TWI614374B - 容器用鋼板 - Google Patents

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Abstract

一種容器用鋼板，其具備：鋼板；位於前述鋼板之至少單面之Ni鍍層，其附著量以金屬Ni量計每單面為0.3~3g/m 2；以及位於前述Ni鍍層上之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜；且前述Ni鍍層含有以金屬Zn量計每單面為0.1~20質量%之ZnO粒子。

Description

容器用鋼板
發明領域 本揭示是有關容器用鋼板。
發明背景 用於容器之素材有時會使用鍍敷鋼板(參照例如專利文獻1~8)。而且，使用鍍敷鋼板之容器可舉出例如：2片罐及3片罐。
所謂2片罐是指罐底與罐身部成一體的罐體，已知有DrD(Draw and Redraw)罐、DI(Drawing and Ironing)罐等。2片罐是藉由沖壓加工、引縮加工、彎曲折回加工、或者，組合該些加工而成形。用於上述罐體的鍍敷鋼板可舉出例如馬口鐵(鍍Sn鋼板)及TFS(Tin Free Steel：電解鉻酸鹽處理鋼板)，且依用途及加工方法來區分使用鍍敷鋼板。
3片罐是罐身部與底部個別形成的罐體。且，3片罐之主流是以電阻熔接進行罐身部之製造的熔接罐。熔接罐之底板是使用TFS，而熔接罐之罐身材則是使用薄鍍Sn鋼板及鍍Ni鋼板。
專利文獻1：日本專利特開第2000-263696號公報 專利文獻2：日本專利特開2000-334886號公報 專利文獻3：日本專利特許第3060073號公報 專利文獻4：日本專利特許第2998043號公報 專利文獻5：日本專利特開第2007-231394號公報 專利文獻6：日本專利特開第2000-26992號公報 專利文獻7：日本專利特開第2005-149735號公報 專利文獻8：日本專利特許第4886811號公報
發明概要 發明欲解決之課題 對於如上所述之2片罐及3片罐，會在罐外面施以印刷，以對消費者展示商品價值。又，為了確保耐蝕性，會在罐內面塗佈樹脂。 習知之2片罐是在進行罐體之成形後，以噴霧器等於罐內面側施行塗裝，並在罐外面側施行曲面印刷。然而，近年來，由事先積層有PET薄膜之積層鋼板所製罐的積層2片罐正在興起(參照例如專利文獻1、及專利文獻2)。 又，對於熔接罐，以往也是將罐內面實施有塗裝，且罐外面實施有印刷之鋼板熔接，藉此製造罐體。然而，近年來，取代塗裝而會準備經事先實施印刷之PET薄膜，並使用經積層該PET薄膜之積層鋼板的3片罐也正在興起(參照例如以下之專利文獻3、及專利文獻4)。
對上述2片罐會施行沖壓加工、引縮加工、以及彎曲折回加工等。又，對3片罐會施行頸縮加工、凸緣加工，且視情況會為了設計性而施行延展加工。因此，對於積層鋼板，會要求可順應該些加工之優異薄膜密著性。藉由Sn之優異的犧牲性防蝕作用，即便是酸性內容物的情況下，鍍Sn鋼板仍具有優異的耐蝕性。然而，由於鍍Sn鋼板之最表層存在有脆弱的Sn氧化物，因此薄膜密著性是不穩定的。而且，鍍Sn鋼板在加工上述之罐時，1)會發生薄膜自鍍Sn鋼板剝離的情況、以及，2)會有因薄膜密著不充分而成為腐蝕發生起點的情況。
因此，加工性及薄膜密著性優異、且可熔接之鍍Ni鋼板便被作為積層鋼板來使用(參照例如上述專利文獻5)。鍍Ni鋼板之外觀雖然沒有如鍍Sn鋼板的光澤，但也有報告指出根據Ni鍍敷方法的不同也能夠進行光澤電鍍(參照例如上述專利文獻6、及專利文獻7。)。
又，在將魚肉、青菜、豆類等食品充填至所製造之罐體內部時，該些食品中所含之蛋白質會在加熱殺菌處理(例如，甑餾(retort)處理)步驟中局部分解，而生成S成分。並且，已知生成之S成分會與Ni結合而形成黑色的NiS(硫化黑變)，而有使罐之內面品位劣化的情況。因此，會不斷地要求進一步提升鍍Ni鋼板之抗硫化黑變性。
於是，本揭示是有鑑於上述問題而作成者，本揭示之目的在於提供兼具更優異之抗硫化黑變性、耐蝕性、密著性、及熔接性的容器用鋼板。
用以解決課題之手段 用以解決上述課題之手段包含以下態樣。 (1)容器用鋼板，其具備：鋼板；位於前述鋼板之至少單面之Ni鍍層，其附著量以金屬Ni量計每單面為0.3~3g/m 2；以及位於前述Ni鍍層上之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜；且前述Ni鍍層含有以金屬Zn量計每單面為0.1~20質量%之ZnO粒子。 (2)如(1)之容器用鋼板，其中前述Ni鍍敷層含有以金屬Zn量計每單面為0.5~15質量%之ZnO粒子。 (3)如(1)或(2)之容器用鋼板，其中前述鉻酸鹽皮膜含有以金屬Cr量計每單面為1~40mg/m 2的Cr。 (4)如(1)或(2)之容器用鋼板，其中前述Zr皮膜含有以金屬Zr量計每單面為1~40mg/m 2的Zr。
發明效果 根據本揭示，可提供一種兼具更優異之抗硫化黑變性、耐蝕性、密著性、及熔接性的容器用鋼板。
用以實施發明之形態 本說明書中，使用「~」來表示之數值範圍意指包含「~」之前後所記載的數值，以作為下限值及上限值之範圍。 本說明書中，用語「步驟」不只是獨立的步驟，即便在無法與其他步驟明確區別時，只要有達成該步驟所期望的目的，就包含於本用語。 本說明書中，用語「鋼板」意指施行Ni鍍層、鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜前的鋼板。再者，於以下說明中，會有將施行Ni鍍層、鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜前的鋼板稱為「鍍敷原板」的情況。 本說明書中，「容器用鋼板」意指經施行Ni鍍層、鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜後的鋼板。 本說明中，當只稱為密著性時，用語「密著性」意指包含塗料密著性、二次塗料密著性、以及薄膜密著性的密著性。
以下，詳細說明本揭示之容器用鋼板之較佳實施形態的一例。
本揭示之容器用鋼板是抗硫化黑變性、耐蝕性、密著性、以及熔接性優異的容器用鋼板。並且，本揭示之容器用鋼板可使用於例如：2片罐及3片罐。以下，詳細說明本揭示之容器用鋼板。
在將經施行Ni鍍敷之鍍Ni鋼板應用於飲料罐用途時，使罐之內面品位劣化的情況少，而具有充分之抗硫化黑變性。然而，在應用於將前述食品作為內容物充填的食品罐用途時，會要求更進一步提升抗硫化黑變性。 本發明人等為了對應上述課題而進行了精闢研討。其結果，本發明人等得到了藉由使ZnO粒子往Ni鍍層中分散及含有，即可防止硫化黑變的見解。
ZnO粒子是可將硫化黑變之原因即S捕捉為ZnS的粒子。然而，卻沒有可在習知作為容器用鋼板使用的鋼板上形成非常薄的Ni鍍層時，使絕緣物質即微小的ZnO粒子含有於Ni鍍層之技術。 再者，也可使ZnO粒子含有於Ni鍍層上之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜。然而，由於該些皮膜之膜厚比ZnO粒子之平均粒徑小，故ZnO粒子多會由該些皮膜露出。因此，要含有於該些皮膜在現實中是有困難的。 根據如此見解，進行了更進一步的研討。其結果，本發明人等發現藉由控制Ni鍍層中之ZnO粒子含有率，便可在不損害Ni鍍敷所具有之耐蝕性、密著性、及熔接性的情況下，提升抗硫化黑變性。
(關於鍍敷原板) 本揭示之容器用鋼板中，作為母材使用之鍍敷原板的鋼板並無特別限定。作為鍍敷原板使用之鋼板，可使用由一般之鋼片製造步驟，經一般之鋼板製造步驟(熱軋延、酸洗、冷軋延、退火、調質軋延等)而製造之公知的各種鋼板。
(關於Ni鍍層) 本揭示之容器用鋼板是對上述鍍敷原板之單面或兩面，施行含ZnO粒子之Ni鍍敷，形成Ni鍍層，以實現更優異的抗硫化黑變性、耐蝕性、密著性以及熔接性。Ni是同時具有耐蝕性、密著性、及熔接性的金屬。而且，經施行於鍍敷原板之鋼板的Ni鍍層，其Ni鍍敷量為每單面的金屬Ni量為0.3g/m 2以上，藉此便會發揮實用之耐蝕性、密著性以及熔接性。若更進一步增加Ni鍍敷量，則隨著Ni鍍敷量之增加，耐蝕性、密著性、及熔接性就會提升。另一方面，若Ni鍍敷量若超過每單面的金屬Ni量為3g/m 2，則提升耐蝕性、密著性、及熔接性的效果會飽和。因此，過剩之Ni鍍敷量在工業上是不利的。從而，要令Ni鍍敷量以每單面的金屬Ni量計為0.3g/m 2以上且3g/m 2以下。Ni鍍敷量以每單面的金屬Ni量計，宜在0.5g/m 2以上且在2.5g/m 2以下，更佳是在0.5g/m 2以上且在1.5g/m 2以下。又，金屬Ni量是表示金屬Ni換算量。
於該Ni鍍層中含有ZnO粒子，且ZnO粒子是以分散於Ni鍍層中的狀態存在。用於本揭示之容器用鋼板的ZnO粒子並無特別規定，可使用市售之公知ZnO粒子。如前述，Ni鍍層中之ZnO粒子會提升抗硫化黑變性。以Ni鍍層之全質量為基準，ZnO粒子之含有率以每單面之金屬Zn量計為0.1質量%以上，即可實現該提升抗硫化黑變性之效果。另一方面，ZnO粒子為絕緣體，由此，當ZnO粒子之含有率變得過多時，會在進行電阻熔接時阻礙熔接性而發生熔接不良。在ZnO粒子之含有率以每單面的金屬Zn量計超過20質量%時，該熔接不良會變得顯著。因此，要令Ni鍍層中之ZnO粒子的含有率以每單面之金屬Zn量計為20質量%以下。Ni鍍層中之ZnO粒子的含有率以每單面的金屬Zn量計，宜為0.5質量%~15質量%，且以0.5質量%~7質量%更佳。又，金屬Zn量是表示金屬Zn換算量。
在此，Ni鍍層中所含有之ZnO粒子的大小(ZnO粒子之平均粒徑)並無特別規定。ZnO粒子的大小可較Ni鍍層之鍍敷厚度更大，亦可更小。然而，若ZnO粒子之大小超過Ni鍍層之鍍敷厚度，在搬送及加工時會有ZnO粒子剝離的情況。故，ZnO粒子之大小宜在Ni鍍層之鍍敷厚度以下，且設為鍍敷厚度之一半以下更佳。形成Ni鍍層時所使用之ZnO粒子的平均粒徑雖無特別限定，但可舉出例如20nm~200nm。又，ZnO粒子的平均粒徑是表示利用依據ISO13320及JIS Z8825-1(2001)之雷射繞射、散射法而得之粒子徑分布所算出的值。ZnO粒子之販售品可取得例如堺化學工業股份有限公司製的氧化鋅等。
賦予含有上述ZnO粒子的Ni鍍層之方法並無特別規定。例如，對公知之酸性Ni鍍液(例如，由硫酸Ni、氯化Ni所構成之酸性Ni鍍液)使用分散有ZnO粒子之溶液而進行陰極電解的方法，在工業上是有用的。此外，亦可對該溶液添加防止ZnO粒子之凝聚的分散劑。Ni鍍層所含之ZnO粒子的含有率可利用分散於溶液中之ZnO粒子之含有率來控制。一般而言，當溶液中之ZnO粒子的分散量變多時，會有Ni鍍層所含之ZnO粒子的含有率也變多的傾向。 再者，Ni鍍層中所含之ZnO粒子，以單獨之ZnO粒子接近均勻的狀態分散亦可。又，在不成為Ni鍍層之鍍敷厚度以上的範圍內，亦可有ZnO粒子之凝聚體分散。
(關於鉻酸鹽皮膜) 本揭示之容器用鋼板會在上述Ni鍍層的上層施行鉻酸鹽處理，形成鉻酸鹽皮膜，以確保優異耐蝕性及密著性(特別是二次塗料密著性)。藉由該鉻酸鹽處理可在Ni鍍層之上層賦予例如：1)含有水合氧化Cr之單層構造的鉻酸鹽皮膜，或者，2)在下層(Ni鍍層側的層)含有金屬Cr，並在上層(容器用鋼板表層側的層)含有水合氧化Cr之多層構造的鉻酸鹽皮膜。
構成鉻酸鹽皮膜之金屬Cr或水合氧化Cr具有優異化學穩定性。因此，容器用鋼板之耐蝕性會與鉻酸鹽皮膜量呈比例提升。又，水合氧化Cr會與塗膜之官能基進行穩固的化學結合，藉此即便在加熱水蒸氣環境氣體下仍會發揮優異密著性。 因此，鉻酸鹽皮膜之附著量變得越多，越會提升密著性。而，在實用面上，要發揮充分的耐蝕性及密著性，宜設置以金屬Cr換算量計每單面為1mg/m 2以上之鉻酸鹽皮膜。由於鉻酸鹽皮膜量的增加，提升耐蝕性及密著性之效果也會增加。另一方面，由於鉻酸鹽皮膜中之水合氧化Cr是電氣絕緣體，電阻非常高，故會成為使熔接性劣化的主要原因。鉻酸鹽皮膜量若以金屬Cr換算量計每單面超過40mg/m 2，則熔接性會極度劣化。因此，鉻酸鹽皮膜量宜設成以金屬Cr換算量計，每單面為40mg/m 2以下。鉻酸鹽皮膜之附著量更佳是以金屬Cr換算量計，每單面為3mg/m 2以上且20mg/m 2以下。
再者，鉻酸鹽處理方法並無特別規定。鉻酸鹽處理可舉出例如利用各種Cr酸鹽(鈉鹽、鉀鹽、及銨鹽等)的水溶液之處理方法。使用有上述各種之Cr酸鹽水溶液的鉻酸鹽處理，亦可利用任一種處理方法(浸漬處理、噴霧處理、電解處理等)來進行。鉻酸鹽處理是例如在添加有硫酸離子、氟化物離子(包含錯離子)或其等之混合物作為鍍敷助劑的水溶液中，對Cr酸施行陰極電解處理，其在工業上亦優。
(關於Zr皮膜) 本揭示之容器用鋼板亦可取代上述鉻酸鹽皮膜，而在上述Ni鍍層的上層形成含有鋯化合物之Zr皮膜。Zr皮膜是指含有Zr化合物(氧化Zr、磷酸Zr等)的皮膜。Zr皮膜因與上述鉻酸鹽皮膜機構相同，而可發現密著性及耐蝕性飛躍性地提升。在實用面上，要發揮充分之耐蝕性及密著性，宜令Zr皮膜量以金屬Zr量計每單面為1mg/m 2以上。另一方面，Zr皮膜是電氣絕緣體，電阻非常高，因此會成為使熔接性劣化的主要原因。若Zr皮膜量以金屬Zr量計每單面超過40mg/m 2，則如上述之熔接性的劣化會變得顯著，並且外觀性會劣化。因此，宜令Zr皮膜量以金屬Zr量計，每單面為40mg/m 2以下。且，Zr皮膜之附著量以金屬Zr量計，每單面為3mg/m 2以上且20mg/m 2以下更佳。再者，金屬Zr量是表示金屬Zr換算量。
又，賦予Zr皮膜的方法並無特別規定。只要使用例如在以氟酸為主成分的酸性溶液(氟化Zr、磷酸Zr等)中，進行浸漬或陰極電解處理的方法(參照例如上述專利文獻8)等即可。
(關於附著量等之測定方法) 而，以上所述之Ni鍍敷量、ZnO粒子含有率、鉻酸鹽皮膜量、及Zr皮膜量可以譬如利用螢光X射線進行之校準曲線法來測定。 針對例如Ni鍍敷量進行說明。首先，準備複數個所賦予之金屬Ni量為已知的試驗片。其次，針對各試驗片，事先利用螢光X射線裝置，由Ni鍍層之表面測定來自於Ni的螢光X射線強度。然後，預先準備顯示出所測定之螢光X射線強度與金屬Ni量之關係的校準曲線。並且，針對所著眼之容器用鋼板，除去容器用鋼板表面之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜，而準備露出有Ni鍍層的試驗片。在該露出有Ni鍍層之表面，以螢光X射線裝置測定來自於Ni之螢光X射線強度。利用所測得之螢光X射線強度及事先準備之校準曲線，即可特定出每單面之Ni鍍敷量以作為金屬Ni換算量。 ZnO粒子之含有率、鉻酸鹽皮膜量、及Zr皮膜量也能夠與上述說明之Ni鍍敷量作相同設定而測定。具體而言，測定來自於ZnO粒子的Zn、鉻酸鹽皮膜的Cr、及Zr皮膜的Zr之各金屬元素的螢光X射線強度後，利用上述校準曲線法，即可測定每單面之ZnO粒子含有率、以及每單面之鉻酸鹽皮膜量及Zr皮膜之皮膜量。 再者，ZnO粒子之含有率是與Ni鍍敷量之測定相同，在除去鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜後，於露出有Ni鍍層的表面，利用螢光X射線測定來自於Zn之X射線強度。又，鉻酸鹽皮膜量或Zr皮膜量是在其等皮膜表面，利用螢光X射線測定來自於Cr或Zr之X射線強度。
又，在事後測定上述ZnO粒子之平均粒徑(圓等效直徑)的情況下，可藉由截面SEM(Scanning Electron Microscope：掃描型電子顯微鏡)觀察或TEM(Transmission Electron Microscope：穿透型電子顯微鏡)觀察來測定。具體而言，可利用SEM裝置觀察經除去鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜而露出Ni鍍層的表面，並表示為觀察視野內所確認到的ZnO粒子之圓等效直徑的平均值。
再者，本揭示之容器用鋼板具有：鋼板；位於前述鋼板之至少單面的Ni鍍層，其附著量以Ni量計每單面為0.3~3g/m 2，且含有以Zn量計每單面為0.1~20質量%之ZnO粒子；以及，位於前述Ni鍍層上之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜；並且亦可依序具備鋼板、Ni鍍層、及鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜。 以上，已詳細說明本揭示之容器用鋼板。
〔實施例〕 接下來，針對本揭示之容器用鋼板的實施例加以闡述，以具體說明本揭示之容器用鋼板。又，以下所示之實施例僅為本揭示之容器用鋼板的一例，本揭示之容器用鋼板並不受限於下述例子。
以下，針對本揭示之容器用鋼板，利用以下(1)所示之方法製作試驗材，並針對(2)之(A)~(F)所示的各項目進行了性能評價。所得之結果顯示於以下之表1。
(1)試驗材製作方法 ‧鍍敷原板：使用板厚為0.2mm，調質度為3(T-3)之冷軋鋼板作為鍍敷原板。 ‧Ni鍍敷條件：準備含有濃度20%之硫酸Ni、濃度15%之氯化Ni、及濃度1%之硼酸，並調整為pH5.5的溶液。對該溶液添加以固體成分計為0.1~1%之平均粒徑20nm、60nm、120nm或200nm的ZnO粒子。利用上述溶液，以5A/dm 2的電流密度進行陰極電解，而在鍍敷原板即鋼板的兩面形成Ni鍍層。Ni附著量是藉由在0.1~10秒的範圍調整電解時間來進行控制。 再者，ZnO粒子是使用堺化學工業股份有限公司製之ZnO粒子。並且，上述ZnO粒子的平均粒徑是表示以依據ISO13320及JIS Z8825-1的雷射繞射、散射法而得之粒子徑分布所算出的值。
‧鉻酸鹽處理條件：在含有濃度10%之氧化Cr(VI)、濃度0.2%之硫酸、及濃度0.1%之氟化銨的溶液中，進行了電流密度為10A/dm 2的陰極電解。然後，水洗10秒鐘，藉此對形成有Ni鍍層之鋼板賦予鉻酸鹽皮膜。而，鉻酸鹽皮膜之附著量是藉由在0.1~10秒的範圍調整電解時間來進行控制。
‧Zr皮膜處理條件：在含有濃度5%之氟化Zr、濃度4%之磷酸、及濃度5%之氟酸的溶液中，進行電流密度為10A/dm 2的陰極電解，而對形成有Ni鍍層之鋼板賦予Zr皮膜。Zr皮膜之附著量是藉由在0.1~10秒的範圍調整電解時間來進行控制。
(2)試樣評估方法 (A)抗硫化黑變性 於以(1)所製作之試驗材塗佈70mg/dm 2的環氧-酚醛樹脂，並以200℃燒附30分鐘後，在0.6%的半胱胺酸鹽酸鹽溶液中，以130℃浸漬2小時(抗硫化黑變性1)。 此外，塗佈70mg/dm 2的環氧-酚醛樹脂並以上述條件燒附後，在0.6%的半胱胺酸鹽酸鹽溶液中，以130℃浸漬2小時，且進行2次該浸漬(抗硫化黑變性2)。 針對抗硫化黑變性1及抗硫化黑變性2，利用以下所示之4個等級來判斷黑變狀況，而評估抗硫化黑變性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：完全未確認到黑變 B：黑變部之面積率大於0%且在1%以下 C：黑變部之面積率大於1%且在5%以下 D：黑變部之面積率大於5%
(B)耐蝕性 於以(1)所製作之試驗材塗佈80mg/dm 2的環氧-酚醛樹脂，並以200℃燒附30分鐘後，施以深度達到基鐵的橫切。在由濃度1.5%的檸檬酸-濃度1.5%的食鹽混合液所構成之45℃的試驗液中，將該試驗材浸漬72小時。在試驗材之洗淨及乾燥後，使用黏著膠帶(商品名：Cellophane Tape(註冊商標))進行剝離，並觀察橫切部之塗膜下腐蝕狀況及平板部之腐蝕狀況。根據塗膜下腐蝕之寬度及平板部之腐蝕面積率的兩個評估，利用以下之4個等級進行判斷，而對耐蝕性進行了評估。又，以下之4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：塗膜下腐蝕寬度小於0.2mm且平板部之腐蝕面積率為0% B：塗膜下腐蝕寬度在0.2mm以上且小於0.3mm，並且平板部之腐蝕面積率大於0%且在1%以下 C：塗膜下腐蝕寬度在0.3mm以上且低於0.45mm，並且平板部之腐蝕面積率大於1%且在5%以下 D：塗膜下腐蝕寬度在0.45mm以上、或者平板部之腐蝕面積率大於5%
(C)加工性 於以(1)所製作之試驗材的兩面，以200℃積層厚度為20μm之PET薄膜，並將經積層之試驗材衝孔成直徑150mm。然後，以薄膜側為內面，進行沖壓加工及引縮加工之製罐加工，製得直徑為66mm、高度為120mm之DI罐。觀察薄膜之瑕疵、浮起、及剝離，並根據其等面積率以4個等級來評估加工性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：完全無薄膜之瑕疵、浮起、及剝離 B：薄膜之瑕疵、浮起、及剝離的面積率大於0%且在0.5%以下 C：薄膜之瑕疵、浮起、及剝離的面積率大於0.5%且在15%以下 D：薄膜之瑕疵、浮起、及剝離的面積率大於15%、或者破損斷裂而無法加工
(D)熔接性 使用金屬線縫焊機，在熔接金屬線速度為80m/分的條件下變更電流，來熔接以(1)所製作之試驗材。根據可獲得充分熔接強度的最小電流值、及熔接缺陷(散射及熔接濺鍍等)開始變明顯之最大電流值所構成的適當電流範圍廣度綜合性地判斷，並利用以下4個等級來評估熔接性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：二次側電流之適當電流範圍：1500A以上 B：二次側電流之適當電流範圍：800A以上且低於1500A C：二次側電流之適當電流範圍：100A以上且低於800A D：二次側電流之適當電流範圍：低於100A
(E)塗料密著性 於以(1)所製作之試驗材塗佈70mg/dm 2的環氧-酚醛樹脂，並在200℃、30分鐘的條件下燒附後，以1mm之間隔施以深度達到基鐵的橫切。然後，使用黏著膠帶(商品名：Cellophane Tape(註冊商標))剝離塗膜，並觀察剝離狀況。根據剝離面積率，利用以下4個等級來評估塗料密著性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：剝離面積率：0% B：剝離面積率：大於0%且在5%以下 C：剝離面積率：大於5%且在30%以下 D：剝離面積率：大於30%
(F)二次塗料密著性 於以(1)所製作之試驗材塗佈70mg/dm 2的環氧-酚醛樹脂，並在200℃、30分鐘的條件下燒附後，以1mm之間隔施以深度達到基鐵的橫切。然後，在125℃、30分鐘的條件下，進行以加熱水蒸氣環境氣體所進行之處理(甑餾處理)。在乾燥後，使用黏著膠帶(商品名：Cellophane Tape(註冊商標))剝離塗膜，並觀察剝離狀況。根據剝離面積率，利用以下4個等級來評估二次塗料密著性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：剝離面積率：0% B：剝離面積率：大於0%且在5%以下 C：剝離面積率：大於5%且在30%以下 D：剝離面積率：大於30%
(G)薄膜密著性 在以(1)所製作之試驗材的兩面，以200℃積層厚度為20μm之PET薄膜，並將經積層之試驗材沖孔成直徑150mm。然後，以薄膜側為內面進行沖壓引縮加工，製得直徑為66mm、高度為120mm之DI罐。接著，在125℃、30分鐘的條件下進行甑餾處理，並觀察薄膜之剝離狀況。根據剝離面積率，利用以下4個等級來評估薄膜密著性。又，以下4個等級的評估中，以評估「B」以上為合格。
A：剝離面積率：0% B：剝離面積率：大於0%且在2%以下 C：剝離面積率：大於2%且在10%以下 D：剝離面積率：大於10%
[表1]
Figure TWI614374BD00001
如同由上述表1可知，滿足本揭示範圍的實施例1~36，其等以抗硫化黑變性為首具有良好特性。
另一方面，可知未滿足本揭示範圍的比較例並未獲得良好特性。 比較例1及比較例12因Ni量不足，故耐蝕性劣化，而比較例2及比較例10因ZnO粒子含有率低，故抗硫化黑變性差。比較例3因ZnO粒子含有率高，而熔接性差。比較例4則是Ni量過多。又，比較例4因鉻酸鹽皮膜之金屬Cr量不足，故密著性差。比較例5未設置鉻酸鹽皮膜，因此密著性差。比較例6因ZnO粒子含有率過多，故熔接性及密著性差。比較例7未設置Zr皮膜，因此耐蝕性及密著性差。比較例8及比較例11因Ni量不足及ZnO粒子含有率低，故抗硫化黑變性、耐蝕性、熔接性、及密著性差。而，比較例9之Ni量過多。此外，比較例9由於Zr皮膜之金屬Zr量不足，故耐蝕性及密著性差。
在表1中，Ni量(作為金屬Ni量之量)、ZnO含有率(作為金屬Zn量之ZnO粒子的含有率)、鉻酸鹽皮膜量(作為金屬Cr量之量)、及Zr皮膜量(作為金屬Zr量之量)，是根據使用前述螢光X射線的方法來測定。又，其等之量是表示每單面的量。 表1中，附加底線之數值表示是在本揭示之容器用鋼板的範圍外。
以上，已詳細說明本揭示之容器用鋼板，惟本發明不受該等示例限定。且應當了解的是，只要是具有本揭示所屬技術領域之通識人士，即可在申請專利範圍中所記載之技術思想範疇內思及各種變更例或修正例，並知悉該等亦理當歸屬本揭示之技術範圍。
本說明書乃參照日本專利申請2016-103541之揭示整體並將其收錄於其中。 本說明書所記載之所有文獻、專利申請、以及技術規格，是與具體且分別記載已藉由參照各個文獻、專利申請、及技術規格而收錄之情況相同地，藉由參照而收錄於本說明書中。
無

Claims (4)

  1. 一種容器用鋼板，其具備： 鋼板； 位於前述鋼板之至少單面之Ni鍍層，其附著量以金屬Ni量計每單面為0.3~3g/m 2；以及 位於前述Ni鍍層上之鉻酸鹽皮膜或Zr皮膜；且 前述Ni鍍層含有以金屬Zn量計每單面為0.1~20質量%之ZnO粒子。
  2. 如請求項1之容器用鋼板，其中前述Ni鍍層含有以金屬Zn量計每單面為0.5~15質量%之ZnO粒子。
  3. 如請求項1或2之容器用鋼板，其中前述鉻酸鹽皮膜含有以金屬Cr量計每單面為1~40mg/m 2的Cr。
  4. 如請求項1或2之容器用鋼板，其中前述Zr皮膜含有以金屬Zr量計每單面為1~40mg/m 2的Zr。
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