JPH0368469A - プラズマワイヤ溶射加工方法およびその装置 - Google Patents
プラズマワイヤ溶射加工方法およびその装置Info
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- JPH0368469A JPH0368469A JP1203511A JP20351189A JPH0368469A JP H0368469 A JPH0368469 A JP H0368469A JP 1203511 A JP1203511 A JP 1203511A JP 20351189 A JP20351189 A JP 20351189A JP H0368469 A JPH0368469 A JP H0368469A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title abstract description 13
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 63
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 32
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 22
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 88
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、溶射ワイヤにプラズマを移行させて行なう、
プラズマワイヤ溶射加工方法及びその装置に間するもの
である。
プラズマワイヤ溶射加工方法及びその装置に間するもの
である。
［従来の技術］
この種のプラズマワイヤ溶射加工は、溶射ワイヤを送給
しつつ、この溶射ワイヤにプラズマアークを移行させ、
これを細粒化して被加工物に向けて吹きつけ溶射皮膜を
形成させるものである。
しつつ、この溶射ワイヤにプラズマアークを移行させ、
これを細粒化して被加工物に向けて吹きつけ溶射皮膜を
形成させるものである。
ところで、プラズマガスのｔｉｔ又は圧力を増して、プ
ラズマアークを絞ることにより、プラズマエネルギーを
増大させ、溶射ワイヤをより細粒化しうろことは確認さ
れているが、プラズマガスの流量又は圧力を増すことに
より、アークの点弧が困難となり、このため必然的に溶
射加工時のプラズマエネルギーを抑制されることとなる
。このことは、プラズマガスとして２原子ガスを用い泰
場合はなおのことである。また一方、溶射加工時にアト
マイジング方スを増大させることにより、溶射粒子を効
率よく細粒子化させうる力１、アーク点弧時には不安定
になる要素となっていた。従って、これもアーク点弧時
にアークが安定して点弧しうる範囲内で条件を設定して
いた。
ラズマアークを絞ることにより、プラズマエネルギーを
増大させ、溶射ワイヤをより細粒化しうろことは確認さ
れているが、プラズマガスの流量又は圧力を増すことに
より、アークの点弧が困難となり、このため必然的に溶
射加工時のプラズマエネルギーを抑制されることとなる
。このことは、プラズマガスとして２原子ガスを用い泰
場合はなおのことである。また一方、溶射加工時にアト
マイジング方スを増大させることにより、溶射粒子を効
率よく細粒子化させうる力１、アーク点弧時には不安定
になる要素となっていた。従って、これもアーク点弧時
にアークが安定して点弧しうる範囲内で条件を設定して
いた。
第４図は、この種のプラズマワイヤ溶射加工方法に用い
る従来の装置である。プラズマワイヤ溶射加工時は、プ
ラズマワイヤ溶射用トーチ１の電極１１を陰極として、
溶射ワイヤ２を陽極とする溶射用電源３の出力により、
この種のプラズマワイヤ溶射加工では、通常窒素ガスな
どの雰囲気中で、プラズマアークＰを発生させ、溶射ワ
イヤ２を送給しつつプラズマ溶射を行なっていくもので
あり、Ｍはその溶射粒子である。４は窒素ガスなどのプ
ラズマガスＧを充填したガスボンベであり、このプラズ
マガスＧが電磁弁５を介して、プラズマワイヤ溶射用ト
ーチ１の電極１１とチップ１２間のプラズマガス供給部
１６に適宜供給され、チップ１２のチップオリフィス１
２ａから適宜放出される。６はエア源であり、プラズマ
ワイヤ溶射用トーチ１の冷却エアＣと、通常エアが用い
られるアトマイジングガスＡとに分岐され、それぞれ電
磁弁７，８を介して、一方はチップ１２とニアリング１
３間の冷却エア供給部１７に、他方は溶射ユニッ）１４
のアトマイソングガス供給部１８に供給される。また冷
却エアＣはリング孔１３ａから、アトマイジングガスＡ
はガス噴出孔１４ａから放出される。なお１５は、溶射
ワイヤ２を案内する溶射ユニット１４に取着されたワイ
ヤガイドである。またアーク点弧時は、溶射用電源３の
出力を、陰極側の電極１１と陽極側の制限抵抗９を介し
たチップ１２間に供給し、パイロットアークを発生する
ようにしている。
る従来の装置である。プラズマワイヤ溶射加工時は、プ
ラズマワイヤ溶射用トーチ１の電極１１を陰極として、
溶射ワイヤ２を陽極とする溶射用電源３の出力により、
この種のプラズマワイヤ溶射加工では、通常窒素ガスな
どの雰囲気中で、プラズマアークＰを発生させ、溶射ワ
イヤ２を送給しつつプラズマ溶射を行なっていくもので
あり、Ｍはその溶射粒子である。４は窒素ガスなどのプ
ラズマガスＧを充填したガスボンベであり、このプラズ
マガスＧが電磁弁５を介して、プラズマワイヤ溶射用ト
ーチ１の電極１１とチップ１２間のプラズマガス供給部
１６に適宜供給され、チップ１２のチップオリフィス１
２ａから適宜放出される。６はエア源であり、プラズマ
ワイヤ溶射用トーチ１の冷却エアＣと、通常エアが用い
られるアトマイジングガスＡとに分岐され、それぞれ電
磁弁７，８を介して、一方はチップ１２とニアリング１
３間の冷却エア供給部１７に、他方は溶射ユニッ）１４
のアトマイソングガス供給部１８に供給される。また冷
却エアＣはリング孔１３ａから、アトマイジングガスＡ
はガス噴出孔１４ａから放出される。なお１５は、溶射
ワイヤ２を案内する溶射ユニット１４に取着されたワイ
ヤガイドである。またアーク点弧時は、溶射用電源３の
出力を、陰極側の電極１１と陽極側の制限抵抗９を介し
たチップ１２間に供給し、パイロットアークを発生する
ようにしている。
ところで従来は、溶射加工時にプラズマガスの流量又は
圧力を増すことにより、プラズマエネルギーを増大させ
、溶射ワイヤをより細粒化しうることがわかっていても
、これによりアークの点弧が困難となり、また一方、溶
射加工時にアトマイジングガスを増大させることにより
、溶射粒子を効率よく細粒子化させうろことに対しても
、アークの点弧が不安定になることから、アーク点弧時
はアークが安定して点弧しうる範囲内で条件を設定して
いた。
圧力を増すことにより、プラズマエネルギーを増大させ
、溶射ワイヤをより細粒化しうることがわかっていても
、これによりアークの点弧が困難となり、また一方、溶
射加工時にアトマイジングガスを増大させることにより
、溶射粒子を効率よく細粒子化させうろことに対しても
、アークの点弧が不安定になることから、アーク点弧時
はアークが安定して点弧しうる範囲内で条件を設定して
いた。
従って、従来のプラズマワイヤ溶射加工方法、またその
Ｈ置では、より効率的な溶射加工に対処しえるものでは
なく、より高度な溶射技術を駆使することは望むべくも
なかった。
Ｈ置では、より効率的な溶射加工に対処しえるものでは
なく、より高度な溶射技術を駆使することは望むべくも
なかった。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明は、プラズマワイヤ溶射加工において、アーク点
弧時のプラズマガスおよびアトマイジングガスの流量又
は圧力と、溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイジ
ングガスの流量又は圧力とを、それぞれ適正な条件に設
定し、これを切換えることにより、より効率的でより高
度な溶躬加工が可能なプラズマワイヤ溶射加工方法と、
同じくアーク点弧時と溶射加工時のプラズマガスおよび
アトマイジングガスの値を、単独に又は双方とも切換え
うるその装置を提供することにある。
弧時のプラズマガスおよびアトマイジングガスの流量又
は圧力と、溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイジ
ングガスの流量又は圧力とを、それぞれ適正な条件に設
定し、これを切換えることにより、より効率的でより高
度な溶躬加工が可能なプラズマワイヤ溶射加工方法と、
同じくアーク点弧時と溶射加工時のプラズマガスおよび
アトマイジングガスの値を、単独に又は双方とも切換え
うるその装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、プラズマワイヤ溶射加工における、従来技術
の問題°点を解決するために、第１には、プラズマガス
の供給を、アー り点弧特には所定値よりも低い値とし
、溶射ワイヤにプラズマアークが移行した後に所定値に
増大せしめることを特徴とするプラズマワイヤ溶射加工
方法であり、第２には、溶射ワイヤにプラズマアークが
移行したことを検出するアーク移行検出回路を設け、該
アーク移行検出回路の出力を、プラズマガスの値を切換
える電空比例弁の切換信号としたことを特徴とするプラ
ズマワイヤ溶射加工装置である。本発明の第３は、アト
マイジングガスの供給を、アーク点弧時にはＯないしは
所定値よりも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアーク
が移行した後に所定値に増大せしめることを特徴とする
プラズマワイヤ溶射加工方法であり、本発明の第４は、
溶射ワイヤにプラズマアークが移行したことを検出する
アーク移行検出回路を設け、該アーク移行検出回路の出
力を、アトマイジングガスの値を切換える電空比例弁の
切換信号としたことを特徴とするプラズマワイヤ溶射加
工装置である。本発明の第５は、プラズマアーク及びア
トマイジングガスの供給を、アーク点弧時には所定値よ
りも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアークが移行し
た後に所定値に増大せしめることを特徴とするプラズマ
ワイヤ溶射加工方法であり、本発明の第６は、溶射ワイ
ヤにプラズマアークが移行したことを検出するアーク移
行検出回路を設け、該アーク移行検出回路の出力を、プ
ラズマガス及びアトマイジングガスのそれぞれの値を切
換える、それぞれの電空比例弁を単独に又は双方とも切
換える切換信号としたことを特徴とするプラズマワイヤ
溶射加工装置にある。
の問題°点を解決するために、第１には、プラズマガス
の供給を、アー り点弧特には所定値よりも低い値とし
、溶射ワイヤにプラズマアークが移行した後に所定値に
増大せしめることを特徴とするプラズマワイヤ溶射加工
方法であり、第２には、溶射ワイヤにプラズマアークが
移行したことを検出するアーク移行検出回路を設け、該
アーク移行検出回路の出力を、プラズマガスの値を切換
える電空比例弁の切換信号としたことを特徴とするプラ
ズマワイヤ溶射加工装置である。本発明の第３は、アト
マイジングガスの供給を、アーク点弧時にはＯないしは
所定値よりも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアーク
が移行した後に所定値に増大せしめることを特徴とする
プラズマワイヤ溶射加工方法であり、本発明の第４は、
溶射ワイヤにプラズマアークが移行したことを検出する
アーク移行検出回路を設け、該アーク移行検出回路の出
力を、アトマイジングガスの値を切換える電空比例弁の
切換信号としたことを特徴とするプラズマワイヤ溶射加
工装置である。本発明の第５は、プラズマアーク及びア
トマイジングガスの供給を、アーク点弧時には所定値よ
りも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアークが移行し
た後に所定値に増大せしめることを特徴とするプラズマ
ワイヤ溶射加工方法であり、本発明の第６は、溶射ワイ
ヤにプラズマアークが移行したことを検出するアーク移
行検出回路を設け、該アーク移行検出回路の出力を、プ
ラズマガス及びアトマイジングガスのそれぞれの値を切
換える、それぞれの電空比例弁を単独に又は双方とも切
換える切換信号としたことを特徴とするプラズマワイヤ
溶射加工装置にある。
［作用コ
本発明のプラズマワイヤ溶射加工方法は、プラズマガス
の供給を、アーク点弧時には所定値よりも低い値とし、
またはアトマイジングガスの供給を、アーク点弧時には
０ないし所定値よりも低い値としし、あるいはこれらを
組合せたたものであるから、アークが安定して点弧しう
るものであり、溶射ワイヤにプラズマアークが移行した
後は、これらを所定値に増大せしめるものであるから、
より効率的でより高度な溶射加工が可能となるものであ
る。また、本発明のプラズマワイヤ溶射加工装置は、前
記した溶射加工方法を可能ならしめるため、″ａ射クワ
イヤプラズマアークが移行したことを検出するアーク移
行検出回路を設け、このアーク移行検出回路の出力を、
プラズマガス及びアトマイジングガスのそれぞれの値を
切換える、それぞれの電空比例弁を単独に又は双方とも
切換える切換信号としたものであるから、アーク点弧時
と溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイジングガス
切換えが、簡単な装置で容易にその目的を達成しえるも
のである。
の供給を、アーク点弧時には所定値よりも低い値とし、
またはアトマイジングガスの供給を、アーク点弧時には
０ないし所定値よりも低い値としし、あるいはこれらを
組合せたたものであるから、アークが安定して点弧しう
るものであり、溶射ワイヤにプラズマアークが移行した
後は、これらを所定値に増大せしめるものであるから、
より効率的でより高度な溶射加工が可能となるものであ
る。また、本発明のプラズマワイヤ溶射加工装置は、前
記した溶射加工方法を可能ならしめるため、″ａ射クワ
イヤプラズマアークが移行したことを検出するアーク移
行検出回路を設け、このアーク移行検出回路の出力を、
プラズマガス及びアトマイジングガスのそれぞれの値を
切換える、それぞれの電空比例弁を単独に又は双方とも
切換える切換信号としたものであるから、アーク点弧時
と溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイジングガス
切換えが、簡単な装置で容易にその目的を達成しえるも
のである。
［発明の実施例コ
次に、本発明の実施例について、第１図ないし第３図を
用いて説明を行なう。なお、先に述べた第４図の従来例
と変わらない部分については、同符号を用いる。
用いて説明を行なう。なお、先に述べた第４図の従来例
と変わらない部分については、同符号を用いる。
第１図は、本発明の第１であるプラズマガスＧの供給を
、アーク点弧時には所定値よりも低い値とし、溶射ワイ
ヤ２にプラズマアークＰが移行した後に所定値に増大せ
しめる、溶射加工方法を実施するための第２の発明の装
置である。第１図において、第４図の従来例と異なると
ころは、電磁弁５に代えて電空比例弁５１とし、溶射用
電Ｒ３とワイヤガイド１５との間にアーク移行検出回路
１０を設けたことである。
、アーク点弧時には所定値よりも低い値とし、溶射ワイ
ヤ２にプラズマアークＰが移行した後に所定値に増大せ
しめる、溶射加工方法を実施するための第２の発明の装
置である。第１図において、第４図の従来例と異なると
ころは、電磁弁５に代えて電空比例弁５１とし、溶射用
電Ｒ３とワイヤガイド１５との間にアーク移行検出回路
１０を設けたことである。
そして、アーク点弧時には、溶射用電源３の出力を陰極
側の電極１１と陽極側の制限抵抗９を介したチップ１２
間に供給し、パイロットアークを発生させる。このとき
、アークが安定する点弧時のプラズマガスＧとして、所
定値よりも低い値の流量で約１８〜２０ｊ／ｍｉｎ、圧
力で約１．５〜２ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ？程度のプラズ
マガスＧを、ガスボンベ４から電空比例弁５１を介し供
給する。つぎに溶射ワイヤ２が送給さ打、電極１１を陰
極とし、溶射ワイヤ２を陽極とする溶射用電Ｒ３の出力
により、主アークであるプラズマアークＰを発生させる
。すると、アーク移行検出回路ｌＯが作動し、その出力
がプラズマガスＧの値を切換える電空比例弁５１を作動
させ、当初の所定値よりも低い値のプラズマガスＧが電
空比例弁５１を介し、所定値の一例としての、流量で約
４０１／ｍｉｎ、圧力で約５ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ程度
のプラズマガスＧが、プラズマワイヤ溶射用トーチ１の
電極１１ととチップ１２間のプラズマガス供給部１６に
適宜供給され、チップ１２のチップオリフィス１２ａか
ら適宜放出される。エア源６からの、これを分岐したプ
ラズマワイヤ溶射用トーチｌの冷却エアＣとアトマイジ
ングガスＡとしてのエアの、それぞれの電磁弁７，８を
介した供給回路などは従来例と同様である。
側の電極１１と陽極側の制限抵抗９を介したチップ１２
間に供給し、パイロットアークを発生させる。このとき
、アークが安定する点弧時のプラズマガスＧとして、所
定値よりも低い値の流量で約１８〜２０ｊ／ｍｉｎ、圧
力で約１．５〜２ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ？程度のプラズ
マガスＧを、ガスボンベ４から電空比例弁５１を介し供
給する。つぎに溶射ワイヤ２が送給さ打、電極１１を陰
極とし、溶射ワイヤ２を陽極とする溶射用電Ｒ３の出力
により、主アークであるプラズマアークＰを発生させる
。すると、アーク移行検出回路ｌＯが作動し、その出力
がプラズマガスＧの値を切換える電空比例弁５１を作動
させ、当初の所定値よりも低い値のプラズマガスＧが電
空比例弁５１を介し、所定値の一例としての、流量で約
４０１／ｍｉｎ、圧力で約５ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ程度
のプラズマガスＧが、プラズマワイヤ溶射用トーチ１の
電極１１ととチップ１２間のプラズマガス供給部１６に
適宜供給され、チップ１２のチップオリフィス１２ａか
ら適宜放出される。エア源６からの、これを分岐したプ
ラズマワイヤ溶射用トーチｌの冷却エアＣとアトマイジ
ングガスＡとしてのエアの、それぞれの電磁弁７，８を
介した供給回路などは従来例と同様である。
第２図は、本発明の第３であるアトマイジングガスＡの
供給を、アーク点弧時には０ないし所定値よりも低い値
として、溶射ワイヤ２にプラズマアークＰが移行した後
に所定値に増大せしめる、溶射加工方法を実施するため
の第４の発明の装置である。第２図において、第４図の
従来例と異なるところは、電磁弁８に代えて電空比例弁
８１とし、溶射用電Ｒ３とワイヤガイド１５との間にア
ーク移行検出回路１０を設けたことである。
供給を、アーク点弧時には０ないし所定値よりも低い値
として、溶射ワイヤ２にプラズマアークＰが移行した後
に所定値に増大せしめる、溶射加工方法を実施するため
の第４の発明の装置である。第２図において、第４図の
従来例と異なるところは、電磁弁８に代えて電空比例弁
８１とし、溶射用電Ｒ３とワイヤガイド１５との間にア
ーク移行検出回路１０を設けたことである。
そして、アーク点弧時には、パイロットアークを発生さ
せ、アトマイジングガスＡを所定値より低い値の、流量
で０〜約３００ｆｉ／ｍｉｎ、圧力でＯ〜約２ｋｇ／ｃ
１ＴＩ′程度のアトマイジングガスＡを、エア源６から
電空比飢弁８１を介して供給する。つぎに溶射ワイヤ２
が送給され、溶射用電源３の出力によりプラズマアーク
Ｐを発生さぜる。
せ、アトマイジングガスＡを所定値より低い値の、流量
で０〜約３００ｆｉ／ｍｉｎ、圧力でＯ〜約２ｋｇ／ｃ
１ＴＩ′程度のアトマイジングガスＡを、エア源６から
電空比飢弁８１を介して供給する。つぎに溶射ワイヤ２
が送給され、溶射用電源３の出力によりプラズマアーク
Ｐを発生さぜる。
すると、第１図の実施例と同様にアーク移行検出＠’１
１１１０が作動し、本実施例ではその出力がアトマイジ
ングガスへの値を切換える電空比例弁８１を作動させ、
当初の所定値よりも低い値のアトマイジングガスＡが電
空比例弁８１を介し、所定値の一例としての、流量で約
７５０ｆｉ／ｍｉｎ、圧力で約６．５ｋｇ／ｃｉ程度の
７トマイジングガスＡが、溶射ユニッ）１４のアトマイ
ソングガス供給部１８に供給され、ガス噴出孔１４ａか
ら適宜放出される。エア源６からのこれを分岐した冷却
エアＣと、ガスボンベ４からのプラズマガスＧの供給回
路などは従来例と同様である。
１１１０が作動し、本実施例ではその出力がアトマイジ
ングガスへの値を切換える電空比例弁８１を作動させ、
当初の所定値よりも低い値のアトマイジングガスＡが電
空比例弁８１を介し、所定値の一例としての、流量で約
７５０ｆｉ／ｍｉｎ、圧力で約６．５ｋｇ／ｃｉ程度の
７トマイジングガスＡが、溶射ユニッ）１４のアトマイ
ソングガス供給部１８に供給され、ガス噴出孔１４ａか
ら適宜放出される。エア源６からのこれを分岐した冷却
エアＣと、ガスボンベ４からのプラズマガスＧの供給回
路などは従来例と同様である。
第３図は、本発明の第１．第３．第５であるプラズマガ
スＧおよびアトマイジングガスへの供給を、それぞれ単
独に又は双方ともアーク点弧時には所定値よりも低い値
とし、溶射ワイヤ２にプラズマアークＰが移行した後に
所定値に増大せしめる、溶射加工方法を実施するための
第６の発明の装置である。第３図において、第４図の従
来例と異なるところは、電磁弁５．８に代えて電空比例
弁！５１．８１とし、溶射用電源３とワイヤガイド】５
との間にアーク移行検出回路１０を設けたことである。
スＧおよびアトマイジングガスへの供給を、それぞれ単
独に又は双方ともアーク点弧時には所定値よりも低い値
とし、溶射ワイヤ２にプラズマアークＰが移行した後に
所定値に増大せしめる、溶射加工方法を実施するための
第６の発明の装置である。第３図において、第４図の従
来例と異なるところは、電磁弁５．８に代えて電空比例
弁！５１．８１とし、溶射用電源３とワイヤガイド】５
との間にアーク移行検出回路１０を設けたことである。
そして、アーク点弧時には、パイロットアークを発生さ
せ、アークが安定する点弧時のプラズマガスＧを、所定
値よりも低い値の流量で約１８〜２０１！／ｍｊｎ、圧
力で約１．５〜２ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ程度のプラズマ
ガスＧを、ガスボンベ４から電空比例弁５１を介して供
給し、アトマイジングガスＡを所定１１１より低い値の
、流量でＯ〜約３００ｊ／ｍｉｎ、圧力で０〜約２ ｋ
ｇ ／ ｃ ｒｔ？程度のアトマイジングガスＡを、エ
ア１ｆｆ６から電空比例弁８１を介して供給する。
せ、アークが安定する点弧時のプラズマガスＧを、所定
値よりも低い値の流量で約１８〜２０１！／ｍｊｎ、圧
力で約１．５〜２ ｋｇ ／ ｃ ｒｔ程度のプラズマ
ガスＧを、ガスボンベ４から電空比例弁５１を介して供
給し、アトマイジングガスＡを所定１１１より低い値の
、流量でＯ〜約３００ｊ／ｍｉｎ、圧力で０〜約２ ｋ
ｇ ／ ｃ ｒｔ？程度のアトマイジングガスＡを、エ
ア１ｆｆ６から電空比例弁８１を介して供給する。
つぎに、溶射ワイヤ２が送給されζ溶射用電源３の出力
によりプラズマアークＰを発生させる。
によりプラズマアークＰを発生させる。
すると、アーク移行検出回路１０が作動し、その出力が
プラズマガスＧの値を切換える電空比例弁６１を作動さ
せ、所定値の一例としての、流量で約４０１／ｍｉｎ、
圧力で約５ｋｇ／ｃｉ程度のプラズマガスＧが、プラズ
マガス供給部１６に適宜供給され、同時にアーク移行検
出回路１０の出力が、アトマイジングガスＡの値を切換
える電空比例弁８１を作動させて、所定値の一例として
の、流量で約７５０１／ｍｉｎ、圧力で約６．５ｋｇ／
ｃＴ１１ｆ程度のアトマイジングガスＡが、溶射ユニッ
ト１４のアトマイソングガス供給部１８に供給される。
プラズマガスＧの値を切換える電空比例弁６１を作動さ
せ、所定値の一例としての、流量で約４０１／ｍｉｎ、
圧力で約５ｋｇ／ｃｉ程度のプラズマガスＧが、プラズ
マガス供給部１６に適宜供給され、同時にアーク移行検
出回路１０の出力が、アトマイジングガスＡの値を切換
える電空比例弁８１を作動させて、所定値の一例として
の、流量で約７５０１／ｍｉｎ、圧力で約６．５ｋｇ／
ｃＴ１１ｆ程度のアトマイジングガスＡが、溶射ユニッ
ト１４のアトマイソングガス供給部１８に供給される。
そして、それぞれプラズマガスＧはチップ１２のチップ
オリフィス１２ａから放出され、アトマイジングエアＡ
はガス噴出孔１４ａから適宜放出される。
オリフィス１２ａから放出され、アトマイジングエアＡ
はガス噴出孔１４ａから適宜放出される。
以上に述べたものは、第３図に示した本発明の装置を、
電空比例弁５１．８１を双方とも作動させ、本発明の第
５であるプラズマガスＧおよびアトマイジングガスＡの
値を両方とも制御したものであるが、それぞれの電空比
例弁５１．８１を単独に作動させ、プラズマガスＧおよ
びアトマイジングガスＡの値を単独に制御させることに
より、第１．第３の本発明を実施することもできる。
電空比例弁５１．８１を双方とも作動させ、本発明の第
５であるプラズマガスＧおよびアトマイジングガスＡの
値を両方とも制御したものであるが、それぞれの電空比
例弁５１．８１を単独に作動させ、プラズマガスＧおよ
びアトマイジングガスＡの値を単独に制御させることに
より、第１．第３の本発明を実施することもできる。
［発明の効果］
本発明は、プラズマワイヤ溶射加工において、アーク点
弧時のプラズマガスおよびアトマイジングガスのｍｌｋ
又は圧力と、溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイ
ジングガスのｉｔ又は圧力とを、それぞれ適正な条件に
設定し、これを切換えることにより、より効率的でより
高度な溶射加工が可能なプラズマワイヤ溶射加工方法と
、同じくアーク点弧時と溶射加工時のプラズマガスおよ
びアトマイジングガスの切換えを、アーク移行検出回路
を設けて、この出力をそれぞれの電空比例弁切換え信号
として制御しろるようにしたプラズマワイヤ溶射加工装
置であるから、アーク点弧時に、アークが安定しうる範
囲内でしか条件設定ができないという問題・点を解消し
、従って溶射加工時に必要なプラズマガスの値に制御す
ることが可能となり、効率的なプラズマエネルギーに増
大させえる一方、溶射加工時に必要なアトマイジングガ
スの値に増大させることにより、溶射粒子を効率よく總
粒子化させうろことことも可能となった。
弧時のプラズマガスおよびアトマイジングガスのｍｌｋ
又は圧力と、溶射加工時のプラズマガスおよびアトマイ
ジングガスのｉｔ又は圧力とを、それぞれ適正な条件に
設定し、これを切換えることにより、より効率的でより
高度な溶射加工が可能なプラズマワイヤ溶射加工方法と
、同じくアーク点弧時と溶射加工時のプラズマガスおよ
びアトマイジングガスの切換えを、アーク移行検出回路
を設けて、この出力をそれぞれの電空比例弁切換え信号
として制御しろるようにしたプラズマワイヤ溶射加工装
置であるから、アーク点弧時に、アークが安定しうる範
囲内でしか条件設定ができないという問題・点を解消し
、従って溶射加工時に必要なプラズマガスの値に制御す
ることが可能となり、効率的なプラズマエネルギーに増
大させえる一方、溶射加工時に必要なアトマイジングガ
スの値に増大させることにより、溶射粒子を効率よく總
粒子化させうろことことも可能となった。
以上に述べたように、本発明は、より効果的にプラズマ
ワイヤ溶射を行ないうるものである。
ワイヤ溶射を行ないうるものである。
第１図は、本発明の第１の発明を実施するための装置で
あり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回路図で
ある。第２図は、本発明の第３の発明を実施するための
装置であり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回
路図である。第３図は、本発明の第１．第３．第５の発
明を実施するための装置であり、溶射用トーチの要部断
面図とこれに係る回路図である。第４図は、従来例の装
置であり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回路
図である。 ｌ・・・・・・プラズマワイヤ溶射用トーチ １１・・
・・・・電極 １５・・・・・・ワイヤガイド １６・
・・・・・プラズマガス供給部 １８・・・・・・アト
マイジンヴガス供給部２・・・・・・溶射ワイヤ ３・
・・・・・溶射用電Ｒ４・・・・・・ガスボンベ ５１
．８１・・・・・・電空比例弁 ６・・・・・・エアＲ
７・・・・・・電磁弁 １０・・・・・・アーク移行検
出回ＩＧ・・・・・・プラズマガス Ａ・・・・・・ア
トマイジングガス
あり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回路図で
ある。第２図は、本発明の第３の発明を実施するための
装置であり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回
路図である。第３図は、本発明の第１．第３．第５の発
明を実施するための装置であり、溶射用トーチの要部断
面図とこれに係る回路図である。第４図は、従来例の装
置であり、溶射用トーチの要部断面図とこれに係る回路
図である。 ｌ・・・・・・プラズマワイヤ溶射用トーチ １１・・
・・・・電極 １５・・・・・・ワイヤガイド １６・
・・・・・プラズマガス供給部 １８・・・・・・アト
マイジンヴガス供給部２・・・・・・溶射ワイヤ ３・
・・・・・溶射用電Ｒ４・・・・・・ガスボンベ ５１
．８１・・・・・・電空比例弁 ６・・・・・・エアＲ
７・・・・・・電磁弁 １０・・・・・・アーク移行検
出回ＩＧ・・・・・・プラズマガス Ａ・・・・・・ア
トマイジングガス
Claims (6)
- （１）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工方法において、プラズマガス
の供給を、アーク点弧時には所定値よりも低い値とし、
溶射ワイヤにプラズマアークが移行した後に所定値に増
大せしめることを特徴とするプラズマワイヤ溶射加工方
法。 - （２）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工装置において、溶射ワイヤに
プラズマアークが移行したことを検出するアーク移行検
出回路を設け、該アーク移行検出回路の出力を、プラズ
マガスの値を切換える電空比例弁の切換信号としたこと
を特徴とするプラズマワイヤ溶射加工装置。 - （３）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工方法において、アトマイジン
グガスの供給を、アーク点弧時には０ないしは所定値よ
りも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアークが移行し
た後に所定値に増大せしめることを特徴とするプラズマ
ワイヤ溶射加工方法。 - （４）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工装置において、溶射ワイヤに
プラズマアークが移行したことを検出するアーク移行検
出回路を設け、該アーク移行検出回路の出力を、アトマ
イジングガスの値を切換える電空比例弁の切換信号とし
たことを特徴とするプラズマワイヤ溶射加工装置。 - （５）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工方法において、プラズマガス
及びアトマイジングガスの供給を、アーク点弧時には所
定値よりも低い値とし、溶射ワイヤにプラズマアークが
移行した後に所定値に増大せしめることを特徴とするプ
ラズマワイヤ溶射加工方法。 - （６）溶射ワイヤにプラズマアークを移行させて行なう
、プラズマワイヤ溶射加工装置において、溶射ワイヤに
プラズマアークが移行したことを検出するアーク移行検
出回路を設け、該アーク移行検出回路の出力を、プラズ
マガス及びアトマイジングガスのそれぞれの値を切換え
る、それぞれの電空比例弁を単独に又は双方とも切換え
る切換信号としたことを特徴とするプラズマワイヤ溶射
加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1203511A JP2766680B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | プラズマワイヤ溶射加工方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1203511A JP2766680B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | プラズマワイヤ溶射加工方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0368469A true JPH0368469A (ja) | 1991-03-25 |
| JP2766680B2 JP2766680B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=16475367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1203511A Expired - Lifetime JP2766680B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | プラズマワイヤ溶射加工方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2766680B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5765477A (en) * | 1995-10-31 | 1998-06-16 | Riso Kagaku Corporation | Method and device for perforating framed stencil sheet with color information mark |
| GB2367521A (en) * | 2000-07-21 | 2002-04-10 | Ford Global Tech Inc | Electric arc metal spraying |
| JP2004224599A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Yamada Kinzoku Boshoku Kk | 溶射皮膜付きガラス容器およびその製造方法 |
| JP2010209397A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Nissan Motor Co Ltd | 溶射皮膜形成装置及びワイヤへの給電方法 |
| JP2012121009A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Fuji Engineering:Kk | プラズマ溶射装置 |
| JP2012122124A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Fuji Engineering:Kk | プラズマ溶射装置 |
| JP2012521878A (ja) * | 2009-03-31 | 2012-09-20 | フォード グローバル テクノロジーズ、リミテッド ライアビリティ カンパニー | プラズマ移行型ワイヤアーク溶射システム |
| JP2015091602A (ja) * | 2014-11-07 | 2015-05-14 | 株式会社フジエンジニアリング | プラズマ溶射装置 |
| US20160001309A1 (en) * | 2013-01-04 | 2016-01-07 | Ford Global Technologies, Llc | Device for thermally coating a surface |
| US9987703B2 (en) | 2012-12-17 | 2018-06-05 | Fuji Engineering Co., Ltd. | Plasma spraying apparatus |
| CN109661689A (zh) * | 2016-09-13 | 2019-04-19 | 罗伯特·博世有限公司 | 用于运行安全设备的方法 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP1203511A patent/JP2766680B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5765477A (en) * | 1995-10-31 | 1998-06-16 | Riso Kagaku Corporation | Method and device for perforating framed stencil sheet with color information mark |
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| CN102560323A (zh) * | 2010-12-10 | 2012-07-11 | 株式会社富士工程 | 等离子体喷镀装置 |
| CN102534458A (zh) * | 2010-12-10 | 2012-07-04 | 株式会社富士工程 | 等离子体喷镀装置 |
| JP2012122124A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Fuji Engineering:Kk | プラズマ溶射装置 |
| JP2012121009A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Fuji Engineering:Kk | プラズマ溶射装置 |
| CN102560323B (zh) * | 2010-12-10 | 2015-08-12 | 株式会社富士工程 | 等离子体喷镀装置 |
| TWI650182B (zh) * | 2010-12-10 | 2019-02-11 | 富士工程股份有限公司 | 電漿噴塗裝置 |
| US9987703B2 (en) | 2012-12-17 | 2018-06-05 | Fuji Engineering Co., Ltd. | Plasma spraying apparatus |
| US20160001309A1 (en) * | 2013-01-04 | 2016-01-07 | Ford Global Technologies, Llc | Device for thermally coating a surface |
| US10124354B2 (en) * | 2013-01-04 | 2018-11-13 | Ford Global Technologies, Llc | Plasma nozzle for thermal spraying using a consumable wire |
| JP2015091602A (ja) * | 2014-11-07 | 2015-05-14 | 株式会社フジエンジニアリング | プラズマ溶射装置 |
| CN109661689A (zh) * | 2016-09-13 | 2019-04-19 | 罗伯特·博世有限公司 | 用于运行安全设备的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2766680B2 (ja) | 1998-06-18 |
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