TWI599479B - Hard coating and information display device - Google Patents

Description

硬質被覆膜及資訊顯示裝置

本發明係關於能理想地使用在作為例如智慧手機、平板終端機等的各種觸控面板顯示器的保護膜等的硬質被覆膜。

就智慧手機、平板終端機等可攜式電子設備、電視、個人電腦等影像顯示設備而言，裝載附帶觸控面板機能的顯示器者已普及。 前述觸控面板裝載的影像顯示設備，通常係藉由使手指、觸控筆等接觸前述顯示器表面，並按壓其表面以操作。所以，對於前述顯示器之表面，要求必須有即使是利用前述觸控筆等以較強的力道按壓等的情形，仍能防止凹陷、擦傷的非常高水平的耐久性。

又，對於前述資訊顯示裝置，伴隨其高機能化，除了上述以外尚要求有各種特性。例如有時對於前述資訊顯示裝置之表面，要求伴隨觸控面板機能普及而要有能防止指紋、大氣中之污物等附著的程度的防污性、防霧性能等表面機能。

前述表面機能當中例如防污性優異之硬質被覆膜，例如已知有預先添加氟系添加劑到活性能量射線硬化性組成物並塗佈在膜基材後，照射紫外線使其硬化而獲得之硬質被覆膜(例如參照專利文獻1。)。

但是以往的硬質被覆膜有時其表面機能在實用方面不足，且有時前述表面機能難以長期間持續。 【先前技術文獻】 【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2010-168419號公報

【發明欲解決之課題】

本發明欲解決之課題在於提供能長期間持續優良的表面機能的硬質被覆膜。 【解決課題之方式】

本案發明人等為了解決前述課題，努力研究的結果，發現：藉由於硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)之間形成鍵結，能夠解決前述課題。

亦即，本發明係關於一種硬質被覆膜，係於基材之至少一面按順序疊層有硬質被覆層(X)、底塗層(Y)及表面層(Z)，其特徵為：前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)形成鍵結(xy)，且前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)形成鍵結(yz)。 【發明之效果】

本發明之硬質被覆膜能長時間持續防污性、防霧性等表面機能，且能防止因觸控筆等的接觸導致顯示器表面凹陷、受傷，故可適當地作為用以保護例如智慧手機、平板終端機等可攜式電子設備、電視、個人電腦等影像顯示設備所裝載之顯示器之表面的硬質被覆膜等。

本發明之硬質被覆膜，於基材之至少一面直接或介隔其他層而按順序疊層有硬質被覆層(X)、底塗層(Y)及表面層(Z)，前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)形成鍵結(xy)，且前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)形成鍵結(yz)。採用上述構成之本發明之硬質被覆膜，比起簡單在基材之表面疊層有硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)之硬質被覆膜，能長期間持續表面機能的效果。

作為本發明之硬質被覆膜，可以使用在前述基材之一面側具有按順序疊層前述硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)結構者。 本發明之硬質被覆膜在前述基材之另一面側可以沒任何層，也可在前述基材的另一面側有按順序疊層前述硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)的結構，在前述基材之另一面側也可有硬質被覆層(X)、底塗層(Y)、表面層(Z)或其他層單獨或2層以上。 作為本發明之硬質被覆膜之理想實施態樣，可以列舉在前述基材之一面有按順序疊層前述硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)之結構，並於前述基材之另一面側直接或介隔其他層而具有硬質被覆層(X)者。採用前述構成之硬質被覆膜，能使表面硬度更提高，有更優良的耐久性。又，前述硬質被覆膜能抑制起因於形成硬質被覆層(X)時之硬化收縮而發生的翹曲。

另一方面，於前述基材之另一面沒有硬質被覆層(X)之硬質被覆膜，若以在另一面設置黏著劑層之態樣使用，能賦予良好的貼合作業性與後加工性，且能壓低生產成本，故較理想。

前述硬質被覆膜宜使用為75μm~500μm之厚度者較佳，100μm~400μm之厚度者更佳，使用100μm~350μm之厚度者更理想，100μm~300μm之厚度者尤佳。具備前述範圍之厚度之硬質被覆膜，當使用在例如設置於各種顯示器之表面的用途時，能兼顧備有前述顯示器之可攜電子終端機、影像顯示設備之薄型化、以及防止其表面受傷之效果等。

本發明之硬質被覆膜，係於按順序疊層硬質被覆層(X)與底塗層(Y)與表面層(Z)而得者當中，於各層間形成了鍵結者。

具體而言，前述硬質被覆膜係使用前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)形成了鍵結(xy)者。藉此能獲得可長期間持續表面機能之效果的硬質被覆膜。

作為前述鍵結(xy)，可列舉(甲基)丙烯醯基因自由基聚合而形成之碳-碳鍵。具體而言，前述鍵結(xy)可列舉來自形成前述硬質被覆層(X)之成分的(甲基)丙烯醯基與來自形成前述底塗層(Y)之成分的(甲基)丙烯醯基因自由基聚合而形成之鍵結。

又，作為前述硬質被覆膜，使用前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)形成鍵結(yz)者。藉此可獲得能長期間持續表面機能之效果的硬質被覆膜。

前述鍵結(yz)，例如矽原子與氧原子或鈦原子與氧原子構成之鍵結。具體而言，前述鍵結(yz)可列舉：來自形成前述底塗層(Y)之成分的烷氧基矽基或矽醇基等官能基、與來自形成前述表面層(Z)之成分的烷氧基矽基、矽醇基、鈦醇基、羥基等反應並形成之鍵結。

又，前述硬質被覆膜使用高透明性者的話，即使是設置在顯示器之表面仍能確保良好的可見性，故較理想。前述硬質被覆膜之全光線透射率宜為85%以上較佳，88%以上更佳，90%以上尤佳。

前述硬質被覆膜若有2H以上的鉛筆硬度的話，可賦予例如即使以觸控筆等按壓，仍能防止其表面凹陷、受傷發生之程度之耐久性，且前述表面機能之效果能更長期間持續，故較理想。

[基材] 作為構成本發明之硬質被覆膜之基材，可適當選用透明性高、一般使用於光學用硬質被覆膜之基材者。

前述基材，例如：聚酯樹脂膜、三乙醯基纖維素膜、丙烯酸樹脂膜、含脂環族結構之熱塑性樹脂膜、聚碳酸酯樹脂膜等。

前述基材可使用只由前述列舉之樹脂膜構成的基材，但是為了使和硬質被覆層(X)間的密合性更提高，也可使用在前述樹脂膜之表面具有易黏著層的基材。

又，為了使和前述第1硬質被覆層(X)之密合性更提高，可使用將前述樹脂膜之表面施以利用砂磨法、溶劑處理法等的凹凸化處理、電暈放電處理、大氣壓電漿處理、鉻酸處理、火燄處理、熱風處理、臭氧處理、紫外線照射處理、氧化處理等者。

又，前述基材宜使用其全光線透射率為88%以上之透明基材較佳，使用90%以上之透明基材更佳。本發明中，藉由使全光線透射率為該範圍內，於透明基材之單面或兩面設置硬質被覆層(X)時，透射率優異，應用於影像顯示裝置時，可獲得良好的可見性。

作為前述基材，宜使用厚度5μm~450μm之範圍者較佳，50μm~400μm之範圍者更佳，使用75μm~300μm之範圍者的話，在抑制硬質被覆膜發生翹曲方面，更為理想。

[硬質被覆層(X)] 構成本發明之硬質被覆膜之硬質被覆層(X)，例如使用含有活性能量射線硬化性組成物之硬質被覆劑形成者。

作為前述硬質被覆層(X)之形成能使用之硬質被覆劑，考量取得、操作容易，容易因應用途等而控制前述硬質被覆層(X)之特性，宜使用含有(甲基)丙烯酸酯之硬質被覆劑較佳。

作為前述(甲基)丙烯酸酯，考量抑制形成硬質被覆層(X)時之硬化收縮，並形成具高表面硬度與優良耐久性之硬質被覆層方面，宜使用胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)。

作為前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)，可使用各種胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，其中又以使用分子中具有4個以上之(甲基)丙烯醯基的胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯較佳。

前述分子中具4個以上之(甲基)丙烯醯基之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，宜使例如使聚異氰酸酯與有羥基之(甲基)丙烯酸酯反應而得者較佳。

前述聚異氰酸酯，可以使用例如六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、離胺酸三異氰酸酯等脂肪族聚異氰酸酯；降莰烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、亞甲基雙(4-環己基異氰酸酯)、1,3-雙(異氰氧基甲基)環己烷、2-甲基-1,3-二異氰氧基環己烷、2-甲基-1,5-二異氰氧基環己烷等脂環族聚異氰酸酯等。

作為前述聚異氰酸酯，也可使用前述脂肪族聚異氰酸酯或脂環族聚異氰酸酯之3聚物。

作為前述聚異氰酸酯，使用脂肪族二異氰酸酯六亞甲基二異氰酸酯、脂環族二異氰酸酯降莰烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯的話，在獲得耐擦傷性等耐久性更優良的硬質被覆膜方面較理想。

前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)之製造能使用之前述具羥基之(甲基)丙烯酸酯，例如可將三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、雙(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)羥基乙基異氰尿酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五甲基)丙烯酸酯等單獨或組合2種以上使用。

前述有羥基之(甲基)丙烯酸酯，使用新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五甲基)丙烯酸酯的話，於獲得耐擦傷性等耐久性優異之硬質被覆膜方面較理想。

前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)，可藉由使前述聚異氰酸酯與前述具有羥基之(甲基)丙烯酸酯，於胺甲酸酯化觸媒存在下，以常法進行胺甲酸酯化反應而製造。

前述胺甲酸酯化觸媒，例如：吡啶、吡咯、三乙胺、二乙胺、二丁胺等胺化合物；三苯基膦、三乙基膦等磷化物；二月桂酸二丁基錫、三月桂酸辛基錫、二乙酸辛基錫、二乙酸二丁基錫、辛酸錫等有機錫化合物、辛酸鋅等有機鋅化合物等。

前述方法獲得之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)可單獨使用或將2種以上組合使用。

作為前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)，宜將使用降莰烷二異氰酸酯作為前述聚異氰酸酯而得之胺甲酸酯丙烯酸酯、與使用異佛爾酮二異氰酸酯作為前述聚異氰酸酯而得之胺甲酸酯丙烯酸酯組合使用較佳。藉由如此的組合，可於抑制硬化時的硬化收縮所致之硬質被覆膜之翹曲的狀態，獲得高表面硬度與耐久性優異之硬質被覆膜。

作為能使用於前述硬質被覆層(X)形成之硬質被覆劑，可使用含有前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之其他(甲基)丙烯酸酯者。

前述其他(甲基)丙烯酸酯，例如分子中具有3個以上之(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯(B)。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)，可將例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、參(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等單獨使用或組合2種以上使用。

作為前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)，考量使前述硬質被覆層(X)之耐擦傷性等耐久性更提高，宜使用其(甲基)丙烯醯基當量為50g/eq.~200g/eq.之範圍者較佳，70g/eq.~150g/eq.之範圍者更佳，80g/eq.~120g/eq.之範圍者又更佳。作為具有前述範圍之(甲基)丙烯醯基當量之多官能(甲基)丙烯酸酯，可列舉新戊四醇四丙烯酸酯(丙烯醯基當量：88g/eq.)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(丙烯醯基當量：118g/eq.)等。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)宜和前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)組合使用較佳。

前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)與前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)之質量比[(A)/(B)]，考量使硬質被覆膜之耐擦傷性等耐久性更提高，90/10~10/90之範圍較佳，80/20~20/80之範圍更佳，75/25~25/75之範圍又更佳。

前述胺甲酸酯丙烯酸酯(A)與前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)之合計使用量，相對於前述硬質被覆劑之不揮發成分100質量份，宜為10質量份~99.95質量份較佳，20質量份~99.5質量份較佳，50質量份~99質量份尤佳。

作為前述硬質被覆層(X)之形成能使用之硬質被覆劑，除前述以外，在無損本發明效果之範圍內，尚可使用含有分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之單(甲基)丙烯酸酯、分子中具有2個(甲基)丙烯醯基之二(甲基)丙烯酸酯等其他(甲基)丙烯酸酯者。此等相對於前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)及前述多官能(甲基)丙烯酸酯(B)之合計100質量份，宜以40質量份以下之用量使用較佳，以20質量份以下之用量使用更佳。

作為前述硬質被覆層(X)之形成能使用之硬質被覆劑，可使用含有可因照射活性能量射線而開始硬化反應之光聚合起始劑者。

作為前述光聚合起始劑，可列舉分子內開裂型光聚合起始劑及脫氫型光聚合起始劑。分子內開裂型光聚合起始劑，例如：二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、寡[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]、苄基二甲基縮醛、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯酮、2-甲基-2-啉代(4-硫甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉代苯基)-丁酮等苯乙酮系化合物；苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因異丙醚等苯偶因；2,4,6-三甲基苯偶因二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基氧化膦系化合物；二苯乙二酮(benzil)、甲基苯基乙醛酸酯等。

另一方面，脫氫型光聚合起始劑，例如可舉例：二苯酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲基-4-苯基二苯酮、4,4’-二氯二苯酮、羥基二苯酮、4-苯甲醯基-4’-甲基-二苯基硫醚、丙烯醯化二苯酮、3,3’,4,4’-四(三級丁基過氧羰基)二苯酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯酮、2,4,6-三甲基二苯酮、4-甲基二苯酮等二苯酮系化合物；2-異丙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二氯噻噸酮等噻噸酮系化合物；米氏酮(Michler’s Ketone)、4,4’-二乙基胺基二苯酮等胺基二苯酮系化合物；10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、9,10-菲醌、樟腦醌、1-[4-(4-苯甲醯基苯基硫烷基)苯基]-2-甲基-2-(4-甲基苯基磺醯基)丙烷-1-酮等。可單獨使用，也可組合使用2種以上。

又，前述硬質被覆劑也可使用含有光增感劑者。

前述光增感劑，例如可舉例：二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、三丁基胺等3級胺化合物、鄰甲苯基硫脲等脲化合物、二乙基二硫磷酸鈉、s-苄基異硫脲對甲苯磺酸酯等硫化合物等。

前述光聚合起始劑及光增感劑之使用量，相對於前述硬質被覆劑之不揮發成分100質量份，各為0.05質量份~20質量份較佳，0.5質量份~10質量份更佳。又，使用電子束、α射線、β射線、γ射線等電離放射線作為前述活性能量射線時，不須使用光聚合起始劑、光增感劑。

前述硬質被覆劑可使用經適當溶劑稀釋者。

前述溶劑，例如：丙酮、異丁醇、2-丙醇、異戊醇、乙醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單正丁醚、乙二醇單甲醚、鄰二氯苯、二甲苯、甲酚、氯苯、乙酸異丁酯、乙酸異丙酯、乙酸異戊酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸正丙酯、乙酸正戊酯、乙酸甲酯、環己醇、環己酮、1,4-二烷、二氯甲烷、N,N-二甲基甲醯胺、苯乙烯、四氯乙烯、四氫呋喃、1,1,1-三氯乙烷、甲苯、正己烷、1-丁醇、2-丁醇、甲醇、甲基異丁酮、甲乙酮、甲基環己醇、甲基環己酮、甲基-正丁酮等，可單獨使用或組合使用2種以上。

又，作為前述硬質被覆劑，視需要，可使用含有聚合禁止劑、表面調整劑、抗靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光安定劑、耐候安定劑、耐熱安定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、塗平劑、有機顏料、無機顏料、顏料分散劑、二氧化矽珠粒、有機珠粒等添加劑；氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、五氧化銻等無機系填充劑等者。

使用前述硬質被覆劑形成之前述硬質被覆層(X)，厚度宜為3μm~25μm較佳，厚度為5μm~15μm的話，在獲得耐擦傷性等耐久性及滑動性優異，例如可使用在對於薄型化的要求高的影像顯示裝置的硬質被覆膜方面為較理想。

又，作為前述硬質被覆層(X)，宜使用其表面之水接觸角為85°以下者較佳，75°以下者更佳。藉由使用有前述範圍之水接觸角的硬質被覆層(X)，能更提高前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)之密合性，能獲得可長期間持續表面機能的硬質被覆膜。

又，前述硬質被覆層(X)當疊層在前述基材之單面時，表面之鉛筆硬度為2H以上較佳，3H以上的話，在獲得耐擦傷性等耐久性更優良的硬質被覆膜方面更理想。

[底塗層(Y)] 構成本發明之硬質被覆膜之底塗層(Y)，係為了提高前述硬質被覆層(X)與前述表面層(Z)間之密合性等而設置。

前述底塗層(Y)能和前述硬質被覆層(X)及表面層(Z)兩者分別形成鍵結。

前述底塗層(Y)可使用包含活性能量射線硬化性組成物之底塗劑形成。

前述底塗劑，例如可使用含有具烷氧基矽基或矽醇基之矽烷化合物者。在此，前述烷氧基矽基係指於矽原子鍵結烷氧基而得的官能基，矽醇基係指於矽原子鍵結羥基(羥基)而得之官能基。

使用前述具烷氧基矽基、矽醇基、羥基等的層形成後述表面層(Z)時，前述底塗劑若使用含有前述具烷氧基矽基或矽醇基之矽烷化合物之底塗劑，會於前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)的界面形成鍵結(yz)，其結果，在獲得能長期間持續表面機能的硬質被覆膜方面，為較理想。

前述矽烷化合物，可以使用例如：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、2-羥基乙基三甲氧基矽烷、2-羥基乙基三乙氧基矽烷、2-羥基丙基三甲氧基矽烷、2-羥基丙基三乙氧基矽烷、3-羥基丙基三甲氧基矽烷、3-羥基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-異氰氧基丙基三甲氧基矽烷、3-異氰氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、3-脲丙基三甲氧基矽烷、3-脲丙基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基二甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷等。

作為前述矽烷化合物，尤其是使用具有前述烷氧基矽基、矽醇基等能進行脫水縮合之官能基、與聚合性不飽和基的矽烷化合物(C)的話，會於前述硬質被覆層(X)與底塗層(Y)之間形成鍵結(xy)，且於前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)之間形成鍵結(yz)，其結果會展現高表面機能，在獲得可長期間持續其表面機能之硬質被覆膜方面較理想。

前述矽烷化合物(C)，可使用例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等。

前述矽烷化合物(C)之含量，相對於前述底塗劑之不揮發成分100質量份宜為0.1質量份~80質量份較佳，0.5質量份~70質量份更理想，1質量份~60質量份又更佳。

作為前述底塗層(Y)之形成能使用之底塗劑，除了前述者以外，視需要尚可使用含有其他成分，例如(甲基)丙烯酸酯等活性能量射線硬化性化合物者。

前述(甲基)丙烯酸酯，例如使用分子中具有3個以上之(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯(D)等的話，可獲得高硬度且耐擦傷性等耐久性優異、且能長期間持續防污性等效果的硬質被覆膜。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯(D)，可將例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、參(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等予以單獨或組合使用2種以上。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯，考量使前述底塗層(Y)之耐擦傷性等耐久性更提高方面，宜使用其(甲基)丙烯醯基當量為50g/eq.以上者較佳，70g/eq.以上者更佳，80g/eq.以上者又更佳。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯之具體例，可以列舉新戊四醇四丙烯酸酯(丙烯醯基當量：88g/eq.)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(丙烯醯基當量：118g/eq.)等。

前述多官能(甲基)丙烯酸酯的含量，相對於前述底塗劑之不揮發成分100質量份宜為30質量份~95質量份較佳，35質量份~85質量份更佳，40質量份~75質量份又更佳。

作為能使用在形成前述底塗層(Y)之底塗劑，可使用含有各種胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯做為前述(甲基)丙烯酸酯者。作為前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可使用和就前述硬質被覆層(X)之製造能使用者所例示之胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)為同樣者。

前述矽烷化合物與前述多官能(甲基)丙烯酸酯、前述胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等活性能量射線硬化型樹脂組成物之質量比[矽烷化合物/活性能量射線硬化型樹脂組成物]，考量藉由使前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)之間之密合性更提高以使硬質被覆膜之耐擦傷性等耐久性更提高並能長期間持續表面機能方面，宜為5/95~95/5之範圍較佳。

作為前述底塗層(Y)之形成能使用之底塗劑，可使用含有能因照射活性能量射線而開始硬化反應之光聚合起始劑者。

作為前述光聚合起始劑，可使用和就形成前述硬質被覆層(X)時能使用者所例示之光聚合起始劑為同樣者。

又，前述底塗劑可使用含有光增感劑者。

作為前述光增感劑，可使用就形成前述硬質被覆層(X)時能使用者所例示之光增感劑為同樣者。

前述光聚合起始劑及光增感劑之使用量，相對於前述底塗劑所含有之活性能量射線硬化性組成物中之不揮發成分100質量份，宜各為0.05質量份~20質量份較佳，1質量份~15質量份更佳。又，使用電子束、α射線、β射線、γ射線等電離放射線作為前述活性能量射線時，則無須使用光聚合起始劑、光增感劑。

又，作為前述底塗劑，視需要可使用含有聚合禁止劑、表面調整劑、抗靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光安定劑、耐候安定劑、耐熱安定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、塗平劑、有機顏料、無機顏料、顏料分散劑、二氧化矽珠粒、有機珠粒等添加劑；氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、五氧化銻等無機系填充劑等者。

使用前述底塗劑形成之前述底塗層(Y)，厚度宜為0.1μm~3μm較佳，為0.5μm~ 2μm更佳，厚度為0.8μm~1.2μm的話，在獲得能長期間持續表面機能之效果且可使用於例如薄型化的要求高的影像顯示裝置的硬質被覆膜方面更理想。

前述底塗層(Y)，為了將烷氧基矽基直接鍵結於矽原子而得的矽烷化合物的烷氧基水解，可以於水蒸氣氣體環境下或微量水分存在的氣體環境下進行加熱處理。

[表面層(Z)] 構成本發明之硬質被覆膜之表面層(Z)，係疊層在前述底塗層(Y)之表面的層，對於前述硬質被覆膜賦予各種表面機能。

又，前述表面層(Z)，在與前述底塗層(Y)之間形成鍵結(yz)。藉此，前述層間之密合性提高，能長期間持續表面機能之效果。

利用前述表面層(Z)賦予之表面機能，例如能防止指紋等引起的污物附著的防污性、防霧性等。

前述表面層(Z)可使用各種被覆劑形成。例如形成前述具備防污性之表面層(防污層)時，可藉由使用含有例如具有能和前述底塗層(Y)形成鍵結之官能基之氟系化合物的被覆劑以形成。

作為前述氟系化合物，宜使用末端具有烷氧基矽基或矽醇基等以作為能和前述底塗層(Y)形成鍵結之官能基的氟系化合物較佳。

作為前述末端具有烷氧基矽基或矽醇基等之氟系化合物，在考量對於本發明之硬質被覆膜賦予更高滑動性，宜使用例如末端具有烷氧基矽基或矽醇基且同時有聚全氟聚醚鏈之氟系化合物較佳。

前述聚全氟聚醚鏈，例如具有碳原子數1~6之2價氟化伸烷基與氧原子交替連結成之結構者。

前述聚全氟聚醚鏈，可列舉例如下列結構式(1)表示者。

【化1】

前述通式(1)中，X可為下式(1-1)~(1-3)。又，X可有下式(1-1)~(1-3)中之任1種，也可有下式(1-1)~(1-3)中之2種以上。例如：作為前述X，就下式(1-1)~(1-3)中之2種以上之結構可列舉如-(CF₂ CF₂ -O)n-(CF₂ -O)n-所示之結構。前述X含有以式(1-1)~(1-3)表示之結構2種以上時，也可具有如 -(X-O)-之結構單元構成之無規結構或嵌段結構。又，n為代表重複單元之2~200之整數。

【化2】

(式中a為1~6之整數。)

前述氟系化合物若使用具有前述全氟聚醚鏈等氟鏈以及有烷氧基矽基或矽醇基者的話，能於前述底塗層(Y)與前述表面層(Z)之間形成鍵結(yz)，其結果，可獲得有優良的耐擦傷性、滑動性、防污性以及能長期間持續優良的防污性的硬質被覆膜。前述鍵結(yz)可列舉由矽原子及氧原子之構成鍵結，例如-Si-O-Si-鍵。

作為能形成前述鍵結(yz)之氟系化合物，具體而言，可列舉大金工業(股)製Optool DSX、信越化學工業(股)製商品名「KY-164」「KY-130」「KY-108」「X-71-190」等。

前述氟系化合物之含量，相對於形成前述表面層(Z)之被覆劑之不揮發成分100質量份，宜為80質量份~100質量份較佳，90質量份~100質量份更佳，95質量份~100質量份更理想。

前述防污層其表面的水接觸角為112°以上較佳，113°以上更佳。又，前述水接觸角，代表使3μl水滴接觸構成硬質被覆膜之表面層(Z)時起算1秒後測定的接觸角。

又，形成具有防霧性之表面層作為前述表面層(Z)時，可以使用含有例如具有能和前述底塗層(Y)形成鍵結之官能基之化合物、與氧化鈦的被覆劑。

作為前述化合物，可使用例如具有烷氧基矽基、矽醇基或鈦醇基作為能和前述底塗層(Y)形成鍵結(yz)之官能基的化合物。

前述鍵結(yz)可列舉由矽原子與氧原子或鈦原子與氧原子構成之鍵結，具體而言，可列舉-Si-O-Si-鍵、-Ti-O-Si-鍵。

前述化合物之含量，相對於形成前述表面層(Z)之被覆劑之不揮發成分100質量份，為50質量份~100質量份較佳，60質量份~100質量份更佳。

前述氧化鈦，除了氧化鈦以外，可使用一般稱為含水氧化鈦、水合氧化鈦、偏鈦酸、原鈦酸、氫氧化鈦等者。

前述氧化鈦，例如可使用(3)將硫酸鈦、硫酸鈦酯、氯化鈦、烷氧化鈦等鈦化合物加熱並水解而得者、(4)將前述鈦化合物與鹼成分混合並中和而得者、(5)使氯化鈦、烷氧化鈦等予以氣相氧化而得者等。

前述氧化鈦也可使用將前述(3)或(4)獲得之氧化鈦進一步利用煅燒或水熱處理而得者。

前述氧化鈦使用前述(3)獲得之氧化鈦的話，在獲得高親水性機能方面較理想。

前述氧化鈦使用溶膠狀態者的話，能形成表面平滑性優異之表面層(Z)，故較理想。

作為能形成前述鍵結(yz)之氧化鈦，具體而言，可以列舉東亞合成(股)製「HITITAN TY-100」「HITITAN　A-1」「HITITAN　ABF-1」「ABFS-1」「ABFS-15」等。

前述氧化鈦宜使用平均粒徑為1nm~500nm者較佳，平均粒徑為1nm~100nm者更佳，平均粒徑為1nm~50nm者又更理想，使用平均粒徑為1nm~10nm者的話，在形成平滑的表面層(Z)方面特別理想。

前述氧化鈦之用量，相對於形成前述表面層(Z)之被覆劑之不揮發成分100質量份，宜為1質量份~100質量份之範圍較佳，90質量份~100質量份之範圍更佳，95質量份~100質量份之範圍更理想。

作為能使用在前述表面層(Z)形成之被覆劑，除了前述各種化合物以外，尚可視需要使用含有溶劑等者。

前述溶劑，例如使用在含有前述氟化合物之被覆劑時，可以使用全氟庚烷等氟改性脂肪族烴系溶劑；六氟間二甲苯等氟改性芳香族烴系溶劑；氫氟醚、甲基全氟丁醚、全氟(2-丁基四氫呋喃)等氟改性醚系溶劑；全氟三丁胺等氟改性烷胺系溶劑；石油醚、礦精、甲苯、二甲苯等烴系溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、2-丙醇等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑。

其中，在維持含有前述氟化合物之被覆劑之良好透濕性等的方面，宜使用六氟間二甲苯、氫氟醚、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟三丁胺等較佳。

前述溶劑使用在例如含有前述氧化鈦之被覆劑時，可以使用石油醚、礦精、甲苯、二甲苯等烴系溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、2-丙醇等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；水單體、水與水溶性溶劑之混合溶劑。其中，考量獲得前述氧化鈦之良好分散性方面，宜使用水單體、甲醇、乙醇、2-丙醇、水與水溶性溶劑之混合物較佳。

前述被覆劑除了含有前述者以外，視需要也可使用含有縮合觸媒者。

前述縮合觸媒，可將例如：鈦酸四丁酯、鈦酸四異丙酯等有機鈦酸酯；二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦、二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦等有機鈦螯合化合物；參(乙醯基丙酮) 鋁、參(乙基乙醯乙酸)鋁等有機鋁化合物；四(乙醯基丙酮) 鋯、四丁酸鋯等有機鋯化合物；辛酸二丁基錫、二月桂酸二丁基錫、二(2-乙基己酸) 二丁基錫、二月桂酸二辛基錫、二乙酸二辛基錫、二辛酸二辛基錫等有機錫化合物；環烷酸錫、油酸錫、丁酸錫、環烷酸鈷、硬脂酸鋅等有機羧酸之金屬鹽；己胺、磷酸十二胺等胺化合物、及其鹽；苄基三乙基銨乙酸酯等4級銨鹽；乙酸鉀、硝酸鋰等鹼金屬之低級脂肪酸鹽；二甲基羥胺、二乙基羥胺等二烷基羥胺；四甲基胍基丙基三甲氧基矽烷等含有胍基之有機矽化合物；有機酸(乙酸、甲烷磺酸等)、無機酸(鹽酸、硫酸等)單獨使用或組合2種以上使用。

前述硬化觸媒宜使用乙酸、鈦酸四正丁酯、二乙酸二丁基錫較佳。前述硬化觸媒，通常相對於前述氟化合物100質量份以0.01質量份~20質量份之範圍的用量較佳，0.1質量份~10質量份之範圍較佳。

使用前述被覆劑形成之表面層(Z)，在抑制硬質被覆膜之干涉條紋並賦予更優良的表面機能方面，宜為0.001μm~1μm的厚度較佳，0.002μm~0.5μm的厚度更佳。

本發明之硬質被覆膜可經由例如以下的步驟製造：(i)於前述基材之至少一面使用前述硬質被覆劑形成硬質被覆層(X)之步驟；(ii)在前述硬質被覆層(X)之表面使用前述底塗劑形成底塗層(Y)之步驟；及(iii)於前述底塗層(Y)之表面使用前述被覆劑等形成表面層(Z)之步驟。

又，宜藉由於未硬化或半硬化狀態之硬質被覆層(X’)之表面使用底塗劑形成未硬化或半硬化狀態之底塗層(Y’)後，照射活性能量射線，以使硬質被覆層(X)及底塗層(Y)全體地硬化較佳。藉此，能於前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)之間形成鍵結(xy)，能長期間持續各種表面機能之效果。

首先說明前述步驟(i)。

利用前述步驟(i)形成硬質被覆層(X)之方法，具體而言，可列舉於前述基材之單面或兩面的一部分或全部塗佈前述硬質被覆劑並乾燥，使其硬化的方法。

在前述基材之單面或兩面之一部分或全部塗佈前述硬質被覆劑之方法，例如可舉例：模塗、微照相凹版塗布、照相凹版塗布、輥塗、缺角輪塗布(comma coating)、氣刀塗布、吻合塗布、噴塗、跨越塗佈、浸塗、旋塗、輪塗(wheeler coating)、刷塗、利用絲網之整面塗布(solid coating by a silk screen)、線棒塗布(wire bar coating)、簾流塗布等方法。

前述硬化方法，例如前述硬質被覆劑為含有活性能量射線硬化性型化合物者的話，可列舉在已塗佈前述硬質被覆劑並乾燥之塗佈面照射活性能量射線並使其硬化之方法。

前述活性能量射線，例如紫外線、電子束、α射線、β射線、γ射線之類的電離放射線。

照射前述活性能量射線之裝置，例如若為紫外線，其發生源可列舉低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、無電極燈(融合燈)、化學燈、黑光燈、水銀-氙氣燈、短弧燈、氦鎘雷射、氬雷射、太陽光、LED等。

製造本發明之硬質被覆膜時，可依前述方法在透明基材的表面形成硬質被覆層(X)後，按順序疊層後述底塗層(Y)及表面層(Z)，但為了於硬質被覆層(X)與底塗層(Y)之界面獲得高密合性，也可於透明基材之表面塗佈前述硬質被覆劑並乾燥後，不照射活性能量射線、或不照射足以完全硬化之量之活性能量射線，而形成未硬化或半硬化狀態之硬質被覆層(X’)，然後，按順序疊層後述後述底塗層(Y)及表面層(Z)並製造硬質被覆膜。於此時，前述硬質被覆層(X’)會因形成前述底塗層(Y)時所照射之活性能量射線而正式硬化，形成硬質被覆層(X)。

對於前述硬質被覆層(X)之表面，為了使和前述底塗層(Y)疊層時的層間密合性更為提高，也可施以電暈處理、電漿處理等。

以下針對前述步驟(ii)説明。

前述步驟(ii)，係在於前述步驟(i)形成之硬質被覆層(X)或前述硬質被覆層(X’)之表面的表面塗佈前述底塗劑並乾燥，使其硬化之步驟。

塗佈前述底塗劑之方法，例如可舉例：模塗、微照相凹版塗布、照相凹版塗布、輥塗、缺角輪塗布、氣刀塗布、吻合塗布、噴塗、跨越塗佈、浸塗、旋塗、輪塗、刷塗、利用絲網之整面塗布、線棒塗布、簾流塗布等方法。

前述硬化方法，例如前述底塗劑為含有活性能量射線硬化型化合物者的話，可藉由對於塗佈前述底塗劑並乾燥之塗佈面照射活性能量射線並使其硬化之方法。

前述活性能量射線，例如紫外線、電子束、α射線、β射線、γ射線之類的電離放射線。

照射前述活性能量射線之裝置，例如若為紫外線，其發生源可列舉低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、無電極燈(融合燈)、化學燈、黑光燈、水銀-氙氣燈、短弧燈、氦鎘雷射、氬雷射、太陽光、LED等。

又，將前述底塗劑塗佈在未硬化或半硬化狀態之硬質被覆層(X’)的表面時，藉由對於前述底塗劑之塗佈面照射活性能量射線以形成前述硬質被覆層(X)與前述底塗層(Y)的話，在使前述層間之密合性更提高、長時間持續表面機能之效果方面，更為理想。

以下針對前述步驟(iii)説明。

前述步驟(iii)，係藉由在前述步驟(ii)形成的底塗層(Y)的表面塗佈前述被覆劑等並乾燥，以形成表面層(Z)之步驟。

於前述底塗層(Y)疊層表面層(Z)之方法，例如於前述底塗層(Y)塗佈前述被覆劑等並乾燥而去除溶劑後，施以加熱處理而形成表面層(Z)之方法。此時之處理溫度為20℃以上即已足夠，但為了使在底塗層(Y)與表面層(Z)的界面快速地形成鍵結(yz)，也可於更高溫度進行處理。前述溫度例如：於40℃以上之環境處理較佳，於60℃以上之環境處理更理想。

於前述底塗層(Y)塗佈前述被覆劑等之方法，例如模塗、微照相凹版塗布、照相凹版塗布、輥塗、缺角輪塗布、氣刀塗布、吻合塗布、噴塗、跨越塗佈、浸塗、旋塗、輪塗、刷塗、利用絲網之整面塗布、線棒塗布、簾流塗布、真空蒸鍍等方法。

又，也可將被覆劑等所含有之烷氧基矽基預先水解後使用。因水解生成之矽醇基，在多數分子間進行脫水縮合而生成Si-O-Si。脫水縮合快速地進行，生成寡聚物。也可於水解後進行熟化，而使脫水縮合充分進行。如此，藉由使用經水解、部分縮合的寡聚物，能縮短直到被覆劑硬化而形成表面層(Z)的硬化時間。

又，若將於前述底塗層(Y)之表面塗佈前述被覆劑等並形成表面層(Z)者於水蒸氣氣體環境下或有微量水分存在的氣體環境下進行加熱等的話，會使前述底塗層(Y)及表面層(Z)中也可含有的烷氧基矽基水解，形成矽醇基，其結果能以良好效率在前述矽醇基間或矽醇基與烷氧基矽基間形成因矽原子及氧原子構成的鍵結等鍵結(yz)，故較理想。

本發明之硬質被覆膜係以所謂整捲式(roll to roll)製造時，襯紙宜使用水蒸氣透射率高的材料較佳。具體而言，於基材之表面塗佈硬質被覆劑並乾燥等後，於此表面塗佈前述底塗劑並乾燥等，再於此表面塗佈前述被覆劑並乾燥等之後，將其介隔襯紙捲繞成輥狀。之後捲繞成前述輥狀後，以輥狀狀態進行熟化等。 前述襯紙即使是捲繞成輥狀的狀態，水分仍會從其端部穿透到達輥的中心部附近。所以，即使是捲繞成前述輥狀的狀態，仍會使在前述底塗層(Y)及表面層(Z)也可含有的烷氧基矽基水解，使存在於前述底塗層(Y)及表面層(Z)之前述矽醇基間或矽醇基與烷氧基矽基間之反應進行，其結果，能以良好效率形成由矽原子及氧原子構成之鍵結等鍵結(yz)。 又，藉由使用前述襯紙，能夠避免已形成表面層(Z)之面接觸前述基材之背面，所以能防止於此等界面發生黏連等。

前述襯紙，可使用例如：聚苯乙烯膜、賽珞凡、聚丙烯、聚乙烯、聚酯樹脂膜、三乙醯基纖維素膜、丙烯酸樹脂膜、含脂環族結構之熱塑性樹脂膜、聚碳酸酯樹脂膜等樹脂膜。其中，宜使用水蒸氣透過率為10g/m² ‧day以上者較佳，20g/m² ‧day以上者更佳。作為如此的水蒸氣透過率高的襯紙，可以列舉聚苯乙烯膜、賽珞凡、聚酯樹脂膜等。

前述襯紙可以使用厚度5μm~250μm之範圍者。在確保捲繞製造之硬質被覆膜時之作業性方面，宜使用厚度5μm~200μm之範圍者較佳，10μm~100μm之範圍者更佳，10μm~80μm之範圍者又更佳。

作為前述襯紙，可使用有適當任意層者。例如：於前述樹脂膜之表面具有微黏著劑層之襯紙，亦可藉由將前述微黏著劑層貼合於前述表面層(Z)之表面後使用，而作為保護前述表面層(Z)之膜。又，藉由使用有前述微黏著層之襯紙，能防止未硬化狀態之前述表面層之部分脫落。

以前述方法獲得之本發明之硬質被覆膜，只要是於表層之至少一部分有表面層(Z)露出之結構即可，上述結構以外，也可以有適當任意的層。

本發明之硬質被覆膜，於其單面或兩面之一部分或全部亦可以有裝飾層、黏著劑層。於一部分或全部設置有前述裝飾層的本發明硬質被覆膜，可以作為裝飾膜使用。又，於一部分或全部設置有前述黏著劑層的本發明硬質被覆膜，可以作為保護膜使用。

前述裝飾層，例如由文字、圖形、記號等為了賦予隱蔽性、設計而採用的框狀的鑲邊等構成者。

[裝飾層] 本發明之硬質被覆膜亦可設置裝飾層並作為裝飾膜使用。裝飾層可利用一般的印刷以設置於前述硬質被覆膜。印刷方法，例如：絹印、網版印刷、熱轉印印刷、照相凹版印刷等。

裝飾層只要是可對於硬質被覆膜賦予各種設計性者即可，無特殊限制，例如：作為影像顯示面板時在影像顯示部的周圍可見的文字、圖形、或於影像顯示部設置成框狀的黑色鑲邊狀的裝飾層等。

裝飾層之厚度宜為30μm以下，15μm以下更佳，10μm以下尤佳。藉由為該厚度之裝飾層，易獲得理想的設計性。

裝飾層可設於硬質被覆膜之單面或兩面的任意處，設於表面層(Z)上時，係設置成使表面層(Z)的一部分露出。又，使用於影像顯示裝置之顯示器用途時，通常設在影像顯示部以外的地方。

[黏著劑層] 在本發明之硬質被覆膜之一面、只有單面具有表面層(Z)時，也可於另一面設置黏著劑層而作為保護膜。前述黏著層可藉由於硬質被覆膜貼合黏著貼帶、或在硬質被覆膜之和表面層(Z)為相反之面直接塗佈黏著劑層而設置。

前述黏著劑層的厚度宜為5μm~50μm之範圍較理想，8μm~30μm之範圍更佳，10μm~25μm之範圍又更佳。本發明中，藉由設黏著劑層的厚度為該範圍，黏著可靠性優異，且能無顯著損害地維持硬質被覆膜之表面硬度。

本發明使用之黏著劑層使使用之黏著劑，可使用公知之丙烯酸系、橡膠系、矽酮系等之黏著樹脂。其中，使用含有丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑的話，在減少干涉條紋，且更提高與前述基材之密合性、透明性、耐候性等方面，較為理想。

前述丙烯酸系聚合物可使用將(甲基)丙烯酸基單體聚合而得者。前述(甲基)丙烯酸基單體，例如(甲基)丙烯酸酯，宜使用有碳原子數2~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯較佳。

前述有碳原子數2~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯，例如：丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸異辛酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異壬酯、甲基丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸月桂酯等。

作為前述(甲基)丙烯酸酯，在前述中又以使用有碳原子數4~9之烷基之 (甲基)丙烯酸烷酯較佳，使用有碳原子數4~9之烷基之丙烯酸烷酯更佳。

作為前述有碳原子數4~9之烷基之丙烯酸烷酯，為丙烯酸正丁酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸乙酯的話，易確保理想的黏著力，故更為理想。

前述具碳原子數2~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯，其用量相對於前述(甲基)丙烯酸基單體全量宜為90質量%~99質量%較佳，90質量%~96質量%之範圍的話，易確保理想的黏著力，故更為理想。

前述丙烯酸系聚合物，可使用例如具羥基、羧基、醯胺基等極性基者。

前述丙烯酸系聚合物，可藉由將含有具例如羥基、羧基、醯胺基等極性基之(甲基)丙烯酸基單體的(甲基)丙烯酸基單體予以聚合而製造。

前述具有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體，例如：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、己內酯改性(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。該等之中又以使用(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯較佳。

前述具有羧基之(甲基)丙烯酸酯單體，例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸、巴豆酸、丙烯酸或甲基丙烯酸之二聚物、環氧乙烷改性琥珀酸丙烯酸酯等。該等之中，宜使用丙烯酸較佳。

前述具醯胺基之(甲基)丙烯酸酯單體，例如：N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺、丙烯醯基啉、丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、2-(全氫鄰苯二甲醯亞胺-N-基)乙基丙烯酸酯等。該等之中又以使用N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺、丙烯醯基啉較佳。

前述其他具極性基之乙烯基系單體，例如：乙酸乙烯酯、丙烯腈、馬來酸酐、衣康酸酐等。

具極性基之(甲基)丙烯酸基單體，宜相對於前述丙烯酸系聚合物之製造使用之(甲基)丙烯酸基單體全量，於0.1質量%~20質量%之範圍使用較佳，於1質量%~13質量%之範圍使用更佳，於1.5質量%~8重量%之範圍使用的話，易調整凝聚力、保持力、黏著性在理想範圍內，故更理想。

前述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量宜為40萬~140萬較佳，60萬~120萬的話，容易調整黏著力為特定範圍，故較理想。

又，前述重量平均分子量可利用凝膠滲透層析(GPC)進行測定。更具體而言，可使用東曹(股)公司製「SC8020」GPC測定裝置，利用聚苯乙烯換算値，依以下GPC測定條件測定求出。 (GPC之測定條件) ‧樣本濃度：0.5質量%(四氫呋喃溶液) ‧樣本注入量：100μL ‧溶離液：四氫呋喃(THF) ‧流速：1.0mL/min ‧管柱溫度(測定溫度)：40℃ ‧管柱：東曹(股)公司製「TSKgel GMHHR-H」 ‧檢測器：差別折射

作為前述黏著劑，在更提高凝聚力方面，宜使用前述丙烯酸系聚合物等以外尚含有交聯劑者較佳。

前述交聯劑，例如：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、螯合物系交聯劑等。

前述交聯劑宜於形成之黏著劑層之凝膠分率成為25質量%~80質量%之範圍使用較佳，於凝膠分率成為40質量%~75質量%之範圍使用更佳，於成為50質量%~70質量%之範圍使用的話，可抑制將保護膜貼附於基材時的表面鉛筆硬度的降低，也能成為黏著性足夠者。又，本發明中，凝膠分率係將熟化後之黏著劑層浸於甲苯中，測定放置24小時後殘留的不溶成分的乾燥後質量，以相對於原本質量的百分率表達。

作為前述黏著劑，於更提高黏著力方面，可使用含有黏著賦予樹脂者。

前述黏著賦予樹脂，宜相對於前述丙烯酸系聚合物100質量份，於10質量份~60質量份之範圍使用較佳。進一步重視黏著性時，宜於20質量份~50質量份之範圍添加較佳。

作為前述黏著劑，除可使用前述以外尚可使用含有公知慣用之添加劑者。

前述添加劑，例如為提高對於玻璃基材之黏著性，宜相對於黏著劑100質量份於0.001質量份~0.005質量份之範圍添加矽烷偶聯劑較佳。再者，視需要也可添加塑化劑、軟化劑、填充劑、顏料、阻燃劑等作為其他添加劑。

[實施態樣] 本發明之硬質被覆膜因為可長期間持續防污性、防霧性等的表面機能，可適用在各種用途，其中，本發明之硬質被覆膜可理想地設置並使用在液晶顯示器(LCD)、有機EL顯示器等的表面。尤其，本發明之硬質被覆膜雖薄型但仍可達成理想的耐擦傷性、滑動性，因此用於保護電子記事本、行動電話、智慧手機、攜帶式聲音播放裝置、攜帶式電腦、平板終端等高度要求小型化、薄型化的行動電子終端之顯示器的用途係理想。 本發明之硬質被覆膜可以貼附在為了保護例如：LCD模組、有機EL模組等資訊顯示模組而設置之透明面板之表面或背面而使用。

又，本發明之硬質被覆膜，可疊層在搭載稱為所謂On-cell型或In-cell型的觸控面板機能的資訊顯示部之表面並使用。

本發明之資訊顯示裝置，例如具有本發明之硬質被覆膜介隔黏著劑層等而疊層在偏光板等非玻璃構件之表面之結構者。

前述非玻璃構件，例如偏光板。偏光板通常使用在偏光子的兩面疊層了偏光子保護層的一般品。 【實施例】

以下以實施例更具體說明本發明。

(合成例1：胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)之合成) 於配備攪拌機、氣體導入管、冷卻管、及溫度計的燒瓶中，加入乙酸丁酯250質量份、降莰烷二異氰酸酯206質量份、對甲氧基苯酚0.5質量份、二乙酸二丁基錫0.5質量份，邊吹入空氣邊升溫到70℃後，費時1小時滴加新戊四醇三丙烯酸酯(以下簡稱為「PE3A」。)與新戊四醇四丙烯酸酯(以下簡稱為「PE4A」。)之混合物(質量比75/25之混合物)795質量份。

滴加結束後，於70℃繼續前述的反應3小時，並進一步使反應進行直到代表異氰酸酯基之2250cm^-1 之紅外線吸收光譜消失為止，以獲得含有胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)與PE4A之乙酸丁酯溶液(不揮發成分80質量%，以下簡稱為「胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)溶液」)。前述胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)之分子量(計算値)為802。

(合成例2：胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)之合成) 於配備攪拌機、氣體導入管、冷卻管、及溫度計的燒瓶中加入乙酸丁酯254質量份、異佛爾酮二異氰酸酯222質量份、對甲氧基苯酚0.5質量份、二乙酸二丁基錫0.5質量份，升溫到70℃後，費時1小時滴加PE3A與PE4A之混合物(質量比75/25之混合物)795質量份。

滴加結束後，於70℃繼續前述的反應3小時，並進一步使反應進行直到代表異氰酸酯基之2250cm^-1 之紅外線吸收光譜消失為止，以獲得含有胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)與PE4A之乙酸丁酯溶液(不揮發成分80質量%，以下簡稱為「胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)溶液」)。前述胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)之分子量(計算値)為818。

(合成例3：胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)之合成) 於配備攪拌機、氣體導入管、冷卻管、及溫度計之燒瓶中加入乙酸丁酯254質量份、異佛爾酮二異氰酸酯222質量份、對甲氧基苯酚0.5質量份、二乙酸二丁基錫0.5質量份，升溫到70℃後，費時1小時滴加雙(丙烯醯氧乙基)羥基乙基異氰尿酸酯369質量份、及PE3A與PE4A之混合物(質量比75/25之混合物)398質量份。

滴加結束後，於70℃繼續前述的反應3小時，並進一步使反應進行直到代表異氰酸酯基之2250cm^-1 之紅外線吸收光譜消失為止，以獲得含有胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)與PE4A之乙酸丁酯溶液(不揮發成分80質量%，以下簡稱為「胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)溶液」)。前述胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)之分子量(計算値)為889。

(合成例4：胺甲酸酯丙烯酸酯(A4)之合成) 於配備攪拌機、氣體導入管、冷凝器及溫度計之燒瓶中加入PEA3與PEA4之混合物(質量比60/40之混合物)549.1質量份、二乙酸二丁基錫0.1質量份、Sumilizer BHT[住友化學工業(股)製抗氧化劑]0.6質量份、甲氧苯醌[精工化學工業(股)製聚合禁止劑]0.1質量份、及乙酸丁酯160.0質量份，邊混合均勻邊緩慢升溫。於到達60℃的時點，加入Desmodur H[住友拜耳胺甲酸酯(股)製六亞甲基二異氰酸酯、NCO%＝50%)90.9質量份後，於80℃使其反應5小時，獲得含有胺甲酸酯丙烯酸酯(A4)與PE4A之乙酸丁酯溶液(不揮發成分80質量%，以下簡稱為「胺甲酸酯丙烯酸酯(A4)溶液」)。

(製備例1：硬質被覆劑(1)之製備) 將合成例1獲得之胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)溶液31.3質量份、合成例2獲得之胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)溶液31.3質量份、合成例3獲得之胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)溶液25質量份、二新戊四醇六丙烯酸酯及二新戊四醇五丙烯酸酯之混合物(二新戊四醇六丙烯酸酯/二新戊四醇五丙烯酸酯＝60/40(質量比))30質量份、光聚合起始劑(BASF Japan(股)公司製「Irgacure184」、1-羥基環己基苯酮)4.5質量份攪拌均勻後，以乙酸乙酯稀釋，以製備成不揮發成分40質量%之硬質被覆劑(1)。

(製備例2：硬質被覆劑(2)之製備) 於合成例4獲得之胺甲酸酯丙烯酸酯(A4)溶液中添加乙酸丁酯，稀釋成不揮發成分濃度成為35%後，摻合光聚合起始劑(BASF Japan(股)公司製「Irgacure 184」、1-羥基環己基苯酮)3.2質量份以製備成硬質被覆劑(2)。

(製備例3：底塗劑(1)~(7)之製備) 將胺甲酸酯丙烯酸酯(A1)溶液、胺甲酸酯丙烯酸酯(A2)溶液、胺甲酸酯丙烯酸酯(A3)溶液、多官能單體(二新戊四醇六丙烯酸酯/二新戊四醇五丙烯酸酯＝60/40(質量比)))、為矽烷偶聯劑之(3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷)、光聚合起始劑(BASF Japan(股)公司製「Irgacure184」、1-羥基環己基苯酮)、乙酸乙酯、2-丙醇以下列表1記載之質量份混合，以製備成底塗劑(1)~(7)。

(製備例4：表面層形成用被覆劑(1)之製備) 將東亞合成(股)公司製「HITITAN　ABF-1」(氧化鈦之超微粒與四烷氧基矽烷之複合體，具有鈦醇基及矽醇基及烷氧基矽基)作為被覆劑(1)。

(製備例5：表面層形成用被覆劑(2)之製備) 將信越化學工業(股)公司製「X-71-190」1質量份以3M公司製「Novec7200」199質量份稀釋，以製備成不揮發成分0.1質量%之被覆劑(2)(具有烷氧基矽基及矽醇基)。

(實施例1) 於聚酯膜(東洋紡(股)公司製Cosmoshine A4300、厚度100μm)上，使用線棒塗佈前述硬質被覆劑(1)，於80℃乾燥1分鐘後，於空氣氣體環境下使用紫外線照射裝置(Eyegraphics(股)公司製「MIDN-042-C1」、燈：120W/cm、高壓水銀燈)，以照射光量0.25J/cm² 照射紫外線，獲得有厚度10μm之硬質被覆層(x1)之膜。

在獲得之膜之硬質被覆層(x1)之表面使用線棒塗佈底塗劑(1)，於85℃乾燥2分鐘後，於空氣氣體環境下和上述同樣使用紫外線照射裝置，照射照射光量0.25J/cm² 之紫外線，以獲得於厚度1μm之底塗層(y1)與前述硬質被覆層(x1)之界面形成了因(甲基)丙烯醯基之自由基聚合引起的碳-碳鍵的膜。

然後在前述膜之底塗層(y1)之表面，使用線棒#12塗佈前述表面層形成用被覆劑(1)，於85℃乾燥2分鐘，製成疊層膜。 然後，將前述疊層膜於空氣氣體環境下於23℃之環境放置一日，以製作於前述底塗層(y1)與表面層(z1)之界面形成了-Si-O-Si-鍵的硬質被覆膜。

(實施例2) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(2)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y2)、及底塗層(y2)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例3) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(3)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y3)、及底塗層(y3)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例4) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(4)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y4)、及底塗層(y4)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例5) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(5)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y5)、及底塗層(y5)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例6) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(6)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y6)、及底塗層(y6)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例7) 將硬質被覆劑(1)替換為使用硬質被覆劑(2)，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x2)與底塗層(y1)、及底塗層(y1)與表面層(z1)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例8) 將表面層形成用被覆劑(1)替換為表面層形成用被覆劑(2)，使用線棒#7進行塗佈，於85℃乾燥2分鐘而形成疊層膜。然後將疊層膜於空氣氣體環境下於60℃的環境放置一週，除此以外以和實施例1同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y1)、及底塗層(y1)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例9) 將底塗層的厚度改為2μm，除此以外以和實施例8同樣的方法獲得硬質被覆膜。獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y6)、及底塗層(y6)與表面層(z2)之界面形成鍵結之硬質被覆膜。

(實施例10) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(2)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y7)、及底塗層(y7)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例11) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(3)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y8)、及底塗層(y8)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例12) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(4)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y9)、及底塗層(y9)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例13) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(5)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y10)、及底塗層(y10)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例14) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(6)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x1)與底塗層(y11)、及底塗層(y11)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例15) 將硬質被覆劑(1)替換為使用硬質被覆劑(2)，除此以外以和實施例8同樣的方法，獲得已於硬質被覆層(x3)與底塗層(y1)、及底塗層(y1)與表面層(z2)之界面形成鍵結的硬質被覆膜。

(實施例16) 以和實施例8同樣的方法形成疊層膜後，將前述疊層膜介隔聚苯乙烯膜(旭化成化學公司製OPS膜 GM型、厚度20μm)而捲繞成輥狀。此時，使前述聚苯乙烯膜接觸使用前述表面層形成用被覆劑(1)形成之層之表面。 藉由將前述捲繞成輥狀者於空氣氣體環境下60℃之環境放置一週，以製成已於前述底塗層(y1)與表面層(z1)之界面形成-Si-O-Si-鍵的硬質被覆膜。

(比較例1) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(7)，除此以外以和實施例1同樣的方法獲得硬質被覆膜。在構成該硬質被覆膜之層間未形成鍵結。

(比較例2) 未形成底塗層(y1)，除此以外以和實施例1同樣的方法獲得硬質被覆膜。

(比較例3) 未形成底塗層(y1)與表面層(z1)，除此以外以和實施例1同樣的方法獲得硬質被覆膜。

(比較例4) 將底塗劑(1)替換為使用底塗劑(7)，除此以外以和實施例8同樣的方法獲得硬質被覆膜。在構成該硬質被覆膜之層間未形成鍵結。

(比較例5) 未形成底塗層(y1)，除此以外以和實施例8同樣的方法獲得硬質被覆膜。

(比較例6) 未形成底塗層(y1)與表面層(z2)，除此以外以和實施例8同樣的方法獲得硬質被覆膜。

(比較例7) 未形成硬質被覆層(x1)，除此以外以和實施例1同樣的方法獲得硬質被覆膜。

針對上述實施例及比較例獲得之硬質被覆膜實施以下之評價。

[水接觸角之測定] 使用協和界面科學(股)公司製之自動接觸角計「DROMPAMSTER500」，對於前述獲得之硬質被覆膜之表面層之表面滴落精製水3μL後，測定1秒後之接觸角。又，沒有表面層的硬質被覆膜的水接觸角，係就任意表面之水接觸角，以和上述同樣的方法測定。

本測定中之接觸角計算方法，係依循JIS R3257記載之試驗方法中的靜滴法。

[防污性之評價] 將食指以施加500g負荷的狀態按壓前述硬質被覆膜之表面層之表面10秒後，將此表面於3波長螢光燈下進行目視觀察。由10人的監督員進行評價，並依下列基準判定防污性。又，沒有表面層之硬質被覆膜之防污性，係就任意表面之防污性以和上述同樣的方法評價。

◎：有10~8人評價在前述硬質被覆膜之表面幾乎無指紋附著。

○：有7~5人評價在前述硬質被覆膜之表面幾乎無指紋附著。

△：有4~2人評價在前述硬質被覆膜之表面幾乎無指紋附著。

×：有未達2人評價在前述硬質被覆膜之表面幾乎無指紋附著。

＜防污性之持續性(耐久性)1[依指紋附著性之評價]＞ 對於前述硬質被覆膜之表面層之表面，邊以鋼絲絨(Bonstar#0000)施加負荷500g/cm² ，邊以30次/分的速度磨擦5000次。以目視觀察該磨擦處的狀態，以下列基準判定耐擦傷性。又，沒有表面層之硬質被覆膜之防污性，係就任意表面之防污性以和上述同樣的方法評價。又，沒有表面層之硬質被覆膜之防污性之耐久性，係依以上述條件磨擦任意表面的地方的防污性進行評價。

就前述磨擦處之防污性，以和上述[防污性之評價]記載之方法為同樣的方法評價。評價基準採用下列基準。

◎：有10~8人評價在前述硬質被覆膜之磨損處表面幾乎無指紋附著。

○：有7~5人評價在前述硬質被覆膜之磨損處表面幾乎無指紋附著。

△：有4~2人評價在前述硬質被覆膜之磨損處表面幾乎無指紋附著。

×：有未達2人評價在前述硬質被覆膜之磨損處表面幾乎無指紋附著。

＜防污性之持續性(耐久性)2[依磨損試驗後之水接觸角之評價]＞ 就前述磨擦處之水接觸角，以和上述[水接觸角之測定]之項目記載之方法為同樣的方法測定，並測定磨擦後之水接觸角。又，沒有表面層之硬質被覆膜之水接觸角，係就任意表面，以和上述同樣的方法測定以上述條件磨擦處之水接觸角。

[防霧性之評價] 將一般家庭用蒸氣型加濕器放出的水蒸氣碰觸前述硬質被覆膜之表面層之表面5秒。之後，於2秒以內在距以字體大小11印有文字(「硬質被覆膜」)的紙之表面10cm的位置設置前述硬質被覆膜。依能否通過前述硬質被覆膜而讀出印在前述紙的文字作為基準，評價防霧性。又，沒有表面層的硬質被覆膜的防霧性，則就任意表面之防霧性，以和上述同樣的方法評價。

○：能明確地讀出文字。

△：文字的輪廓不明確，但仍辨識並讀出文字。

×：無法辨識文字，不能讀出。

＜防污性之持續性(耐久性)1[依據防霧性之評價]＞ 在前述硬質被覆膜之表面層之表面放置Manaslu公司製的工業用橡皮擦 (φ6.2mm)，邊施加負荷200g，邊以30次/分的速度磨擦前述表面10次。以下列方法評價前述磨擦處之防霧性之耐久性。又，沒有表面層之硬質被覆膜之防霧性之耐久性，則就對於任意表面依上述條件磨擦處之防霧性進行評價。

就前述磨擦處之防霧性，以和上述[防霧性之評價]記載之方法為同樣的方法進行評價。評價基準採用下列基準。

○：能明確地讀出文字。

△：文字的輪廓不明確，但能辨識並讀出文字。

×：無法辨識文字，無法讀出。

由上述表可明白：實施例1~7之本發明之硬質被覆膜，是防霧性優異，且各特性之耐久性亦優良的硬質被覆膜。又，實施例8~16之本發明之硬質被覆膜，是防污性優異、且各特性之耐久性也優良的硬質被覆膜。另一方面，比較例1~3之硬質被覆膜，防霧性及/或防霧性之耐久性不足，比較例4~7之硬質被覆膜，防污性及/或防污性之耐久性不足。

Claims (5)

1. 一種硬質被覆膜，係於基材之至少一面按順序疊層有硬質被覆層(X)、底塗層(Y)及表面層(Z)；其特徵為：該硬質被覆層(X)與該底塗層(Y)形成鍵結(xy)，且該底塗層(Y)與該表面層(Z)形成鍵結(yz)，且更具有裝飾層或黏著劑層。
2. 如申請專利範圍第1項之硬質被覆膜，其中，該鍵結(xy)係利用(甲基)丙烯醯基之自由基聚合而形成之碳-碳鍵。
3. 如申請專利範圍第1或2項之硬質被覆膜，其中，該鍵結(yz)係由矽原子與氧原子或鈦原子與氧原子構成之鍵結。
4. 如申請專利範圍第1或2項之硬質被覆膜，其中，該底塗層(Y)係使用底塗劑形成，該底塗劑含有烷氧基或羥基直接鍵結於矽原子而得之矽烷化合物。
5. 一種資訊顯示裝置，疊層有如申請專利範圍第1至4項中任一項之硬質被覆膜。