TWI623738B - 真空吸平裝置及含其的料片檢測設備及料片移載設備 - Google Patents

Abstract

一種真空吸平裝置，具有一吸附載台，一真空氣室，以及一可調整模組。該吸附載台包含有一真空吸附平面，以及複數個設置於該真空吸附平面上的吸孔。該真空氣室具有一相鄰於該吸附載台的吸孔一側的氣體導流面，以及一對該氣體導流面提供負壓的真空吸引單元。該可調整模組具有一可藉由第一調整機構調整並沿第一方向移動的第一遮板，以及一可藉由第二調整機構調整並沿第二方向移動的第二遮板，遮蔽該真空吸附平面上的部分吸孔，該可調整模組係依據該料片尺寸控制該第一遮板以及該第二遮板的行以界定一料片吸附區域的面積。

Description

真空吸平裝置及含其的料片檢測設備及料片移載設備

本發明係有關於一種真空吸平裝置、含其的料片檢測設備及料片移載設備。

自動光學檢查(Automated Optical Inspection,AOI)泛指運用機器視覺做為檢測標準的技術，比起習知的人眼檢測具有高速高精密度的優點。應用層面可涵蓋至高科技產業之研發、製造品管，以至國防、民生、醫療、環保、電力...或其他的相關領域。

在自動光學檢測的領域中，欲對料片進行檢測，常見的方式係藉由將料片裝設於載台上，藉由抽真空的手段對該載台提供負壓，藉由載台上之氣孔將料片吸附於載台上。然而，部分特殊材質的料片經由氣孔吸持後，於料片之邊緣常會產生翹曲之問題，導致影像偵測時所拍攝之料片影像常有失真的情形。

是以，為解決上述問題，中華民國第M449343號專利係揭示一種用於平整料片的真空吸平裝置，該真空吸平裝置主要具有氣室、載台、及遮蔽治具。所述的氣室包含氣體導流面及 真空吸引單元，所述的載台具有複數第一吸孔。其中載台設置於氣室上而相鄰於氣體導流面，且第一吸孔連通於氣體導流面。所述的遮蔽治具具有承載區。其中遮蔽治具設置於載台上，承載區係對應料片之面積設置，而用以承載料片。遮蔽治具遮蔽一部分之第一吸孔，承載區具有複數第二吸孔，第二吸孔係對應於另一部份之第一吸孔而連通於氣體導流面，真空吸引單元對氣體導流面抽氣，而吸持承載區上之料片。藉由上述的配置，可增進真空吸附設備整平料片的效果，解決習知容易發生料片邊緣翹曲之問題。

惟，上述的真空吸平裝置雖可有效的解決料片邊緣翹曲的問題，然而，所述的遮蔽治具常需要針對不同尺寸的料片個別進行客製化的設計，於實務上操作時常有不便之處。

本發明的目的，在於解決習知技術中對應不同料片需客製化不同遮蔽治具而導致於實務操作上常有不便的問題。

本發明係提供一種真空吸平裝置，係用以吸附並整平料片，該真空吸平裝置具有一吸附載台，一真空氣室，以及一可調整模組。該吸附載台具有一真空吸附平面，以及複數個設置於該真空吸附平面上的吸孔。該真空氣室係設置於該吸附載台相對該真空吸附平面的另一側，該真空氣室具有一相鄰於該吸附載台的吸孔一側的氣體導流面，以及一或複數個對該氣體導流面提供負壓的真空吸引單元。該可調整模組具有對應設置於該真空吸 附平面或設置於該氣體導流面一側的第一遮板及第二遮板，該第一遮板可藉由第一調整機構調整並沿第一方向移動，該第二遮板可藉由第二調整機構調整並沿第二方向移動，遮蔽該真空吸附平面上的吸孔，該可調整模組係依據該料片尺寸控制該第一遮板以及該第二遮板的行以界定一料片吸附區域的面積。

進一步地，該第一遮板及該第二遮板係分別相對地設置於該吸附載台的該真空吸附平面及該氣體導流面的一側。

進一步地，該第一調整機構係具有一或複數個固定該第一遮板的定位機構，一設置於該定位機構一側以限制該定位機構沿一路徑移動的軌道部，以及一設置於該軌道部一側以帶動該定位機構沿該路徑移動的驅動裝置。

進一步地，該軌道部係成對設置於該第一遮板的兩側，該定位機構係具有設於二該軌道上的定位塊，以及一設置於成對的該定位塊間並鎖固該第一遮板的固定板。

進一步地，該第二調整機構係具有一或複數個固定該第二遮板的定位機構，一設置於該定位機構一側以限制該定位機構沿一路徑移動的軌道部，以及一設置於該軌道部一側以帶動該定位機構沿該路徑移動的驅動裝置。

進一步地，該軌道部係成對設置於該第二遮板的兩側，該定位機構係具有設於二該軌道上的定位塊，以及一設置於成對的該定位塊間並鎖固該第二遮板的固定板。

進一步地，該驅動裝置具有至少二個以上的皮帶 輪，一繞設於該皮帶輪上並供該定位機構一端固定的皮帶，以及一帶動該皮帶輪樞轉的馬達。

進一步地，該吸孔相互間係呈等間隔排列。

進一步地，該吸孔的係由二側延伸而略呈狹長型。

本發明之另一目的，在於提供一種料片檢測設備，係配置有如上所述的真空吸平裝置，該料片檢測設備包含有一輸料履帶，一影像擷取裝置，以及該真空吸平裝置。該輸料履帶供該料片沿一傳送路徑移動。該輸料履帶具有一設置於該輸料履帶一或二側，帶動該輸料履帶前進的轉動輥，以及複數個佈設於該輸料履帶表面上的導風孔。該影像擷取裝置係設置於該輸料履帶的一側，用以拍攝一取像區域上的該料片。其中，所述的真空吸平裝置係設置於該輸料履帶相對該影像擷取裝置的另一側，於該料片透過該輸料履帶移動至該取像區域時，該真空吸平裝置係吸平該料片以供另一側的該影像擷取裝置拍攝。

進一步地，該轉動輥係具有一供該輸料履帶繞設的滾輪，一設置於該滾輪中以帶動該滾輪旋轉的樞軸，以及一設置於該樞軸一側以帶動該樞軸旋轉的驅動裝置。

進一步地，該吸孔的面積係大於該導風孔的面積。

本發明之另一目的，在於提供一種料片移載設備，係配置有如上所述的真空吸平裝置，該料片移載設備具有一機座，一或複數個連接臂，一驅動裝置，以及該真空吸平裝置。該連接臂係藉由一樞轉手段、一多軸移動手段或一水平移動手段結 合於該機座上。該驅動裝置連接於該樞轉手段、該多軸移動手段或該水平移動手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動。其中，所述的真空吸平裝置係設置於該連接臂上，用以吸附該料片，該驅動裝置係帶動該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標位置。

是以，本發明係比起習知技術具有以下之優勢效果：

1.本發明藉由可調整模組，可彈性控制料片吸附區域的面積，可對應不同尺寸的料片進行調整，省去客製化遮蔽治具產生的不便。

2.本發明的吸附載台上的吸孔係大於該輸料履帶上導風孔，且該吸孔呈狹長型的設計，使吸孔得以與該導風孔相互重合。

100‧‧‧真空吸平裝置

10‧‧‧吸附載台

20‧‧‧真空氣室

21‧‧‧真空吸引單元

30‧‧‧可調整模組

31‧‧‧第一調整機構

311‧‧‧第一遮板

312‧‧‧定位機構

3121‧‧‧定位塊

3122‧‧‧固定板

313‧‧‧軌道部

314‧‧‧驅動裝置

3141‧‧‧皮帶輪

3142‧‧‧皮帶

3143‧‧‧馬達

32‧‧‧第二調整機構

321‧‧‧第二遮板

322‧‧‧定位機構

3221‧‧‧定位塊

3222‧‧‧固定板

323‧‧‧軌道部

324‧‧‧驅動裝置

3241‧‧‧皮帶輪

3242‧‧‧皮帶

3243‧‧‧馬達

R1‧‧‧料片吸附區域

R2‧‧‧料片吸附區域

P‧‧‧料片

H‧‧‧吸孔

T1‧‧‧真空吸附平面

T2‧‧‧氣體導流面

D1‧‧‧第一方向

D2‧‧‧第二方向

L1‧‧‧間隔

O1‧‧‧起始位置座標

Lo1‧‧‧長度

Wi1‧‧‧寬度

O2‧‧‧起始位置座標

Lo2‧‧‧長度

Wi2‧‧‧寬度

200‧‧‧料片檢測設備

40‧‧‧輸料履帶

41‧‧‧轉動輥

411‧‧‧滾輪

412‧‧‧樞軸

413‧‧‧驅動裝置

42‧‧‧導風孔

50‧‧‧影像擷取裝置

A1‧‧‧傳送路徑

B‧‧‧取像區域

300‧‧‧料片移載設備

60‧‧‧機座

61‧‧‧連接臂

62‧‧‧驅動裝置

63‧‧‧抽真空裝置

64‧‧‧氣流通道

65‧‧‧樞軸

A2‧‧‧傳送路徑

圖1，本發明真空吸平裝置的上側示意圖。

圖2，本發明真空吸平裝置的側面示意圖。

圖3，本發明真空吸平裝置的剖面示意圖。

圖4，本發明真空吸平裝置的局部放大示意圖。

圖5-1至圖5-2，係表示料片吸附區域的調節方式。

圖6-1至圖6-2，係表示料片吸附區域的調節方式。

圖7，本發明第一實施態樣的上側示意圖。

圖8，本發明第一實施態樣的側面示意圖。

圖9，係表示輸料履帶的局部放大示意圖。

圖10，本發明第二實施態樣的上側示意圖。

圖11，本發明第二實施態樣的側面示意圖。

茲就本案之結構特徵暨操作方式係舉一較佳實施態樣，並配合圖示說明，謹述於后，俾提供審查參閱。

為了說明方便，在此使用的用語，例如「上方」、「下方」、「左側」、「右側」係指相對圖式中的該水平面來定義。

本發明係提供一種真空吸平裝置100，用以吸附並整平料片。所述的真空吸平裝置100可應用於自動光學檢測(Automated Optical Inspection,AOI)領域，配合傳送履帶及影像擷取裝置設置，亦或是可應用於料片的移載裝置上，用於吸附料片並將料片移載至不同的平台上，於本發明中並不欲限制所述真空吸平裝置100應用的方式。所述的真空吸平裝置100較佳可用以吸附一般工業上的軟性料件，例如：軟性印刷電路板(Flexible Print Circuit,FPC)、軟性顯示器(Flexible Displays)、偏光片(polarizer)或其他軟性工業料片，於本發明中並不欲限制。以下係針對本發明真空吸平裝置的結構進行說明：請參閱「圖1」至「圖3」，係本發明真空吸平裝置的上側示意圖、側面示意圖及剖面示意圖，如圖所示：本發明的真空吸平裝置100係可彈性地對應料片的尺寸調整吸附面積，藉此對吸附載台10提供適當的負壓以吸附並整平該料片。所述的真空吸平裝置100包含有一吸附載台10，一 對應設置於該吸附載台10相對該真空吸附平面T1的另一側的真空氣室20，以及一對應設置於該真空吸附平面T1或對應設置於該氣體導流面T2的一側的可調整模組30。

請一併參閱「圖3」，該吸附載台10包含有一真空吸附平面T1，以及複數個設置於該真空吸附平面T1上的吸孔H。該真空氣室20包含有一相鄰於該吸附載台10的吸孔H一側的氣體導流面T2，以及一或複數個對該氣體導流面T2提供負壓的真空吸引單元21。所述的真空吸附平面T1，係指該吸附載台10相應於該料片位置的該側，用以吸附該料片並供該料片靠置。所述的氣體導流面T2，係指該吸附載台10相對該料片位置的另一側，係對應至該真空氣室20的內側，藉由該真空吸引單元21對該氣體導流面T2提供負壓，藉此，透過該吸附載台10上的複數個吸孔H，使該料片得以被吸附於該真空吸附平面T1上。請一併參閱「圖4」，於一較佳實施例中，所述的吸孔H相互間係呈等間隔排列，使該吸孔H得以均勻的分布於該真空吸附平面T1上。於另一較佳實施例中，所述的吸孔H係由二側延伸而呈狹長型。

該可調整模組30包含有一可藉由第一調整機構31調整並沿第一方向D1移動的第一遮板311，以及一可藉由第二調整機構32調整並沿第二方向D2移動的第二遮板321。該第一遮板311及該第二遮板321係分別於該第一方向D1的位置及該第二方向D2的位置遮蔽部分吸孔H，以界定一料片吸附區域。於本實施態樣中，為使該第一遮板311、該第二遮板321與該吸孔H的 表面緊密結合，所述的第一遮板311、該第二遮板321可分別相對設置於該真空吸附平面T1及該氣體導流面T2的一側。

所述的第一調整機構31係包含有一或複數個固定該第一遮板311的定位機構312，一或複數個設置於該定位機構312一側以限制該定位機構312沿該第一方向D1移動的軌道部313，以及一設置於該軌道部313一側以帶動該定位機構312沿該第一方向D1移動的驅動裝置314。該軌道部313係成對設置於該第一遮板311的二側，該定位機構312係具有二分設於二該軌道部313上的定位塊3121，以及一設置於成對的該定位塊3121間並鎖固該第一遮板311的固定板3122。該驅動裝置314具有至少二個以上的皮帶輪3141，一繞設於該皮帶輪3141上並供該定位機構312一端固定的皮帶3142，以及一帶動該皮帶輪3141樞轉的馬達3143。於該馬達3143接收到指令時，該馬達3143係帶動該皮帶輪3141樞轉，藉由該皮帶輪3141帶動該皮帶3142移動，使固定於該皮帶3142上的該定位機構312沿著該軌道部313所界定的路徑(第一方向D1)上移動，藉此帶動該第一遮板311。

所述的第二調整機構32與第一調整機構31的結構大致相同，主要係具有一或複數個固定該第二遮板321的定位機構322，一設置於該定位機構322一側以限制該定位機構322沿一路徑(第二方向D2)移動的軌道部323，以及一設置於該軌道部323一側以帶動該定位機構322沿該路徑移動的驅動裝置324。該軌道部323係成對設置於該第二遮板321的二側，該定位機構322 係具有二分設於二該軌道部323上的定位塊3221，以及一設置於成對的該定位塊3221間並鎖固該第二遮板321的固定板3222。該驅動裝置324包含有至少二個以上的皮帶輪3241，一繞設於該皮帶輪3241上並供該定位機構322一端固定的皮帶3242，以及一帶動該皮帶輪3241樞轉的馬達3243。於該馬達3243接收到指令時，該馬達3243係帶動該皮帶輪3241樞轉，藉由該皮帶輪3241帶動該皮帶3242移動，使固定於該皮帶3242上的該定位機構322沿著該軌道部323所界定的路徑(第二方向D2)上移動，藉此帶動該第二遮板321。

所述的可調整模組30可連接至可程式邏輯控制器(programmable logic controller,PLC)，藉由人機介面(Man-Machine Interface)輸入料片的尺寸，控制該第一遮板311及第二遮板321的行程以決定該料片吸附區域的面積。於另一較佳實施例中，所述的料片吸附區域的面積亦可藉由手動方式對應不同尺寸的料片進行調整。

具體而言，有關於基於料片尺寸自動調整料片吸附區域面積的技術，以下係舉一具體情況進行說明，請參閱「圖5-1」至「圖5-2」、「圖6-1」至「圖6-2」所示。於本實施態樣中，所述的第一遮板311係可藉由第一調整機構31控制，沿Y軸方向移動。所述的第二遮板321係可藉由第二調整機構32控制，沿X軸方向移動。其移動的方向及距離可藉由驅動裝置314、324控制，所述的移動方向及距離可藉由以下演算式進行計算。請先參閱「圖 5-1」至「圖5-2」，設定吸附載台10右下角的位置為原點Q(0,0)，所述的原點Q(0,0)係為相對於機械原點的相對原點。以該相對原點Q(0,0)取得第二遮板321於X軸方向的位置X1，並取得第一遮板311於Y軸方向的位置Y1，藉此取得起始位置座標O1(X1,Y1)。接續，藉由人機介面輸入所欲設置的料片尺寸，例如長度為Lo1、寬度為Wi1，藉由可程式邏輯控制器計算，將起始位置座標O1減去料片尺寸參數(長度Lo1，寬度Wi1)，得到調整向量參數M(X1-Lo1,Y1-Wi1)。如「圖5-1」所示，所取得的調整向量數值X1-Lo1<0時，控制該第二遮板321朝圖式中的右側方向移動|X1-Lo1|的距離，所取得的調整向量參數Y1-Wi1>0時，控制該第一遮板311朝圖式中的下方方向移動|Y1-Wi1|的距離。於調整至定位時，於圖式中所表示，未被第一遮板311及第二遮板321所遮蔽的平面區域即為所述的料片吸附區域R1(如「圖5-2」所示)。

以下再舉另一具體情況進行說明，請參閱「圖6-1」至「圖6-2」。藉由人機介面輸入所欲設置的料片尺寸，例如長度為Lo2、寬度為Wi2，藉由可程式邏輯控制器計算，將起始位置座標O2(X2,Y2)減去料片尺寸參數(長度Lo2，寬度Wi2)，得到調整向量參數N(X2-Lo2,Y2-Wi2)。所取得的調整向量數值X2-Lo2>0時，控制該第二遮板321朝圖式中的左側方向移動|X2-Lo2|的距離。所取得的調整向量參數Y2-Wi2<0時控制該第一遮板311朝圖式中的上方方向移動|Y2-Wi2|的距離。於調整至定位時，於圖式中所表示，未被第一遮板311及第二遮板321所遮蔽的平面區 域即為所述的料片吸附區域R2。

請參閱「圖7」及「圖8」，係本發明第一實施態樣的上側示意圖及側面示意圖，如圖所示：於本實施態樣中，所述的真空吸平裝置100係可配置於一料片檢測設備200上，用以吸附並整平料片P，以供影像擷取裝置50對該料片P取像藉以對該料片P的表面進行檢測。所述的料片檢測設備200主要係包含有一輸料履帶40，一影像擷取裝置50，以及前述的真空吸平裝置100。

所述的輸料履帶40係供該料片P擺設並將該料片P沿一傳送路徑A1移動。該真空吸平裝置100係設置於該輸料履帶40的下側，該影像擷取裝置50則設置於該輸料履帶40的上側(該輸料履帶40相對該真空吸平裝置100的另一側)，藉由該真空吸平裝置100決定一對應於該輸料履帶40表面的取像區域B，所述的影像擷取裝置50係對設置於該取像區域B的上方或一側，藉以拍攝該取像區域B上經整平後的料片P的表面影像。

該輸料履帶40係具有一設置於該輸料履帶40一或兩側帶動該輸料履帶40前進的轉動輥41，並於該輸料履帶40的表面上係佈設有複數個導風孔42。該轉動輥41係具有一供該輸料履帶40繞設的滾輪411，一設置於該滾輪411中以帶動該滾輪411旋轉的樞軸412，以及一設置於該樞軸412一側以帶動該樞軸412旋轉的驅動裝置413。在此所述的驅動裝置413係可為同步馬達(synchronous motor)、感應馬達(induction motor)、可逆馬達 (reversible motor)、步進馬達(stepping motor)、伺服馬達(servo motor)、線性馬達(linear motor)等，於本發明中並不欲予以限制所述驅動裝置的種類。

所述的真空吸平裝置100係設置於該輸料履帶40相對該取像區域B的另一側。於前側加工設備所取得的料片P將透過移載設備或作業員送至該輸料履帶40上，並藉由該輸料履帶40沿該傳送路徑A1輸送，藉以將該料片P移動至該取像區域B。當該料片P移動至該取像區域B時，所述的真空吸平裝置100將啟動並藉由複數個吸孔H將該料片P整平於該取像區域B上，使該料片P的表面趨於平整，以利另一側的該影像擷取裝置50拍攝取像。

於檢測完成後，於輸料履帶40的另一端可設有一移載裝置(圖未示)，將經檢測過後的料片P進行分類。例如將料片P移載至OK類別、可修補類別、NG類別等。

請一併參閱「圖9」，係表示輸料履帶的局部放大示意圖，如圖所示：為避免輸料履帶40於移動時，因組裝、製程、或長期使用產生公差的問題，導致導風孔42與吸孔H未能重合，本實施態樣中所述吸孔H的面積係大於該導風孔42的面積。於另一較佳實施例中，為避免導風孔42與導風孔42間的間隙與該吸孔H重疊，導致吸孔H堵塞，所述的吸孔H二側係沿該傳送路徑A1的方向延伸而略呈狹長型，藉此縮短吸孔H至吸孔H間的間隙。 所述的吸孔H相互間中心位置的間距係等於該導風孔42相互間中心位置的間距，使同一面積範圍內的每一導風孔42均能對應至一吸孔H。

請一併參閱「圖10」及「圖11」，係本發明第二實施態樣的上側及側面示意圖，如圖所示：於本實施態樣中，所述的真空吸平裝置100係可配置於一料片移載設備300上。所述的料片移載設備300包含有一機座60、一或複數個連接臂61、一設置於該機座60上的驅動裝置62、以及前述的真空吸平裝置100。該連接臂61係藉由一樞轉手段、一多軸移動手段或一水平移動手段結合於該機座60上。所述的真空吸平裝置100係設置於該連接臂61上，用以吸附該料片，於吸附該料片時，經由該樞轉手段、多軸移動手段或水平移動手段，該驅動裝置62係可帶動該連接臂61將該料片沿該傳送路徑A2移載至目標位置。

上述的樞轉手段可為但不限定為例如用以固定連接臂並藉由驅動裝置帶動樞轉的樞軸。上述的多軸移動手段可為但不限定為例如多軸機械臂。上述的水平移動手段可為但不限定為例如具有軌道的皮帶輪、或傳送帶等。

於本實施態樣中，所述的連接臂61上係設置有氣流通道64。於機座60上係設置有一連接至該氣流通道64的抽真空裝置63，用以連接至該真空吸平裝置100上的真空吸引單元21，藉以透過該氣流通道64對該真空吸平裝置100的吸附載台10提 供負壓。於另一較佳實施態樣中，可透過外接的管線連接該真空吸引單元21及機座60上的抽真空裝置63。藉此，可將料片由第一位置移動至第二位置。

於本實施態樣中，係藉由樞軸65連接連接臂61及機座60。所述的驅動裝置62係設置於該樞軸65的一側。當驅動裝置62啟動時，該驅動裝置62係透過該樞軸65帶動該連接臂61以該樞軸65為中心翻轉，以控制該連接臂61沿傳送路徑A2移動，其中，所述的真空吸平裝置100係設置於該連接臂61上，用以吸附該料片使該料片固定於該真空吸平裝置100上。於該料片經由該傳送路徑A2移載至目標位置時，該抽真空裝置63係可關閉氣閥以解除該料片的吸附狀態。

綜上所述，本發明藉由可調整模組，可彈性控制料片吸附區域的面積，可對應不同尺寸的料片進行調整，省去客製化遮蔽治具產生的不便。本發明的吸附載台上的吸孔係大於該輸料履帶上導風孔，且該吸孔呈狹長型的設計，使吸孔得以與該導風孔相互重合。

本發明已藉上述較佳具體例進行更詳細說明，惟本發明並不限定於上述所舉例之實施態樣，凡在本發明所揭示之技術思想範圍內，對該等結構作各種變化及修飾，該等變化及修飾仍屬本發明之範圍。

Claims (13)

1. 一種真空吸平裝置，係用以吸附並整平料片，該真空吸平裝置包含：一吸附載台，具有一真空吸附平面，以及複數個設置於該真空吸附平面上的吸孔；一真空氣室，係設置於該吸附載台相對該真空吸附平面的另一側，該真空氣室具有一相鄰於該吸附載台的吸孔一側的氣體導流面，以及一或複數個對該氣體導流面提供負壓的真空吸引單元；以及一可調整模組，具有設置於該真空吸附平面或設置於該氣體導流面一側的第一遮板及第二遮板，該第一遮板可藉由第一調整機構之驅動裝置調整並經界定的路徑沿第一方向移動，該第二遮板可藉由第二調整機構之驅動裝置調整並經界定的路徑沿第二方向移動，遮蔽該真空吸附平面上的部份吸孔，該可調整模組係依據該料片尺寸控制該第一遮板以及該第二遮板的行程以界定一料片吸附區域的面積。
2. 如申請專利範圍第1項所述的真空吸平裝置，其中該第一遮板及該第二遮板係分別相對地設置於該吸附載台的該真空吸附平面及該氣體導流面的一側。
3. 如申請專利範圍第1項所述的真空吸平裝置，其中該第一調整機構係具有一或複數個固定該第一遮板的定位機構，一設置於該定位機構一側以限制該定位機構沿一路徑移動的軌道部，以 及一設置於該軌道部一側以帶動該定位機構沿該路徑移動的驅動裝置。
4. 如申請專利範圍第3項所述的真空吸平裝置，其中該軌道部係成對設置於該第一遮板的兩側，該定位機構具有分設於二該軌道上的定位塊，以及一設置於成對的該定位塊間並鎖固該第一遮板的固定板。
5. 如申請專利範圍第1項所述的真空吸平裝置，其中，該第二調整機構係具有一或複數個固定該第二遮板的定位機構，一設置於該定位機構一側以限制該定位機構沿一路徑移動的軌道部，以及一設置於該軌道部一側以帶動該定位機構沿該路徑移動的驅動裝置。
6. 如申請專利範圍第5項所述的真空吸平裝置，其中該軌道部係成對設置於該第二遮板的兩側，該定位機構係具有設於二該軌道上的定位塊，以及一設置於成對的該定位塊間並鎖固該第二遮板的固定板。
7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的真空吸平裝置，其中該驅動裝置具有至少二個以上的皮帶輪，一繞設於該皮帶輪上並供該定位機構一端固定的皮帶，以及一帶動該皮帶輪樞轉的馬達。
8. 如申請專利範圍第1項所述的真空吸平裝置，其中該吸孔相互間係呈等間隔排列。
9. 如申請專利範圍第1項所述的真空吸平裝置，其中該吸孔的係 由二側延伸而略呈狹長型。
10. 一種料片檢測設備，係配置有如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的真空吸平裝置，該料片檢測設備包含：一輸料履帶，供該料片沿一傳送路徑移動，該輸料履帶具有一設置於該輸料履帶一或二側，帶動該輸料履帶前進的轉動輥，以及複數個佈設於該輸料履帶表面上的導風孔；以及一影像擷取裝置，係設置於該輸料履帶的一側，用以拍攝一取像區域上的該料片；其中所述的真空吸平裝置係設置於該輸料履帶相對該影像擷取裝置的另一側，於該料片透過輸料履帶移動至該取像區域時，該真空吸平裝置係吸平該料片以供另一側的該影像擷取裝置拍攝。
11. 如申請專利範圍第10項所述的真空吸平裝置，其中該轉動輥係具有一供該輸料履帶繞設的滾輪，一設置於該滾輪中以帶動該滾輪旋轉的樞軸，以及一設置於該樞軸一側以帶動該樞軸旋轉的驅動裝置。
12. 如申請專利範圍第10項所述的真空吸平裝置，其中該吸孔的面積係大於該導風孔的面積。
13. 一種料片移載設備，係配置有如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的真空吸平裝置，該料片移載設備包含：一機座；一或複數個連接臂，係藉由一樞轉手段、一多軸移動手段或一 水平移動手段結合於該機座上；以及一驅動裝置，連接於該樞轉手段、該多軸移動手段或該水平移動手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動；其中，所述的真空吸平裝置係設置於該連接臂上，用以吸附該料片，該驅動裝置係帶動該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標位置。