TWI624700B - 偏光板的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種偏光板的製造方法，係包含隔介接著劑而使偏光膜、及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋(knurling)部之保護膜重疊，並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而得到積層膜的貼合步驟；以及使用前述積層膜製得偏光板之偏光板製作步驟；其中，於前述積層膜中，關於其寬度方向，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於比前述保護膜的前述輥紋部實質上更內側的位置。

Description

偏光板的製造方法
本發明有關在偏光膜的至少一面貼合有保護膜的偏光板之製造方法。
偏光膜被廣泛使用來作為在聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向有二色性色素者，已知有以碘作為二色性色素之碘系偏光膜及以二色性直接染料作為二色性色素之染料系偏光膜等。通常，該等的偏光膜係在其單面或兩面透過接著劑貼合三乙酸纖維素膜等的保護膜，而作成偏光板。
在偏光膜的單面或兩面積層保護膜的方法，有於膜上塗布接著劑，或在一對膜間供給接著劑，藉由通過一對輥間等按壓手段使其貼合的方法(例如，日本特開2006-88651號公報(專利文獻1)，日本特開平11-10797號公報(專利文獻2))。
另外，積層有保護膜的偏光膜，其後，係以被捲取的狀態流通，或暫時被捲取後於後續步驟捲出並被加工。捲取積層膜時，積層膜間不易存在空氣層，故顯現高的密著性，在捲出時，於膜表面有時會造成損傷或剝離。為了防止該問題，為人所知者係在保護膜的側端部施 加被稱為輥紋(knurling)加工的利用微小的凹凸賦型的加厚加工(例如，日本特開2007-91784號公報(專利文獻3))。輥紋加工對於以膜的捲取所致之捲繞偏移或捲繞鬆弛等的抑制亦有效。
然而，使用具有於側端部施予輥紋加工的部分(以下，亦稱為「輥紋部」)的保護膜時，雖然可藉由膜的捲取抑制捲繞偏移或捲繞鬆弛等，或捲出時可防止在膜表面產生的損傷或剝離，但有時在貼合保護膜與偏光膜時或貼合後的搬送時，接著劑會從側端面溢出，而造成因溢出的接著劑使積層膜或製造裝置受到污染的缺失。
專利文獻1、2中，雖然有記載抑制接著劑的溢出之方法，但卻未解決在使用側端部具有輥紋部之膜的貼合時所造成的上述問題。
本發明的目的在於提供一種使用在側端部具有輥紋部之保護膜之偏光板的製造方法，其係可防止接著劑的溢出，並抑制偏光板或製造裝置受到污染之製造方法。
本發明提供下列所示之偏光板的製造方法。
[1]一種積層膜的製造方法，係該積層膜包含偏光膜及貼合於前述偏光膜之至少一面的保護膜， 該製造方法包含：隔介接著劑使偏光膜及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋部之保護膜重疊，並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而製得積層膜的貼合步驟；以及使用前述積層膜而製得偏光板之偏光板製作步驟；於前述積層膜中，關於其寬度方向，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於比前述保護膜的前述輥紋部實質上更內側的位置。
[2]如[1]所述之偏光板的製造方法，其中，於前述積層膜中，關於其寬度方向，前述保護膜的前述輥紋部位於比前述偏光膜的側端面更外側的位置，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於與前述偏光膜的側端面相同的位置或比前述偏光膜的側端面更外側的位置。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板的製造方法，其中，於前述貼合步驟中，在前述偏光膜的兩面重疊有具有前述輥紋部之保護膜。
[4]如[1]或[2]所述之偏光板的製造方法，其中，於前述貼合步驟中，前述偏光膜的一面重疊有具有前述輥紋部之保護膜，另一面重疊有不具有輥紋部的保護膜。
依據本發明，在使用具有輥紋部之保護膜製造偏光板時，可防止在製造中途接著劑的溢出，故可防 止因溢出的接著劑所致之偏光板或製造裝置受到污染。
1‧‧‧單面附保護膜之偏光板
2‧‧‧兩面附保護膜之偏光板
5‧‧‧偏光膜
5a、6a、8a‧‧‧側端面
6‧‧‧第1接著劑層
7‧‧‧第1保護膜
7a‧‧‧輥紋部
8‧‧‧第2接著劑層
9‧‧‧第2保護膜
9a‧‧‧輥紋部
10‧‧‧基材膜
20、21‧‧‧積層膜
40‧‧‧貼合輥
50、55‧‧‧接著劑
51‧‧‧偏光性積層膜
60‧‧‧導輥
70、71‧‧‧注入裝置
101、102、103、104、105‧‧‧輥紋部之最小單元
第1圖係顯示單面附保護膜之偏光板的層構成之概略剖面圖。
第2圖係顯示兩面附保護膜之偏光板的層構成之概略剖面圖。
第3圖係示意性顯示貼合步驟所使用之製造裝置之一例之側面圖。
第4圖係顯示積層膜的側端部之概略剖面圖。
第5(A)至(C)圖係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之剖面圖。
第6圖係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之俯視圖。
第7圖係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之俯視圖。
第8圖係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之俯視圖。
第9圖係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之俯視圖。
第10圖係示意表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之俯視圖。
第11(A)、(B)圖係示意性顯示第6圖所示之形態之輥紋部之最小單元之一例之圖。
第12(A)、(B)圖係示意性顯示第8圖所示之形態之輥紋部之最小單元之一例之圖。
第13圖係顯示積層膜的側端部之一例之概略剖面圖。
第14圖係顯示積層膜的側端部之一例之概略剖面圖。
第15圖係顯示積層膜的側端部之一例之概略剖面圖。
[偏光板]
本發明有關在偏光膜的至少一面貼合有保護膜的偏光板的製造方法。第1圖係顯示本發明之偏光板的層構成之一例之概略剖面圖。如第1圖所顯示之偏光板1，本發明之偏光板係可為具有偏光膜5及積層於其一面之第1保護膜7之單面附保護膜偏光板。第1保護膜7可透過第1接著劑層6積層在偏光膜5上。
此外，本發明之偏光板係可在偏光膜5的另一面進一步貼合保護膜，具體而言，如第2圖所顯示之偏光板2，亦可為具備偏光膜5、積層於其一面上之第1保護膜7、及積層於其另一面上之第2保護膜9的兩面附保護膜偏光板。第2保護膜9可透過第2接著劑層8積層於偏光膜5上。
本發明之偏光板係在組裝入如液晶表示裝置般的圖像表示裝置時，可為配置在如液晶單元般的圖像顯示元件的觀看(前面)側之偏光板，亦可為配置在圖像顯示元件之背面側(例如液晶表示裝置之背光側)之偏光板。
[偏光板的製造方法]
以下，一邊參照第3圖，一邊顯示實施方式並詳細說明本發明之兩面附保護膜之偏光板的製造方法。本實施形態之兩面附保護膜之偏光板的製造方法，包括下列的步驟：
(1)在偏光膜的兩面，隔介接著劑使偏光膜及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋部之保護膜重疊，並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而製得積層膜的貼合步驟
(2)使用上述(1)所得的積層膜而製得偏光板之偏光板製作步驟。
<貼合步驟>
參照第3圖說明貼合步驟。第3圖係示意性顯示貼合步驟所使用之製造裝置之一例之側面圖。本發明之偏光板如第3圖所顯示，藉由將長條的膜連續地捲出並搬送，同時於各步驟實施處理，可連續地製造為長條品。惟本發明的製造方法不限於使用如此之長條膜的連續生產，亦可為使用單片膜的方法。
在本步驟，首先準備長條的偏光膜5的輥(捲繞品)，長條的第1保護膜7的輥以及長條的第2保護膜9的輥，將該等使用未圖示之捲出裝置一邊連續地捲出一邊進行膜搬送。長條的第1保護膜7的輥及長條的第2保護膜9的輥係捲取有預先施予後述的輥紋加工的保護膜所形成者。各膜係以該等的長度方向為搬送方向的方式來 搬送。在膜的搬送通路適宜地設有支撐輸送的膜的之輥60。於第3圖中之箭頭係顯示膜的搬送方向或各種輥的旋轉方向。通常，偏光膜5的搬送方向(膜長度方向)與第1保護膜7的搬送方向(膜長度方向)和第2保護膜9的搬送方向(膜長度方向)平行。
於本步驟中，係在偏光膜5的一面透過以接著劑55所構成之第1接著劑層6(未圖示於第3圖)，並將第1保護膜7以與長度方向(搬送方向)呈平行的方式重疊，並且在偏光膜5的另一面透過以接著劑50所構成之第2接著劑層8，並將第2保護膜9以與長度方向(搬送方向)呈平行的方式重疊，藉由通過1對貼合輥40、40間按壓以製得積層膜20。
此時，在通過貼合輥40、40間之前，可使用注入裝置70、71，在偏光膜5與第1保護膜7之間注入接著劑55，同時於偏光膜5與第2保護膜9之間注入接著劑50，藉此，於該等膜間各別隔介由接著劑55所構成之層(第1接著劑層6)及由接著劑50所構成之層(第2接著劑層8)。
另外，用以使由接著劑55所構成之層(第1接著劑層6)及由接著劑50所構成之層(第2接著劑層8)隔介於其間的裝置，不限定於如第3圖所顯示之注入裝置70、71，例如可依照接著劑55、50之黏度等，適當選擇刮刀塗布法、線棒塗布法法、模具塗布法、缺角輪塗布法、凹版塗布法、浸塗法、流延法般的塗布方式，塗布在透過 接著劑55，50所重疊之至少一個膜的貼合面。
第4圖係顯示通過貼合輥40、40間並按壓而得之積層膜20的側端部之一例之概略剖面圖。於積層膜20的製造所使用之第1保護膜7及第2保護膜9，係在比偏光膜5更寬的兩側端部(於第4圖僅顯示一側端部)具有輥紋部7a、9a(以輥紋部7a、9a顯示為輥紋部A)。於第4圖中，輥紋部分7a、9a的邊界以虛線表示。於積層膜20中，第1保護膜7及第2保護膜9的輥紋部7a、9a係位於比偏光膜5的側端面5a更外側的位置。第1接著劑層6係其側端面6a位於與偏光膜5的側端面5a相同的位置或比偏光膜5的側端面5a更外側的位置，且位於比第1保護膜7的輥紋部7a實質上更內側的位置。同樣地第2接著劑層8係其側端面8a位於與偏光膜5的端面5a相同的位置或比偏光膜5的端面5a更外側的位置，且位於比第2保護膜9的輥紋部9a實質上更內側的位置。
於具備輥紋部之保護膜中，接著劑有易滯溜在輥紋部的傾向。滯溜在輥紋部的接著劑在按壓時或搬送時容易從積層膜的端面溢出。接著劑從積層膜的端面溢出時，會因溢出的接著劑而使積層膜或搬送輥等的製造裝置受到污染。本實施形態中，於積層膜20中，如第4圖所示，藉由第1接著劑層6的側端面6a位於比第1保護膜7的輥紋部7a實質上更內側的位置，且第2接著劑層8的側端面8a位於比第2保護膜9的輥紋部9a更內側的位置，可在貼合輥40、40通過時，或其後，搬送積層膜20時， 防止接著劑從積層膜20的端面溢出。
另外，所謂第1接著劑層6的側端面6a位於比第1保護膜7的輥紋部7a實質上更內側的位置，第2接著劑層8的側端面8a位於比第2保護膜9的輥紋部9a更內側的位置，係指比實質上位於內側的位置，不限定於第1接著劑層6的側端面6a都是位於比第1保護膜7的輥紋部7a更內側的位置，以及第2接著劑層8的側端面8a都是位於比第2保護膜9的輥紋部9a更內側的位置，第1接著劑層6及/或第2接著劑層8可部分地含有輥紋部8a，9a的溢出部分。相對於積層膜的全體的長度，對應於溢出部分的積層膜的合計長度較佳為10%以下，更佳為5%以下。在如此的範圍時，有抑制在製造中途接著劑從積層膜的端面溢出。積層膜製造時膜的蛇行或皺紋及接著劑供給量的變動等之偏差，於積層膜的一部，有時會產生在第1接著劑層6的側端面6a未位於比第1保護膜7的輥紋部7a更內側的溢出部分，或產生第2接著劑層8的側端面8a未位於比第2保護膜9的輥紋部9a更內側的溢出部分。
另外，第1接著劑層6的側端面6a位於比第1保護膜7的輥紋部7a實質上更內側的位置，同樣地將第2接著劑層8的側端面8a位於比第2保護膜9的輥紋部9a實質上更內側的位置，藉此，在搬送積層膜20時可抑制接著劑從積層膜20的端面的溢出。因此，偏光膜5的側端面5a係不限定於位在比如第4圖所示之第1保護膜7及第2保護膜9的輥紋部7a、9a更內側的位置的態樣，亦可 位於更外側的位置。惟，偏光膜5一般係如後述般於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向二色性色素者，如此之偏光膜5具有容易龜裂的性質。因而，在偏光膜5的側端面5a位於比第1保護膜7及第2保護膜9的輥紋部7a、9a更外側的位置時，偏光膜5的側端部之一部會變得具有未與第1保護膜7以及第2保護膜9接著的區域，搬送時偏光膜5有龜裂而成為步驟內異物之虞。從而，如第4圖所示，第1保護膜7及第2保護膜9較佳係使用比偏光膜5寬幅者。以第1保護膜7及第2保護膜9的輥紋部7a、9a位於比偏光膜5的側端面5a更外側的位置，且第1接著劑層6以及第2接著劑層8的側端面6a、8a位於比與偏光膜5的端面5a相同的位置或偏光膜5的端面5a更外側的位置的方式，製造積層膜20，藉此，偏光膜5會受到第1保護膜7以及第2保護膜9保護，可防止搬送時偏光膜5的龜裂。
寬幅的程度並無限定，但例如可使用具有偏光膜5的寬的1.03至1.1倍的寬度之保護膜。於貼合步驟中，較佳為以使偏光膜5、第1保護膜7以及第2保護膜9的寬度方向之中心位置略為一致的方式貼合。
於積層膜20中，作為將第1接著劑層6及第2接著劑層8的寬度方向的位置關係以如第4圖所示之方式調整的方法，可舉例如調整接著劑55、50之供給量的方法；藉由將所供給之接著劑55、50從積層膜20的端部使用吸引手段進行吸引來調整之方法；組合該等方法之方法 等。設置吸引手段的位置並無限定，但例如可設置在通過貼合輥40、40的位置以吸引接著劑。
在偏光膜5貼合第1保護膜7及第2保護膜9時，於偏光膜5的貼合面、及第1保護膜7或第2保護膜9的貼合面之至少一個貼合面，為了提升接著性，可實施電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(火炎)處理、皂化處理般的易接著處理。該等之中，較佳為進行電漿處理，電暈處理或皂化處理。例如使用由環狀聚烯烴系樹脂所構成之第1保護膜7及第2保護膜9時，可在第1保護膜7及第2保護膜9的貼合面實施電漿處理或電暈處理。此外，使用由纖維素酯系樹脂所構成之第1保護膜7以及第2保護膜9時，可在第1保護膜7以及第2保護膜9的貼合面實施皂化處理。皂化處理可舉例浸漬於氫氧化鈉或氫氧化鉀般的鹼性水溶液的方法。
(偏光膜)
偏光膜5可為於經單軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向二色性色素者。構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂，可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯外，例示乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如，可舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和碸酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度可為80.0至100.0莫耳%的範圍，較佳為90.0至100.0莫耳%的範圍，更較佳為94.0至100.0莫耳%的範圍。皂化度未達80.0莫耳%時，所得之單面保護偏光板的耐水性以及耐濕熱性會降低。
所謂皂化度係將作為聚乙烯醇系樹脂的原料之聚乙酸乙烯酯系樹脂所含之乙酸基(乙醯氧基：-OCOCH3)藉由皂化步驟變化成羥基之比例以單元比(莫耳%)所表示者，並以下述式定義之：皂化度(莫耳%)=100×(羥基數)/(羥基數+乙酸基數)。
皂化度可依據JIS K 6726(1994)求得。皂化度愈高，表示羥基的比例愈高，從而，顯示阻礙結晶化之乙酸基的比例愈低。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，較佳為100至10000，更佳為1500至8000，進一步較佳為2000至5000。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度亦可依據JIS K 6726(1994)求得。平均聚合度未達100時，難以得到較佳的偏光性能，超過10000時，對溶劑的溶解性變差，難以形成聚乙烯醇系樹脂膜。
偏光膜5中所含有(吸附配向)之二色性色素，可為碘或二色性有機染料。二色性有機染料的具體例包含Red BR、Red LR、Red R、Pink LB、Ruby BL、Bordeaux GS、SkyBlue LG、Lemon Yellow、Blue BR、Blue 2R、Navy RY、Green LG、Violet LB、Violet B、Black H、Black B、Black GSP、Yellow 3G、Yellow R、Orange LR、Orange 3R、 Scarlett GL、Scarlett KGL、Congo red、brilliant Violet BK、SplineBlue G、SplineBlue GL、SplineOrange GL、DirectSkyBlue、DirectFastOrange S、FastBlack。二色性色素可僅單獨使用一種，亦可併用2種以上。
偏光膜5可經由下列步驟製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟；藉由將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色，以吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理之步驟；以及，在以硼酸水溶液處理之後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂膜係將上述之聚乙烯醇系樹脂經製膜者。製膜方法並無特別限定，可採用熔融擠出法、溶劑澆鑄法等公知的方法。聚乙烯醇系樹脂膜的厚度，為例如10至150μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸，可在二色性色素之染色前、與染色同時、或染色後進行。單軸延伸在染色後進行時，此單軸延伸可在硼酸處理之前或硼酸處理中進行。此外，亦可以該等複數階段進行單軸延伸。
於單軸延伸時，可在周速相異的輥間朝單軸進行延伸，亦可使用熱輥朝單軸進行延伸。此外，單軸延伸可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可使用溶劑，以使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤的狀態進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為3至8倍左右。
將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的方法，例如，可採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有 二色性色素之水溶液(染色溶液)之方法。聚乙烯醇系樹脂膜較佳為在染色處理之前施以於水中之浸漬處理(膨潤處理)。
使用碘作為二色性色素時，通常，採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘以及碘化鉀之水溶液並染色之方法。在此染色水溶液中之碘的含量通常係水每100重量份為0.003至1重量份左右。此外，碘化鉀的含量通常係水每100重量份為0.1至20重量份左右。染色水溶液的溫度通常為20至40℃左右。此外，於染色水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為20至600秒左右。
另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常，採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性的二色性有機染料之染色水溶液中並染色之方法。於染色水溶液中之二色性有機染料的含量，通常係水每100重量份為1×10-4至10重量份左右，較佳為1×10-3至1重量份左右。該染色水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色水溶液的溫度通常為20至80℃左右。此外，於染色水溶液中的浸漬時間(染色時間)通常為20至600秒左右。
以二色性色素進行染色後的硼酸處理，係可藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液中來進行。
含有硼酸的水溶液中之硼酸的量，通常水每100重量份為2至15重量份左右，較佳為5至12重量 份。使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸的水溶液較佳為含有碘化鉀。含有硼酸的水溶液中之碘化鉀的量，通常水每100重量份為0.1至20重量份左右，較佳為5至15重量份左右。於含有硼酸的水溶液的浸漬時間，通常為10至600秒左右，較佳為60至420秒左右，更佳為90至300秒左右。含有硼酸的水溶液的溫度，通常為50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜通常經水洗處理。水洗處理例如可藉由將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水來進行。於水洗處理中之水的溫度通常為1至40℃左右。此外，浸漬時間通常為1至120秒左右。
水洗後係實施乾燥處理，可得到偏光膜5。乾燥處理有：吹拂熱風之方法、與熱輥接觸之方法、以IR加熱器加熱之方法等各種各樣的方法，但任一種均可適合使用。與熱輥接觸而乾燥之方法，為提升乾燥效率，可縮短乾燥時間，又，就可抑制膜的寬度方向之收縮而寬幅化等之點而言，為較適合。另外，所謂在乾燥步驟中的乾燥溫度，係在於吹拂熱風之方法或IR加熱器等般設有乾燥爐的乾燥設備時，指乾燥爐內的環境溫度，在如熱輥般之接觸型的乾燥設備時，指熱輥的表面溫度。
乾燥處理的溫度通常為30至100℃左右，較佳為50至80℃。乾燥處理的時間通常為60至600秒左右，較佳為120至600秒。偏光膜5的厚度通常為2至40μm左右。
藉由乾燥處理，將偏光膜5的水分率減低至實用程度。該水分率通常調整成為5至45重量%，更佳係調整為7至40重量%。比5重量%低時，偏光膜5會喪失可撓性，偏光膜5在乾燥後有時會損傷或破裂，比45重量%高時，難以充份顯現與保護膜的密著性，容易產生外觀的不良或膜在生產線中破裂而污染製程之問題。
(第1保護膜)
作為本實施形態之貼合步驟所使用之第1保護膜7，係使用兩側端部施予輥紋加工之具有輥紋部之保護膜。輥紋加工係指賦予微小凹凸之加工。
第5圖(A)至(C)係示意性表示輥紋加工之例之保護膜的側端部之剖面圖。第5圖(A)係於單面(圖中為上面)設有凸部，在相反側的面(圖中為下面)在對應於該凸部的位置設有凹部之例，第5圖(B)係在單面(圖中為上面)設有凸部以及凹部，在相反側的面(圖中為下面)為平滑面之例，第5圖(C)係於兩面設有凸部及凹部之例。
於本發明中的輥紋部，係指於保護膜的側端部中兩面的任一面從凸部或凹部之形成開始的寬度方向之位置內，從最內側的位置至側端為止的部分稱為輥紋部。於本發明中，在第1保護膜7所施加的輥紋加工，可為第5圖(A)至(C)之任一形態，且不限於該等形態，但如第5圖(B)所示，單面為平滑面時，不為平滑面的面，係設為以於貼合步驟中位於偏光膜5側的位置的方式所使用 者。本發明係用以解決因於輥紋部中的凸部或凹部接著劑所帶來的作用而引起之不佳情形為特別有效。
輥紋部之寬，具體而言，每單側端部可設為30mm以下，進一步為20mm以下，另可進一步設為15mm以下。此外，每單側端部通常為1mm以上，較佳為2mm以上，進一步較佳為5mm以上。輥紋部之寬度，較佳係於各側端部，膜全體的寬度之0.5至5%的範圍，更佳為1至2%的範圍內。未達0.5%時，由於輥紋部之寬度過窄，故有時輥紋效果會減低。此外，超過5%時，發揮光學特性的有效部分會變窄，製造成本有時會上昇。第1保護膜7的全寬，通常為300至2500mm左右，更典型為500至2000mm左右。
作為藉輥紋加工所設之凸部或凹部之形狀，第5圖(A)至(C)之各例係顯示為梯形，但此梯形，可為圓錐梯形，亦可為角柱梯形。此外，梯形以外的形狀，例如，可舉圓柱或角柱、圓錐或角錐等，亦可為不定形狀。亦可混合存在2種以上的形狀。
輥紋高度較佳為1至20μm，更佳為2至10μm，進一步較佳為3至6μm。在此，輥紋高度係指從輥紋部之厚度減去未施加輥紋加工之部分的厚度的值，在第5圖(A)至(C)之各例中，係從輥紋部之厚度t’減去未施加輥紋加工之部分的厚度t之「t’-t」之值。輥紋部之厚度t’與未施加輥紋加工之部分之厚度t，例如可使用NIKON製股份有限公司的數位測微器「MH-15M」的膜厚 計測定。輥紋高度太小時，無法充份抑制膜的捲取外觀不良，太大時，輥紋加工時或加工後的膜變得容易斷裂。另外，未施加輥紋加工之部分有厚度差異時，只要使用其平均厚度算出輥紋高度即可，但此時，可使輥紋高度提高該比較差異即可。
此外，未施加輥紋加工之部分的厚度，亦即第1保護膜7的厚度，從偏光板的薄膜化的觀點來看，以薄者較佳，但太薄時，強度會減低，加工性變差。較佳為5至90μm以下，更佳為5至60μm，進一步較佳為5至50μm。
此外，藉輥紋加工所設的凸部或凹部，可為連續性，亦可為非連續性。所謂凸部或凹部為連續性，是指凸部或凹部以在長度方向、寬度方向、斜向方向等指定的方向延伸的方式設置。另一方面，凸部或凹部為非連續性，是指凸部或凹部之最小單元，在長度方向、寬度方向、斜向方向等指定的方向，互相以不具有接點而獨立地重覆排列。於非連續性的形態中，最小單元之上方面形狀並無限定，例示有線狀、圓形、多邊形等。該等的最小單元，可僅有周緣部形成為凸狀或凹狀，亦可全體形成為凸狀或凹狀。第6圖至第10圖例示非連續性的形態。
第6圖係示意性顯示輥紋部A所形成之最小單元101為直線狀之例之保護膜的側端部之俯視圖，第7圖為示意顯示性輥紋部A所形成之最小單元102為半圓曲線狀之例之保護膜的側端部之俯視圖，第8圖為示意性 顯示輥紋部A所形成之最小單元103為三角形狀之例之保護膜的側端部之俯視圖，第9圖為示意性顯示輥紋部A所形成之最小單元104為四角形狀之例之保護膜的側端部之俯視圖，第10圖示意性顯示輥紋部A所形成之最小單元105為圓形狀之例之保護膜的側端部之俯視圖。輥紋部A中，最小單元可為如第6圖至第10圖所示，排列有相同形狀的最小單元，亦可排列有不同形狀的最小單元。
將個別的最小單元配置於輥紋部A內時的最小單元之配向(朝向)無特別限制，例如第7圖所示，關於某個任意的對稱線，若將非對稱形狀以上述對稱線成為與膜寬度方向平行或略平行的配向(朝向)配置，以最小單元作為記號，可容易地判別第1保護膜7的前後的朝向。此外，如第8圖所示，若將最小單元以上述對稱線成為與膜長度方向平行或略平行的配向(朝向)配置，以最小單元作為記號，可容易地判別熱塑性樹脂膜3的左右朝向。若對第1保護膜7的單面賦予最小單元，則容易判別該膜的內外。亦可使設在第1保護膜7的一側的側端部之最小單元所致的圖案、與設在另一側端部之最小單元所致的圖案相異。
最小單元之最長部之長度並無特別限定，但例如為0.2至10mm。此外，輥紋部A中之最小單元之數的密度並無特別限定，但較佳為1000個/cm2以下，更佳為200個/cm2以下。超過1000個/cm2時，在輥紋部A有時會容易產生破裂。
第1保護膜7典型上可藉由使樹脂組成物成形，暫時將未施加輥紋加工之膜製膜，接著，對該膜施加輥紋加工而製造。在此，上述樹脂組成物的成形方法，例如可舉例溶融流延法、溶融擠出法、壓延法等，其中，由於容易製造表面平滑性高的膜，故較佳為使用將上述樹脂組成物溶融擠出為膜狀，將該膜狀物夾入一對鏡面輥而成形的方法。此外，輥紋加工係可藉由將所得的膜的至少側端部，以具有指定表面形狀的一對輥，具體而言，係在與輥表面的膜側端部接觸之位置，以具有與設於該膜側端部之凸部或凹部之相反形狀相當的凹部或凸部之一對輥夾入，而適當地進行。此時，輥或膜可依需要加熱，但以所謂冷間機械法不加熱而進行者為簡便有利。此外，輥表面的凹部之深度或凸部之高度，考量膜的彈性所致的回原型，可大於應設置於膜的凸部之高度或凹部之深度。
此外，第1保護膜7係使樹脂組成物成形而製膜時，可與製膜同時地藉由施加輥紋加工而製造。在此，上述樹脂組成物的成形方法，較佳為使用將上述樹脂組成物溶融擠出為膜狀，將該膜狀物夾入一對輥而成形之方法，此時，可在輥表面設有指定之表面形狀，具體而言，可在輥表面之膜側端部接觸的位置，與設於該膜側端部之凸部或凹部之相反形狀相當的凹部或凸部，藉此，可與製膜同時地進行輥紋加工。此外，第1保護膜7的厚度可藉由製膜速度或輥間隙等進行調節。
輥紋加工不限定於上述方法，亦可藉由雷 射加工進行。利用雷射加工時，照射到雷射光的部分成為凹狀，照射到雷射光的部分之周緣成為隆起凸狀。凹狀部分與凸狀部分之組合構成為一個最小單元。第11圖係顯示將第6圖所示之形態之輥紋部藉由雷射加工形成時的最小單元之一例，第12圖係顯示將第8圖所示之形態之輥紋部藉由雷射加工形成時的最小單元之一例。第11圖(A)所示之最小單元101a可沿第11圖(B)所示之箭頭106藉由照射雷射光而形成，此時，雷射光的照射部分成為凹狀，其周緣成為凸狀101b。第12圖(A)所示之最小單元103a可沿第12圖(B)所示之箭頭106藉由照射雷射光而形成，此時，雷射光的照射部分成為凹狀，其周緣成為凸狀103b。
最小單元中之凹狀部分的寬以及凸狀部分之高度可藉由調整雷射光的輸出及集光徑而控制。於雷射光照射部，雖然可藉由熔融形成貫通孔，但若考慮到膜強度，較佳為以不貫通的程度之輸出照射雷射光。
雷射光可使用例如ArF準分子雷射、KrF準分子雷射、XeCl準分子雷射、YAG雷射；YLF、YVO4等固體雷射；Ti：S雷射；半導體雷射；光纖雷射；二氧化碳雷射等。
雷射光的集光徑可對應凹部之寬度而適當設定。因此，可藉由調節集光徑而控制凹部之寬度。集光徑較佳為50至500μm，更佳為200至300μm。集光徑未達50μm時，有時凹部之節距間隔變得過大，輥紋效果降低。此外，集光徑超過500μm時，有時在輥紋部容易產 生破裂。
第1保護膜7可為由熱塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)般之聚烯烴系樹脂；纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯般之纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯般之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂般之(甲基)丙烯酸樹脂樹脂；或該等之混合物、共聚合物等所構成之透明樹脂膜。
鏈狀聚烯烴系樹脂係除了聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂般之鏈狀烯烴的均聚物之外，可列舉由2種以上之鏈狀烯烴所構成之共聚物。更具體之例，包含聚丙烯系樹脂(為丙烯的均聚物之聚丙烯樹脂、或以丙烯為主體之共聚物)、聚乙烯系樹脂(為乙烯的均聚物之聚乙烯樹脂、或以乙烯作為主體之共聚物)。
環狀聚烯烴系樹脂為以環狀烯烴作為聚合單元所聚合之樹脂之總稱，例如，可列舉日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等記載的樹脂。舉出環狀聚烯烴系樹脂之具體例，為環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯般之鏈狀烯烴之共聚物(代表為隨機共聚物)、及將該等以不飽和羧酸或其衍生物改質之接枝聚合物以及該等的氫化物等。其中，較佳為使用以降莰烯或多環降莰烯系單體等的降莰烯系單體作為環 狀烯烴之降莰烯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例包含纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。此外，亦可使用該等共聚物、或其羥基的一部被其他取代基修飾者。該等之中，特佳為纖維素三乙酸酯(三乙酸纖維素：TAC)。
聚酯系樹脂係具有酯鍵結之樹脂，一般由多元羧酸或其衍生物與多元醇之縮聚物所構成。多元羧酸或其衍生物可使用2價的二羧酸或其衍生物，例如可舉對苯二甲酸、異苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。多元醇可使用2價的二醇，例如可舉乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊基乙二醇、環己烷二甲醇等。適合之聚酯系樹脂之例包含聚對苯二甲酸乙二酯。
聚碳酸酯系樹脂係由透過碳酸酯基結合單體單元之聚合物所構成之工程塑膠，具有高耐衝撃性、耐熱性、難燃性、透明性之樹脂。聚碳酸酯系樹脂為了降低光彈性係數，可為修飾聚合物骨架之被稱為改質聚碳酸酯的樹脂、或經改良波長依存性之共聚合聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸樹脂樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基之化合物作為主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸樹脂樹脂之具體例，例如包含如聚甲基丙烯酸甲酯般之聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚 物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物之共聚物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳為使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯般之聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯作為主成分之聚合物，更佳為使用甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%，較佳為70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
第1保護膜7係亦可為合併具有相位差膜、增亮膜般的光學機能之保護膜。例如，可藉由將由上述材料所構成之透明樹脂膜延伸(單軸延伸或二軸延伸等)，或在該膜上形成液晶層等，而作為賦予任意相位差值之相位差膜。
在將第1保護膜7配置於觀看側而使用時，在與第1保護膜7的偏光膜5為相反側的表面，亦可形成硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層般之表面處理層(塗布層)。在第1保護膜7的表面形成表面處理層之方法並無特別限定，可使用公知的方法。
(第2保護膜)
第2保護膜9的材質與構成係引用第1保護膜7所敘述的內容。第1保護膜7與第2保護膜9可為同種之膜，亦可為不同種之膜。此外，於上述形態中，雖然例示使用皆具有輥紋部之保護膜作為第1保護膜7以及第2保護膜9，但亦可為僅有一者使用具有輥紋部之保護膜之形態。
(接著劑)
接著劑55、50可列舉水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。通常，使用水系接著劑時，相較於使用活性能量線硬化性接著劑之時，在貼合步驟所使用之接著劑的量變多，易產生接著劑溢出之問題，因此，可抑制接著劑的溢出之本發明的效果，比使用水系接著劑的情形更為顯著。水系接著劑係將接著劑成分溶解於水中或分散於水中者。較佳使用的水系接著劑，例如，為使用聚乙烯醇系樹脂或聚氨酯樹脂作為主成分之接著劑組成物。由水系接著劑所形成之第1接著劑層6或形成第2接著劑層8時，其厚度通常為1μm以下。
使用聚乙烯醇系樹脂作為接著劑的主成分時，該聚乙烯醇系樹脂除了部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇外，尚可為羧基改質聚乙烯醇、乙醯乙醯基改質聚乙烯醇、羥甲基改質聚乙烯醇、胺基改質聚乙烯醇般之經改質的聚乙烯醇系樹脂。聚乙烯醇系樹脂除了將作為乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得之乙烯基醇均聚物外，亦可為將乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物經皂化處理而得之聚乙烯醇系共聚物。
以聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分之水系接著劑通常為聚乙烯醇系樹脂之水溶液。相對於水100重量份，接著劑中的聚乙烯醇系樹脂之濃度通常為1至10重量份，較佳為1至5重量份。
由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑中，為提升接著性，較佳係添加多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性環氧樹脂般之硬化性成分或交聯劑。水溶性環氧樹脂可適當使用例如在將二伸乙基三胺、三伸乙基四胺等聚伸烷聚胺、與己二酸等二羧酸反應所得之聚醯胺胺、使表氯醇反應而得之聚醯胺聚胺環氧樹脂。該聚醯胺聚胺環氧樹脂之市售品可列舉「Sumirez Resin650」(田岡化學工業股份有限公司製)，「Sumirez Resin675」(田岡化學工業股份有限公司製)，「WS-525」(日本PMC股份有限公司製)等。該等硬化性成分或交聯劑之添加量(一起添加作為硬化性成分及交聯劑時為其合計量)，相對聚乙烯醇系樹脂100重量份，通常為1至100重量份，較佳為1至50重量份。上述硬化性成分或交聯劑之添加量，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，為未達1重量份時，接著性提升的效果有變小的傾向，此外，上述硬化性成分或交聯劑的添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，超過100重量份時，接著劑層有變脆的傾向。
此外，使用聚氨酯樹脂作為接著劑的主成分時，適當的接著劑組成物之例，可列舉聚酯系離子聚合物型聚氨酯樹脂與具有縮水甘油基氧基之化合物之混合物。聚酯系離子聚合物型聚氨酯樹脂係具有聚酯骨架之聚氨酯樹脂，其中導入有少量的離子性成分(親水成分)者。該離子聚合物型聚氨酯樹脂可不使用乳化劑而直接在水中 乳化成為乳劑，故適合作為水系接著劑。
使用水系接著劑時，在形成積層膜後，通常設有將水系接著劑乾燥之步驟。乾燥方法並無特別限制，可使用熱風乾燥機或紅外線加熱器等。
乾燥溫度，較佳為30至95℃。未達30℃時，接著劑有時無法充份乾燥。此外，乾燥溫度超過95℃時，有因熱而使得偏光膜5的偏光性能變差之虞。乾燥時間可為10至1000秒左右，從生產性的觀點來看，較佳為60至750秒，更佳為150至600秒。
活性能量線硬化性接著劑係可藉由紫外線、可見光、電子束、X線般之活性能量線的照射而硬化之接著劑。活性能量線硬化性接著劑更佳可使用藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分之活性能量線硬化性接著劑，進一步較佳為以該環氧系化合物作為硬化性成分之紫外線硬化性接著劑。在此，所謂環氧系化合物係指在分子內平均具有1個以上，較佳為2個以上的環氧基之化合物。環氧系化合物可單獨使用一種，或可併用兩種以上。
可適合使用之環氧系化合物之例，包含將芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而得之脂環式多元醇、與表氯醇反應而得之氫化環氧系化合物(具有脂環式環之多元醇之縮水甘油基醚)；脂肪族多元醇或其環氧烷氧加成物之聚縮水甘油基醚般之脂肪族環氧系化合物；分子內具有1個以上之鍵結於脂環式環之環氧基的環氧系化合物 之脂環式環氧系化合物。
活性能量線硬化性接著劑亦可進一步含有自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物作為硬化性成分。作為(甲基)丙烯酸系化合物，可列舉於分子內具有至少1個(甲基)丙烯醯基氧基之(甲基)丙烯酸酯單體；使2種以上之含官能基的化合物反應而得，分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯基氧基之(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯基氧基之化合物。
活性能量線硬化性接著劑係含有藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分時，較佳為含有光陽離子聚合起始劑。光陽離子聚合起始劑例如可列舉芳香族重氮鹽；芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽等鎓鹽；鐵-二茂芳烴類錯合物等。此外，活性能量線硬化性接著劑含有(甲基)丙烯酸系化合物般之自由基聚合性硬化性成分時，較佳含有光自由基聚合起始劑。光自由基聚合起始劑例如可列舉乙醯苯酚系起始劑、二苯基酮系起始劑、安息香醚系起始劑、噻噸酮系起始劑、噸酮、芴酮、樟腦醌、苯并醛、蔥醌等。
使用活性能量線硬化性接著劑時，形成積層膜後實施使由此所形成之接著劑層硬化之硬化步驟。該接著劑層的硬化，可藉由照射活性能量線來進行。活性能量線較佳為紫外線。
活性能量線的光源並無特別限定，但較佳為具有波長400nm以下的發光分布之活性能量線，具體而 言，較佳係低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發励起汞燈，金屬鹵化物燈等。
對由活性能量線硬化性接著劑所構成之接著劑層的活性能量線照射強度，可依接著劑的組成適宜決定，但較佳為以對聚合起始劑的活性化有效的波長區域的照射強度為0.1至6000mW/cm2的方式設定。照射強度為0.1mW/cm2以上時，反應時間會變得過長，在6000mW/cm2以下時，因從光源所輻射之熱及接著劑硬化時的放熱所致之接著劑層的黃變或偏光膜5的劣化之虞較小。
對於活性能量線的照射時間，雖然亦可依接著劑的組成而適宜決定，但較佳係以作為上述照射強度與照射時間之積所表示之累積光量為10至10000mJ/cm2的方式設定。累積光量為10mJ/cm2以上時，會產生來自聚合起始劑活性種充分量，而可更確實地進行硬化反應，為10000mJ/cm2以下時，照射時間不會變得過長，而可維持良好的生產性。
<偏光板製作步驟>
使用以上述方式所得到之積層膜20而製作偏光板(偏光板製作步驟)。亦可使用積層膜20直接作為偏光板，亦可對積層膜20實施下列所示之處理以製作偏光板。
(熟化步驟)
上述貼合步驟之後，可實施在室溫以上的溫度至少半 日，通常為數日以上的熟化，而得到充份的接著強度(熟化步驟)。如此之熟化步驟典型上係以捲取為輥狀的狀態進行。較佳之熟化溫度為30至50℃的範圍，進一步較佳為35至45℃。熟化溫度超過50℃時，在輥捲的狀態易產生所謂的「纏繞」。另外，熟化時的濕度並無特別限定，但較佳為選擇相對濕度為0至70%RH左右的範圍。熟化時間通常為1至10日左右，較佳為2至7日左右。積層膜20捲取為輥狀時，第1保護膜7與第2保護膜9會相接，但由於各別在兩側端部具有輥紋部，故可抑制在捲出時容易發生的表面剝離等缺陷。
(切除步驟)
上述貼合步驟之後，可進行切除包含第1保護膜7以及第2保護膜9的輥紋部之兩側端部的切除步驟。此時，較佳為以將第1保護膜7、第1接著劑層6、偏光膜5、第2接著劑層8、第2保護膜9的側端面整齊的方式切除。
切除方法並無特別限定，但例如可適合使用一般稱為切割機(slitter)之方法等。切割機之例，例如可舉使用稱為裁皮刀(Leather blade)之剃刀刃。即使使用同樣之裁皮刀的方法，特別是不設有支撐架(backup guild)而在空中切割的中空切割、或使用切有溝的輥作為支撐架而於其中插入刀刃以使切割的蛇行安定之溝輥法等。其他，可使用兩片稱為剪切刀(shear knife)之圓形的刀，順著膜的搬送一邊旋轉一邊以上刃抵壓下刃而切割的方法，或將剪切 刀或稱為刻痕刀(scoring knife)之刀壓抵退火輥等而切割的方法，進一步，可使用組合兩片剪切刀而如剪刀的方式一邊切斷一邊切割的方法等。其中，適合使用可簡單變更膜的切割位置，且易於使行進安定的方法之「使用裁皮刀之溝輥法」等。
(黏著劑層形成步驟)
上述貼合步驟之後，亦可在積層膜20的第1保護膜7或第2保護膜9的外面積層黏著劑層，進行黏著劑層形成步驟，而成為附黏著劑層偏光板。可使用如此之黏著劑層將偏光板貼合於液晶單元。
於黏著劑層所使用之黏著劑，可使用以往公知之適宜的黏著劑，例如可列舉丙烯酸系黏著劑、聚氨酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、聚醚系黏著劑、氟系黏著劑、橡膠系黏著劑等。其中，由透明性、黏著力、可靠性、重工性等的觀點，較佳係使用丙烯酸系黏著劑。黏著劑層係除了可以例如有機溶劑溶液的形態使用黏著劑，將其藉由模頭塗布機或凹版塗機塗布在第1保護膜7或第2保護膜9上，使其乾燥的方法來設置之外，尚亦可採用將形成在施有離型處理的塑膠膜(亦稱為分離膜。)上之片狀黏著劑轉貼於第1保護膜7或第2保護膜9上之方法來設置。從任一種方法來看，黏著劑層的表面較佳為貼附分離膜。黏著劑層的厚度例如可為2至40μm。
[其他之實施形態]
於上述中，係說明有關使用第1保護膜7及第2保護膜9以及在兩側端部具有輥紋部者作為偏光板的形態，但亦可為僅在任一側具有輥紋部之形態。此外，於上述中，係僅說明有關兩面附保護膜之偏光板的製造方法，但對於單面附保護膜之偏光板，除了不具有第2接著劑層以及第2保護膜的點以外，係引用關於兩面附保護膜偏光板的敘述內容。當單面附保護膜偏光板之情況，得到積層膜時，不透過接著劑而積層剝離膜取代第2保護膜，藉此，可防止偏光膜5破損或表面有傷痕。剝離膜係在貼合步驟之後，可在所期望的時機剝離。
此外，第4圖係顯示偏光膜5的側端面未設有接著劑層之一例，但只要滿足接著劑層的側端面置於比保護膜的輥紋部實質上更內側的位置之關係，接著劑層亦可為到達偏光膜5的側端面。第13圖係顯示其一例之概略剖面圖。於第13圖所示之例中，介置於第1保護膜7與偏光膜5之間之接著劑層6、以及介置於第2保護膜9與偏光膜5之間的接著劑層6，係到達偏光膜5的側端面5a，該等係連續。接著劑層6的側端面6a係位於比第1保護膜7的輥紋部7a以及第2保護膜9的輥紋部9a更內側的位置。對於接著劑層6，除了第13圖所示之位置關係以外，係引用關於第4圖所顯示之第1接著劑層6敘述的內容。
此外，本發明所使用之偏光膜，例如可使 用藉由下列的方法所製造之偏光膜。
i)藉由包含下列步驟之方法所製造之偏光膜：使用聚乙烯醇系樹脂膜作為胚膜，將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色，以吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理(交聯處理)之步驟；以及，以硼酸水溶液進行處理後水洗之步驟。
ii)日本特開2000-338329號公報或日本特開2012-159778號公報所述之方法，為構成偏光性積層膜之偏光膜；亦即，該偏光性積層膜係在基材膜的表面塗布含有聚乙烯醇系樹脂之溶液而設置樹脂層之後，延伸由基材膜與樹脂層所構成之積層膜，其次，實施染色處理、交聯處理等，而於樹脂層形成偏光片層(偏光膜)而得者。
另外，採用上述(ii)的方法時，由基材膜與偏光膜所構成之偏光性積層膜，例如，可於偏光膜面貼合保護膜而得到積層膜後，將基材膜剝離除去，進一步藉由基材膜的剝離而露出之偏光片膜面一貼合另一保護膜而成為偏光板。
第14圖係顯示上述(ii)之方法中，貼合偏光性積層膜與保護膜而成之積層膜21的側端部之一例之概略剖面圖。如第14圖所示，積層膜21係包含：由基材膜10及偏光膜5所構成之偏光性積層膜51、及在偏光性積層膜51的偏光膜5之面透過接著劑層6所貼合之保護膜7。於積層膜21中，偏光膜5、接著劑層6與保護膜7之位置關 係，係與第4圖所示之形態中與偏光膜5、第1接著劑層6與第1保護膜7的位置關係相同。此外，對於接著劑層6以及保護膜7，除了位置關係以外，係引用關於第4圖所顯示之第1接著劑層6及第1保護膜7之敘述內容。於偏光性積層膜31中，並不限定基材膜10與偏光膜5之寬度的關係，基材膜10的寬度與偏光膜5的寬度相比，如第14圖所示般，可為寬幅，亦可為窄幅，亦可為相同寬度。
在第14圖中，係例示於積層膜21中，在偏光膜5的側端面未設有接著劑層之一例，但如第15圖所示，接著劑層6可為到達偏光膜5的側端面者。
(剝離膜)
剝離膜係考量處理性、透明性、廉價性等，例如可為由聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂般之鏈狀聚烯烴系樹脂；纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯般之纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯般之聚酯系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂般之(甲基)丙烯酸樹脂樹脂或該等之混合物，共聚物等所構成之透明樹脂膜。可將該等之1種或2種以上成形單層或多層狀之膜作為剝離膜而使用。其中，可適合使用由聚乙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、纖維素三乙酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂所構成之膜。
剝離膜的厚度例如為5至100μm左右，較佳為10至80μm左右。
[實施例]
以下，係例示實施例以及比較例而更具體說明本發明，但本發明不限定於該等之例。
<實施例1>
(A)偏光膜的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度30μm的聚乙烯醇膜，以乾式單軸延伸成約4倍，進一步保持在拉緊狀態，於40℃的純水中浸漬1分鐘後，在28℃下浸漬於碘/碘化鉀/水之重量比為0.1/5/100之水溶液中60秒。其後，於68℃浸漬在碘化鉀/硼酸/水之重量比為10.5/7.5/100之水溶液中300秒。接著，以5℃的純水洗淨5秒後，以70℃乾燥180秒，得到於經單軸延伸之聚乙烯醇膜吸附配向有碘之偏光膜。偏光膜的厚度為11μm、寬為128cm。
(B)水系接著劑之調製
將聚乙烯醇粉末[日本合成化學工業股份有限公司製之商品名「GOHSEFIMER」、平均聚合度1100]溶解於95℃之熱水中，調製濃度3重量%之聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中將交聯劑[日本合成化學工業股份有限公司製之乙醛酸鈉]以相對於聚乙烯醇粉末2重量份為1重量份的比例混合，作為水系接著劑。
(C)第1保護膜及第2保護膜的準備
使用在兩側端部各別預先形成寬1.5cm的輥紋部之保護膜[Konica Minolta Opto股份有限公司製之TAC膜，商品名「KC2UAW」，厚度25μm，寬133cm，貼合面已施加皂化處理者]作為第1保護膜以及第2保護膜。輥紋部之兩表面之凸部或凹部之形狀為第5圖(C)所示之形狀，其高度為4μm。
(D)積層膜的製作
使用與第3圖所顯示之製造裝置相同之裝置，依下列的順序製作積層膜。將上述(A)所得之偏光膜、與上述(C)所得之第1保護膜及第2保護膜連續地搬送，在偏光膜與第1保護膜之間注入上述(B)所得之水系接著劑，偏光膜與第2保護膜之間同樣地注入上述(B)所得之水系接著劑，通過貼合輥40、40間而形成為由第1保護膜/水系接著劑層/偏光膜/水系接著劑/第2保護膜所構成之積層膜。通過貼合輥40、40之間時，操作在此所設之吸引手段，以使第1保護膜/水系接著劑層/偏光膜/水系接著劑/第2保護膜係以其寬度方向的位置關係滿足第4圖所示之關係的方式吸引接著劑。接著，搬送積層膜，通過乾燥裝置，進行80℃、300秒的加熱處理，藉此，乾燥水系接著劑層而得到積層膜。
積層膜的製造中，接著劑不會從積層膜溢出，不會產生因接著劑所致之積層膜及製造裝置的污染。
<比較例1>
除了通過貼合輥40、40之間時，不操作吸引手段，因此，水系接著劑層的側端面沾到輥紋部的點以外，係以與實施例1同樣的方法得到積層膜。
於貼合步驟中接著劑從積層膜溢出，因溢出之接著劑使搬送輥以及積層膜表面產生污染。
雖然說明了本發明之實施方式，但本次所揭示之實施方式不應認為例示所有的點及作為限制者。本發明的範圍係如申請專利範圍所示，且意於包含在與申請專利範圍均等意含以及範圍內的所有的變更。

Claims (6)

  1. 一種積層膜的製造方法，該積層膜包含偏光膜、及貼合於前述偏光膜之至少一面的保護膜，該製造方法係包含：隔介接著劑使偏光膜及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋部之保護膜重疊並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而得到積層膜的貼合步驟，於前述積層膜中，關於其寬度方向，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於比前述保護膜的前述輥紋部更內側的位置，前述偏光膜係將聚乙烯醇系樹脂膜作為胚膜使用而形成者。
  2. 一種積層膜的製造方法，該積層膜包含偏光膜、及貼合於前述偏光膜之至少一面的保護膜，該製造方法係包含：隔介接著劑使偏光膜及比前述偏光膜寬幅且在側端部具有輥紋部之保護膜重疊並通過1對貼合輥間藉此進行按壓而得到積層膜的貼合步驟，於前述積層膜中，關於其寬度方向，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於比前述保護膜的前述輥紋部更內側的位置，且前述接著劑層未設在前述偏光膜之側端面。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之積層膜的製造方法，其中，於前述積層膜中，關於其寬度方向，前述保護膜的前述輥紋部位於比前述偏光膜的側端面更外側的位置，以前述接著劑所構成之接著劑層，其側端面位於與前述偏光膜的側端面相同的位置或比前述偏光膜的側端面更外側的位置。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之積層膜的製造方法，其中，於前述貼合步驟中，在前述偏光膜的兩面重疊有具有前述輥紋部之保護膜。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之積層膜的製造方法，其中，於前述貼合步驟中，前述偏光膜的一面重疊有具有前述輥紋部之保護膜，另一面重疊有不具有輥紋部的保護膜。
  6. 一種偏光板的製造方法，係包含：藉由申請專利範圍第1或2項所述之積層膜的製造方法製得積層膜之步驟，以及使用前述積層膜製得偏光板之偏光板製作步驟。
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