TWI639843B - 電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置 - Google Patents

電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置 Download PDF

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TWI639843B
TWI639843B TW106107292A TW106107292A TWI639843B TW I639843 B TWI639843 B TW I639843B TW 106107292 A TW106107292 A TW 106107292A TW 106107292 A TW106107292 A TW 106107292A TW I639843 B TWI639843 B TW I639843B
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精工愛普生股份有限公司
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Abstract

本發明之電子零件檢查裝置係包括被搬入IC元件之第1室、自第1室被搬入IC元件之第2室、及自第2室被搬入IC元件之第3室。而且,第2室內之濕度低於第1室內之濕度。

Description

電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置
本發明係關於一種電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置。
先前以來,例如已知有檢查IC(integrated circuit,積體電路)元件等電子零件之電氣特性之電子零件檢查裝置,於該電子零件檢查裝置,裝入有用以將IC元件搬送至檢查部之保持部為止之電子零件搬送裝置。IC元件之檢查時係將IC元件配置於保持部,使設置於保持部之複數個探針與IC元件之各端子接觸。 如此之IC元件之檢查存在將IC元件冷卻至特定溫度而進行之情形。於該情形時,必須將IC元件冷卻,並且以避免產生結露之方式,使配置有IC元件之構件之周圍之氣體氛圍之濕度降低。 於專利文獻1中記載有如下IC處置器,該IC處置器係構成為具有內部設定為特定之溫度之複數個腔室,且於IC晶片通過各腔室之過程中進行檢查。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開平8-105938號公報
[發明所欲解決之問題] 然而,專利文獻1中雖可於各腔室進行溫度管理,但對於濕度管理、即如何防止將IC元件冷卻時所產生之結露,並無任何揭示,亦無任何提示。因而,現實中能否防止結露之產生尚不明確。 本發明之目的在於提供一種於可將電子零件冷卻之狀態下,可防止第1室、第2室及第3室中之尤其第2室內產生結露之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明係為解決上述課題之至少一部分研製而成者,且可作為以下之形態或適用例而實現。 [適用例1] 本發明之電子零件搬送裝置之特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、 供上述電子零件自上述第1室搬入之第2室、及 供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室,且 上述第2室內之濕度低於上述第1室內之濕度。 藉此,於可將電子零件冷卻之狀態下,可對第1室、第2室及第3室之每一室,調整(設定)該室內之濕度。而且,若於濕度經調整之狀態下,進行冷卻,則此後,可防止尤其第2室內產生結露。 [適用例2] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度為各自之室內之平均濕度。 藉此,獲得儘可能正確之濕度。 [適用例3] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係由複數個配置於各自之室內之濕度感測器所感測之濕度中之最高之濕度。 藉此,獲得尤其第2室內產生結露之可能性較高之濕度,由此,有助於防止結露。 [適用例4] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係各自之室內之配置有濕度感測器之位置之濕度。 藉此,獲得儘可能正確之濕度。 [適用例5] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係於上述第2室內配置有上述電子零件時之濕度。 藉此,可於尤其第2室內產生結露時,獲得可能對電子零件造成影響之濕度。 [適用例6] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度與上述第1室內之濕度之差大於0%RH且小於4.5%RH。 藉此,可將尤其第2室內產生結露防患於未然。 [適用例7] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1室內之濕度、上述第2室內之濕度、及上述第3室內之濕度以0~60%RH進行控制。 藉此,可將尤其第2室內產生結露防患於未然。 [適用例8] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1室內之濕度、上述第2室內之濕度、及上述第3室內之濕度藉由使乾燥空氣或氮氣流入各自之室內而控制。 藉此,便可容易且確實地進行各自之室內之濕度之控制。 [適用例9] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度低於上述第3室內之濕度。 藉此,於可將電子零件冷卻之狀態下,可對第1室、第2室及第3室之每一室,調整(設定)該室內之濕度。而且,若於濕度經調整之狀態下進行冷卻,則此後,可防止尤其第2室內產生結露。 [適用例10] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第2室內之濕度低於上述第1室內之濕度,且上述第1室內之濕度低於上述第3室內之濕度。 藉此,若於以如此之大小關係調整濕度之狀態下進行冷卻,則此後,可防止尤其第2室內產生結露。 [適用例11] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1室內之濕度與上述第3室內之濕度之差大於0%RH且小於4.5%RH。 藉此,可將尤其第2室內產生結露防患於未然。 [適用例12] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,具備饋送配置有上述電子零件之配置構件之饋送部,且 於上述饋送部與上述第1室之間設置有可開閉之開閉部。 藉此,於配置構件往來於饋送部與第1室之間之情形時,於該往來時以外,可設為開閉部關閉之狀態,由此,可儘量地維持第1室內之濕度或溫度。 [適用例13] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,具備將配置有上述電子零件之配置構件移除之移除部,且 於上述移除部與第3室之間設置可開閉之開閉部。 藉此,於配置構件往來於移除部與第3室之間之情形時,於該往來時以外,可設為開閉部關閉之狀態,由此,可儘量地維持第3室內之濕度或溫度。 [適用例14] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1室與上述第3室藉由間隔壁而隔開。 藉此,便可分別確保第1室之氣密性與第3室之氣密性,由此,例如於第1室需要濕度管理(濕度調整)之情形時,可容易地進行該濕度管理。 [適用例15] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第1室、上述第2室及上述第3室,配置有檢測氧濃度之氧濃度感測器。 藉此,便可檢測第1室、第2室及第3室之各室內之當前之氧濃度。 [適用例16] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1室、上述第2室及上述第3室控制為預先規定之濕度、氧濃度。 藉此,成為以防止第1室、第2室及第3室之各室內產生結露之程度管理濕度,並且各室內以充分之氧濃度充滿之狀態。 [適用例17] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第1室與上述第2室之間,設置有使上述第1室與上述第2室連通之第1開口部。 藉此,例如於構成為可對第2室供給用以調整該第2室內之濕度之乾燥空氣之情形時,通過第2室之乾燥空氣可經由第1開口部流入第1室,從而用於該第1室內之濕度調整。 [適用例18] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第2室與上述第3室之間,設置有使上述第2室與上述第3室連通之第2開口部。 藉此,例如於構成為可對第2室供給用以調整該第2室內之濕度之乾燥空氣之情形時,通過第2室之乾燥空氣可經由第2開口部流入第3室,從而亦可用於該第3室內之濕度調整。該構成係於第3室需要濕度調整之情形時較為有效。 [適用例19] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第2室之上部,配置有被收納在該第2室內搬送上述電子零件之搬送機構之第4室。 藉此,例如於第2室需要濕度管理(濕度調整),且第4室並不如第2室之程度地需要濕度管理之情形時,可優先且容易地進行第2室中之濕度管理。 [適用例20] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第1室設置有第1搬送裝置,且於上述第3室設置有第2搬送裝置。 藉此,例如與具有橫跨第1室與第3室所設置之1個搬送機構之構成相比,可實現輸送量、即每一單位時間之電子零件之搬送個數之提昇。 [適用例21] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,於上述第1室及上述第3室,設置有可閉鎖開鎖之第1門及第3門,且第1門及第3門可分別獨立地閉鎖開鎖。 藉此,例如於第1門被閉鎖,且第3門被開鎖之情形時,可維持被閉鎖之第1室內之環境(氣體氛圍)。 [適用例22] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,上述第1門及上述第3門係分別可旋動地受到支持。 藉此,可使各門被關閉之狀態下之氣密性提昇。 [適用例23] 較佳為,於本發明之電子零件搬送裝置中,供給冷媒之冷媒源與由上述冷媒進行冷卻之冷卻對象藉由充滿上述冷媒之第1配管而連接,且該第1配管由第2配管所覆蓋,上述第1配管與上述第2配管之間充滿預先規定之濕度之空氣。 藉此,便可防止於第2配管之內側或外側產生結露。 [適用例24] 較佳為,本發明之電子零件檢查裝置之特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、 供上述電子零件自上述第1室搬入之第2室、及 供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室, 且具有設置於上述第2室內且檢查上述電子零件之檢查部,且 上述第2室內之濕度低於上述第1室內之濕度。 藉此,於可將電子零件冷卻之狀態下,可對第1室、第2室及第3室之每一室,調整(設定)該室內之濕度。而且,若於濕度經調整之狀態下進行冷卻,則此後,可防止尤其第2室內產生結露。
以下,基於隨附圖式中所示之較佳之實施形態,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置詳細地進行說明。 <第1實施形態> 圖1係表示本發明之電子零件檢查裝置之第1實施形態之概略俯視圖。圖2係自圖1中之箭頭A方向觀察所得之圖(概略後視圖)。圖3係圖1所示之電子零件檢查裝置中之托盤供給區域與元件供給區域之間之開閉部附近之局部剖視側視圖。圖4係圖1所示之電子零件檢查裝置中之元件回收區域與托盤去除區域之間之開閉部附近之局部剖視側視圖。圖5係圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之第1搬送機構及第2搬送機構之俯視圖。圖6係表示圖1所示之電子零件檢查裝置中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。圖7係圖6中之B-B線剖視圖。圖8係圖6中之C-C線剖視圖。圖9~圖11係分別表示圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之控制部之控制程式之流程圖。再者,以下,為便於說明,而如圖1所示,將相互地正交之3軸設為X軸、Y軸及Z軸。又,包含X軸與Y軸之XY平面成為水平,且Z軸成為鉛垂。又,將與X軸平行之方向亦稱為「X方向」,將與Y軸平行之方向亦稱為「Y方向」,且將與Z軸平行之方向亦稱為「Z方向」。又,將電子零件之搬送方向之上游側亦簡稱為「上游側」,且將下游側亦簡稱為「下游側」。又,本案說明書中所謂之「水平」係不限於完全之水平,只要不阻礙電子零件之搬送,則亦包括相對於水平若干地(例如未達5°左右)傾斜之狀態在內。 圖1中所示之檢查裝置(電子零件檢查裝置)1係例如用以檢查、測試(以下簡稱為「檢查」)BGA(Ball grid array,球狀柵格陣列)封裝或LGA(Land grid array,平面閘格陣列)封裝等之IC元件、LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示器)、CIS(CMOS(complementary metal oxide semiconductor,互補金氧半導體) Image Sensor,CMOS影像感測器)等電子零件之電氣特性之裝置。再者,以下,為便於說明,而對於將IC元件用作進行檢查之上述電子零件之情形代表性地進行說明,且將該IC元件設為「IC元件90」。 如圖1所示,檢查裝置1係分為托盤供給區域A1、元件供給區域(以下簡稱為「供給區域」)A2、檢查區域A3、元件回收區域(以下簡稱為「回收區域」)A4、及托盤去除區域A5。而且,IC元件90係依序地經由自托盤供給區域A1至托盤去除區域A5為止之上述各區域,於中途之檢查區域A3進行檢查。如此般,檢查裝置1係成為具備於各區域搬送IC元件90之電子零件搬送裝置、於檢查區域A3內進行檢查之檢查部16、及控制部80者。 再者,檢查裝置1係將配設有托盤供給區域A1及托盤去除區域A5之側(圖1中之下側)成為正面側,且將該正面側之相反側、即配設有檢查區域A3之側(圖1中之上側)作為背面側而使用。 托盤供給區域A1係供給排列有未檢查狀態之複數個IC元件90之托盤(配置構件)200之饋送部。如圖3所示,於托盤供給區域A1中,可堆疊大量之托盤200。 供給區域A2係將來自托盤供給區域A1之托盤200上所配置之複數個IC元件90分別供給至檢查區域A3之區域。再者,以橫跨托盤供給區域A1與供給區域A2之方式,設置有逐個地搬送托盤200之托盤搬送機構11A、11B。 於供給區域A2中,設置有溫度調整部(均熱板)12、元件搬送頭13、及托盤搬送機構(第1搬送裝置)15。 溫度調整部12係將複數個IC元件90加熱或冷卻,將該IC元件90調整為適於檢查之溫度之裝置。圖1所示之構成係將溫度調整部12於Y方向上配置、固定2個。而且,由托盤搬送機構11A自托盤供給區域A1所搬入(搬送而至)之托盤200上之IC元件90係搬送、載置於任一溫度調整部12。 元件搬送頭13係可於供給區域A2內移動地被支持。藉此,元件搬送頭13可負責自托盤供給區域A1搬入之托盤200與溫度調整部12之間之IC元件90之搬送、及溫度調整部12與下述元件供給部14之間之IC元件90之搬送。 托盤搬送機構15係於供給區域A2內在X方向上搬送所有之IC元件90已被去除之狀態之空之托盤200之機構(參照圖5)。而且,於該搬送後,空之托盤200藉由托盤搬送機構11B而自供給區域A2返回至托盤供給區域A1。 檢查區域A3係檢查IC元件90之區域。於該檢查區域A3中,設置有元件供給部(供給梭)14、檢查部16、元件搬送頭17、及元件回收部(回收梭)18。 元件供給部14係將經溫度調整之IC元件90搬送至檢查部16附近之裝置。該元件供給部14係於供給區域A2與檢查區域A3之間可沿著X方向移動地受到支持。又,於圖1所示之構成中,在Y方向上配置有2個元件供給部14,且將溫度調整部12上之IC元件90搬送、載置於任一元件供給部14。 檢查部16係檢查、測試IC元件90之電氣特性之單元。於檢查部16,設置有在保持著IC元件90之狀態下與該IC元件90之端子電性地連接之複數個探針。而且,使IC元件90之端子與探針電性地連接(接觸),經由探針進行IC元件90之檢查。IC元件90之檢查係基於與檢查部16連接之測試機所具有之檢查控制部中所記憶之程式而進行。再者,檢查部16可與溫度調整部12同樣地加熱或冷卻IC元件90,將該IC元件90調整為適於檢查之溫度。 元件搬送頭17係可於檢查區域A3內移動地受到支持。藉此,元件搬送頭17可將自供給區域A2搬入之元件供給部14上之IC元件90搬送、載置於檢查部16上。 元件回收部18係將檢查部16中之檢查已結束之IC元件90搬送至回收區域A4之裝置。該元件回收部18係於檢查區域A3與回收區域A4之間可沿著X方向移動地受到支持。又,圖1所示之構成中,元件回收部18係與元件供給部14同樣地於Y方向上配置有2個,且將檢查部16上之IC元件90搬送、載置於任一元件回收部18。該搬送係由元件搬送頭17來進行。 回收區域A4係將檢查已結束之複數個IC元件90回收之區域。於該回收區域A4,設置有回收用托盤19、元件搬送頭20、及托盤搬送機構(第2搬送裝置)21。又,於回收區域A4,亦準備有空之托盤200。 回收用托盤19係固定於回收區域A4內,且於圖1所示之構成中,沿著X方向配置有3個。又,空之托盤200亦沿著X方向配置有3個。而且,移動至回收區域A4之元件回收部18上之IC元件90係搬送、載置於該等回收用托盤19及空之托盤200中之任一者。藉此,將IC元件90按照每一檢查結果進行回收、分類。 元件搬送頭20係可於回收區域A4內移動地受到支持。藉此,元件搬送頭20可將IC元件90自元件回收部18搬送至回收用托盤19或空之托盤200。 托盤搬送機構21係將自托盤去除區域A5搬入之空之托盤200於回收區域A4內在X方向上進行搬送之機構(參照圖5)。而且,於該搬送後,將空之托盤200配設於IC元件90被回收之位置,即可成為上述3個空之托盤200中之任一者。如此般,檢查裝置1係於回收區域A4中設置有托盤搬送機構21,另外,於供給區域A2設置有托盤搬送機構15。藉此,例如與利用1個搬送機構將空之托盤200朝向X方向搬送相比,可實現輸送量(每一單位時間之IC元件90之搬送個數)之提昇。 再者,作為托盤搬送機構15、21之構成並無特別限定,例如可列舉如圖5所示具有連接於吸引機構(未圖示)之吸附構件27、及將吸附構件27可在X方向上移動地支持之滾珠螺桿等支持機構28之構成。 托盤去除區域A5係將排列有檢查結束狀態之複數個IC元件90之托盤200回收、去除之移除部。如圖4所示,托盤去除區域A5中可堆疊大量之托盤200。 又,以橫跨回收區域A4與托盤去除區域A5之方式,設置有逐個地搬送托盤200之托盤搬送機構22A、22B。托盤搬送機構22A係將載置著檢查結束之IC元件90之托盤200自回收區域A4搬送至托盤去除區域A5之機構。托盤搬送機構22B係將用以回收IC元件90之空之托盤200自托盤去除區域A5搬送至回收區域A4之機構。 控制部80具有例如驅動控制部。驅動控制部係控制例如托盤搬送機構11A、11B、溫度調整部12、元件搬送頭13、元件供給部14、托盤搬送機構15、檢查部16、元件搬送頭17、元件回收部18、元件搬送頭20、托盤搬送機構21、托盤搬送機構22A、22B之各部分之驅動。 再者,上述測試機之檢查控制部係基於例如記憶於未圖示之記憶體內之程式,進行配置於檢查部16之IC元件90之電氣特性之檢查等。 如以上之檢查裝置1係構成為亦除了溫度調整部12或檢查部16以外,元件搬送頭13、元件供給部14,元件搬送頭17亦可將IC元件90加熱或冷卻。藉此,IC元件90於被搬送之期間,溫度被維持為固定。而且,以下,說明對於IC元件90進行冷卻,於例如-60℃~-40℃之範圍內之低溫環境下進行檢查之情形。 如圖1所示,檢查裝置1係托盤供給區域A1與供給區域A2之間被第1間隔壁61隔開(分隔),供給區域A2與檢查區域A3之間被第2間隔壁62隔開,檢查區域A3與回收區域A4之間被第3間隔壁63隔開,回收區域A4與托盤去除區域A5之間被第4間隔壁64隔開。又,供給區域A2與回收區域A4之間亦被第5間隔壁65隔開。該等間隔壁具備保持各區域之氣密性之功能。進而,檢查裝置1係最外包裝由外殼所覆蓋,且於該外殼具有例如前外殼70、側外殼71及72、及後外殼73。 而且,供給區域A2成為由第1間隔壁61、第2間隔壁62、第5間隔壁65、側外殼71、及後外殼73劃分而成之第1室R1。於第1室R1中,與托盤200一同地被搬入未檢查狀態之複數個IC元件90。 檢查區域A3成為由第2間隔壁62、第3間隔壁63、及後外殼73劃分而成之第2室R2。於第2室R2中,自第1室R1被搬入複數個IC元件90。 回收區域A4成為由第3間隔壁63、第4間隔壁64、第5間隔壁65、側外殼72、及後外殼73劃分而成之第3室R3。於第3室R3中,自第2室R2被搬入檢查已結束之複數個IC元件90。 如圖1所示,第1室R1具有設置於側外殼71之第1門711、及設置於後外殼73之第1門731。側外殼71側之第1門711成為藉由例如汽缸740之作動而可閉鎖開鎖。後外殼73側之第1門731成為藉由例如汽缸741之作動而可閉鎖開鎖。可藉由將第1門711、731開啟,而例如進行第1室R1內之維護。 第2室R2具有設置於後外殼73之第2門732、及設置於第2門732之內側之第4門75。第2門732成為藉由例如汽缸742之作動而可閉鎖開鎖。第4門75成為藉由例如汽缸743之作動而可閉鎖開鎖。可藉由將第2門732、第4門75開啟,而例如進行第2室R2內之維護。又,於第2門732及第4門75均關閉之情形時,可確保第2室R2內之氣密性或隔熱性。 第3室R3具有設置於後外殼73之第3門733、及設置於側外殼72之第3門721、722。第3門733成為藉由例如汽缸744之作動而可閉鎖開鎖。第3門721、722成為藉由例如汽缸745之作動而可統一地閉鎖開鎖。可藉由將第3門733、721、722開啟,而例如進行第3室R3內之維護。 又,如圖1所示,第1門711、731、第2門732、第3門721、722、733、及第4門75係分別以與鉛垂方向、即Z方向(圖1中之紙面縱深方向)平行之軸為旋動軸可旋動地受到支持。藉此,可使各門已關閉之狀態下之氣密性提昇。再者,各門之最大旋動角度較佳為例如90°以上且180°以下。 如上所述,檢查裝置1係於低溫環境下對IC元件90進行檢查。於該情形時,不斷地將溫度調整部12或檢查部16等冷卻,但若此時之濕度管理(濕度調整)不合理,則存在於各部分中產生結露,成為電子電路等之故障之原因之虞。檢查裝置1必須進行設置有於溫度調整部12之第1室R1內之濕度管理、及設置有於檢查部16之第2室R2內之濕度管理。 例如,於托盤供給區域A1至托盤去除區域A5為止之區域未被分隔,而構成1個封閉空間之情形時,該空間整體之濕度管理極為困難。此處,「濕度管理」中包含例如將濕度實際地設定為目標值、及將濕度設定為目標值為止之時間。然而,檢查裝置1係將需要濕度管理之區域分隔為第1室R1與第2室R2,儘可能地減小空間之體積,從而濕度管理變得容易。 再者,如圖2及圖6所示,第1室R1及第2室R2之濕度係藉由對各室內供給乾燥空氣(dry air)DA而調整。 如上所述,於檢查區域A3中,設置有元件搬送頭17。如圖2所示,IC元件90係經由元件搬送頭17而於第2室R2內被搬送,但成為其搬送源之搬送機構23係收納於配置在第2室R2之上部之第4室R4。第4室R4係被第6間隔壁66劃分為箱狀。第2室R2與第4室R4係藉由間隔壁67而分隔,且於該間隔壁67,設置有可供搬送機構23之一部分移動之狹縫671。第2室R2與第4室R4經由該狹縫671而連通。如此般,檢查區域A3被分為作為主腔室之第2室R2與作為次腔室之第4室R4。而且,檢查區域A3係若進行第2室R2及第4室R4中之第2室R2中之濕度管理則較為充分。例如雖進行檢查區域A3整體之濕度管理較為困難,但檢查區域A3係管理需要濕度管理者,故成為濕度管理方面較佳之構成。又,第2室R2係經由細長之狹縫671而與第4室R4連通。藉此,供給至第2室R2之乾燥空氣DA被抑制朝向第4室R4之流出,由此,便可防止該乾燥空氣DA於該第4室R4中被浪費地使用。 又,可藉由將活動部多於元件搬送頭17之搬送機構23收納於第4室R4,而容易地進行對於搬送機構23之維護,並且可防止或抑制搬送機構23中產生之熱傳導至第2室R2。 又,第4室R4成為小於第2室R2之室(參照圖2)。藉此,檢查裝置1整體成為外觀較小者,由此,有助於小型化。 再者,作為搬送機構23,並無特別限定,例如可設為具有滾珠螺桿、馬達及線性導軌等之構成。 如圖2所示,於第1室R1與第2室R2之間,設置有使該等室彼此連通之1個第1開口部621。又,於第2室R2與第3室R3之間,設置有使該等室彼此連通之1個第2開口部631。第1開口部621及第2開口部631之大小成為至少可供IC元件90通過之程度之大小。又,第1開口部621係以可自元件搬送頭13朝向元件供給部14交接IC元件90之方式於上下方向上開口。第2開口部631亦以可自元件回收部18朝向元件搬送頭20交接IC元件90之方式於上下方向上開口。 又,於第2開口部631,設置有擋板(第2擋板)68。可藉由該擋板68移動,而使第2開口部631成為開啟狀態與關閉狀態。於自元件回收部18朝向元件搬送頭20交接IC元件90時設為開啟狀態,且於IC元件90之交接停止時設為關閉狀態。再者,擋板68之移動方向係於圖2所示之構成中為X方向,但不僅限於此,例如,亦可為Y方向。又,作為使擋板68移動之驅動源,並無特別限定,例如可使用馬達等。 檢查裝置1係將乾燥空氣DA主要地供給至第2室R2。藉此,便可將乾燥空氣DA用於第2室R2內之濕度管理,即,進行第2室R2內之濕度調整。於第2室R2內,由於元件搬送頭17進行移動,故而,可攪拌該第2室R2內之氣體。藉此,第2室R2作為整體成為均一之濕度。 若第2開口部631為關閉狀態,則乾燥空氣DA被暫時地供給至第2室R2之後,經由第1開口部621優先地被饋送至需要濕度管理之第1室R1。藉此,進行第1室R1內之濕度調整。如此般,檢查裝置1可將第2室R2內用於濕度管理之乾燥空氣DA直接地用於第1室R1內之濕度管理。因而,可省略與將乾燥空氣DA供給至第2室R2之配管分開地設置將乾燥空氣DA亦供給至第1室R1之配管。亦於第1室R1內,因元件搬送頭13進行移動,而可攪拌該第1室R1內之氣體。藉此,第1室R1亦作為整體成為均一之濕度。 再者,若第2開口部631為開啟狀態,則乾燥空氣DA經由該第2開口部631亦被饋送至第3室R3。 又,因乾燥空氣DA之供給,第1室R1及第2室R2之內部壓力可變得高於大氣壓。於該情形時,可防止外部氣體進入第1室R1及第2室R2中。由此,可將側外殼71及72、或後外殼73設為具有相對較高之氣密性之結構省略簡化,從而可實現製造成本之降低。 如圖3所示,於托盤供給區域A1與第1室R1之間,將使該等連通之開口部611設置於第1間隔壁61。如圖1所示,於開口部611,存在有藉由托盤搬送機構11A所搬送之托盤200所通過之開口部611、及藉由托盤搬送機構11B所搬送之托盤200所通過之開口部611。此處,對於托盤搬送機構11A側,代表性地進行說明。 於該開口部611,設置有將該開口部611切換為開啟狀態與關閉狀態之第1開閉部(開閉部)5A。第1開閉部5A係具有擋板51、及固定於第1間隔壁61且將擋板51可在Z方向移動地支持之作為支持機構之汽缸52。如圖3(a)所示,擋板51覆蓋開口部611之狀態係維持第1室R1內之濕度或溫度。如圖3(b)所示,於擋板51移動至上方而自開口部611退避之狀態下,可將托盤200搬送至第1室R1。如此般,除了搬送托盤200時以外,開口部611成為關閉狀態。藉此,便可儘量地維持第1室R1內之濕度或溫度,即,可防止濕度或溫度之急遽變化。 再者,作為支持擋板51之支持機構,於圖3所示之構成中為汽缸52,但不僅限於此,例如亦可為馬達等。 如圖4所示,於第3室R3與托盤去除區域A5之間,將使該等連通之開口部641設置於第4間隔壁64。如圖1所示,於開口部641,存在有藉由托盤搬送機構22A所搬送之托盤200所通過之開口部641、與藉由托盤搬送機構22B所搬送之托盤200所通過之開口部641。此處,對於托盤搬送機構22A側,代表性地進行說明。 於該開口部641,設置有將該開口部641切換為開啟狀態與關閉狀態之第2開閉部(開閉部)5B。第2開閉部5B之構成係與第1開閉部5A之構成相同。如圖4(a)所示,擋板51覆蓋開口部641之狀態係維持第3室R3內之濕度或溫度。如圖4(b)所示,於擋板51移動至上方而自開口部641退避之狀態下,可將托盤200搬送至托盤去除區域A5。如此般,於除了搬送托盤200時以外,開口部641成為關閉狀態。藉此,便可儘量地維持第3室R3內之濕度或溫度。 如上所述,第1室R1及第2室R2係分別將IC元件90冷卻,但僅進行冷卻,則存在產生結露之可能性。因此,檢查裝置1成為可防止第1室R1、第2室R2及第3室R3中之尤其第2室R2內產生結露之構成。以下,對該構成進行說明。 如圖1所示,於第1室R1、第2室R2及第3室R3,分別配置有檢測室內之濕度之濕度感測器(濕度計)24、及檢測溫度之溫度感測器(溫度計)25。而且,各室內之濕度係使用配置有濕度感測器24之位置之濕度,溫度係使用配置有溫度感測器25之位置之溫度。藉此,便可獲得儘量正確之濕度或溫度。 又,作為第1室R1、第2室R2及第3室R3中需要濕度管理之順序,第2室R2最高,繼而,接著為第1室R1及第3室R3。 進而,作為第2室R2內之濕度RH2及第1室R1內之濕度RH1,較佳為使用將IC元件90配置於第2室R2內時之濕度。藉此,便可獲得於尤其第2室R2內產生結露時可能對IC元件90造成影響之濕度。 而且,較佳為,第1室R1、第2室R2及第3室R3分別控制為室內預先規定之濕度。具體而言,第2室R2內之濕度RH2低於第1室R1內之濕度RH1,且低於第3室R3內之濕度RH3。即,滿足成為濕度RH2<濕度RH1<濕度RH3之關係。又,濕度RH2與濕度RH1之差較佳為大於0%RH且小於4.5%RH,且濕度RH1與濕度RH3之差較佳為大於0%RH且小於4.5%RH。進而,濕度RH1、濕度RH2及濕度RH3較佳為以0~60%RH進行控制。藉由以滿足如此之大小關係之方式,調整填充於各室內之乾燥空氣DA之填充量,而獨立地調整濕度RH1、濕度RH2、及濕度RH3。 對於如此之狀態下能否開始冷卻進行判斷。此處,基於圖9之流程圖,代表性地說明第2室R2中之冷卻用之控制程式。該控制程式係記憶於控制部80中。 進行第2室R2中之乾燥空氣DA之供給(步驟S101)。 利用溫度感測器25檢測第2室R2內之當前之溫度(室溫)(步驟S102),並且利用濕度感測器24檢測第2室R2內之當前之濕度RH2(步驟S103)。 基於步驟S102中所檢測之溫度、及步驟S103中所檢測之濕度RH2,運算當前之第2室R2內之氣體中所含之水蒸氣量M(步驟S104)。該運算式係水蒸氣量M=(飽和水蒸氣量ML)×(濕度RH2/100) (式1) 。再者,飽和水蒸氣量ML係根據例如預先記憶於控制部80中之校準曲線(表格)等而求出。 繼而,運算冷卻至特定溫度為止時之相對濕度RHs(步驟S105)。該運算式係相對濕度RHs=(水蒸氣量M/上述特定溫度處之(溫度下降後之)飽和水蒸氣量ML)×100 (式2)。 例如於當前之溫度為25℃,且濕度RH2為0.1%之情形時,飽和水蒸氣量ML成為23.0。而且,若將該等數值代入上述(式1),則獲得水蒸氣量M=23.0×(0.1/100)=0.023[g/m3 ]。而且,例如於冷卻至-45℃為止之情形時,若將數值代入上述(式2),則獲得相對濕度RHs=(0.023/0.0681)×100=44.1[%]。 繼而,判斷相對濕度RHs是否超過閾值α(步驟S106)。所謂「閾值α」係於冷卻至上述特定溫度為止之情形時,產生結露之濕度(值)。 若於步驟S106中判斷相對濕度RHs未超過閾值α,則開始進行至特定溫度為止之冷卻(步驟S107)。另一方面,若於步驟S106中判斷相對濕度RHs超過閾值α,則返回步驟S101,繼續進行乾燥空氣DA之供給,以後,依次執行步驟S101之下位之步驟。 如上所述,低溫環境下進行檢查之檢查裝置1可對第1室R1、第2室R2及第3室R3之每一者供給乾燥空氣DA,從而調整(設定)該室內之濕度。藉此,可防止冷卻後尤其第2室R2內產生結露。 再者,第1室R1、第2室R2、第3室R3中之濕度感測器24、溫度感測器25之設置數於本實施形態中為1個,但不僅限於此,亦可為複數個。於該情形時,例如作為第2室R2之濕度,既可使用由複數個濕度感測器24所檢測之檢測值之平均值,亦可使用最低之檢測值或最高之檢測值。 又,於檢查裝置1中,亦可將第3室R3內之濕度感測器24及溫度感測器25省略。 供第1室R1、第2室R2及第3室R3進行濕度調整之乾燥空氣DA中亦包含作為冷媒使用後之已使用過之氮。因此,因乾燥空氣DA之供給量,而存在室內成為缺氧狀態之可能性。因此,檢查裝置1成為對於缺氧狀態,可確保操作者(operator)之安全性之構成。以下,對該構成進行說明。此處將檢查裝置1正在進行冷卻動作,且將第1門711及731~第4門75之所有之門預先閉鎖之情形設為一例。 再者,若將空氣之比重設為1.00,則氮之比重約為0.97,且氧之比重約為1.11。於配置有檢查裝置1之室溫與第1室R1~第3室R3為相同之溫度之情形時,成為氮於第1室R1~第3室R3內聚積於上方之傾向。然而,加入至填充於該等室內之乾燥空氣DA中之氮氣係自液化氮汽化而作為冷媒使用之後之氮氣。因此,自液化氮汽化後之氮溫度低於室溫,成為該氮聚積於下方之傾向。 如圖1所示,於第1室R1、第2室R2及第3室R3中,分別配置有檢測室內之氧濃度之氧濃度感測器26,且檢測各室之氧濃度OC1、OC2、OC3。而且,第1室R1、第2室R2及第3室R3較佳為分別控制為室內預先規定、即缺氧狀態已被消除之氧濃度。此處,基於圖10之流程圖,代表性地說明針對第1室R1中之缺氧狀態確保安全性之控制程式。該控制程式係記憶於控制部80中。 利用氧濃度感測器26,檢測第1室R1內之當前之氧濃度OC1(步驟S201),且判斷氧濃度OC1是否為閾值β1以上(步驟S202)。 若於步驟S202中判斷氧濃度OC1為閾值β1以上,則報告第1室R1之第1門711、731之任一者均可開鎖之結果(步驟S203)。藉此,例如第1室R1內可進行維護等。再者,作為閾值β1之可取之數值範圍,並無特別限定,例如較佳為19%以上,更佳為18%以上。 若於步驟S202中判斷氧濃度OC1並非為閾值β1以上,則判斷氧濃度OC1是否為閾值β2以上(步驟S204)。再者,作為閾值β2之可取之數值範圍,並無特別限定,例如較佳為16%以上且未達18%。 若於步驟S204中判斷氧濃度OC1為閾值β2以上,則報告存在缺氧狀態之可能性,且必須予以注意之結果(步驟S205)。 若於步驟S204中判斷氧濃度OC1並非為閾值β2以上,則停止進行冷卻(步驟S206)。亦於此時,維持第1門711及731之閉鎖狀態。又,較佳為,與步驟S206一同地進行使第1室R1內之氧濃度増加之作動。 如上所述,檢查裝置1係即便第1室R1、第2室R2、第3室R3之任一室內成為缺氧狀態,亦將確保對於該缺氧狀態之安全性。 再者,作為步驟S203、S205中之報告方法,並無特別限定,例如可使用圖像顯示之方法、聲音之方法、發光之方法等。 於檢查裝置1中,可分別獨立地控制第1門711及731與第2門732之門群、第3門721、722及733之門群、及第4門75之閉鎖開鎖。如圖1所示,於檢查裝置1中,設置有操作上述第1個門群之閉鎖開鎖之開關SW1、操作上述第2個門群之閉鎖開鎖之開關SW2、及操作第4門75之閉鎖開鎖之開關SW3。 如上所述,存在第1室R1、第2室R2、及第3室R3成為缺氧狀態之情形。例如於第1室R1成為缺氧狀態時,較佳為即便將開關SW1接通(ON),亦禁止第1門711之開鎖。因此,檢查裝置1係以根據室內之氧濃度,控制門之閉鎖開鎖之方式構成。以下,基於圖11之流程圖,說明該控制程式。再者,該控制程式係記憶於控制部80中。又,此處,檢查裝置1係將第1門711及731~第4門75之所有之門預先被閉鎖之情形作為一例。 若判斷開關SW1接通(步驟S301),則判斷是否滿足可將上述第1個門群開鎖之條件(步驟S302)。再者,步驟S302中之條件係基於圖10之流程圖、即氧濃度為可開鎖之判斷。 若於步驟S302中判斷滿足條件,則使進行屬於上述第1個門群之門之閉鎖開鎖之所有之汽缸740、741、742進行作動(步驟S303)。藉此,便可將第1門711及731及第2門732開啟,從而可進行維護等。另一方面,若於步驟S302中判斷未滿足條件,則跳過至步驟S304。 繼而,若判斷開關SW2接通(步驟S304),則判斷是否滿足可將上述第2個門群開鎖之條件(步驟S305)。再者,步驟S305中之條件係與步驟S302中之條件相同。 若於步驟S305中判斷滿足條件,則使進行屬於上述第2個門群之門之閉鎖開鎖之所有之汽缸744、745進行作動(步驟S306)。藉此,便可將第3門721、722及733開啟,從而可進行維護等。另一方面,若於步驟S305中判斷未滿足條件,則跳過至步驟S307。 繼而,若判斷開關SW3接通(步驟S307),則判斷是否滿足可將第4門75開鎖之條件(步驟S308)。再者,步驟S308中之條件係與步驟S302中之條件相同。 若於步驟S308中判斷滿足條件,則使進行第4門75之閉鎖開鎖之汽缸743進行作動(步驟S309)。藉此,便可將第4門75開啟,從而可進行維護等。另一方面,若於步驟S309中判斷未滿足條件,則返回步驟S301,以後,依次地執行步驟S301之下位之步驟。 如上所述,檢查裝置1可根據第1室R1、第2室R2、及第3室R3之任一者之室內之氧濃度,控制門之閉鎖開鎖。藉此,例如即便第1室R1內成為缺氧狀態,亦可確保對於該缺氧狀態之安全性。又,於上述第1個門群與第4門75始終被閉鎖,且上述第2個門群被開鎖而開啟之情形時,可維持被閉鎖之第1室R1及第2室R2內之環境(氣體氛圍)、即濕度等。藉此,繼續進行第1室R1及第2室R2內之IC元件90之搬送等,由此,可防止輸送量之下降。 再者,若判斷開關SW1~SW3接通,則可隔開特定時間(例如30~120秒鐘),移行至其次之步驟。 又,第2門732及第4門75之大小可設為例如高度(縱)為120 mm以上且200 mm以下,寬度(橫)為300 mm以上且400 mm以下。藉此,便可防止普通成人之頭部經由開啟狀態之門進入第2室R2,從而安全性提昇。又,亦可將第2室R2內之氧濃度感測器26省略。 如圖6所示,供給冷媒C之冷媒源300與由冷媒C進行冷卻之冷卻對象係藉由2根管4而連接。該等2根管4中之一管4係作為將冷媒C自冷媒源300供給至冷卻對象之供給管線發揮功能,且另一管4係作為將用於冷卻對象之冷卻之冷媒C回收之回收管線發揮功能。再者,作為檢查裝置1中之冷卻對象並無特別限定,例如可列舉第1室R1之溫度調整部12、或第2室R2之檢查部16等。又,冷媒源300係作為例如儲氣瓶而設置於檢查裝置1之外側。又,作為冷媒C,可使用例如使液體之氮汽化而成者。 如圖7及圖8所示,管4係呈現具有充滿冷媒C之1根第1配管41、及將第1配管41覆蓋、即第1配管41所插穿之第2配管42之套管結構者。 第1配管41係因冷媒C流下而被充滿之管體。該第1配管41較佳為外徑d1 1 為例如4 mm以上且8 mm以下,且內徑d1 2 為2 mm以上且6 mm以下。又,作為第1配管41之構成材料並無特別限定,例如可使用聚四氟乙烯等。 又,於第1配管41之外周部,形成有隔熱層43。藉此,可將第1配管41與外部隔熱。隔熱層43之厚度t較佳為例如6 mm以上且9 mm以下。又,作為隔熱層43之構成材料並無特別限定,例如可使用發泡橡膠。 第2配管42係與第1配管41之間之部分因預先規定之濕度之空氣流下而被充滿之管體。作為該空氣,可設為乾燥空氣DA。再者,第2配管42較佳為外徑d2 1 為例如30 mm以上且50 mm以下,且內徑d2 2 為20 mm以上且40 mm以下。作為第2配管42之構成材料,並無特別限定,例如可使用聚胺基甲酸酯等。 如此般,管4構成為最內側被冷媒C充滿,且其外側由隔熱層43覆蓋,進而外側被乾燥空氣DA充滿。藉此,可防止隔熱層43接觸於外部氣體,從而可防止於隔熱層43與第2配管42之間產生結露。 又,於第2配管42,較佳為具有大量之凹凸。即,第2配管42較佳為呈現蛇腹狀。藉此,管4作為整體容易彎曲,由此,管4之捲繞(配管)變得容易。 如圖8所示,於管4,設置有以將第1配管41與第2配管42同心地配置方式進行定位之定位構件44。定位構件44係沿著管4之長度方向隔開間隔地配置有複數個。藉此,第1配管41與第2配管42之定位變得容易。 定位構件44係呈環狀,且嵌合於第1配管41與第2配管42之間。又,於定位構件44,至少形成有1個供乾燥空氣DA通過之缺損部(貫通孔)441。 <第2實施形態> 圖12係表示本發明之電子零件檢查裝置(第2實施形態)之概略後視圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第2實施形態進行說明,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了於第1開口部設置有擋板以外,與上述第1實施形態相同。 如圖12所示,於本實施形態中,於使第1室R1與第2室R2連通之第1開口部621設置有擋板(第1擋板)69。可藉由該擋板69進行移動,而將第1開口部621設為開啟狀態與關閉狀態。於自元件搬送頭13朝向元件供給部14交接IC元件90時設為開啟狀態,且於IC元件90之交接停止時設為關閉狀態。 而且,於開啟狀態下,將乾燥空氣DA自第2室R2經由第1開口部621優先地饋送至第1室R1。藉此,進行第1室R1內之濕度調整。於關閉狀態下,乾燥空氣DA於被饋送至第1室R1之前暫時地滯留。此後,藉由設為開啟狀態,乾燥空氣DA相較第1實施形態之情形,被洶湧地朝向第1室R1饋送。藉此,將第1室R1內之氣體進行攪拌,從而有助於第1室R1作為整體成為更均一之濕度。 再者,擋板69之移動方向係於圖12所示之構成中為X方向,但不僅限於此,例如亦可為Y方向。擋板69之移動方向既可與擋板68之移動方向相同,亦可與之不同。又,作為使擋板69移動之驅動源,並無特別限定,例如可使用馬達等。 <第3實施形態> 圖13係表示本發明之電子零件檢查裝置(第3實施形態)之概略後視圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第3實施形態進行說明,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了第1開口部及第2開口部之大小不同以外,與上述第1實施形態相同。 如圖13所示,於本實施形態中,使第1室R1與第2室R2連通之第1開口部621係設置有複數個,且使第2室R2與第3室R3連通之第2開口部631亦設置有複數個。各第1開口部621係開口面積大於各第2開口部631。藉此,可將乾燥空氣DA相較第3室R3優先地饋送至第1室R1。 <第4實施形態> 圖14係表示本發明之電子零件檢查裝置(第4實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之橫向剖視圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第4實施形態進行說明,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了管之構成不同以外,與上述第1實施形態相同。 如圖14所示,於本實施形態中,管4係2根第1配管41被第2配管42成束地覆蓋。藉此,可將2根第1配管41中之一第1配管41設為將冷媒C供給至冷卻對象之供給用途,且將另一第1配管41設為將來自冷卻對象之冷媒C回收之回收用途。 再者,第1配管41之設置數於本實施形態中為2根,但不僅限於此,亦可為3根以上。 <第5實施形態> 圖15係表示本發明之電子零件檢查裝置(第5實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第5實施形態進行說明,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了管之配置態樣不同以外,與上述第1實施形態相同。 如圖15所示,於本實施形態中,管4係長度方向之一部分被箱體400所包圍、即收納。該箱體400係暫時地被充填乾燥空氣DA者,藉此,可例如對使用乾燥空氣DA之部分(例如亦可為管4)分配該乾燥空氣DA。 <第6實施形態> 圖16係表示本發明之電子零件檢查裝置(第6實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第6實施形態進行說明,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了管之配置態樣不同以外,與上述第1實施形態相同。 如圖16所示,本實施形態係將管4之兩端部分別連接於箱狀之連接部500。連接部500彼此係經由管4之第2配管42而相互地連通。藉此,例如於對圖16中之左側之連接部500輸送乾燥空氣DA之情形時,該乾燥空氣DA於第2配管42內流下,而到達圖16中之右側之連接部500。 <第7實施形態> 圖17係表示本發明之電子零件檢查裝置(第7實施形態)中之氧濃度感測器之配置狀態之圖。 以下,參照該圖,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之第7實施形態進行說明之,但以與上述實施形態不同之處為中心進行說明,相同之事項省略其說明。 本實施形態係除了氧濃度感測器之配置部位不同以外,與上述第1實施形態相同。 如圖17所示,於本實施形態中,氧濃度感測器26係配置於構成檢查裝置1之最外包裝之外殼(例如側外殼71)之內側且與進行閉鎖開鎖之門(例如第1門711)相比之下方。 如上所述,作為乾燥空氣DA中所含之冷媒使用之已使用過之氮存在溫度較低,且於第1室R1內聚積於下方之傾向。因此,若將氧濃度感測器26如上所述地配置於下方,則於第1室R1內可獲得被視為安全之氧濃度。 又,檢查裝置1之操作者係將第1門711開啟,使手等進入第1室R1內。因此,較佳為,於操作者之手之入口附近配置氧濃度感測器26。而且,上述氧濃度感測器26之配置成為其較佳之配置,因而,可謂於顧及安全性之人體工學方面較佳。 以上,基於圖示之實施形態,對本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置進行了說明,但本發明並非僅限於此,構成電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置之各部分可與能夠發揮相同之功能之任意之構成者進行置換。又,亦可附加任意之構成物。 又,本發明之電子零件搬送裝置及電子零件檢查裝置亦可為將上述各實施形態中之任意2個以上之構成(特徵)組合而成者。
1‧‧‧檢查裝置(電子零件檢查裝置)
4‧‧‧管
5A‧‧‧第1開閉部(開閉部)
5B‧‧‧第2開閉部(開閉部)
11A、11B‧‧‧托盤搬送機構
12‧‧‧溫度調整部(均熱板)
13‧‧‧器件元件搬送頭
14‧‧‧器件元件供給部(供給梭)
15‧‧‧托盤搬送機構(第1搬送裝置)
16‧‧‧檢查部
17‧‧‧器件元件搬送頭
18‧‧‧器件元件回收部(回收梭)
19‧‧‧回收用托盤
20‧‧‧器件元件搬送頭
21‧‧‧托盤搬送機構
22A、22B‧‧‧托盤搬送機構
23‧‧‧搬送機構
24‧‧‧濕度感測器(濕度計)
25‧‧‧溫度感測器(溫度計)
26‧‧‧氧濃度感測器
27‧‧‧吸附構件
28‧‧‧支持機構
41‧‧‧第1配管
42‧‧‧第2配管
43‧‧‧隔熱層
44‧‧‧定位構件
51‧‧‧擋板
52‧‧‧汽缸
61‧‧‧第1間隔壁
62‧‧‧第2間隔壁
63‧‧‧第3間隔壁
64‧‧‧第4間隔壁
65‧‧‧第5間隔壁
66‧‧‧第6間隔壁
67‧‧‧間隔壁
68‧‧‧擋板(第2擋板)
69‧‧‧擋板(第1擋板)
70‧‧‧前外殼
71‧‧‧側外殼
72‧‧‧側外殼
73‧‧‧後外殼
75‧‧‧第4門
80‧‧‧控制部
90‧‧‧IC器件元件
200‧‧‧托盤(配置構件)
300‧‧‧冷媒源
400‧‧‧箱體
441‧‧‧缺損部(貫通孔)
500‧‧‧連接部
611‧‧‧開口部
621‧‧‧第1開口部
631‧‧‧第2開口部
641‧‧‧開口部
671‧‧‧狹縫
711‧‧‧第1門
721、722‧‧‧第3門
731‧‧‧第1門
732‧‧‧第2門
733‧‧‧第3門
740、741、742、743、‧‧‧汽缸
744、745
A1‧‧‧托盤供給區域
A2‧‧‧元件供給區域(供給區域)
A3‧‧‧檢查區域
A4‧‧‧元件回收區域(回收區域)
A5‧‧‧托盤去除區域
C‧‧‧冷媒
DA‧‧‧乾燥空氣(dry air)
OC1、OC2、OC3‧‧‧氧濃度
R1‧‧‧第1室
R2‧‧‧第2室
R3‧‧‧第3室
R4‧‧‧第4室
RH1、RH2、RH3‧‧‧濕度
S101~S107、S201~S206、‧‧‧步驟
S301~S309 SW1、SW2、SW3‧‧‧開關
t‧‧‧厚度
α、β1、β2‧‧‧閾值
d1 1d2 1‧‧‧外徑
d1 2d2 2‧‧‧內徑
圖1係表示本發明之電子零件檢查裝置之第1實施形態之概略俯視圖。 圖2係自圖1中之箭頭A方向觀察所得之圖(概略後視圖)。 圖3(a)、(b)係圖1所示之電子零件檢查裝置中之托盤供給區域與元件供給區域之間之開閉部附近之局部剖視側視圖。 圖4(a)、(b)係圖1所示之電子零件檢查裝置中之元件回收區域與托盤去除區域之間之開閉部附近之局部剖視側視圖。 圖5係圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之第1搬送機構及第2搬送機構之俯視圖。 圖6係表示圖1所示之電子零件檢查裝置中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。 圖7係圖6中之B-B線剖視圖。 圖8係圖6中之C-C線剖視圖。 圖9係表示圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之控制部之控制程式之流程圖。 圖10係表示圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之控制部之控制程式之流程圖。 圖11係表示圖1所示之電子零件檢查裝置所具備之控制部之控制程式之流程圖。 圖12係表示本發明之電子零件檢查裝置(第2實施形態)之概略後視圖。 圖13係表示本發明之電子零件檢查裝置(第3實施形態)之概略後視圖。 圖14係表示本發明之電子零件檢查裝置(第4實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之橫向剖視圖。 圖15係表示本發明之電子零件檢查裝置(第5實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。 圖16係表示本發明之電子零件檢查裝置(第6實施形態)中之冷媒源與冷卻對象之間之配管狀態之圖。 圖17係表示本發明之電子零件檢查裝置(第7實施形態)中之氧濃度感測器之配置狀態之圖。

Claims (22)

  1. 一種電子零件搬送裝置,其特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、具有可配置檢查上述電子零件之檢查部之檢查領域,且可供給乾燥空氣或氮氣之第2室、供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室、可將上述電子零件自上述第1室搬送至上述第2室之元件供給部、可將上述電子零件自上述第2室搬送至上述第3室之元件回收部、及設置於上述第2室內,可將上述電子零件自上述元件供給部搬送至上述檢查部且可將上述電子零件自上述檢查部搬送至上述元件回收部之搬送頭,且於上述第1室與上述第2室之間,設置有使上述第1室與上述第2室連通且可將被供給至上述第2室之上述乾燥空氣或上述氮氣供給至上述第1室之開口部。
  2. 一種電子零件搬送裝置,其特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、具有可配置檢查上述電子零件之檢查部之檢查領域,且可供給乾燥空氣或氮氣之第2室、供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室、可將上述電子零件自上述第1室搬送至上述第2室之元件供給部、可將上述電子零件自上述第2室搬送至上述第3室之元件回收部、及設置於上述第2室內,可將上述電子零件自上述元件供給部搬送至上述檢查部且可將上述電子零件自上述檢查部搬送至上述元件回收部之搬送頭,且於上述第2室與上述第3室之間,設置有使上述第2室與上述第3室連通且可將被供給至上述第2室之上述乾燥空氣或上述氮氣供給至上述第3室之開口部。
  3. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係各自之室內之平均濕度。
  4. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係由複數個配置於各自室內之濕度感測器所感測出之濕度中之最高濕度。
  5. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係各自之室內之配置有濕度感測器之位置之濕度。
  6. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度及上述第1室內之濕度係於上述第2室內配置有上述電子零件時之濕度。
  7. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度與上述第1室內之濕度之差大於0%RH且小於4.5%RH。
  8. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第1室內之濕度、上述第2室內之濕度、及上述第3室內之濕度係以0~60%RH進行控制。
  9. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第1室內之濕度、上述第2室內之濕度、及上述第3室內之濕度係藉由使乾燥空氣或氮氣流入各自之室內而進行控制。
  10. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度低於上述第3室內之濕度。
  11. 如請求項10之電子零件搬送裝置,其中上述第2室內之濕度低於上述第1室內之濕度,且上述第1室內之濕度低於上述第3室內之濕度。
  12. 如請求項11之電子零件搬送裝置,其中上述第1室內之濕度與上述第3室內之濕度之差大於0%RH且小於4.5%RH。
  13. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第1室與上述第3室係藉由間隔壁而隔開。
  14. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中於上述第1室、上述第2室及上述第3室,配置有檢測氧濃度之氧濃度感測器。
  15. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中上述第1室、上述第2室及上述第3室係控制為預先規定之濕度、氧濃度。
  16. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中於上述第2室之上部,配置有收納在該第2室內搬送上述電子零件之搬送機構之第4室。
  17. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中於上述第1室設置有第1搬送裝置,且於上述第3室設置有第2搬送裝置。
  18. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中於上述第1室及上述第3室,設置有可閉鎖開鎖之第1門及第3門,且第1門及第3門可分別獨立地進行閉鎖開鎖。
  19. 如請求項18之電子零件搬送裝置,其中上述第1門及上述第3門係分別可旋動地受到支持。
  20. 如請求項1或2之電子零件搬送裝置,其中供給冷媒之冷媒源與由上述冷媒進行冷卻之冷卻對象係藉由充滿上述冷媒之第1配管而連接,且該第1配管由第2配管所覆蓋,上述第1配管與上述第2配管之間充滿預先規定之濕度之空氣。
  21. 一種電子零件檢查裝置,其特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、具有可配置檢查上述電子零件之檢查部之檢查領域,且可供給乾燥空氣或氮氣之第2室、供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室、可將上述電子零件自上述第1室搬送至上述第2室之元件供給部、可將上述電子零件自上述第2室搬送至上述第3室之元件回收部、及設置於上述第2室內,可將上述電子零件自上述元件供給部搬送至上述檢查部且可將上述電子零件自上述檢查部搬送至上述元件回收部之搬送頭,且具有設置於上述第2室內且檢查上述電子零件之上述檢查部,且於上述第1室與上述第2室之間,設置有使上述第1室與上述第2室連通且可將被供給至上述第2室之上述乾燥空氣或上述氮氣供給至上述第1室之開口部。
  22. 一種電子零件檢查裝置,其特徵在於包括:供電子零件搬入之第1室、具有可配置檢查上述電子零件之檢查部之檢查領域,且可供給乾燥空氣或氮氣之第2室、供上述電子零件自上述第2室搬入之第3室、可將上述電子零件自上述第1室搬送至上述第2室之元件供給部、可將上述電子零件自上述第2室搬送至上述第3室之元件回收部、及設置於上述第2室內,可將上述電子零件自上述元件供給部搬送至上述檢查部且可將上述電子零件自上述檢查部搬送至上述元件回收部之搬送頭,且具有設置於上述第2室內且檢查上述電子零件之上述檢查部,且於上述第2室與上述第3室之間,設置有使上述第2室與上述第3室連通且可將被供給至上述第2室之上述乾燥空氣或上述氮氣供給至上述第3室之開口部。
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