TWM449343U

TWM449343U - 真空吸平裝置

Info

Publication number: TWM449343U
Application number: TW101219736U
Authority: TW
Inventors: Hung-Ju Tsai; Jen-Chieh Wang; Ching-Wen Chen; Wen-Chih Yu; Wen-Cheng Chang; Kevin Chang
Original assignee: Utechzone Co Ltd
Priority date: 2012-10-12
Filing date: 2012-10-12
Publication date: 2013-03-21
Also published as: JP3180722U

Description

真空吸平裝置

本創作是一種真空吸平裝置，特別是一種使吸力集中之真空吸平裝置。

在自動視覺檢測裝置之習知技術中，如欲對料片作檢測時，係將料片裝設於載台上，並藉由抽氣元件之抽氣，使料片透過載台上之複數個吸孔之吸持而吸附於載台上。

然，料片之材質並非單一，對於某些特殊材質之料片，其經由吸孔吸持後，於料片之邊緣將產生翹曲之問題，基此，當此翹曲之料片進行檢測時，其所拍攝之料片影像將產生模糊的情形，而無法進行有效檢測。

此外，當料片為軟性印刷電路板(Flexible Printed Circuit,FPC)時，其料片之特性為又薄又軟，並且具有不測則之外型。再者，各料片依客戶不同需求，亦會增加電子零件黏焊於其上，因此在作業時，亦需要真空載台之吸持來做料片吸平。惟習知技術中之載台多為複數個吸孔之設計，其吸力容易分散，亦容易發生無法完全吸平之現象。

因此，如何改良真空吸平裝置之設計，使其可增進料片真空吸平之有效性，解決習知容易發生料片邊緣翹曲之問題，以及針對不同之料片而能輕易更換料片治具，係為本案之創作人以及從事此相關行業之技術領域者亟欲改善的課題。

有鑑於此，本創作提出一種真空吸平裝置，係用於平整料片，包含：氣室，包含氣體導流面及真空吸引單元；載台，包含複數第一吸孔，其中載台設置於氣室上而相鄰於氣體導流面，且第一吸孔連通於氣體導流面；及遮蔽治具，包含承載區，其中遮蔽治具設置於載台上，承載區係對應料片之面積設置，而用以承載料片。

其中，遮蔽治具遮蔽一部分之第一吸孔，承載區包含複數第二吸孔，第二吸孔係對應於另一部份之第一吸孔而連通於氣體導流面，真空吸引單元對氣體導流面抽氣，而吸持承載區上之料片。

再者，氣體導流面更包含通孔，連通於真空吸引單元。並且遮蔽治具係玻璃纖維。此外，本創作更包含定位件，用以穿設遮蔽治具而定位遮蔽治具於載台上。基此，定位件係可拆卸地定位於載台上。

以下在實施方式中詳細敘述本創作之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟悉相關技藝者瞭解本創作之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易地理解本創作相關之目的及優點。

請參閱第1圖所示，第1圖為本創作真空吸平裝置之示意圖。本創作之真空吸平裝置包含有氣室10、載台20及遮蔽治具30。

請參閱第2圖及第3圖所示，第2圖為本創作氣室之俯視圖，第3圖為本創作氣室之側視圖。氣室10為概呈矩形之立方體結構，其係具有氣體導流面11及真空吸引單元12。其中，氣室10係為能夠承受氣壓低於外界大氣壓力之腔室，在此並不限定氣室10必須是處於完全真空的狀態，真空吸引單元12較佳地係為真空泵(Vacuum Pump)。

以本創作之氣室10而言，其氣體導流面11係位於氣室10之外側，而真空吸引單元12則位於氣室11內，惟以本創作而言，真空吸引單元12係連接於氣體導流面11之另一面。基此，氣體導流面11連通於真空吸引單元12，當真空吸引單元12作動抽氣時，直接連通對氣體導流面11之氣體抽氣。此外，氣體導流面11係具有導流槽13，導流槽13之設置係呈相互平行排列，並且相互連通，當真空吸引單元12抽氣時，氣體即延著導流槽13流動。惟前述導流槽13之排列設置僅為舉例，本創作並非以此為限。

請參閱第4圖所示，第4圖為本創作載台之示意圖。載台20為概呈矩形之平板結構，其係具有厚度之平板，並且對應氣室10而約略與氣室10呈相同形狀。載台20係設置於氣室10上而覆蓋氣體導流面11。此外，載台20係具有複數個第一吸孔21，當載台20設置於氣室10上而覆蓋氣體導流面11時，第一吸孔21係與氣體導流面11相連通。再者，第一吸孔21係平均分佈於載台20上，以本創作而言，第一吸孔21之分佈方式較佳地係呈間隔排列，但本創作並非以此為限。

請參閱第5圖所示，第5圖為本創作遮蔽治具之示意圖。遮蔽治具30概呈矩形之平板結構，其係一薄面平板，並且對應於載台20而約略與載台20呈相同形狀。遮蔽治具30係設置於載台20上，基此，本創作更具有固定件40，其較佳地係可為一螺絲，但本創作並非以此為限。其中，固定件40較佳地係為複數個，以本創作而言，固定件40係為二個，於遮蔽治具30之一邊緣處，穿設過遮蔽治具30而定位遮蔽治具30於載台20上。基此，固定件40係可拆卸地位於載台20上，因此，當需要更換遮蔽治具30時，僅需拆卸固定件40即可更換遮蔽治具30。此外，遮蔽治具30較佳地係可由玻璃纖維所製成，使其擁有較佳之服貼性，但本創作並非以此為限。

再者，遮蔽治具30更具有承載區31，承載區31之設置範圍係依據料片50之面積大小而對應設置，透過承載區31而用以承載料片50。基此，承載區31更具有複數第二吸孔32，當遮蔽治具30設置於載台20上時，遮蔽治具30未設有承載區31之區域係遮蔽一部分之第一吸孔21，承載區31之第二吸孔32係對應於另一部份之第一吸孔21而連通於氣體導流面11。此外，第二吸孔32之孔徑係大於第一吸孔21之孔徑，並且，本創作第二吸孔32之數量並非等同於另一部份之第一吸孔21之數量，其第二吸孔32之數量係略少於另一部份之第一吸孔21之數量，惟此處僅為舉例，孔徑大小與第二吸孔32之數量皆可視使用者之需求而設置，其第二吸孔32之數量亦可等同於另一部份之第一吸孔21之數量。

再請參閱第1圖及第6圖所示，第6圖為本創作真空吸平裝置之俯視圖。當使用本創作之真空吸平裝置時，遮蔽治具30係先依據料片50之面積大小，決定遮蔽治具30上之承載區31範圍。設計好承載區31範圍後，遮蔽治具30即可透過固定件40穿設過遮蔽治具30，而可拆卸地定位遮蔽治具30於載台20上，當料片50更換而其面積變更時，遮蔽治具30即可拆卸更換。

請參閱第7圖所示，第7圖為本創作遮蔽治具與載台之局部剖面圖。如前所述，本創作之遮蔽治具30，其第二吸孔32之數量係略少於另一部份之第一吸孔21之數量，因此，當遮蔽治具30設置於載台20上時，每一個第二吸孔32僅對應另一部份之第一吸孔21之其中之一。因此，本創作之遮蔽治具30，其承載區31亦具有複數連通槽33，連通槽33係位於遮蔽治具30與載台20相接觸之一面，並且，每一連通槽33係對應於另一部份之第一吸孔21，使得另一部份之第一吸孔21透過連通槽33而連通於第二吸孔32。基此，當真空吸引單元12抽氣時，除與第二吸孔32對應之另一部份之第一吸孔21係相互連通外，其餘未與第二吸孔32對應之另一部份之第一吸孔21，亦透過連通槽33而連通於第二吸孔32。

當遮蔽治具30設置於載台20上時，遮蔽治具30未設有承載區31之區域，即遮蔽載台20一部分之第一吸孔21，承載區31之第二吸孔32則對應於另一部份之第一吸孔21而連通於氣體導流面11。基此，當氣室10之真空吸引單元12抽氣作動而對氣體導流面11抽氣時，第一吸孔21、第二吸孔32與氣體導流面11係相互連通，因此，當真空吸引單元12抽氣即可吸持承載區31上之料片50。此外，因遮蔽治具30之部份區域，亦即非承載區31之區域係遮蔽一部分之第一吸孔21，因此，真空吸引單元12之吸力將全部集中於承載區31，使得承載區31上之料片50更加強吸附於承載區31上。

本創作藉由遮蔽治具設置有對應料片大小之承載區，並遮蔽部份之第一吸孔，使真空吸引單元之吸力集中於承載區，使其增進料片真空吸平之有效性，解決習知容易發生料片邊緣翹曲之問題。並且本創作之遮蔽治具係為可拆卸元件，能針對不同之料片而能輕易更換遮蔽治具，解決習知技術因更換料片即要更換機台或載台之問題。

雖然本創作的技術內容已經以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本創作，任何熟習此技藝者，在不脫離本創作之精神所作些許之更動與潤飾，皆應涵蓋於本創作的範疇內，因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧氣室

11‧‧‧氣體導流面

12‧‧‧真空吸引單元

13‧‧‧通孔

14‧‧‧導流槽

20‧‧‧載台

21‧‧‧第一吸孔

30‧‧‧遮蔽治具

31‧‧‧承載區

32‧‧‧第二吸孔

33‧‧‧連通槽

40‧‧‧固定件

50‧‧‧料片

第1圖為本創作真空吸平裝置之示意圖。

第2圖為本創作氣室之俯視圖。

第3圖為本創作氣室之側視圖。

第4圖為本創作載台之示意圖。

第5圖為本創作遮蔽治具之示意圖。

第6圖為本創作真空吸平裝置之俯視圖。

第7圖為本創作遮蔽治具與載台之局部剖面圖

10‧‧‧氣室

11‧‧‧氣體導流面

20‧‧‧載台

30‧‧‧遮蔽治具

Claims

一種真空吸平裝置，係用於平整一料片，包含：一氣室，包含一氣體導流面及一真空吸引單元；一載台，包含複數第一吸孔，其中該載台設置於該氣室上而相鄰於該氣體導流面，且該些第一吸孔連通於該氣體導流面；及一遮蔽治具，包含一承載區，其中該遮蔽治具設置於該載台上，該承載區係對應該料片之一面積設置，而用以承載該料片；其中，該遮蔽治具遮蔽一部分之該些第一吸孔，該承載區包含複數第二吸孔，該些第二吸孔係對應於另一部份之該些第一吸孔而連通於該氣體導流面，該真空吸引單元對該氣體導流面抽氣，而吸持該承載區上之該料片。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該氣體導流面更包含一通孔，連通於該真空吸引單元。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該氣體導流面更包含一導流槽，用以流通一氣體。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該遮蔽治具係一玻璃纖維。
如請求項1所述之真空吸平裝置，更包含一定位件，用以穿設該遮蔽治具而定位該遮蔽治具於該載台上。
如請求項5所述之真空吸平裝置，其中該定位件係可拆卸地定位於該載台上。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該些第一吸孔係呈一間隔排列。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該些第二吸孔之孔徑大於該些第一吸孔之孔徑。
一種真空吸平裝置，係用於平整一料片，包含：一氣室，包含一氣體導流面及一真空吸引單元；一載台，包含複數第一吸孔，其中該載台設置於該氣室上而相鄰於該氣體導流面，且該些第一吸孔連通於該氣體導流面；及一遮蔽治具，包含一承載區，其中該遮蔽治具設置於該載台上，該承載區係對應該料片之一面積設置，而用以承載該料片；其中，該遮蔽治具遮蔽一部分之該些第一吸孔，該承載區包含複數第二吸孔及複數連通槽，該些連通槽位於該遮蔽治具與該載台接觸之一面，且對應於另一部份之該些第一吸孔而連通另一部份之該些第一吸孔與該些第二吸孔，並且每一該第二吸孔分別對應另一部份之該些第一吸孔之其中之一，該真空吸引單元對該氣體導流面抽氣，而吸持該承載區上之該料片。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該氣體導流面更包含一通孔，連通於該真空吸引單元。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該氣體導流面更包含一導流槽，用以流通一氣體。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該遮蔽治具係一玻璃纖維。
如請求項1所述之真空吸平裝置，更包含一定位件，用以穿設該遮蔽治具而定位該遮蔽治具於該載台上。
如請求項13所述之真空吸平裝置，其中該定位件係可拆卸地定位於該載台上。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該些第一吸孔係呈一間隔排列。
如請求項1所述之真空吸平裝置，其中該些第二吸孔之孔徑大於該些第一吸孔之孔徑。