TWI605731B - 具有雷射光束源及用來操縱雷射光束的光束導引裝置之極紫外光（ｅｕｖ）激光源 - Google Patents

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Description

具有雷射光束源及用來操縱雷射光束的光束導引裝置之極紫外光(EUV)激光源
本發明係有關於具有雷射光束源及用來操縱雷射光束的光束導引裝置之極紫外光(EUV)激光源，特別地，係有關於具有用來操縱至少一分離雷射光束的光束導引裝置之極紫外光(EUV)激光源。
用於產生極紫外光(EUV)輻射的裝置其藉由一雷射光束，例如，藉由二氧化碳(CO2)，激勵雷射線激包含，例如，氙、鋰或鋅的一靶材料，為了發射極紫外光輻射係為所熟知的。
文件WO 2011/162903顯示於一正確方式下的一激勵該靶材料的一雷射為了使用作為一極紫外光(EUV)激光源。為了改良該極紫外光之產生效率，首先，該靶材料之微滴係受所謂的預脈衝(“pre-pulse”)影響並，因而，該等微滴擴大，轉換為氣體，蒸發或轉換為弱電漿。然後，由該“預脈衝”製備的該靶材料係藉由一所謂的主脈衝(“main-pulse”)轉換成電漿並且其發射極紫外光。依不同的 例子來看，使用不同的雷射作為用於“預脈衝”及用於“主脈衝”的光源，然後，在一共同光束路徑上被引進一共同的放大器。
不同的雷射亦可發射具不同波長的光線，其中，當使用複數的雷射時，由於色差具不同波長的雷射光束係聚焦在該雷射光束之一軸上不同距離的焦點上。
本發明係基於該目的提供一極紫外光激光源使至少一雷射光束能夠經操縱以致在不同的位置處產生該雷射光束之不同的焦點。
本發明之目的係藉由申請專利範圍第1項之一極紫外光激光源而達成。本發明之進一步發展係為依附項申請專利範圍之主題內容。
藉由光束導引裝置及操作該雷射光束之至少其中之一的分離光束而於許多分離光束中劃分一雷射光束，能夠在一預定的位置處於一預定距離中分別地產生一雷射光束的複數焦點，其中該等預定的位置相對於該三空間座標可為不同的。藉此，就極紫外光輻射產生而言，對於“預脈衝”的一焦點(focus或focal point)可經調整以致其係與“主脈衝”的一焦點不同。因此，在第一位置處由該“預脈衝”製備的一靶材料能夠在第二理想位置處以其之由一開始方向、開始速度、重力及由該“預脈衝”所發生的偏斜而確定的軌道理想地經照射，為了針對發射該極紫外光撞擊及激勵該靶材料之微滴。
1‧‧‧極紫外光激光源
2‧‧‧光束分光器
3‧‧‧疊加鏡
4‧‧‧第一鏡
5‧‧‧第二鏡
6‧‧‧聚焦設備
7、8‧‧‧焦點
9、9’‧‧‧雷射光束源
10、10”‧‧‧雷射光束
10’、12’‧‧‧第一透射分離光束
10”、12”‧‧‧第二透射分離光束
11、13‧‧‧第一反射分離光束
11’、13’‧‧‧第二反射分離光束
11”、13”‧‧‧第三反射分離光束
11'''、13'''‧‧‧第四反射分離光束
12‧‧‧同心的雷射光束
14‧‧‧第一封閉空間
15‧‧‧第三鏡
16‧‧‧第四鏡
17‧‧‧第五鏡
18‧‧‧第六鏡
19‧‧‧第二封閉空間
20、21‧‧‧光學構件
22‧‧‧光束導引裝置
λ1‧‧‧第一波長
λ2‧‧‧第二波長
本發明係藉由參考該等附加圖式的具體實施例加以說明。
圖1顯示具有一光束導引裝置之一第一具體實施例的一極紫外光激光源之原理的一圖解，該光束導引裝置具有用於操縱一雷射光束源之一雷射光束的一反射分離光束的一平面鏡；圖2顯示具有用於操縱一分離雷射光束源之二雷射光束的該光束導引裝置之一第二具體實施例的該極紫外光激光源之原理的一圖解；圖3顯示具有該光束導引裝置之一第三具體實施例的該極紫外光激光源之原理的一圖解，該光束導引裝置具有一曲面鏡；圖4顯示具有該光束導引裝置之一第四具體實施例的該極紫外光激光源之原理的一圖解，其中該反射及一透射分離光束係經操縱；以及圖5顯示用於補償一極化誤差或是一相位偏移的一第五具體實施例的一光束導引裝置中一光束路徑之原理的一圖解。
圖1顯示具有用來操作雷射光束10的一光束導引裝置22的一極紫外光激光源1的一第一具體實施例。操縱意指雷射光束之方向的變化及/或擴散的變化。該光束導引裝置22包含一光束分光器2、一第一鏡4、一第二鏡5以及一疊 加鏡3。再者，於該光束導引裝置22中提供一透鏡作為一聚焦設備6。
於此具體實施例中，該光束分光器2係配置具有部分透明的塗層。藉此，照射在該光束分光器2上的雷射光束10係經劃分並產生一透射分離光束10’以及一反射分離光束11。該第一鏡4及該第二鏡5係經設計為平坦的或平滑的且其完全地反射入射的光線。該疊加鏡3係配置具有與該光束分光器2之塗層相符合的塗層。藉此，該疊加鏡3對於照射在該疊加鏡之一側邊上的雷射光束係以一透射方式作業以及對於照射在另一側邊上的雷射光束係以一反射方式作業。該聚焦設備6係經設計作為一透鏡並且其產生照射在該透鏡上之雷射光束10”、11'''的焦點7、8。該聚焦設備6可交替地經設計作為一反射鏡或是複數光學構件的一系統。
於可交替的具體實施例中，視幾何或光學規格而定，提供僅有一鏡子4或多於該二鏡子4、5。
透射構件，例如光束分光器2，該疊加鏡3及該聚焦設備6較佳地係以鑽石製成。藉此，可以確保的是該透射光束並未或僅稍微地受熱效應影響。可交替地，使用另一合適的材料。原則上，硒化鋅(ZnSe)係適合作為基板；然而，於此例子中，在該透射光束中一相當大的擴散變化係為可預期的。
為了產生雷射光束10，提供一雷射光束源9，例如，二氧化碳雷射(CO2-laser)。該雷射光束源9係由一控制 裝置(未顯示)所控制以致發射具有位於紅外光光譜中之一波長的雷射光束脈衝。該雷射光束源9特別地包含一種子雷射(seed-laser)及放大器平台。可交替地，如以下所說明，亦可提供複數種子雷射，該等雷射光束係在共同的放大器平台或，可交替地，在個別的放大器平台中放大。
該雷射光束10照射在該光束分光器2上，其係於該處劃分，並產生該第一透射分離光束10’及該第一反射分離光束11。該第一透射分離光束10’之強度與該第一反射分離光束11之強度間的關係係視該光束分光器2之塗層而定。通常，一功率分配經確定以致該透射分離光束的功率係大約為該反射分離光束之功率的10%至30%。
接著，該第一透射分離光束10’照射在該疊加鏡3上並係藉由該疊加鏡3透射因此產生該第二透射分離光束10”。接著，該第二透射分離光束10”照射在該聚焦設備6上並且，於該處，其係聚焦在該第一焦點7上。
該第一反射分離光束11係於該第一鏡4處反射因此產生該第二反射分離光束11’。該第二反射分離光束11’照射在該第二鏡5上並且，於該處，其係經反射至該第三反射分離光束11”。該第三反射分離光束11”，接著，照射在疊加鏡3上並且，於該處，其係經反射進入該第四反射分離光束11'''。該第四反射分離光束11'''照射在該聚焦設備6上並且，於該處，其係聚焦在該第二焦點8上。
於此具體實施例中，該雷射光束源9、該光束分光器2、該第一鏡4、該第二鏡5及該疊加鏡3係分別地經設 計與佈置以致該第一焦點7及該第二焦點8距該聚焦設備6具有相同的距離但他們係位設於不同的位置處。焦點7、8所位設於此的該等位置係位在相對於與構形成該等焦點7、8的該雷射光束之光軸橫向的一線上。
圖2顯示該光束導引裝置22的一第二具體實施例。於此具體實施例中，提供二雷射光束源9、9’。雷射光束源9與雷射光束源9’不同之處在於其產生具另一波長的光線。該雷射光束源9產生具一第一波長λ1的雷射光束以及該雷射光束源9’產生具有一第二波長λ2的雷射光束。該等雷射光束係藉由光學構件20、21結合並且其構成一同心的雷射光束12。可交替地，該等雷射光束源9、9’的雷射光束亦能夠直接地經引導至該光束分光器2。
於此具體實施例中，該光束分光器2係經設計以致其包含一濾光塗層特別地反射一波長範圍以及特別地透射另一波長範圍。於此具體實施例中，具有該波長範圍λ1的雷射光束係特別地經透射以及具波長範圍λ2的雷射光束係特別地經反射。藉此，產生該第一透射分離光束12’及該第一反射分離光束13。
該第一透射分離光束12’係藉由該亦塗覆與該光束分光器2相配合的疊加鏡3透射，並其係構成一第二透射分離光束12”。該第二透射分離光束12”係藉由該聚焦設備6聚焦並且其產生該第一焦點7。
與該第一具體實施例相似，於該第二具體實施例中，該第一反射分離光束13接著亦在鏡4及5處經反射因此 產生該第二反射分離光束13’及該第三反射分離光束13”。第三反射分離光束13”接著藉由該疊加鏡3反射進入該第四反射分離光束13'''位在該聚焦設備6上以及該第四反射分離光束13'''係藉由該聚焦設備6聚焦在該第二焦點8上。
藉由使用該二雷射光束源9、9’，可同時產生，二空間上分離的焦點7、8並且藉由適當的控制，及時的不同焦點7、8，其中該等空間上分離的焦點亦能夠在不同時間產生。
於圖3中，顯示該光束導引裝置22的一第三具體實施例。相對於圖2中所示該第二具體實施例的差異在於該第一鏡4非為平坦的而是曲面的。藉由該第一鏡4之曲率，修正該雷射光束的擴散因此藉由該等鏡4、5反射的該雷射光束以與由光束分光器2及疊加鏡3透射的該雷射光束不同的一擴散性照射因此，與先前的具體實施例比較，該第二焦點8具有另一段(於此為較大的)距該聚焦設備6之距離。可交替地，視該鏡的曲率而定，介於該第二焦點與該聚焦設備6之間的該段距離亦可較小。
可交替地，介於該焦點與該聚焦設備6間之該距離亦可藉由沿著相對於該聚焦設備6之光軸垂直的一軸移動該焦點而改變。
於可交替的具體實施例中，同樣地，不是僅有該第二鏡5可為曲面，就是二鏡4、5可為曲面。此外，可交替地，並非絕對地必需藉由曲面鏡修正該雷射光束之擴散。亦能夠藉由其他的光學構件，例如透鏡，或是藉由多於該 二鏡4、5作擴散之修正。
基本上，於此具體實施例中，該等雷射光束源9、9’之該等雷射的對準，該光束分光器2之對準，該等鏡4、5之對準以及該疊加鏡3之對準確定該雷射光束在該疊加鏡3之後以及，因而，在該聚焦設備6之後以及至少藉由該等鏡4、5之曲率的對準，於此，確定介於該焦點與該聚焦設備6之間的該段距離。藉此，例如，能夠產生具有該等分離光束之不同擴散的一同心光束(於此未顯示)，或(如圖所示)該等分離光束在該疊加鏡3之後可具有相對於另一者的一角度。就一同心光束而言，視該等分離光束之擴散而定，能夠在該同心光束之該軸上距該聚焦設備6不同距離產生焦點。就在該聚焦設備6之後同樣地具有相對於另一者的一角度的分離光束而言，介於該焦點與該聚焦設備6之間的該段距離可為不同並且能夠確定該焦點之位置以致其並未位在該另一分離光束之該軸上。藉此，在每一三個空間方向上能夠達成該等焦點相對於另一者的一空間分離。
於一另一可交替的具體實施例中，介於該光束分光器2與該疊加鏡3之間的空間係可任擇地構成作為一第一封閉空間14。可藉由用於調整該第一封閉空間14中該壓力並由該控制裝置加以控制的一裝置(例如，一可控制壓力調節器)調整的一預定壓力能夠相對於環境加以變化。藉由相對於環境改變該壓力，該光束分光器2之該等反射表面之該等曲率與該疊加鏡之該曲率可為了修正該反射光束之該擴散而改變，藉此，於作業期間亦可改變介於該焦點與該聚 焦設備6之間該段距離。可交替地，亦能夠僅有該光束分光器2或是僅有該疊加鏡3封閉於該封閉空間14中。
於作業期間，藉由該鏡4、5之一可任擇的機動化傾斜動作亦能夠改變該焦點8之該位置，藉此，藉由該控制裝置控制一適合的傾斜動作設備。於該等鏡之該機動化傾斜動作與該曲率之調整的一可任擇的結合中，可於每一三個空間方向上連續地修正該焦點8之該位置。
可任擇地，相對於圖2中所示具有不同波長λ1及λ2的該等雷射光束，該等雷射光束源9及9’亦能夠不同地極化。接著，該等雷射光束係視極化之狀況而經透射或是反射，因此產生該等各別的分離光束。藉由此方式產生之具有不同極化的該等光束因而係以相對於圖2或圖3中所示該等雷射光束12、13相似的方式操縱。
於圖4中，顯示該光束導引裝置22之一具體實施例，其中操縱該第一反射分離光束11及該第一透射分離光束10’二者。同時於此，藉由該光束分光器2產生該等分離光束10’、11。如以上說明，該雷射光束源9(或可任擇地，複數雷射光束源9、9’)之該雷射光束10能夠使用該雷射光束10之不同的特性加以分離。
為了操縱該第一透射分離光束10’，於此，提供一第三鏡15、一第四鏡16、一第五鏡17及一第六鏡18。可交替地，該等鏡15、16、17、18的其中之一者或是複數者可由透鏡取代。除該者之外，四鏡15、16、17、18並非為必需的。可交替地，可提供另一適合的數量。
該第一透射分離光束10’係藉由該第三鏡15而反射及偏斜，以及類似地相對於上述說明的具體實施例操縱該第一透射分離光束10’。藉此，能夠修正其之方向及其之擴散，為了在一預定的位置處距該聚焦設備6一段預定的距離產生該第一焦點7。
同樣地於此，於介於該第三鏡14與該第六鏡18之間(如圖所示)或，可任擇地，介於該等鏡15、16、17、18之其他者之間的一空間中可任擇地提供一第二封閉空間19，或僅提供一鏡劃定該第二封閉空間19的界限係為可行的。於該第二封閉空間19中，一相對於該環境的預定壓力能夠經調整及修正。因此，能夠藉由照射在該聚焦設備6上的該分離光束10”之擴散修正介於該焦點7與該聚焦設備6之間的距離。
藉由該等鏡15、16、17、18其中之一或複數者的一可任擇的機動傾斜動作，照射在該聚焦設備6上的該分離光束10”之該光束方向能夠經調整，並且藉由調整該等鏡15、16、17、18其中之一或複數者之該曲率，能夠調整介於該焦點7與該聚焦設備6之間的距離並，因此，可調整該焦點7之該位置。
圖5顯示為了補償極化誤差或是相位偏移的一第五具體實施例的一光束導引裝置22中一光束路徑之原理的一圖解。
當該等透射光束未以一純線性方式極化時，其中該線性極化雷射光束之一極化平面係位設於該偏斜平面 中，出現極化誤差。就任意極化平面或，特別地，就一圓形的極化平面而言，一透射光束獲得二極化部分之一相位轉移，該二極化部分有系統地視該塗層而定相對於該偏斜平面係垂直或是平行的(s-對p-極化)。出現該對稱的相位偏移係針對透射以及反射光束。
圖5中該光束分光器2係經佈置以致藉由該雷射光束12以及藉由該第一反射分離雷射光束13所構成的一平面，相對於在該第二鏡5處反射的該第三分離光束13”以及在該疊加鏡3處反射的該第四分離光束13'''所構成的一平面係垂直地佈置。藉此，本質上該二平面係彼此相對地垂直的，因此該入射雷射光束12之該等p-(s-)極化部分，一次，作為p-(s-)極化以及，一次，作為s-(p-)極化通過該二光學構件2及3。因此，簡言之，二極化部分獲得相同的相位轉移因此補償該相對的相位誤差。該雷射光束13'''之該透射部分或是該透射分離光束之該極化，相對於該入射雷射光束12之極化亦係為相等的。
對於該反射雷射光束亦出現該有系統的相位轉移。藉由在該等反射光學構件2、3、4、5其中之一或複數者處適當地選擇該等偏移角及/或藉由於該等光學構件2與3之間該等反射分離光束13、13’及13”的其中之一或是複數者的該光束路徑中使用一或複數之另外的光學構件，對於該雷射光束13'''之該反射部分或是針對該反射分離光束亦能夠補償該相位轉移。
於使用中，藉由該極紫外光激光源1發射用於產 生一EUV(極紫外光)輻射的一雷射光束。藉由二種子雷射，各別地產生具有一10.59微米之波長λ1及10.26微米之波長λ2的雷射光束。該等雷射光束係藉由一第一放大器平台加以疊置並且其係於該等放大器平台中放大。接著，該等放大的雷射光束10照射在該光束分光器2上其經設計以致具有該一波長的該雷射光束係經反射，而具有該另一波長的該雷射光束係經透射。例如，具有該較大波長的該雷射光束係經透射而具有該較小波長的該雷射光束係經反射。接著，該透射光束10’照射在該疊加鏡3上，其係於該處透射並照射在該聚焦設備6上將雷射光束聚焦在該第一焦點7上。該第一反射光束11係藉由該等鏡4、5反射並且照射在該疊加鏡3上由該處其經反射至該聚焦設備6上將雷射光束聚焦在該第二焦點8上。發射具有λ=10.26微米之該雷射光束的該種子雷射係經控制以致，由於該EUV激光源，發射一“預脈衝”其撞擊一在相對於該等雷射光束之該光軸橫向的一拋物線軌跡上移動的鋅微滴，在位置A、時間A於一時間相依位置在一第一焦點7中產生該等焦點。該“預脈衝”具有一約3.5kW的平均功率。藉此，該鋅微滴係經變形、加熱及膨脹。接著，發射具有λ=10.59微米的雷射光束的該種子雷射係經控制以致發射一“主脈衝”。儘管該膨脹的鋅微滴移動得更遠，但其係在位置B、時間B於一時間相依位置在一第一焦點8中藉由該“主脈衝”激勵供電漿發光所用。該“主脈衝”具有一約35kW的平均功率。
藉此所產生的該具有13.5奈米的光線接著，例 如，用於曝光晶圓供生產半導體。對於該EUV輻射之產生的最佳化所必要的是為了針對電漿發光激勵該鋅微滴，精確地確定時間A與時間B之間的時間間隔以及該位置A相對於該位置B的該空間位置二者。利用實驗偵測，亦即，事先例如藉由測量，或藉由手動地調整該等鏡的必需數值，實行該等焦點之該時間相依位置的一固定式調整。可交替地，提供用於產生包含該EUV激光源1的該極紫外光的一系統具有偵測設備其偵測該等鋅微滴之該時間相依位置以及該“預脈衝”及該“主脈衝”之該等焦點的時間相依位置，例如，藉由偵測一效率以及，藉由該等偵測的數值，該等焦點之該等時間相依的最佳位置係經確定並透射至該等調整裝置用於調整該等焦點之位置，儘可能由該“預脈衝”及藉由該“主脈衝”精確地撞擊該等鋅微滴。該效率之確定亦能夠藉由偵測該發射的EUV光之強度而達成。
可交替地，假若該軌跡係為已知的則該等鋅微滴之位置亦能夠由該等鋅微滴沿著其之軌跡的移動的起始時間以及由其之速度加以計算。
可交替地，亦能夠僅使用一種子雷射，其中該種子雷射光束因而藉由一可調整鏡而偏斜。然而，介於該“預脈衝”與該“主脈衝”之間的時間間隔係極小(約1微秒)。
於一可交替的方案中，一二氧化碳雷射(於圖2中以元件符號9’標示)以及一亞格(YAG)雷射(於圖2中以元件符號9標示)之該雷射光束係經引進進入該光束導引裝置22中。產生一主功率約35kW的該二氧化碳雷射以及產生約 500W的一功率之亞格雷射的光線係經導引在一石英玻璃屏幕上作為該光學構件20。該石英玻璃對於該二氧化碳雷射之該雷射光束係具反射性的以及對於該亞格雷射之該雷射光束係具透射性的。然而，與圖2中所示不同，該二氧化碳雷射之該光束亦能夠經導引在該光學構件20上未因該光學構件21而偏斜。
該等說明的具體實施例並未限定且其能夠與另一者結合為了達成一靶材料之最佳化激勵用於發射該極紫外光。該光束導引可交替地能夠包括未包括於該等說明的具體實施例的其中之一者中的另外之構件。
1‧‧‧極紫外光激光源
2‧‧‧光束分光器
3‧‧‧疊加鏡
4‧‧‧第一鏡
5‧‧‧第二鏡
6‧‧‧聚焦設備
7、8‧‧‧焦點
9‧‧‧雷射光束源
10、10”‧‧‧雷射光束
10’‧‧‧第一透射分離光束
11‧‧‧第一反射分離光束
11’‧‧‧第二反射分離光束
11”‧‧‧第三反射分離光束
11'''‧‧‧第四反射分離光束
22‧‧‧光束導引裝置

Claims (19)

  1. 一種極紫外光(EUV)激光源，其具有：至少一雷射光束源用於發射至少一雷射光束，以及一光束導引裝置用於操縱該至少一雷射光束，其包含：至少一光束分光器用於由該至少一雷射光束產生至少二分開的光束，至少一鏡或至少一透鏡用於操縱該等分離光束中之至少一者，一疊加鏡用於疊合該至少二分離光束，以及一聚焦設備用於產生該二分離光束之一各別的焦點，其中提供至少一第一封閉空間及一裝置，該第一封閉空間至少由等該光束分光器與該疊加鏡其中之一者定其界限，該裝置用於調整該第一封閉空間中的一預定壓力，其中藉由修正該預定的壓力而修正該光束分光器及/或該疊加鏡之一曲率。
  2. 如請求項1之極紫外光(EUV)激光源，其中該光束分光器係為一部分透明的鏡，該鏡包含一塗層，該塗層對於該等雷射光束中之至少一者的一部分係具反射性，以及對於該等雷射光束中之至少一者的另外部分係具透射性。
  3. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該等鏡中之至少之一鏡係為平坦的。
  4. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該等鏡中之至少之一鏡係為曲面的。
  5. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該至少一光束分光器、該至少一鏡或該至少一透鏡、該疊加鏡及該聚焦設備係經設計及佈置以致該等分離光束其中之一者的該焦點係位設在一預定的位置處。
  6. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該至少一光束分光器、該至少一鏡或該至少一透鏡、該疊加鏡及該聚焦設備係經設計及佈置以致該等分離光束其中之一者的一第一焦點係位設在相較於該等分離光束其中之另一者的第二焦點的另一位置處。
  7. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該等分離光束之每一者的一第一焦點及一第二焦點係位設在相對於產生該等焦點的該等分離光束之光軸為橫向的一線上。
  8. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該光束分光器、該疊加鏡、及該聚焦設備中之至少一者係以鑽石構成。
  9. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中提供至少一第二封閉空間及一裝置，該第二封閉空間係由該等鏡之至少之一者定其界限，該裝置用於調整該第二封閉空間中的一預定壓力，其中藉由修正該預定的壓力而修正該等鏡之至少之一者之一曲率。
  10. 如請求項1之極紫外光(EUV)激光源，其中該光束分光器 係為包含一濾光塗層的一部分透明鏡，該濾光塗層係對一波長範圍具透射性以及對於另一波長範圍係具反射性。
  11. 如請求項10之極紫外光(EUV)激光源，其具有至少二雷射光束源，其中該等雷射光束源發射具有不同波長之雷射光束。
  12. 如請求項1之極紫外光(EUV)激光源，其中該光束分光器係為包含一濾光塗層的一部分透明鏡，該濾光塗層對於該至少一雷射光束之極化的一狀況係具反射性，其中係產生一反射分離光束，並對於該至少一雷射光束之極化的另一狀況係具透射性以及產生一透射分離光束。
  13. 如請求項12之極紫外光(EUV)激光源，其中照射在該光束分光器上的該雷射光束以及於該光束分光器處反射的該分離光束係佈置在一第一平面中，以及至少二鏡或透鏡係經佈置成使得照射在該疊加鏡上的一反射分離光束以及在該疊加鏡處反射的該分離光束經佈置於一第二平面中，該反射分離光束係由該等鏡或透鏡操縱而照射在該疊加鏡上，以及該第一平面及該第二平面係彼此相對地垂直的。
  14. 如請求項12或13之極紫外光(EUV)激光源，其具有至少二雷射光束源，其中該等雷射光束源發射具有不同極性的雷射光束。
  15. 如請求項11之極紫外光(EUV)激光源，其中該等雷射光束源係可彼此分開地加以控制。
  16. 如請求項14之極紫外光(EUV)激光源，其中該等雷射光束源係可彼此分開地加以控制。
  17. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該操縱動作包括一雷射光束之方向的一修正。
  18. 如請求項1或2之極紫外光(EUV)激光源，其中該操縱動作包括一雷射光束之一擴散的一修正。
  19. 一種用於藉由如請求項1至17中任一項之極紫外光(EUV)激光源產生分離光束的方法，其中該方法包含以下步驟：針對一“預脈衝”及針對一“主脈衝”偵測一靶材料的時間相依位置；調整該光束導引裝置以致該二分離光束之該各別的焦點係特別地位設在該等時間相依位置處；控制該雷射光束源以致該至少一雷射光束一次地產生該第一焦點及該第二焦點，其中該靶材料基本上係位設在該各別的時間相依位置，其中該等時間相依位置係於該極紫外光激光源及該光束導引裝置之作業期間決定以及該至少一雷射光束源係藉由一控制裝置控制。
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