TWI644897B - 新穎化合物、包含其的光敏性樹脂組成物與彩色濾片 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種化合物、一種包含所述化合物的光敏性樹脂組成物、以及一種使用所述光敏性樹脂組成物製造的彩色濾片，所述化合物包含陽離子及陰離子，其中所述陽離子由化學式1表示。在化學式1中，各取代基與說明書中所定義的相同。

Description

新穎化合物、包含其的光敏性樹脂組成物與彩色濾片
本發明是有關於一種新穎化合物、一種包含其的光敏性樹脂組成物與一種彩色濾片。
關於製備具有均勻大小顆粒的顏料作出了大量研究，可藉由在合成之後經由例如鹽磨(salt milling)等製程對所述顏料進行處理來製備所述顏料，以有利於顏料分散液的穩定分散狀態及精製。另外，由於顏料因粒度(particle size)而在亮度及對比度方面存在限制，但用於影像感測器的彩色影像感測器需要小得多的分散粒徑(particle diameter)，因此正藉由不再單獨使用顏料而是使用與染料的混合物作為混合著色劑來進行對提高亮度、對比度等的研究。然而，混合著色劑相較於傳統著色劑而言，對於改善例如耐熱性及亮度等性質顯示出優異的效果還尚未被報導。因此，需要對作為著色劑用於光敏性樹脂組成物的適宜化合物進行研究。
本發明實施例提供一種新穎化合物。
另一實施例提供一種包含所述化合物的光敏性樹脂組成物。
又一實施例提供一種使用所述光敏性樹脂組成物製造的彩色濾片。
本發明實施例提供一種包含陽離子及陰離子的化合物，其中所述陽離子由化學式1表示。
在化學式1中，R1至R4獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R1及R2中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R3及R4中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R5及R6獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，其限制條件是R5及R6中的一者必需為經取代的C3至C20烷基，R7為經取代或未經取代的C6至C20芳基，且X為O、S或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)。
X可為O或S。
R1及R2中的一者以及R3及R4中的一者可必需為經取代或未經取代的C5至C20環烷基。
R5及R6中的一者可必需為經「C1至C10烷基、C3至C12環烷基或C6至C12芳基」取代的C3至C20烷基。
所述陽離子可由化學式1-1至化學式1-3中的一者表示。
(A：金剛烷基)
在化學式1-1至化學式1-3中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20 芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，R5及R7獨立地為經取代或未經取代的C6至C20芳基，Ra、Rb、Rc、Rd及R9至R11獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，其限制條件是R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，且X為O或S。
所述陽離子可由化學式1a至化學式3a中的一者表示。
[化學式2a]
(A：金剛烷基)
在化學式1a至化學式3a中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，Ra至Rd獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10 烷基，Re至Rh獨立地為氫原子、鹵素原子、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，Re及Rf中的至少一者為鹵素原子，Rg及Rh中的至少一者為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，且X為O或S。
所述陽離子可由化學式1-1a至化學式1-3a中的一者表示。
(A：金剛烷基)
在化學式1-1a至化學式1-3a中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20 芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，Ra至Rd獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，Re及Rf獨立地為氫原子、鹵素原子、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，Re及Rf中的至少一者為鹵素原子，Rg為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，且X為O或S。
所述陽離子可由化學式1-1a-I至化學式1-3a-I中的一者表示。
[化學式1-1a-I]
[化學式1-3a-I]
(A：金剛烷基)
在化學式1-1a-I至化學式1-3a-I中，Ra至Rd獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，Re為鹵素原子，Rg為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，X為O或S，且Ri至R1獨立地為氫原子、鹵素原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基。
Re可為例如氟基(F)或氯基(Cl)。
所述化合物可由化學式1-i至化學式1-v中的一者表示。
[化學式1-iii]
[化學式1-v]
在化學式1-i至化學式1-v中，Y-為陰離子，且X為O或S。
所述陰離子可由選自化學式A至化學式F中的一者表示。
[化學式C] PW12O40 3-
[化學式D]SiW12O40 4-
[化學式E]CF3SO3 -
[化學式F]ClO4 -
包含由化學式1表示的陽離子及陰離子的所述化合物可在400奈米至500奈米的波長範圍內具有最大透射率(Tmax)。
另一實施例提供一種由化學式2表示的化合物。
[化學式2]
在化學式2中，R21至R24獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R21及R22中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R23及R24中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，R25及R26獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，L1為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、經取代或未經取代的C3至C20伸環烷基、酯連接基、胺基甲酸酯連接基、或其組合， X為O、S或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)，且Y-為陰離子。
L1可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、由化學式L-1表示的二價連接基、或由化學式L-2表示的二價連接基。
在化學式L-1及化學式L-2中，La至Lg獨立地為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
R21及R22中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R23及R24中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述C3至C20環烷基可為環戊基或環己基。
R21及R22中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環 烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R23及R24中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基可由化學式S表示。
R25可為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基且R26可為經C1至C10烷基取代的C6至C20芳基。
所述由化學式2表示的化合物可由化學式2-i至化學式2-vi中的一者表示。
[化學式2-i]
[化學式2-iii]
[化學式2-v]
在化學式2-i至化學式2-vi中， X為O或S，L2為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且Y-為陰離子。
Y-可由選自化學式A至化學式F中的一者表示。
所述由化學式2表示的化合物可在400奈米至500奈米的波長範圍內具有最大透射率(Tmax)。
另一實施例提供一種由化學式3表示的化合物。
在化學式3中，R31至R34獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R31及R32中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R33及R34中的一者必需為經取代或未經取代的 C3至C20環烷基，R35及R36獨立地為經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，且L3為C6至C20芳香族三價連接基、C3至C20雜芳香族三價連接基、或由化學式L-3表示的三價連接基，
在化學式L-3中，L4為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，X為O、S或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)，且Y-為陰離子。
L3可為C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基或由化學式L-3表示的三價連接基。
所述C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基可由化學式L-4表示。
[化學式L-4]
R31及R32中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R33及R34中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述C3至C20環烷基可為環戊基或環己基。
R31及R32中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R33及R34中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基可由化學式S表示。
R35可為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基且R36可為經C1至C10烷基取代的C1至C20烷基。
所述由化學式3表示的化合物可由化學式3-i至化學式3-v中的一者表示。
[化學式3-ii]
[化學式3-iii]
[化學式3-iv]
[化學式3-v]
在化學式3-i至化學式3-v中，X為O或S，且Y-為陰離子。
Y-可由選自化學式A至化學式F中的一者表示。
所述由以上化學式3表示的化合物可在400奈米至500奈米的波長範圍內具有最大透射率(Tmax)。
另一實施例提供一種包含所述化合物、黏合劑樹脂、光可聚合化合物、光聚合起始劑及溶劑的光敏性樹脂組成物。
所述光敏性樹脂組成物可更包含顏料。
又一實施例提供一種使用所述光敏性樹脂組成物製造的 彩色濾片。
以下詳細說明中包含本發明的其他實施例。
根據實施例的所述化合物具有提高的耐熱性及耐光性，且包含所述化合物的光敏性樹脂組成物可提供具有提高的亮度及耐久性的彩色濾片。
以下，詳細闡述本發明的實施例。然而，該些實施例為示範性的，本發明並非僅限於此，且本發明由申請專利範圍的範圍界定。
如本文所用，當不另外提供具體定義時，用語「經取代(substituted)」是指經選自以下的至少一個取代基置換：鹵素(F、Br、Cl或I)、羥基、硝基、氰基、胺基(NH2、NH(R200)或N(R201)(R202)，其中R200、R201及R202為相同或不同的且獨立地為C1至C10烷基)、脒基、肼基、腙基、羧基、C1至C20烷基、C1至C20烯基、C1至C20炔基、C3至C20脂環族有機基、C6至C20芳基及C2至C20雜環基。
如本文所用，當不另外提供具體定義時，用語「烷基(alkyl group)」是指C1至C20烷基且具體而言為C1至C15烷基，用語「環烷基(cycloalkyl group)」是指C3至C20環烷基且具體而言為C3至C18環烷基，用語「烷氧基(alkoxy group)」是指C1至 C20烷氧基且具體而言為C1至C18烷氧基，用語「芳基(aryl group)」是指C6至C20芳基且具體而言為C6至C18芳基，用語「烯基(alkenyl group)」是指C2至C20烯基且具體而言為C2至C18烯基，用語「伸烷基(alkylene group)」是指C1至C20伸烷基且具體而言為C1至C18伸烷基，且用語「伸芳基(arylene group)」是指C6至C20伸芳基且具體而言為C6至C16伸芳基。
如本文所用，當不另外提供具體定義時，「(甲基)丙烯酸酯((meth)acrylate)」是指「丙烯酸酯(acrylate)」及「甲基丙烯酸酯(methacrylate)」且「(甲基)丙烯酸((meth)acrylic acid)」是指「丙烯酸(acrylic acid)」及「甲基丙烯酸(methacrylic acid)」。
如本文所用，當不另外提供定義時，用語「組合(combination)」是指混合或共聚合。另外，「共聚合(copolymerization)」是指嵌段共聚合至無規共聚合，且「共聚物(copolymer)」是指嵌段共聚物至無規共聚物。
在本說明書的化學式中，除非另外提供具體定義，否則當化學鍵並未繪製在應給出處時，氫鍵結在所述位置處。
在本說明書中，卡多系樹脂是指在骨架中包含選自化學式100-1至化學式100-11中的至少一個官能基的樹脂。
如本文所用，當不另外提供具體定義時，「*」指示連接相同或不同原子或化學式的點。
本發明實施例提供一種包含陽離子及陰離子的化合物，其中所述陽離子由化學式1表示。
在化學式1中，R1至R4獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，R1及R2中的一者以及R3及R4中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，R5及R6獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，R5及R6中的一者必需為經取代的C3至C20烷基，R7為經取代或未經取代的C6至C20芳基，且X為O、S或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)。
近來，已對作為具有高亮度及高對比度的彩色濾片的藍色染料的三芳基甲烷化合物進行積極地研究。所述三芳基甲烷染 料在420奈米至450奈米的波長範圍內具有高的亮度，但例如耐熱性、耐光性等耐久性不佳，且對於著色劑在彩色濾片中的使用存在限制。
然而，根據實施例的包含由化學式1表示的陽離子及陰離子的化合物在R1及R2中的一者以及R3及R4中的一者處必需包含經取代或未經取代的C3至C20環烷基且因此可提高耐熱性，並且亦在R5及R6中的一者處必需包含經取代的C3至C20烷基且因此可提高耐光性，並且因此，當使用包含由化學式1表示的陽離子及陰離子的化合物時，可提供具有優異的例如耐熱性、耐光性等耐久性以及高的亮度及高的對比度的彩色濾片。
另外，隨後將闡述的由化學式2表示的化合物在R21及R22中的一者以及R23及R24中的一者處必需包含經取代或未經取代的C3至C20環烷基且因此可提高耐熱性，並且亦在R25及R26中的至少一者處包含經取代的C1至C20烷基(例如，經取代的C3至C20烷基)且因此可提高耐光性，並且因此，可藉由使用由化學式2表示的化合物，提供具有優異的例如耐熱性、耐光性等耐久性以及高的亮度及高的對比度的彩色濾片。
另外，隨後將闡述的由化學式3表示的化合物在R31及R32中的一者以及R33及R34中的一者處必需包含經取代或未經取代的C3至C20環烷基且因此可提高耐熱性，並且亦在R35及R36中的一者處包含經取代的C1至C20烷基(例如，經取代的C3至C20烷基)且因此可提高耐光性，並且因此，可藉由使用由化學 式3表示的化合物，提供具有優異的例如耐熱性、耐光性等耐久性以及高的亮度及高的對比度的彩色濾片。
舉例而言，X可為O或S。
舉例而言，R1及R2中的一者以及R3及R4中的一者可必需為經取代或未經取代的C5至C20環烷基，且具體而言為經取代或未經取代的C5至C12環烷基，例如為經取代或未經取代的環戊基、經取代或未經取代的環己基、或者經取代或未經取代的金剛烷基。
金剛烷基可由化學式Ad表示。
R5及R6中的一者可必需為經C1至C10烷基、C3至C12環烷基或C6至C12芳基取代的C3至C20烷基，且具體而言為經C1至C4烷基(例如二級碳(例如異丙基)或三級碳(例如第三丁基))取代的C3至C20烷基。
所述陽離子具體而言可由化學式1-1至化學式1-3中的一者表示。
[化學式1-1]
[化學式1-3]
(A：金剛烷基)
在化學式1-1至化學式1-3中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，R5及R7獨立地為經取代或未經取代的C6至C20芳基，Ra、Rb、Rc、Rd及R9至R11獨立地為氫、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，X為O或S，且R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基或者經取代或未經取代的C6至C12芳基。R9至R11中的至少兩者可為經取代或未經取代的C1至C10烷基。
所述陽離子更具體而言可由化學式1a至化學式3a中的一者表示。
[化學式1a]
[化學式3a]
(A：金剛烷基)
在化學式1a至化學式3a中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，Ra至Rd獨立地為氫或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，Re至Rh獨立地為氫、鹵素、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，Re及Rf中的至少一者為鹵素，Rg及Rh中的至少一者為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，且X為O或S。
另外，所述陽離子可例如由化學式1-1a至化學式1-3a中的一者表示。
[化學式1-3a]
(A：金剛烷基)
在化學式1-1a至化學式1-3a中，R1及R4獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，Ra至Rd獨立地為氫或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，Re及Rf獨立地為氫、鹵素、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，Re及Rf中的至少一者為鹵素，Rg為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，且 X為O或S。
具體而言，Re及Rf中的至少一者可存在於鄰位或間位處，具體而言為鄰位，且更具體而言由化學式1-1a-I至化學式1-3a-I中的一者表示。
(A：金剛烷基)
在化學式1-1a-I至化學式1-3a-I中，Ra至Rd獨立地為氫或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，Re為鹵素，Rg為經取代或未經取代的C1至C20烷基，R9至R11獨立地為氫或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，R9至R11中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基，X為O或S，Ri至R1獨立地為氫、鹵素、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基， 具體而言為氫、鹵素、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，且更具體而言為氫、氟基、氯基、或者經取代或未經取代的C1至C10烷基。
Re可為例如氟基或氯基。
舉例而言，所述化合物可由化學式1-i至化學式1-v中的一者表示，但並非僅限於此。
[化學式1-ii]
[化學式1-iv]
在化學式1-i至化學式1-v中，Y-為陰離子，X為O或S。
由Y-表示的陰離子可選自化學式A至化學式F，但並非僅限於此。
[化學式C]PW12O40 3-
[化學式D]SiW12O40 4-
[化學式E]CF3SO3 -
[化學式F] ClO4 -
另一實施例提供一種由化學式2表示的化合物。
在化學式2中，R21至R24獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R21及R22中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R23及R24中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R25及R26獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，L1為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基、經取代或未經取代的C3至C20伸環烷基、酯連接基、胺基甲酸酯連接基、或其組合，X為O、S或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)，且Y-為陰離子。
L1可為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、由化學式L-1表示的二價連接基或由化學式L-2表示的二價連接基。
在化學式L-1及化學式L-2中，La至Lg獨立地為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
R21及R22中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷 基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R23及R24中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述C3至C20環烷基可為環戊基或環己基。
R21及R22中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R23及R24中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基可由化學式S表示。
R25可為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基且R26可為經C1至C10烷基取代的C6至C20芳基。
舉例而言，R26可為經C1至C4烷基(例如二級碳(例如異丙基)或三級碳(例如第三丁基))取代的C3至C20烷基。
由化學式2表示的化合物可由化學式2-i至化學式2-vi中的一者表示，但並非僅限於此。
[化學式2-i]
[化學式2-iii]
[化學式2-v]
在化學式2-i至化學式2-vi中， X為O或S，L2為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且Y-為陰離子。
Y-可由選自化學式A至化學式F中的一者表示，但並非僅限於此。
另一實施例提供一種由化學式3表示的化合物。
在化學式3中，R31至R34獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R31及R32中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R33及R34中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R35及R36獨立地為經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，且L3為C6至C20芳香族三價連接基、C3至C20雜芳香族三價連接基、或者由化學式L-3表示的三價連接基。
在化學式L-3中，L4為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，X為O、S、或NR8(R8為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基)，且Y-為陰離子。
L3可為C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基或由化學式L-3表示的三價連接基。
所述C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基可由化學式L-4表示。
[化學式L-4]
R31及R32中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R33及R34中的一者可為經取代或未經取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述C3至C20環烷基可為環戊基或環己基。
R31及R32中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且R33及R34中的一者可為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基且另一者可為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基可由化學式S表示。
R35可為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基且R36可為經C1至C10烷基取代的C1至C20烷基。
R35可為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基且R36可為經C1至C10烷基取代的C6至C20芳基。
舉例而言，R36可為經C1至C4烷基(例如二級碳(例如異丙基)或三級碳(例如第三丁基))取代的C3至C20烷基。
由化學式3表示的化合物可由化學式3-i至化學式3-v中的一者表示，但並非僅限於此。
[化學式3-ii]
[化學式3-iii]
[化學式3-iv]
[化學式3-v]
在化學式3-i至化學式3-v中，X為O或S，且Y-為陰離子。
Y-可由選自化學式A至化學式F中的一者表示，但並非僅限於此。
根據實施例的所述化合物包含由化學式1表示的陽離子及陰離子，或者由化學式2或化學式3表示，且因此當用作著色劑時，可提供具有優異的例如亮度、對比度等色彩特性的顯示裝置。舉例而言，所述化合物可為著色劑，例如為染料，例如為藍 色染料，例如為在介於600奈米至700奈米、例如610奈米至680奈米、例如610奈米至650奈米範圍的波長下具有最大吸光度(λmax)的染料。舉例而言，所述化合物可為在介於400奈米至450奈米、例如420奈米至450奈米、例如430奈米至450奈米範圍的波長下具有Tmax的染料。Tmax是指最大透射率。
一般而言，染料為彩色濾片中所使用的組分中最昂貴的。因此，可能需要使用較多昂貴的染料來達成所期望的效果(例如高亮度、高對比度等)且因此增加單位生產成本。然而，當根據實施例的化合物用作彩色濾片中的染料時，所述化合物可即使少量使用亦會達成優異的例如高亮度、高對比度等色彩特性且降低單位生產成本。
根據另一實施例，一種光敏性樹脂組成物包含根據實施例的化合物(包含由化學式1表示的陽離子及陰離子的化合物、由化學式2表示的化合物及/或由化學式3表示的化合物)。
舉例而言，光敏性樹脂組成物可包含所述化合物、黏合劑樹脂、光可聚合化合物、光聚合起始劑及溶劑。
舉例而言，光敏性樹脂組成物可更包含顏料。
根據實施例的化合物在光敏性樹脂組成物中發揮著色劑(例如染料，例如藍色染料)的作用且可達成優異的色彩特性。
以光敏性樹脂組成物的總量計，可以1重量%至10重量%、具體而言1重量%至8重量%、且更具體而言1重量%至5重量%、例如3重量%至5重量%的量包含根據實施例的所述化合 物。當所包含的根據實施例的化合物處於所述範圍內時，色彩再現性及對比度得到改善。
顏料可包括藍色顏料、黃色顏料、綠色顏料、紅色顏料、紫色顏料、或其組合，但並非僅限於此。舉例而言，顏料可以顏料分散液形式包含於光敏性樹脂組成物中。
顏料分散液可包含固體顏料、溶劑及將顏料均勻地分散於溶劑中的分散劑。
以顏料分散液的總量計，可以1重量%至20重量%、例如8重量%至20重量%、例如15重量%至20重量%、例如8重量%至15重量%、例如10重量%至20重量%、例如10重量%至15重量%的量包含固體顏料。
分散劑可為非離子分散劑、陰離子分散劑、陽離子分散劑等。分散劑的具體實例可為聚烷二醇及其酯、聚氧伸烷、多元醇酯環氧烷加成產物、醇環氧烷加成產物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成產物、烷基胺等，且可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
分散劑的市售實例可包括由畢克有限公司(BYK Co.,Ltd.)製作的迪斯帕畢克(DISPERBYK)-101、迪斯帕畢克-130、迪斯帕畢克-140、迪斯帕畢克-160、迪斯帕畢克-161、迪斯帕畢克-162、迪斯帕畢克-163、迪斯帕畢克-164、迪斯帕畢克-165、迪斯帕畢克-166、迪斯帕畢克-170、迪斯帕畢克-171、迪斯帕畢克-182、迪斯帕畢克-2000、迪斯帕畢克-2001等；由埃夫卡化學公司(EFKA Chemicals Co.)製作的埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡-47EA、埃夫卡-48、埃夫卡-49、埃夫卡-100、埃夫卡-400、埃夫卡-450等；由澤尼卡公司(Zeneka Co.)製作的索思帕(Solsperse)5000、索思帕12000、索思帕13240、索思帕13940、索思帕17000、索思帕20000、索思帕24000GR、索思帕27000、索思帕28000等；或由味之素公司(Ajinomoto Inc.)製作的PB711或PB821。
以顏料分散液的總量計，可以1重量%至20重量%的量包含分散劑。當所包含的分散劑處於所述範圍內時，光敏性樹脂組成物的分散因黏度適當而得到改善，且因此當將所述光敏性樹脂組成物應用於產品時，可維持光學品質、物理品質及化學品質。
用於形成顏料分散液的溶劑可為乙二醇乙酸酯、乙基溶纖劑、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、聚乙二醇、環己酮、丙二醇甲基醚等。
以光敏性樹脂組成物的總量計，可以5重量%至30重量%、例如10重量%至25重量%的量包含顏料分散液。當所包含的顏料分散液處於所述範圍內時，可確保製程裕度且色彩再現性及對比度得到改善。
黏合劑樹脂可為丙烯酸系黏合劑樹脂、卡多系黏合劑樹脂、或其組合。
丙烯酸系黏合劑樹脂為第一乙烯系不飽和單體及可與其共聚合的第二乙烯系不飽和單體的共聚物，且為包含至少一個丙烯酸系重複單元的樹脂。
第一乙烯系不飽和單體為包含至少一個羧基的乙烯系不飽和單體。所述單體的實例包括(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸、衣康酸、反丁烯二酸、或其組合。
以丙烯酸系樹脂的總量計，可以5重量%至50重量%、例如10重量%至40重量%的量包含第一乙烯系不飽和單體。
第二乙烯系不飽和單體可為芳族乙烯基化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苯甲基甲醚等；不飽和羧酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯等；不飽和羧酸胺基烷基酯化合物，例如(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲胺基乙酯等；羧酸乙烯酯化合物，例如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等；不飽和羧酸縮水甘油基酯化合物，例如(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯等；氰化乙烯化合物，例如(甲基)丙烯腈等；不飽和醯胺化合物，例如(甲基)丙烯醯胺等；等等，且可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
丙烯酸系黏合劑樹脂的具體實例可為聚甲基丙烯酸苯甲基酯共聚物、丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物等，但並非僅限於此。該些丙烯酸系黏合劑樹脂可單獨 使用或以二或更多者的混合物形式使用。
丙烯酸系黏合劑樹脂的重量平均分子量可為3,000克/莫耳至150,000克/莫耳、例如5,000克/莫耳至50,000克/莫耳、例如20,000克/莫耳至30,000克/莫耳。當丙烯酸系黏合劑樹脂的重量平均分子量處於所述範圍內時，光敏性樹脂組成物具有良好的物理性質及化學性質、適當的黏度及在彩色濾片製造期間與基板的緊密接觸性質。
丙烯酸系黏合劑樹脂的酸值可為15毫克KOH/克至60毫克KOH/克、例如20毫克KOH/克至50毫克KOH/克。當丙烯酸系黏合劑樹脂的酸值處於所述範圍內時，畫素圖案可具有優異的解析度。
卡多系黏合劑樹脂可包含由化學式100表示的重複單元。
在化學式100中，R101及R102獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的(甲基)丙烯醯基氧基烷基， R103及R104獨立地為氫原子、鹵素原子、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，且Z1為單鍵、O、CO、SO2、CR15R16、SiR17R18(其中，R15至R18獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C20烷基)或由化學式100-1至化學式100-11表示的連接基中的一者，
[化學式100-4]
其中，在化學式100-5中，Rx為氫原子、乙基、C2H4Cl、C2H4OH、CH2CH=CH2或苯基。
[化學式100-8]
Z2為酸二酐殘基，且 m1及m2獨立地為介於0至4範圍內的整數。
卡多系黏合劑樹脂可在兩個末端中的至少一個末端處包含由化學式101表示的官能基。
在化學式101中，Z3可由化學式101-1至化學式101-7表示。
在化學式101-1中，Rw及Ry獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基或醚基。
在化學式101-5中，Rz為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯基胺基。
[化學式101-6]
卡多系樹脂可例如藉由將以下化合物中的至少兩者進行混合來製備：含茀化合物，例如9,9-雙(4-氧雜環丙基甲氧苯基)茀等；酸酐化合物，例如苯四甲酸二酐、萘四甲酸二酐、聯苯基四甲酸二酐、二苯甲酮四甲酸二酐、均苯四甲酸二酐、環丁烷四甲酸二酐、苝四甲酸二酐、四氫呋喃四甲酸二酐、四氫鄰苯二甲酸酐等；二醇化合物，例如乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等；醇化合物，例如甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇、苯甲醇等；溶劑系化合物，例如丙二醇甲基乙酸乙酯、N-甲基吡咯啶酮等；磷化合物，例如三苯基膦等；以及胺或銨鹽化合物，例如四甲基氯化銨、四乙基溴化銨、苯甲基二乙胺、三乙胺、三丁胺、苯甲基三乙基氯化銨等。
當將卡多系黏合劑樹脂與丙烯酸系黏合劑樹脂一起使用時，可獲得具有優異的緊密接觸力、高解析度及高亮度特性的光 敏性樹脂組成物。
卡多系黏合劑樹脂的重量平均分子量可介於500克/莫耳至50,000克/莫耳、例如3,000克/莫耳至30,000克/莫耳範圍內。當卡多系黏合劑樹脂的重量平均分子量處於所述範圍內時，可形成令人滿意的圖案，而在彩色濾片的製造期間無殘基且在顯影期間不會減小膜厚度。
卡多系黏合劑樹脂的酸值可為約100毫克KOH/克至約140毫克KOH/克。
以光敏性樹脂組成物的總量計，可以1重量%至30重量%、例如1重量%至15重量%的量包含黏合劑樹脂。當所包含的黏合劑樹脂處於以上範圍內時，可改善可顯影性，並且可在彩色濾片的製造期間因交聯改善而改善優異的表面光滑度。
光可聚合化合物可為包含至少一個乙烯系不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能酯或多官能酯。
光可聚合化合物具有乙烯系不飽和雙鍵，且因此可在圖案形成制程的曝光期間引起足夠聚合且形成具有優異的耐熱性、耐光性及耐化學性的圖案。
光可聚合化合物的具體實例可為乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸 酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧基(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯基氧基乙酯、酚醛環氧基(甲基)丙烯酸酯等。
光可聚合化合物的市售實例如下。(甲基)丙烯酸的單官能酯的實例可包括亞羅尼斯(Aronix)M-101®、M-111®、M-114®(東亞合成化工有限公司(Toagosei Chemistry Industry Co.,Ltd.))；卡亞拉得(KAYARAD)TC-110S®、TC-120S®(日本化藥有限公司(Nippon Kayaku Co.,Ltd.))；V-158®、V-2311®(大阪有機化工有限公司(Osaka Organic Chemical Ind.,Ltd.))等。(甲基)丙烯酸的雙官能酯的實例可包括亞羅尼斯M-210®、M-240®、M-6200®(東亞合成化工有限公司)；卡亞拉得HDDA®、HX-220®、R-604®(日本化藥有限公司)；V-260®、V-312®、V-335 HP®(大阪有機化工有限公司)等。(甲基)丙烯酸的三官能酯的實例可包括亞羅尼斯M-309®、M-400®、M-405®、M-450®、M-7100®、M-8030®、M-8060®(東亞合成化工有限公司)；卡亞拉得TMPTA®、DPCA-20®、DPCA-30®、DPCA-60®、DPCA-120®(日本化藥有限公司)；V-295®、V-300®、V-360®、V-GPT®、V-3PA®、V-400®(大阪有機化工有限公司(Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co.Ltd.))等。該些光可聚合化合物可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
光可聚合化合物可用酸酐處理以改善可顯影性。
以光敏性樹脂組成物的總量計，可以1重量%至15重量%、例如5重量%至10重量%的量包含光可聚合化合物。當所包含的光可聚合化合物處於所述範圍內時，光可聚合化合物在圖案形成製程的曝光期間充分固化且具有優異的可靠性，並且可改善鹼性顯影液的可顯影性。
光聚合起始劑為常用於光敏性樹脂組成物的起始劑，例如苯乙酮系化合物、二苯甲酮系化合物、噻噸酮系化合物、安息香系化合物、三嗪系化合物、肟系化合物、或其組合。
苯乙酮系化合物的實例可為2,2’-二乙氧基苯乙酮、2,2’-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對第三丁基三氯苯乙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2’-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮系化合物的實例可為二苯甲酮、苯甲酸苯甲醯基酯、苯甲酸苯甲醯基甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4’-二甲基胺基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3’-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻噸酮系化合物的實例可為噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮等。
安息香系化合物的實例可為安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯甲基二甲基縮酮等。
三嗪系化合物的實例可為2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4’-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪等。
肟系化合物的實例可為O-醯基肟系化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧基胺基-1-苯基丙-1-酮等。O-醯基肟系化合物的具體實例可為1,2-辛二酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯硫基苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯等。
光聚合起始劑除所述化合物之外可更包含咔唑系化合物、二酮系化合物、硼酸鋶系化合物、疊氮系化合物、咪唑系化合物、聯咪唑系化合物、茀系化合物等。
光聚合起始劑可與能夠藉由吸收光引起化學反應且變得激發並隨後傳輸其能量的光敏劑一起使用。
光敏劑的實例可為四乙二醇雙-3-巰基丙酸酯、季戊四醇四-3-巰基丙酸酯、二季戊四醇四-3-巰基丙酸酯等。
以光敏性樹脂組成物的總量計，可以0.01重量%至10重量%、例如0.1重量%至5重量%的量包含光聚合起始劑。當所包含的光聚合起始劑處於所述範圍內時，可因在圖案形成製程中的曝光期間充分固化而確保優異的可靠性，圖案可具有優異的解析度及緊密接觸性質以及優異的耐熱性、耐光性及耐化學性，且因非反應起始劑而可防止透射率劣化。
溶劑為具有與根據實施例的化合物、顏料、黏合劑樹脂、光可聚合化合物及光聚合起始劑的相容性但不與其反應的材料。
溶劑的實例可包括醇，例如甲醇、乙醇等；醚，例如二氯乙醚、正丁醚、二異戊醚、甲基苯基醚、四氫呋喃等；二醇醚，例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等；溶纖劑乙酸酯，例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等；卡必醇，例如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；芳香族烴，例如甲苯、二甲苯等；酮，例如甲基乙基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正丙基酮、甲基-正丁基酮、甲基-正戊基酮、2-庚酮等；飽和脂肪族單羧酸烷 基酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等；乳酸酯，例如乳酸甲酯、乳酸乙酯等；氧乙酸烷基酯，例如氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯等；烷氧基乙酸烷基酯，例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等；3-氧丙酸烷基酯，例如3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等；3-烷氧基丙酸烷基酯，例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧丙酸烷基酯，例如2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等；2-烷氧基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧基-2-甲基丙酸酯，例如2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯的單氧基單羧酸烷基酯，例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等；酯，例如2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯等；酮酸酯，例如丙酮酸乙酯等。另外，亦可使用高沸點溶劑，例如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲基亞碸、苯甲基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、乙二酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。
考慮到溶混性及反應性，可較佳地使用二醇醚，例如乙 二醇單乙醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如乙基溶纖劑乙酸酯等；酯，例如2-羥基丙酸乙酯等；卡必醇，例如二乙二醇單甲醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等。
以光敏性樹脂組成物的總量計，溶劑以餘量例如以30重量%至90重量%的量使用。當所包含的溶劑處於所述範圍內時，光敏性樹脂組成物可具有適當黏度，進而引起彩色濾片的塗佈特性的改善。
根據另一實施例的光敏性樹脂組成物可更包含環氧化合物以改善與基板的緊密接觸性質。
環氧化合物的實例可為苯酚酚醛環氧化合物、四甲基聯苯環氧化合物、雙酚A環氧化合物、脂環環氧化合物或其組合。
以100重量份的光敏性樹脂組成物計，可以0.01重量份至20重量份、例如0.1重量份至10重量份的量包含環氧化合物。當所包含的環氧化合物處於所述範圍內時，可改善緊密接觸性質、儲存能力等。
光敏性樹脂組成物可更包含具有例如羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等反應性取代基的矽烷偶合劑以改善與基板的黏著性。
矽烷偶合劑的實例包括三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酸基氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙 基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等。該些矽烷偶合劑可單獨或以二或更多者的混合物形式使用。
以100重量份的光敏性樹脂組成物計，可以0.01重量份至10重量份的量包含矽烷偶合劑。當所包含的矽烷偶合劑處於上述範圍內時，會改善緊密接觸性質、儲存性質等。
光敏性樹脂組成物可更包含界面活性劑以改善塗佈性質且抑制斑點產生。
界面活性劑的實例可包括茀系界面活性劑，例如BM-1000®及BM-1100®(BM化學公司(BM Chemie Inc.))；美佳法(MEGAFACE)F 142D®、F 172®、F 173®及F 183®(大日本油墨化工有限公司(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.,Ltd.))；弗洛拉得(FULORAD)FC-135®、弗洛拉得FC-170C®、弗洛拉得FC-430®及弗洛拉得FC-431®(住友3M有限公司(Sumitomo 3M Co.,Ltd.))；沙福隆(SURFLON)S-112®、沙福隆S-113®、沙福隆S-131®、沙福隆S-141®及沙福隆S-145®(旭硝子玻璃有限公司(ASAHI Glass Co.,Ltd.))；及SH-28PA®、SH-190®、SH-193®、SZ-6032®及SF-8428®等(東麗矽酮有限公司(Toray Silicone Co.,Ltd.))。
以100重量份的光敏性樹脂組成物計，可以0.001重量份至5重量份的量包含界面活性劑。當所包含的界面活性劑處於所述範圍內時，可確保塗佈均勻性，不產生汙漬且改善玻璃基板的潤濕性質。
光敏性樹脂組成物可更包含在其減少性質時預定量的其他添加劑，例如抗氧化劑、穩定劑等。
根據另一實施例，提供一種使用根據實施例的光敏性樹脂組成物製造的彩色濾片。
彩色濾片的圖案形成製程如下。
所述製程包括將正型光敏性樹脂組成物以旋塗、狹縫塗佈、噴墨印刷等方法塗佈於支撐基板上；對經塗佈的正型光敏性樹脂組成物進行乾燥以形成光敏性樹脂組成物膜；將正型光敏性樹脂組成物膜曝光；在鹼性水溶液中對經曝光的正型光敏性樹脂組成物膜進行顯影以獲得光敏性樹脂膜；且對所述光敏性樹脂膜進行熱處理。用於圖案化製程的條件為相關技術中所習知的且將不在本說明書中加以詳細說明。
(合成例)
合成例1：由化學式P-1表示的化合物的合成
1. 第一步驟：中間物1的合成
將NaBH4(3.8克，0.1莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了100克1,2-二氯乙烷，且將所述混合物冷卻至0℃並接著進行了攪拌。向其中添加了乙酸(21.6克，0.36莫耳)，在緩慢加熱至室溫的同時將所獲得的混合物攪拌了2小時，且向其中滴加了環己酮(8.8克，0.09莫耳)。在室溫下將反應物攪拌了1小時，向其中添加了苯胺(7.9克，0.85莫耳)，且使所獲得的混合物在室溫下靜置一晚。當反應完成後，使用二氯甲烷獲得了萃取物， 並接著使用蒸餾水及10%的NaCl水溶液進行了洗滌。在使用MgSO4自其移除水分之後，對萃取物進行了過濾並接著進行了乾燥以獲得中間物1(14.5克，產率為97%)。
2. 第二步驟：中間物2的合成
在氮氣氣氛下將4,4’-二氯苯甲酮(10克，39.8毫莫耳)、三(二苯亞甲基丙酮)二鈀(0)(Pd2(dba)3)(220毫克，0.002莫耳%)、2-二環己基膦基-2’,4’,6’-三異丙基聯苯基(XPhos)(230毫克，0.005莫耳%)及第三丁醇鈉(11.48克，119.5毫莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了50克甲苯，在室溫下將所述混合物攪拌了10分鐘，且向其中添加了中間物1(14克，79.6毫莫耳)。在緩慢加熱至80℃的同時將反應物攪拌了2小時。當反應完成後，將反應物冷卻至室溫，向其中添加了50克異丙醇，且對所獲得的混合物進行了攪拌。藉由過濾器對其中的沈澱物進行了過濾，利用水進行了洗滌，並接著添加至乙腈中，且在80℃下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。在將溫度降至室溫之後，對沈澱物進行了過濾及乾燥以獲得中間物2(27.3克，產率為65%)。
3. 第三步驟至第六步驟：中間物3至中間物6的合成
(1)第三步驟：中間物3的合成
將乙醇鈉(34.2克，0.503莫耳)及250克乙醇放入圓底燒瓶中並在室溫下攪拌了30分鐘，向其中緩慢添加了氰乙酸乙酯(45.5克，0.402莫耳)，且在室溫下將所述混合物攪拌了30分鐘。向其中緩慢滴加了鄰甲苯基異硫氰酸酯(50克，0.335莫耳)，且將所獲得的混合物加熱至80℃並接著攪拌了3小時。當反應完成後，對生成物進行了冷卻，自其移除了溶劑，且使用二氯乙烷獲 得了萃取物並分別使用10%的HCl及水進行了洗滌。在自其移除有機溶劑之後，向其中的固體化合物中添加了200克MeOH，且在0℃下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘，並接著進行了過濾以獲得中間物3(73.8克，產率為84%)。
質子核磁共振(proton nuclear magnetic resonance，1H NMR)(溶劑：CDCl3(氘氯仿))：11.5(bs,1H),7.36-7.22(m,4H),4.61(s,1H),4.29(q,2H),1.37(t,3H)。
氣相層析-質譜分析(gas chromatography-mass spectrometry，GC-MS)：262 m/z(質荷比(mass-to-charge ratio))。
(2)第四步驟：中間物4的合成
將NaOH(45.7克，1.14莫耳)及240克水放入圓底燒瓶中，在0℃下將所述混合物攪拌了30分鐘，向其中添加了中間物3(30克，0.114莫耳)，且將所述混合物加熱至80℃並接著攪拌了3小時。當反應完成後，將溫度降至0℃，且接著使用濃縮的HCl(pH：約6)對反應物進行了酸化。對其中生成的沈澱物進行了過濾，且接著利用水進行了洗滌並進行了乾燥以獲得中間物4 (19.7克，產率為90%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：9.24(bs,1H),7.43-7.28(m,4H),4.08(s,2H)。
GC-MS：190 m/z。
(3)第五步驟：中間物5的合成
將KOH(8.71克，0.155莫耳)及200克MeOH放入圓底燒瓶中，並接著在室溫下攪拌了30分鐘，向其中分別添加了中間物4(20.5克，0.108莫耳)及2’-氯苯甲醯甲基溴(26.6克，0.114莫耳)，且在室溫下將所述混合物攪拌了2小時。當反應完成後，向其中添加了200克水，在室溫下將所獲得的混合物攪拌了1小時，且對其中的沈澱物進行了過濾，並接著利用MeOH進行了洗滌且進行了乾燥以獲得中間物5(29.8克，產率為89%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.46-7.40(m,3H),7.33-7.24(m,4H),7.12(t,1H),6.64(bs,1H),6.46(s,1H),2.34(t,3H)
GC-MS：324 m/z。
(4)第六步驟：中間物6的合成
將KOH(10.4克，0.185莫耳)、170克丙酮及80克水放入圓底燒瓶中，並接著在室溫下進行了攪拌，向其中分別添加了中間物5(30克，92.4毫莫耳)及2-碘丙烷(31.5克，0.185莫耳)，且在60℃下將所述混合物攪拌了12小時。當反應完成後，藉由蒸餾移除了丙酮，使用二氯甲烷獲得了萃取物並接著使用10%的HCl及飽和硫代硫酸鈉進行了洗滌。在自其移除了有機溶劑之後，使用乙酸乙酯/己烷形成了沈澱物以獲得中間物6(19克，產率為56%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.42-7.40(m,1H),7.34-7.20(m,7H),6.27(s,1H),4.72-4.63(m,1H),2.28(s,3H),1.28(d,6H)
GC-MS：366 m/z。
4. 第七步驟：由化學式P-1表示的化合物的合成
在氮氣條件下將中間物2(1.50克，2.83毫莫耳)及中間物6(1.0克，2.83毫莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了7.5克甲苯及POCl3(2.6克，17.0毫莫耳)，且在緩慢加熱至110℃的同時將所述混合物攪拌了5小時。當反應完成後，將溫度降至室溫，且使用甲基乙基酮(methyl ethyl ketone，MEK)獲得了萃取物並分別使用10%的NaCl、水及10%的HCl進行了洗滌。在移除有機層之後，對剩餘物進行了乾燥並接著添加至雙(三氟甲)磺醯亞胺鋰(1.2克，4.2毫莫耳)中，向其中添加了10克二甲基亞碸，且在室溫下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘(陰離子交換製程)。將反應物滴入水中以形成沈澱物，且對所述沈澱物進行了過濾及分離。將經過濾的固體化合物溶解於40克乙腈中，向其中添加了3克活性碳，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。藉由過濾器移除了活性碳，且藉由蒸餾移除了自其獲得的濾液，並進行了乾燥以獲得由化學式P-1表示的化合物(2.69克，產率為82%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.54-7.34(m,10H),7.23-7.18(m,4H),7.09-7.03(m,8H),6.42(d,4H),4.69-4.50(m,1H),4.00(m,2H),2.31(s,3H),1.96-1.80(m,8H),1.68-1.36(m,8H),1.25-1.08(m,10H)
液相層析-質譜分析(liquid chromatography-mass spectrometry，LC-Mass)：877 m/z(當液相層析-質譜分析為+模式時，僅偵測到陽離子的分子量)。
合成例2：由化學式P-2表示的化合物的合成
(1)中間物5-1的合成
除了使用2’-氟苯甲醯甲基溴(14.4克，66毫莫耳)替代了2’-氯苯甲醯甲基溴以外，根據與中間物5的合成相同的方法合成了中間物5-1(16.1克，產率為83%)。
(2)中間物6-1的合成
除了使用中間物5-1(16.1克，52毫莫耳)及1,6-二碘己烷(8.5克，25毫莫耳)替代了中間物5及2-碘丙烷以外，根據與 中間物6相同的方法合成了中間物6-1(13.2克，產率為相對於中間物5-1的產率為38%)。
(3)由化學式P-2表示的化合物的合成
在氮氣條件下將中間物2(1.0克，1.89毫莫耳)及中間物6-1(0.66克，0.94毫莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了5克甲苯及POCl3(1.7克，11.3毫莫耳)，且在緩慢加熱至110℃的同時將所述混合物攪拌了5小時。當反應完成後，將溫度降至室溫，且使用甲基乙基酮(MEK)獲得了萃取物並分別使用10%的NaCl、水及10%的HCl進行了洗滌。在移除有機層之後，對剩餘物進行了乾燥，向其中添加了雙(三氟甲)磺醯亞胺鋰(0.8克，2.8毫莫耳)，向其中添加了7克二甲基亞碸，且在室溫下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘(陰離子交換製程)。接著，將反應物滴入水中以形成沈澱物，且藉由過濾器對所述沈澱物進行了分離。將所獲得的固體化合物添加至40克乙腈中，向其中添加了2克活性碳，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。當藉由過濾器移除了活 性碳後，藉由蒸餾移除了自其獲得的濾液，並進行了乾燥以獲得由化學式P-2表示的化合物(1.3克，產率為相對於中間物6-1的產率為61%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.50-7.03(m,44H),6.42(m,8H),4.13-3.99(m,6H),3.70(m,2H),2.30(s,6H),2.04-0.84(m,48H)
液相層析-質譜分析：861 m/z(陽離子的實際分子量為1722，但由於陽離子為二價的，因此偵測到實際分子量的一半)。
合成例3：由化學式P-3表示的化合物的合成
(1)中間物6-2的合成
除了使用2-碘乙醇(10.3克，60毫莫耳)替代了中間物5(15克，46毫莫耳)及2-碘丙烷以外，根據與中間物6的合成 相同的方法合成了中間物6-2(15.1克，產率為89%)。
(2)中間物7的合成
在氮氣條件下將三聚氯化氰(0.36克，1.9毫莫耳)及10毫升二氯甲烷放入圓底燒瓶中並冷卻至-5℃，在維持於低溫下的同時向其中緩慢添加了溶解於5毫升的二氯甲烷/水(4：1 v/v)的混合溶劑中的中間物6-2(2.8克，7.6毫莫耳)及NaOH(0.3克，7.6毫莫耳)。在使所獲得的混合物反應1小時之後，使溫度緩慢升高，且將反應物回流了一天。對反應物進行了冷卻，利用水對自其獲得的有機層進行了洗滌，且自其移除了溶劑以獲得中間物7(1.37克，產率為相對於三聚氯化氰的產率為61%)。
[中間物7]
(3)由化學式P-3表示的化合物的合成
除了使用中間物7(0.71克，0.6毫莫耳)替代了中間物6-1以外，根據與由化學式P-2表示的化合物的合成方法相同的方法獲得了由化學式P-3表示的化合物(1.2克，產率為相對於中間物7的產率為56%)。
[化學式P-3]
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.52-7.33(m,30H),7.21-7.03(m,36H),6.46(m,12H),4.46-4.22(m,12H),4.06-3.99(m,6H),2.32(s,9H),1.96-0.89(m,60H)
液相層析-質譜分析：905 m/z。
比較合成例1：由化學式A-1表示的化合物的合成
(1)在冰浴中對100毫升4,4’-二氯苯甲酮(10克，90毫莫耳，東京化學工業有限公司(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.))的N,N-二甲基甲醯胺溶液進行了冷卻，向其中添加了氫化鈉(60%，4.3克，90毫莫耳)，且對所述混合物進行了攪拌，並且向其中逐漸地添加了N-乙基苯胺(6.5克，30毫莫耳，東京化 學工業有限公司)。在室溫下將所述混合物攪拌了5小時，向其中添加了水以執行二氯甲烷萃取，且藉由矽膠管柱層析法對自其獲得的萃取物進行了純化以獲得由化學式BP2表示的化合物(3.1克，產率為24%)。
(2)在氮氣氣氛下執行以下反應。將32.2重量份的硫氰酸鉀及160.0重量份的丙酮放入配備有冷卻管及攪拌器的燒瓶中，並接著在室溫下攪拌了30分鐘。隨後，歷時10分鐘向其中滴加了50.0重量份的2-氟苯甲酸氯(東京化學工業有限公司)。當添加完成後，在室溫下將所獲得的混合物攪拌了2小時。隨後，對反應混合物進行了冷卻，向其中滴加了40.5重量份的N-乙基-鄰甲苯胺(東京化學工業有限公司)。當添加完成後，在室溫下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。隨後，對反應混合物進行了冷卻，且向其中滴加了34.2重量份的30%的氫氧化鈉水溶液。當添加完成後，在室溫下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。隨後，在室溫下向其中滴加了31.3重量份的氯乙酸。當添加完成後，在加熱及回流的同時將所獲得的混合物攪拌了7小時。隨後，將反應混合物冷卻至室溫，並接著倒入120.0重量份的自來水中，向其中添加 了200重量份的甲苯，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。停止攪拌，且使生成物靜置達30分鐘以使有機層與水層分離。在分離並廢棄水層之後，利用200重量份的鹽酸、隨後是200重量份的自來水及最後是200重量份的飽和鹽水對有機層進行了洗滌，並接著進行了過濾以獲得乾燥的有機層。使用蒸發器對所獲得的有機層進行了處理，以移除溶劑並獲得檸檬黃液體。藉由管柱層析法對所獲得的檸檬黃液體進行了純化。在減壓下在60℃下對經純化的檸檬黃液體進行了乾燥，以獲得49.9重量份的由化學式B-I-7表示的化合物(產率為51%)。
(3)在氮氣氣氛下執行以下反應。將7.6重量份的由化學式(B-I-7)表示的化合物、10.0重量份的由化學式BP2表示的化合物及20.0重量份的甲苯放入配備有冷卻管及攪拌器的燒瓶中，向其中添加了11.4重量份的氧氯化物，且在95℃至100℃下將所述混合物攪拌了3小時。隨後，將反應混合物冷卻至室溫，並接著利用170.0重量份的異丙醇進行了稀釋。隨後，將經稀釋的反應溶液倒入300.0重量份的飽和鹽溶液中，向其中添加了100重量份的甲苯，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。隨後，停止 攪拌，且使生成物靜置達30分鐘以使有機層與水層分離。在分離並廢棄水層之後，使用300重量份的飽和鹽溶液對有機層進行了洗滌。向有機層中添加了適量的硫酸鈉，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘並接著進行了過濾以獲得乾燥的有機層。利用蒸發器對所獲得的有機層進行了處理以對溶劑進行蒸餾及移除，進而獲得藍紫色固體。藉由管柱層析法對藍紫色固體進行了純化。在減壓下在60℃下對經純化的藍紫色固體進行了乾燥，以獲得17.8重量份的由化學式A-II-16表示的化合物(產率為100%)。
液相層析-質譜分析：715.3 m/z。
(4)在氮氣氣氛下執行以下反應。將10.0重量份的由化學式(A-II-16)表示的化合物、5重量份的雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(東京工業有限公司(Tokyo Industry Co.,Ltd.))及30.0重量份的N,N-二甲基甲醯胺放入配備有冷卻管及攪拌器的燒瓶中，並接著在40℃下攪拌了3小時。隨後，將反應混合物冷卻至室溫並歷時1小時滴加至500.0重量份的自來水中同時攪拌了1小時， 以獲得深藍色懸浮液。對所獲得的懸浮液進行了過濾以獲得藍綠色固體。在減壓下在60℃下對藍綠色固體進行了進一步乾燥，以獲得11.9重量份的由化學式A-1表示的化合物(產率為90%)作為染料。
比較合成例2：由化學式A-2表示的化合物的合成
在氮氣條件下將由BP2表示的化合物(1.03克，2.45毫莫耳)及中間物6(0.9克，2.45毫莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了5.2克甲苯及POCl3(1.50克，9.8毫莫耳)，且在緩慢加熱至110℃的同時將所述混合物攪拌了5小時。當反應完成後，將溫度降至室溫，且使用甲基乙基酮(MEK)獲得了萃取物並分別使用10%的NaCl、水及10%的HCl進行了洗滌。在移除有機層之後，對剩餘物進行了乾燥，向其中添加了雙(三氟甲)磺醯亞胺鋰(1.2克，4.2毫莫耳)，向其中添加了10克二甲基亞碸(dimethyl sulfoxide，DMSO)，且在室溫下將所獲得的混合物攪拌了30分鐘(陰離子交換製程)。將反應物滴入水中以形成沈澱物，且對所述沈澱物進行了過濾及分離。將經過濾的固體化合物溶解於40克乙腈中，向其中添加了3克活性碳，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。在藉由過濾器移除活性碳之後，藉由蒸餾移除了自其獲得的濾液，並接著進行了乾燥以獲得由化學式A-2表示的化合物(2.01克，產率為79%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.58-7.40(m,11H),7.22-7.03(m,11H),6.45(d,4H),4.53-4.44(m,1H),4.09(q,4H),2.31(s,3H),1.39(t,6H),1.18(d,12H)
液相層析-質譜分析：1049 m/z。
比較合成例3：由化學式A-3表示的化合物的合成
(1)中間物8的合成
將KOH(10.4克，0.185莫耳)、170克丙酮及80克水放 入圓底燒瓶中，並接著在室溫下進行了攪拌，向其中分別添加了中間物5(30克，92.4毫莫耳)及碘乙烷(28.9克，0.185莫耳)，且在60℃下將所述混合物攪拌了12小時。當反應完成後，藉由蒸餾移除了丙酮，使用二氯甲烷獲得了萃取物並使用10%的HCl及飽和硫代硫酸鈉進行了洗滌。在移除有機溶劑之後，使用乙酸乙酯/己烷執行了沈澱並獲得中間物8(26克，產率為80%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.45-7.26(m,8H),6.28(s,1H),3.94(q,2H),2.28(s,3H),1.34(t,3H)
GC-MS：352 m/z。
(2)由化學式A-3表示的化合物的合成
在氮氣條件下將中間物2(1.29克，2.45毫莫耳)及中間物8(0.86克，2.45毫莫耳)放入圓底燒瓶中，向其中添加了6.5克甲苯及POCl3(1.50克，9.8毫莫耳)，且在加熱至110℃的同時將所述混合物緩慢攪拌了5小時。當反應完成後，將溫度降至室溫，且使用甲基乙基酮(MEK)獲得了萃取物並分別使用10%的NaCl、水及10%的HCl進行了洗滌。在移除有機層之後，對剩餘 物進行了乾燥，向其中添加了雙(三氟甲)磺醯亞胺鋰(1.2克，4.2毫莫耳)，向其中添加了10克二甲基亞碸，且在室溫下將所述混合物攪拌了30分鐘(陰離子交換製程)。將反應物滴入水中以形成沈澱物，且藉由過濾器對所述沈澱物進行了分離。將經過濾的固體化合物溶解於40克乙腈中，向其中添加了3克活性碳，且將所獲得的混合物攪拌了30分鐘。藉由過濾器移除了活性碳，且藉由蒸餾移除了自其獲得的濾液，以獲得由A-3表示的化合物(2.41克，產率為86%)。
1H NMR(溶劑：CDCl3)：7.54-7.34(m,10H),7.23-7.18(m,4H),7.09-7.03(m,8H),6.43(d,4H),4.11(q,2H),4.00(t,4H),2.33(s,3H),1.96-1.80(m,8H),1.68-1.36(m,8H),1.20-1.08(m,7H)
液相層析-質譜分析：863 m/z。
(實例)
光敏性樹脂組成物的製備
將根據實例1至實例3以及比較例1至比較例3的各光敏性樹脂組成物製備成具有表1中所示的組成。具體而言，將光聚合起始劑溶解於溶劑中，且在室溫下將所述溶液攪拌了2小時。然後，向其中添加了黏合劑樹脂及光可聚合單體，且在室溫下將所述混合物攪拌了2小時。隨後，向其中添加了染料(端視情形為顏料分散液)，在室溫下將所述混合物攪拌了1小時，向其中添加了其他添加劑，且在室溫下將所獲得的混合物攪拌了1小時。將所述溶液過濾了三次以移除雜質進而製備光敏性樹脂組成物。
黏合劑樹脂
丙烯酸系黏合劑樹脂(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲酯=15/85(w/w)，重量平均分子量=22,000克/莫耳，酸值=100毫克KOH/克)
著色劑
(染料P-1)由化學式P-1表示的化合物
(染料P-2)由化學式P-2表示的化合物
(染料P-3)由化學式P-3表示的化合物
(染料A-1)由化學式A-1表示的化合物
(染料A-2)由化學式A-2表示的化合物
(染料A-3)由化學式A-3表示的化合物
光可聚合化合物
二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate，DPHA)
光聚合起始劑
肟系起始劑(巴斯夫公司(BASF Corp.)，OXE-01)
溶劑
丙二醇單甲醚乙酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate，PGMEA)
其他添加劑
氟系界面活性劑(迪愛生有限公司(DIC Co.,Ltd.)，F-554(10%的稀釋溶液))
(評估)
評估1：亮度及耐熱性的評估
藉由使用塗佈機(光塗佈(Opticoat)MS-A150，三笠有限公司(Mikasa Co.,Ltd.))並在90℃的熱板上進行預烘烤(在後烘烤(post baking，PSB)之前)，以可獲得預定厚度的轉速分別 製備了根據實例1至實例3以及比較例1至比較例3的光敏性樹脂組成物。隨後，藉由利用曝光機(HB-50110AA，優志旺有限公司(Ushio Inc.))在50毫焦/平方公分的曝光條件下對經塗佈組成物進行曝光並在230℃下在烘箱中烘烤30分鐘(在後烘烤之後)，完成了薄膜樣本。在烘箱烘烤之前及之後，藉由使用MCPD 3000設備對薄膜樣本的色座標及亮度(Y)進行了量測，且結果示於表2中，並且另外，參考後烘烤之前及之後的色座標變化對▽(E*)進行了計算以評估耐熱性，且結果示於表3中。
評估2：耐光性的評估
藉由以下方式來評估耐光性：利用氙燈(強度為0.68瓦)在60℃下將評估1中的薄膜樣本曝光達2小時、藉由使用MCPD 3000(多通道光偵測器，multi channel photo detector)比色計設備量測其色座標、參考後烘烤之前及之後的色座標的變化將所述色座標轉換成del(E*)，且結果示於表2中。
參考表2及表3，相較於根據比較例1至比較例3的光敏性樹脂組成物而言，根據實例1至實例3的光敏性樹脂組成物顯示出優異的耐熱性及耐光性特性。
儘管本發明已結合目前視為實用的示例性實施例加以闡述，然而應理解本發明並非僅限於所揭露的實施例，而是相反地旨在涵蓋包含於隨附申請專利範圍的精神及範圍內的各種潤飾及等效配置。

Claims (32)

  1. 一種化合物，包含 陽離子及陰離子， 其中所述陽離子由化學式1表示： [化學式1]其中，在化學式1中， R1 至R4 獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R1 及R2 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R3 及R4 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R5 及R6 獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，其限制條件是R5 及R6 中的一者必需為經取代的C3至C20烷基， R7 為經取代或未經取代的C6至C20芳基，且 X為O、S或NR8 ，其中R8 為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中X為O或S。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中R1 及R2 中的一者以及R3 及R4 中的一者必需為經取代或未經取代的C5至C20環烷基，且 R5 及R6 中的一者必需為經「C1至C10烷基、C3至C12環烷基或C6至C12芳基」取代的C3至C20烷基。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中所述陽離子由化學式1-1至化學式1-3中的一者表示： [化學式1-1][化學式1-2][化學式1-3]其中，在化學式1-1至化學式1-3中， R1 及R4 獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基， R5 及R7 獨立地為經取代或未經取代的C6至C20芳基， Ra 、Rb 、Rc 、Rd 及R9 至R11 獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基，其限制條件是R9 至R11 中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基或者經取代或未經取代的C6至C12芳基， X為O或S，且 A為金剛烷基。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中所述陽離子由化學式1a至化學式3a中的一者表示： [化學式1a][化學式2a][化學式3a]其中，在化學式1a至化學式3a中， R1 及R4 獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基， Ra 至Rd 獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， Re 至Rh 獨立地為氫原子、鹵素原子、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基， Re 及Rf 中的至少一者為鹵素原子， Rg 及Rh 中的至少一者為經取代或未經取代的C1至C20烷基， R9 至R11 獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C12芳基， R9 至R11 中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基， X為O或S，且 A為金剛烷基。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的化合物，其中所述陽離子由化學式1-1a至化學式1-3a中的一者表示： [化學式1-1a][化學式1-2a][化學式1-3a]其中，在化學式1-1a至化學式1-3a中， R1 及R4 獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基， Ra 至Rd 獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， Re 及Rf 獨立地為氫原子、鹵素原子、或者經取代或未經取代的C1至C20烷基， Re 及Rf 中的至少一者為鹵素原子， Rg 為經取代或未經取代的C1至C20烷基， R9 至R11 獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， R9 至R11 中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基， X為O或S，且 A為金剛烷基。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的化合物，其中所述陽離子由化學式1-1a-Ⅰ至化學式1-3a-Ⅰ表示： [化學式1-1a-Ⅰ][化學式1-2a-Ⅰ][化學式1-3a-Ⅰ]其中，在化學式1-1a-Ⅰ至化學式1-3a-Ⅰ中， Ra 至Rd 獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， Re 為鹵素原子， Rg 為經取代或未經取代的C1至C20烷基， R9 至R11 獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基， R9 至R11 中的至少兩者為經取代或未經取代的C1至C10烷基， X為O或S， Ri 至Rl 獨立地為氫原子、鹵素原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，且 A為金剛烷基。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的化合物，其中Re 為F或Cl。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中所述化合物由化學式1-i至化學式1-v中的一者表示： [化學式1-i][化學式1-ii][化學式1-iii][化學式1-iv][化學式1-v]其中，在化學式1-i至化學式1-v中， Y- 為陰離子，且 X為O或S。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的化合物，其中所述陰離子由選自化學式A至化學式F中的一者表示： [化學式A][化學式B][化學式C] PW12 O40 3- [化學式D] SiW12 O40 4- [化學式E] CF3 SO3 - [化學式F] ClO4 - 。
  11. 一種化合物，由化學式2表示： [化學式2]其中，在化學式2中， R21 至R24 獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R21 及R22 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R23 及R24 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R25 及R26 獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基， L1 為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、經取代或未經取代的C3至C20伸環烷基、酯連接基、胺基甲酸酯連接基、或其組合， X為O、S或NR8 ，其中R8 為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，且 Y- 為陰離子。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中L1 為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、由化學式L-1表示的二價連接基、或由化學式L-2表示的二價連接基： [化學式L-1][化學式L-2]其中，在化學式L-1及化學式L-2中， La 至Lg 獨立地為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
  13. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中R21 及R22 中的一者為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且 R23 及R24 中的一者為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的化合物，其中所述C3至C20環烷基為環戊基或環己基。
  15. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中R21 及R22 中的一者為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且 R23 及R24 中的一者為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的化合物，其中所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基由化學式S表示： [化學式S]。
  17. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中R25 為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基，且 R26 為經C1至C10烷基取代的C6至C20芳基。
  18. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中所述由化學式2表示的化合物是由化學式2-i至化學式2-vi中的一者表示： [化學式2-i][化學式2-ii][化學式2-iii][化學式2-iv][化學式2-v][化學式2-vi]其中，在化學式2-i至化學式2-vi中， X為O或S， L2 為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基，且 Y- 為陰離子。
  19. 如申請專利範圍第11項所述的化合物，其中所述Y- 由選自化學式A至化學式F中的一者表示： [化學式A][化學式B][化學式C] PW12 O40 3- [化學式D] SiW12 O40 4- [化學式E] CF3 SO3 - [化學式F] ClO4 - 。
  20. 一種化合物，由化學式3表示： [化學式3]其中，在化學式3中， R31 至R34 獨立地為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C6至C20芳基、或者經取代或未經取代的C2至C20雜芳基，其限制條件是R31 及R32 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且R33 及R34 中的一者必需為經取代或未經取代的C3至C20環烷基， R35 及R36 獨立地為經取代的C1至C20烷基或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，且 L3 為C6至C20芳香族三價連接基、C3至C20雜芳香族三價連接基、或由化學式L-3表示的三價連接基， [化學式L-3]其中，在化學式L-3中， L4 為經取代或未經取代的C1至C10伸烷基， X為O、S或NR8 ，其中R8 為氫原子、經取代或未經取代的C1至C10烷基、或者經取代或未經取代的C6至C20芳基，且 Y- 為陰離子。
  21. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中L3 為C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基或所述由化學式L-3表示的三價連接基。
  22. 如申請專利範圍第21項所述的化合物，其中所述C3至C10含氮的雜芳香族三價連接基由化學式L-4表示： [化學式L-4]。
  23. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中R31 及R32 中的一者為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且 R33 及R34 中的一者為經取代或未經取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
  24. 如申請專利範圍第23項所述的化合物，其中所述C3至C20環烷基為環戊基或環己基。
  25. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中R31 及R32 中的一者為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且 R33 及R34 中的一者為經鹵素原子取代的C3至C20環烷基，且另一者為經取代或未經取代的C6至C20芳基。
  26. 如申請專利範圍第25項所述的化合物，其中所述經鹵素原子取代的C3至C20環烷基由化學式S表示： [化學式S]。
  27. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中R35 為經F-或Cl-取代的C6至C20芳基，且 R36 為經C1至C10烷基取代的C1至C20烷基。
  28. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中所述由以上化學式3表示的化合物是由化學式3-i至化學式3-v中的一者表示： [化學式3-i][化學式3-ii][化學式3-iii][化學式3-iv][化學式3-v]其中，在化學式3-i至化學式3-v中， X為O或S，且 Y- 為陰離子。
  29. 如申請專利範圍第20項所述的化合物，其中所述Y- 由選自化學式A至化學式F中的一者表示： [化學式A][化學式B][化學式C] PW12 O40 3- [化學式D] SiW12 O40 4- [化學式E] CF3 SO3 - [化學式F] ClO4 - 。
  30. 一種光敏性樹脂組成物，包含 如申請專利範圍第1項、第11項及第20項中任一項所述的化合物， 黏合劑樹脂， 光可聚合化合物， 光聚合起始劑，以及 溶劑。
  31. 如申請專利範圍第30項所述的光敏性樹脂組成物，其中所述光敏性樹脂組成物更包含顏料。
  32. 一種彩色濾片，使用如申請專利範圍第30項所述的光敏性樹脂組成物來製造。
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