TWI650182B - 電漿噴塗裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之課題，係在提供可以降低成為熔滴之粒子表面的氧化，來形成氧化物較少之噴塗皮膜的電漿噴塗裝置。本發明之解決手段，具備：於陰極(40)之外周形成一次氣體通路(11)並覆蓋陰極(40)之前端部的一次氣體噴嘴(10)；配置於一次氣體噴嘴(10)之外側並形成二次氣體通路(21)之二次氣體噴嘴(20)；以及在一次氣體噴嘴(10)與二次氣體噴嘴(20)之間，形成三次氣體通路(31)的三次氣體噴嘴(30)，三次氣體通路(31)在電漿火焰(F)之外周部接受電漿火焰(F)的熱噴射成高溫氣體噴射的三次氣體。

Description

電漿噴塗裝置

本發明係關於，將電漿電弧移至電傳導性之金屬絲來發生電漿火焰，一邊使金屬絲熔滴一邊進行噴射之電漿噴塗裝置。

第7圖係傳統電漿噴塗裝置之概念剖面圖。如第7圖所示，傳統電漿噴塗裝置90，係具備：形成一次氣體通路91a之一次氣體噴嘴91；配置於一次氣體噴嘴91之外側，形成二次氣體通路92a之二次氣體噴嘴92；配置於一次氣體噴嘴91之噴嘴口91b及二次氣體噴嘴92之噴嘴口92a之大致中心軸上的陰極93；電源裝置94；以及對二次氣體噴嘴92之噴嘴口92a附近供應噴塗用之電傳導性金屬絲W的金屬絲導引孔95。

金屬絲W，係從金屬絲導引孔95朝向噴嘴口92a之中心軸而供應給斜前方。並且，從一次氣體通路91a噴出之一次氣體，被發生在介由二次氣體噴嘴92間接連結於電源裝置94之陽極側的金屬絲W、及連結於電源裝置94之陰極側的陰極93之間的電弧電漿化而成為電漿火焰F，並以熔滴D來噴射金屬絲W。該熔滴D，被從二次氣體通路92a朝二次氣體噴嘴92之前方噴射的二次氣體進一步微細化，再加速地被噴射於被處理物T上，而形成噴塗被膜S。

並且，如上所示之傳統電漿噴塗裝置90時，一次氣體，係使用氮氣體或氬氣體等惰性氣體，二次氣體，係使用壓縮空氣、氮氣體、二氧化碳等之氣體(例如，參照專利文獻1)。然而，實際運用時，二次氣體方面，因為氮氣體及二氧化碳等之運轉成本較高，而利用低成本之壓縮空氣。在電漿噴塗裝置90，以該二次氣體之壓縮空氣來圍繞被電漿化之一次氣體，可以使電漿化之一次氣體的噴射變細，而且，可以實現一次氣體之高速化。

[專利文獻1]日本特開平9-308970號公報

然而，在傳統之電漿噴塗裝置90，係利用二次氣體之噴射來使熔融之金屬絲W的熔滴D變細，而且，為了對各熔滴D賦予充份之速度，噴塗皮膜S中之金屬材料，因為熔融時之二次氣體之壓縮空氣的急速混入，而於電漿火焰F之外周部發生擾動。所以，成為熔滴D之粒子的表面氧化，而使噴塗皮膜S中含有金屬材料之氧化物。

所以，本發明之目的，係在提供一種以降低成為熔滴之粒子表面的氧化，來形成氧化物較少之噴塗皮膜的電漿噴塗裝置。

本發明之電漿噴塗裝置，係具備：陰極；於該陰極之外周形成一次氣體通路並覆蓋陰極之前端部的一次氣體噴嘴；配置於該一次氣體噴嘴之外側並形成二次氣體通路之 二次氣體噴嘴；以及對該二次氣體噴嘴之噴嘴口附近供應噴塗用之金屬絲的金屬絲通路，利用由金屬絲通路所供應之金屬絲的前端、與陰極之間所產生的電弧，一次氣體噴嘴所噴射之一次氣體被電漿化，並形成由一次氣體噴嘴所噴射之電漿火焰使金屬絲之前端成為熔滴，再以電漿火焰及二次氣體噴嘴所噴射之二次氣體將該溶摘噴射至被處理物上之電漿噴塗裝置，且，在一次氣體噴嘴及二次氣體噴嘴之間，於電漿火焰之外周部則具備有：形成有用以噴射使其受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射為目的之三次氣體之三次氣體通路的三次氣體噴嘴。

依據本發明之電漿噴塗裝置，在從配置於一次氣體通路及二次氣體通路之間之三次氣體通路所噴射之三次氣體流之內側，受取電漿火焰之熱而形成高溫之氣體噴射。藉由該高溫之氣體噴射，於外側噴射之二次氣體之急速混入時，抑制從電漿火焰之外周部所發生的擾動，因為防止電漿火焰之擴散，故可減少成為熔滴之粒子表面的氧化。

此處，三次氣體可以使用壓縮空氣及二氧化碳等，然而，三次氣體以使用氬氣體及氮氣體等惰性氣體為佳。三次氣體使用惰性氣體時，防止二次氣體之急速混入而從電漿火焰之外周部所發生之擾動，並且，在電漿火焰之外周部，形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之惰性氣體噴射。藉此，熔滴之粒子，因為在高溫之惰性氣體噴射中被微細化、加速，而可避免二次氣體所導致的氧化。

並且，在本發明之電漿噴塗裝置，即使一次氣體使用 壓縮空氣時，也可形成氧化較少之噴塗皮膜。一次氣體使用壓縮空氣時，一次氣體大約含有20%之氧，然而，氣體被電漿化之狀態下，熔融金屬之氧化作用當然減少，故使用壓縮空氣作為一次氣體，應可減少噴塗皮膜之氧化。然而，在傳統之電漿噴塗裝置，因為二次氣體之急速混入而使電漿火焰受到擾動時，熔滴之氧化會過度進行，故一次氣體使用壓縮空氣時，會導致皮膜品質的降低。另一方面，本發明之電漿噴塗裝置時，係利用三次氣體於電漿火焰之外周部形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射，因為可以防止二次氣體之急速混入而使電漿火焰受到擾動，即使一次氣體使用壓縮空氣時，也可形成氧化較少之噴塗皮膜。

(1)藉由具有：於一次氣體噴嘴及二次氣體噴嘴之間，形成有用以噴射以在電漿火焰之外周部受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射為目的之三次氣體之三次氣體通路的三次氣體噴嘴，故可防止電漿火焰之擴散，減少成為熔滴之粒子表面的氧化，而可形成氧化物較少之噴塗皮膜。

(2)三次氣體使用惰性氣體時，於電漿火焰之外周部形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之惰性氣體噴射，因為熔滴之粒子在高溫之惰性氣體噴射中被微細化、加速，而避免二次氣體所導致之氧化，故可形成氧化物更少之噴塗皮膜。

(3)一次氣體使用壓縮空氣時，三次氣體也會於電漿火焰之外周部形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射，進而防止二次氣體之急速混入所造成之電漿火焰的擾動，故可形成氧化較少之噴塗皮膜。

第1圖係本發明之實施方式之電漿噴塗裝置的概略構成圖，第2圖係第1圖之電漿火矩之主要部位的詳細縱剖面圖，第3圖係第2圖之A箭頭方向圖，第4圖係第1圖之電漿火矩的動作說明圖。

第1圖中，本發明之實施方式之電漿噴塗裝置1，係具有：將因電漿火焰而成為熔滴之金屬絲W噴射於被處理物上之電漿噴塗火矩2；對電漿噴塗火矩2供應一次氣體及二次氣體之氣體供應源3；對電漿噴塗火矩2供應動作電力之電源4；供金屬絲W捲繞之金屬絲捲軸5；用以矯正從金屬絲捲軸5被拉出之金屬絲W之捲曲習性的金屬絲矯正機6；以及以金屬絲步進管8對電漿噴塗火矩2供應金屬絲W之金屬絲供應機構7。

如第2圖所示，電漿噴塗火矩2，係具備：形成一次氣體通路11之一次氣體噴嘴10；配置於一次氣體噴嘴10之外側，形成二次氣體通路21之二次氣體噴嘴20；配置於一次氣體噴嘴10及二次氣體噴嘴20之間，形成三次氣體通路31之三次氣體噴嘴30；配置於一次氣體噴嘴10之噴嘴口12及二次氣體噴嘴20之噴嘴口22之大致中心軸上的陰極40；以及對二次氣體噴嘴20之噴嘴口22附近供應噴塗用金屬絲W之金屬絲通路50。

一次氣體噴嘴10，係以覆蓋陰極40之前端部的方式來形成，並且，於陰極40之外周，形成一次氣體通路11。供應給該一次氣體通路11之一次氣體，係以發生電漿火焰而使金屬絲之前端成為熔滴為目的之氣體，為氮氣體及氬氣體等惰性氣體。或者，該一次氣體也可使用壓縮空氣。由一次氣體通路11所供應之一次氣體，以繞過陰極40外周的方式被供應，由一次氣體噴嘴10之噴嘴口12朝二次氣體噴嘴20之前方噴射。

三次氣體噴嘴30，係以包圍一次氣體噴嘴10之外側的方式來形成，並且，於一次氣體噴嘴10之外周，形成三次氣體通路31。三次氣體，係以於一次氣體所發生之電漿火焰外周部形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射為目的之氣體，為壓縮空氣及碳酸氣體等氣體。二次氣體噴嘴20，係以包圍三次氣體噴嘴30之外側的方式來形成，並且，於三次氣體噴嘴30之外周，形成二次氣體流路21。二次氣體，係以從外側對一次氣體所形成之電漿火焰之噴射以急速混入之方式進行噴射，使熔滴成為更細之物並使熔滴具有充份之速度來噴射於被處理物上為目的之氣體，係壓縮空氣及碳酸氣體等氣體。

一次氣體，因為係以氣體流量變化來適度改變電漿火陷之溫度、速度及發生電壓，故其流量以在50～120(L/分)之範圍為佳。並且，一次氣體之流量為50(L/分)以下時，電漿火焰之速度較慢，將導致噴塗皮膜品質的降低。另一方面，一次氣體之流量超過120(L/分)時，電漿火焰之速度太快，溫度降低而導致噴塗皮膜品質的降低。

二次氣體，如前面所述，係以從外側對一次氣體所形成之電漿火焰之噴射以急速混入之方式進行噴射，來使熔滴細化且賦予熔滴充份之速度為目的，故其流量以250～500(L/分)為佳。並且，二次氣體之流量在250(L/分)以下時，熔滴細化不足，或者，賦予熔滴充份之速度的效果減少，將導致噴塗皮膜品質的降低。另一方面，二次氣體之流量超過500(L/分)時，熔滴過細且熔滴過度冷卻，將導致噴塗皮膜品質的降低。

三次氣體，如前面所述，為了於一次氣體所發生之電漿火焰的外周部形成受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射，故體積比應為一次氣體之流量的20～50%之範圍，並且，為了抑制二次氣體噴射所導致之電漿火焰的擾動及氣體擴散，體積比以二次氣體之流量的5～10%之範圍為佳。而且，為了有效發揮抑制二次氣體噴射所導致之電漿火焰之擾動及氣體擴散的效果，使三次氣體之流量，隨著二次氣體流量之增減而連動變化，故以二次氣體之流量較少時，三次氣體之流量也較少，二次氣體之流量較多時，三次氣體之流量也較多之方式為佳。

並且，三次氣體之流量，在一次氣體之流量未達20%、或二次氣體之流量未達5%時，因為三次氣體之噴射抑制電漿火焰之擾動及氣體擴散的效果較少，不易得到提升噴塗皮膜品質之效果。另一方面，三次氣體之流量，超過一次氣體之流量的50%、或超過二次氣體之流量的10%時，因為發生較強之三次氣體的噴射，形成於其內側之受取電漿火焰之熱而成為高溫之氣體噴射不足，就無法充份發揮抑制電漿火焰之擾動及氣體擴散的效果，而難以獲得提升噴塗皮膜品質的效果。

金屬絲通路50，係由：具有形成於二次氣體噴嘴20之噴嘴口22附近之金屬絲出口51b的一次金屬絲通路51a；及對該一次金屬絲通路51a以特定傾斜角θ供應金屬絲W之二次金屬絲通路52a；所構成。金屬絲通路50，係以一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a，對金屬絲W賦予不超過彈性限度之範圍的彎曲。

如第3圖所示，一次金屬絲通路51a，係具有電漿火焰之伸展方向較長之略呈長方形的剖面形狀，係以使配置於二次氣體噴嘴20外側之一次金屬絲導引構件51貫通成直線狀之方式來形成。同樣的，二次金屬絲通路52a，也具有電漿火焰之伸展方向較長之略呈長方形的剖面形狀，係以使配置於離開一次金屬絲通路51a之位置的二次金屬絲導引構件52貫通成直線狀之方式來形成。

一次金屬絲通路51a之長邊方向的寬度a，設定成金屬絲W之直徑d之10%以上且95%以下之範圍的大小。此外，一次金屬絲通路51a之短邊方向的寬度b，則設定成金屬絲W之直徑d之3%以上且未達10%之範圍的大小。並且，本實施方式之金屬絲W的直徑d為1.6mm，長邊方向之寬度a設定成比金屬絲W之直徑d大0.2～1.5mm程度的大小，短邊方向之寬度b則設定成比金屬絲W之直徑d大0.05～0.15mm程度的大小。二次金屬絲通路52a方面，也是相同的設定。

並且，一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a所具有之大致呈長方形的剖面形狀，除了長方形剖面形狀以外，也包含在長方形剖面形狀之角部不接觸金屬絲W之外面的範圍實施C面倒角及R面倒角等之加工的形狀。然而，本實施方式之金屬絲W，一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a內之長邊方向之平面或短邊方向之平面的任一平面，只承受到垂直方向之力。

而且，二次金屬絲通路52a之相對於一次金屬絲通路51a之傾斜角θ，係一次金屬絲通路51a之中心線及二次金屬絲通路52a之中心線所夾之角。本實施方式時，傾斜角θ設定在1～5°程度。並且，二次金屬絲導引構件52，係配設於與一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a隔著間隙c之位置。本實施方式時，間隙c設定成3～10mm程度。

如上所示之本實施方式之電漿噴塗火矩2時，與一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a係隔著間隙c來進行配置，而分別依直線狀之一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a形成為擬似大曲線狀的金屬絲通路50，對金屬絲W賦予不超過彈性範圍之範圍的彎曲。並且，一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a，也可以分別為曲線狀。

電源4之陽極側，係連結於一次金屬絲導引構件51，並且，間接連結於通過該一次金屬絲導引構件51之一次金屬絲通路51a內的金屬絲W。另一方面，電源4之陰極側，則連結於陰極40。並且，電源4之陽極側，有時也直接連結於金屬絲W。

上述構成之電漿噴塗裝置1，被捲繞於金屬絲捲軸5之金屬絲W由金屬絲供應機構7對電漿噴塗火矩2送出時，由金屬絲矯正機6進行金屬絲W之強捲曲習性的矯正，使其伸展成緩和之曲線狀。並且，金屬絲W介由金屬絲步進管8被供應給金屬絲通路50。在金屬絲通路50，金屬絲W，只有在一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a內之長邊方向之平面或短邊方向之平面的其中平面承受到垂直方向之力，如第4圖所示，賦予朝電漿火焰F之伸長方向之不超過彈性限度之範圍的彎曲。

此處，一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a，因為具有於電漿火焰F之伸展方向較長之大致呈長方形的剖面形狀，捲曲習性朝電漿火焰F之伸展方向舒展。尤其是，本實施方式時，短邊方向之寬度b，因為設定成比金屬絲W之直徑d大3%以上且未達10%之範圍的大小，故不會朝相對於電漿火焰F之伸展方向的直角方向舒展。所以，金屬絲W之前端部分，相對於電漿火焰F之伸展方向，即使發生若干位置偏移，也可防止其朝相對於電漿火焰F之伸長方向的直角方向偏移，而位於電漿火焰F之軸線上。

第5圖，係金屬絲通路之剖面形狀及金屬絲所受取之力的方向。第5圖中，大致長方形剖面A，係長方形剖面形狀，大致長方形剖面B，對長方形剖面形狀之角部在未接觸金屬絲W之外面的範圍實施C面倒角加工的形狀，大致長方形剖面C，係對長方形剖面形狀之角部在未接觸金屬絲W之外面的範圍實施R面倒角加工的形狀。該大致呈長方形之剖面形狀時，金屬絲W不論是接觸到長邊方向之平面或接觸到短邊方向之平面，都只承受到相對於各平面之垂直方向的力。

金屬絲W，因為無法由金屬絲矯正機構7完全矯正成直線狀，而有捲曲習性殘留。並且，金屬絲步進管8，因為作業時之電漿噴塗火矩2的處理，產生各種狀態之彎曲形狀的變化，而無法有一定之形狀。是以，形狀不一定之殘留著捲曲習性的金屬絲W在金屬絲步進管8內被傳送的話，配合金屬絲步進管8之形狀的彎曲及扭轉力作用於金屬絲W。藉由該彎曲及扭轉之力，金屬絲W在彈性限度內與彈簧同樣地自由彎曲，而以力之方向呈現安定的位置，在金屬絲步進管8內蛇行而被傳送。

此時，在上述之大致呈長方形之剖面形狀，金屬絲W接觸到短邊方向之平面時，承受到相對於該短邊方向之平面的垂直方向，亦即，電漿火焰F之伸展方向(以下，稱為「X方向」)之力，捲曲習性朝電漿火焰F之伸展方向舒展。並且，只接觸到該短邊方向之平面而承受到相對於電漿火焰F之伸展方向的直角方向(以下，稱為「Y方向」)之力時，金屬絲W，在短邊方向之寬度b的間隙份內自由移動，雖然接觸到長邊方向之平面，此時，因為相對於長邊方向之平面的垂直方向(Y方向)之力的作用，而使金屬絲W之位置處於安定。尤其是，承受到扭轉之力時，X方向及Y方向之力分散成短邊方向及長邊方向之力，力以垂直方向作用於各面，產生抑制金屬絲W之扭轉的作用，故金屬絲W之位置處於安定。

另一方面，圓形剖面及橢圓剖面時，金屬絲W接觸圓形剖面及橢圓剖面之曲面的話，只會承受到相對於該曲面之垂直方向的力，金屬絲W可沿著曲面自由地移動。尤其是，承受到扭轉之力時，因為金屬絲W沿著曲面自由旋轉，而不抑制金屬絲W之扭轉。所以，金屬絲W所承受之力的方向不一定，故金屬絲W之位置處於不安定。

是以，本實施方式之電漿噴塗裝置1時，金屬絲W之前端部分，可以對電漿火焰F之中心部安定地供應金屬絲W。並且，一次氣體通路11所噴出之一次氣體，被介由一次金屬絲導引構件51間接地連結於電源4之陽極側的金屬絲W、及連結於電源4之陰極側之陰極40之間所產生電弧電漿化而成為電漿火焰F，並以熔滴D來噴射金屬絲W。該熔滴D，因為從二次氣體通路21被朝二次氣體噴嘴20之前方噴射之二次氣體而更微細化，並更加速地噴射於被處理物T上，而形成噴塗皮膜S。

此時，在本實施方式之電漿噴塗裝置1，在從配置於一次氣體通路11及二次氣體通路21之間的三次氣體通路31所噴射之三次氣體流的內側，形成受取電漿火焰F之熱而成為高溫之氣體噴射G。藉由該高溫之氣體噴射G，可以抑制於其外側所噴射之二次氣體之急速混入而於電漿火焰F之外周部所發生的擾動，而防止電漿火焰F之氣體擴散，減低成為熔滴D之粒子之表面的氧化。藉此，可以形成被處理物T上氧化較少之噴塗皮膜S。

此外，是以，在本實施方式之電漿噴塗裝置1，因為利用三次氣體於電漿火焰F之外周部形成受取電漿火焰F之熱而成為高溫之氣體噴射，來防止二次氣體之急速混入所導致之電漿火焰F的擾動，即使一次氣體使用壓縮空氣時，也可形成氧化較少之噴塗皮膜S。

並且，三次氣體使用惰性氣體之氮氣體及氬氣體等時，如上面所述，不但可以防止二次氣體之急速混入所導致之電漿火焰F之外周部所發生的擾動，而且，於電漿火焰F之外周部形成受取電漿火焰F之熱而成為高溫之惰性氣體噴射。藉此，熔滴D之粒子，在防止粒子之成分變化的狀態下，被高溫之惰性氣體噴射微細化，並被加速，故可避免二次氣體所導致的氧化。藉此，可以形成氧化較少之噴塗皮膜72。

並且，本實施方式時，使一次金屬絲通路51a及二次金屬絲通路52a之雙方具有電漿火焰之伸展方向較長之大致呈長方形之剖面形狀，然而，也可以為只有其中一方具有電漿火焰之伸展方向較長之大致呈長方形之剖面形狀。此時，利用具有電漿火焰之伸展方向較長之大致呈長方形之剖面形狀的一次金屬絲通路或二次金屬絲通路，使金屬絲W之捲曲習性朝電漿火焰F之伸展方向舒展，可將金屬絲W之前端部分供應給電漿火焰F之中心部。

[實施例]

在三次氣體使用壓縮空氣及惰性氣體之氮氣體、及不使用三次氣體時，實施比較試驗。在本實施例，噴塗材料係使用鋁系合金，測定噴塗皮膜之自然電位作為噴塗皮膜之氧化程度的指標，來確認三次氣體之效果。並且，在運轉成本之降低手法上，一次氣體、二次氣體、及三次氣體之全部氣體皆使用便宜之壓縮空氣來製作噴塗皮膜，測定噴塗皮膜之自然電位，來確認3次氣體之效果。第6圖，係自然電位測定方法的說明圖。

第6圖所示之自然電位之測定，係利用飽和KCl之鹽橋於試驗片(試驗TP)之噴塗皮膜表面創造5w% NaCl之環境，比對電極使用飽和氯化銀電極，以檢驗機測定自然電位。並且，為了使電位之測定數值呈現安定，以測定開始之600秒後的電位作為測定值。試驗結果，彙整如表1所示，表1之各條件之皮膜的自然電位測定結果如表2所示。

如表1所示，未使用三次氣體時及使用壓縮空氣作為三次氣體時，使用壓縮空氣作為三次氣體，呈現約60mV之低電位。此外，使用惰性氣體之氮氣體作為三次氣體時，呈現約150mV之低值。並且，全部氣體使用便宜之壓縮空氣時，呈現約50mV之低值。由此可確認到，利用三次氣體，可以減少噴塗皮膜內部之氧化。

本發明之電漿噴塗裝置，對於以在鋼構造物之表面形成防鏽用噴塗皮膜為目的之裝置係有用的。

1．．．電漿噴塗裝置

2．．．電漿噴塗火矩

3．．．氣體供應源

4．．．電源

5．．．金屬絲捲軸

6．．．金屬絲矯正機

7．．．金屬絲供應機構

10．．．一次氣體噴嘴

11．．．一次氣體通路

12．．．噴嘴口

20．．．二次氣體噴嘴

21．．．二次氣體通路

22．．．噴嘴口

30．．．三次氣體噴嘴

31．．．三次氣體通路

40．．．陰極

50．．．金屬絲通路

51．．．一次金屬絲導引構件

51a．．．一次金屬絲通路

52．．．二次金屬絲導引構件

52a．．．二次金屬絲通路

第1圖係本發明之實施方式之電漿噴塗裝置的概略構成圖。

第2圖係第1圖之電漿噴塗火矩之主要部位的詳細縱剖面圖。

第3圖係第2圖之A箭頭方向圖。

第4圖係第1圖之電漿噴塗火矩的動作說明圖。

第5圖係金屬絲通路之剖面形狀及金屬絲所受取之力的方向說明圖。

第6圖係自然電位測定方法的說明圖。

第7圖係傳統電漿噴塗裝置的概念剖面圖。

Claims (7)

1. 一種電漿噴塗裝置，其係具備：陰極；於該陰極之外周形成一次氣體通路並覆蓋前述陰極之前端部的一次氣體噴嘴；配置於該一次氣體噴嘴之外側並形成二次氣體通路之二次氣體噴嘴；以及對該二次氣體噴嘴之噴嘴口附近供應噴塗用金屬絲之金屬絲通路；且，藉由在前述金屬絲通路所供應之前述金屬絲的前端與前述陰極之間所發生之電弧，使由前述一次氣體噴嘴所噴射之一次氣體電漿化，而形成由前述一次氣體噴嘴所噴射之電漿火焰，使前述金屬絲之前端成為熔滴，藉由前述電漿火焰及前述二次氣體噴嘴所噴射之二次氣體，將該熔滴噴射於被處理物上之電漿噴塗裝置，其特徵為：在前述一次氣體噴嘴與前述二次氣體噴嘴之間，具備於前述電漿火焰之外周部形成有可承受前述電漿火焰之熱並噴射高溫氣體噴射用的三次氣體之三次氣體通路的三次氣體噴嘴。
2. 如申請專利範圍第1項記載之電漿噴塗裝置，其中前述三次氣體之流量，其體積比係前述一次氣體之流量的20~50%且為前述二次氣體之流量的5~10%。
3. 如申請專利範圍第1項記載之電漿噴塗裝置，其中前述三次氣體，係壓縮空氣或二氧化碳。
4. 如申請專利範圍第2項記載之電漿噴塗裝置，其中前述三次氣體，係壓縮空氣或二氧化碳。
5. 如申請專利範圍第1項記載之電漿噴塗裝置，其中前述三次氣體，係惰性氣體。
6. 如申請專利範圍第2項記載之電漿噴塗裝置，其中前述三次氣體，係惰性氣體。
7. 如申請專利範圍第1至6項之任一項記載之電漿噴塗裝置，其中前述一次氣體，係壓縮空氣。