5~9及比較例4之粉狀粉底。針對所得各粉狀粉底,以前述評價方法,針對「柔滑之使用感」、「化妝膜之均勻性」、「化妝持續效果」、「二次附著減低效果」進行評價。其結果亦一併示於表3。
A:混合分散成分1~12。
B:將成分13~16添加於A中且均勻混合。
C:以粉碎機粉碎B。
實施例5~9之粉狀粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性、二次附著減低效果優異之粉狀粉底。此預測係因為有機粉體之滑澤性良好及與茶胺酸之親和性高所致。另一方面,比較例為化妝持續效果及二次附著減低效果差之結果。
(1)以輥均勻分散成分1~7。
(2)均勻混合成分8~15、21。
(3)將(1)添加於(2)中,且均勻混合。
(4)將成分16~20添加於(3)中,經乳化,獲得W/O型粉底。
實施例之W/O型粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性、二次附著減低效果優異之W/O型粉底。
(1)以輥均勻分散成分1~9。
(2)加溫溶解成分10~12。
(3)將成分13~18添加於(1)、(2)中,且均勻混合。
(4)將成分19~23添加於(3)中,經乳化,獲得W/O型BB乳霜。
實施例之W/O型BB乳霜塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之W/O型BB乳霜。
(1)以輥均勻分散成分1~10。
(2)使成分11~16均勻溶解。
(3)將(1)及成分17、18添加於(3)中,且均勻混合獲得油性粉底。
實施例之油性粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之油性粉底。
(1)以輥均勻分散成分1~8。
(2)均勻混合成分9~14。
(3)將(1)添加於(2)中,且均勻混合。
(4)在80℃混合溶解成分15~21。
(5)在80℃下將(4)添加於(3)中,進行乳化。
(6)使(5)冷卻,添加成分22,獲得O/W型粉底。
實施例之O/W型粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之O/W型粉底。
(1)在90℃下加熱溶解成分9~19。
(2)將成分1~8添加於(1)中,且以輥均勻分散。
(3)將成分20添加於(2)中,在80℃溶解後,填充於金碟中,獲得油性固態粉底。
實施例之油性固態粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之油性固態粉底。
(1)均勻混合成分1~4。
(2)以亨歇爾混練機邊攪拌(1)邊添加成分5~8,均勻混合。
(3)以粉碎機粉碎(2),獲得蜜粉。
實施例之粉末狀蜜粉塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之粉末狀蜜粉。
(1)加溫溶解成分3、4後,添加成分1、2且以三
軸輥均勻分散。
(2)在70℃下使成分5~11溶解後,在60℃添加(1),且均勻混合溶解。
(3)混合溶解成分12~14後,在60℃添加於(2)中並乳化。
(4)將成分15、16添加於(3)中並均勻混合,獲得W/O型防曬料。
實施例之W/O型防曬料塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之附著亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性優異之W/O型防曬料。
(1)以亨歇爾混練機(三井三池公司製)在75℃均勻分散成分1~14。
(2)均勻混合溶解成分15~18。
(3)以亨歇爾混練機邊攪拌(1)邊添加(2),均勻分散。
(4)以粉碎機粉碎(3)。
(5)將(4)填充於金碟中,壓縮成型,獲得固態粉末狀之粉底。
實施例之固態粉末狀粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜均勻之美麗彩妝,亦無對口罩色移之優異固態粉末狀粉底。
(1)以亨歇爾混練機(三井三池公司製)均勻分散成分1~11。
(2)均勻混合溶解成分12~15。
(3)以亨歇爾混練機邊攪拌(1)邊添加(2),均
勻分散。
(4)以粉碎機粉碎(3)。
(5)將(4)填充於金碟中,壓縮成型,獲得固態粉末狀之眼影。
實施例之固態粉末狀眼影塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性及二次附著減低效果優異之固態粉末眼影。
(1)以亨歇爾混練機(三井三池公司製)均勻分散成分1~7。
(2)均勻混合溶解成分8~10。
(3)以亨歇爾混練機邊攪拌(1)邊添加(2)及11,均勻分散。
(4)以粉碎機粉碎(3)。
(5)將(4)填充於金碟中,壓縮成型,獲得固態粉末狀臉部彩妝。
實施例之固態粉末狀臉部彩妝塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性及二次附著減低效果優異之固態粉末狀臉部彩妝。
(1)以亨歇爾混練機(三井三池公司製)均勻分散成分1~5。
(2)均勻混合成分6~9。
(3)以亨歇爾混練機邊攪拌(1)邊添加(2),均勻混合。
(4)以粉碎機粉碎(3),獲得蜜粉。
實施例之粉末狀蜜粉塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性及二次附著減低效果優異之粉末狀蜜粉。
(1)將成分11~14加溫至70℃,且混合溶解。
(2)均勻攪拌混合成分1~10。
(3)將(1)添加於(2)中且均勻攪拌混合。
(4)將相對於(3)100質量份為100質量份之作為溶劑之5%乙醇水溶液添加於(3)中,經均勻攪拌混合成為漿液狀。
(5)將(4)填充於碟狀容器中,將溶劑吸收用紙夾在化妝料與壓縮用壓縮頭之間,邊吸取所添加之溶劑邊進行壓縮成型。
(6)在室溫下乾燥(5)10小時,獲得粉底。
實施例之粉底塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性及二次附著減低效果優異之粉底。
(1)均勻攪拌混合成分1~11。
(2)均勻混合成分12~14。
(3)將(2)添加於(1)中且均勻攪拌混合。
(4)於(2)中以相對於(2)100質量份添加30質量份之作為溶劑之輕質液體異鏈烷,經均勻攪拌混合成為漿液狀。
(5)將(4)填充於碟狀容器中,將溶劑吸收用紙夾在化妝料與壓縮用壓縮頭之間,邊吸取所添加之溶劑邊進行壓縮成型。
(6)在室溫下乾燥(5)10小時,獲得眼影。
實施例之眼影塗佈時之觸感柔滑,對肌膚之親和性亦良好,為化妝膜之均勻性、化妝持續性及二次附著減低效果優異之眼影。
Claims (11)
- 一種化妝料用粉體,其係經茶胺酸表面處理使茶胺酸擔持於粉體表面者。
- 如請求項1之化妝料用粉體,其中前述粉體係由無機粉體類、光亮性無機粉體類及複合無機粉體類所組成之群選出之1種或2種以上之無機粉體。
- 如請求項1或2之化妝料用粉體,其中茶胺酸之處理量係經表面處理之粉體中之0.002~20質量%。
- 一種化妝料,其係調配如請求項1~3中任一項之化妝料用粉體。
- 如請求項4之化妝料,其中前述化妝料用粉體在化妝料中之含量為0.1~90%。
- 一種粉末化妝料,其含有經茶胺酸表面處理使茶胺酸擔持於粉體表面之無機粉體,與有機粉體。
- 如請求項6之粉末化妝料,其中經茶胺酸表面處理之無機粉體在粉末化妝料中之含量為0.1~90質量%。
- 如請求項6或7之粉末化妝料,其中前述有機粉體係由尼龍粉、聚甲基丙烯酸甲酯粉、結晶纖維素粉及(乙烯基二甲矽氧(methicone)/甲矽氧倍半矽氧烷)交聯聚合物所組成之群選出之1種或2種以上。
- 如請求項6或7之粉末化妝料,其中前述有機粉體在粉末化妝料中之含量為0.1~30質量%。
- 如請求項6或7之粉末化妝料,其中進而含有氮化硼。
- 如請求項10之粉末化妝料,其中前述氮化硼在粉末化妝料中之含量為0.1~30質量%。
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