TWI594147B - 導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法 - Google Patents
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Description
本發明是關於導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法。
作為設置在顯示裝置(以下,亦稱為顯示器)的顯示單元上的導電性膜,列舉例如電磁波屏蔽(electromagnetic shielding)用的導電性膜或觸控面板用的導電性膜等(例如,參照專利文獻1~專利文獻3)。
本申請人申請的專利文獻1中,揭示自動選定藉由例如顯示器的畫素排列圖案(例如黑矩陣(以下,亦稱為BM(black matrix))圖案)等第1圖案、及例如電磁波屏蔽圖案等第2圖案的各圖案資料的二維傅立葉頻譜(two-dimensional Fast Fourier Transform spectrum,2DFFTSp(二維快速傅立葉轉換頻譜))的頻譜峰值間的相對距離超過規定空間頻率、例如超過8cm-1的第2圖案資料而生成的第2圖案。
再者,專利文獻1中,亦揭示在上述相對距離未超過規定空
間頻率的情形時,重複使第2圖案資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一者以上變化來生成新的第2圖案資料直至上述相對距離超過規定空間頻率為止。
如此,專利文獻1中,可自動選定能抑制莫爾條紋(moire)的產生、亦可避免表面電阻率增大或透明性劣化的電磁波屏蔽圖案。
專利文獻2及專利文獻3中揭示可在如下的液晶顯示裝置中,降低藉由畫素排列圖案與稜鏡圖案的干涉而產生的莫爾條紋,該液晶顯示裝置包括:透明電極層或觸控面板,具有配線圖案;顯示部或顯示面板,具有畫素排列圖案;及照明裝置(背光、前光(front light)),具有導光板,該導光板具備具有微稜鏡列圖案(以下,簡單地稱作稜鏡圖案)的稜鏡片或具有該稜鏡片的稜鏡面。
尤其,專利文獻2中揭示一種反射型液晶顯示裝置,其藉由使照明裝置的導光體的導光板的稜鏡面的稜線相對於顯示面板的畫素排列的重複而傾斜,可抑制因畫素排列圖案與稜鏡面的稜鏡圖案的干涉而產生的莫爾條紋。
又,專利文獻3中揭示一種液晶顯示裝置,其藉由使背光的導光體或稜鏡片等光學片材的槽或微稜鏡的列狀圖案的間距P2、及顯示面板的畫素排列圖案的間距P1滿足規定關係式,或將兩者的關係規定在規定範圍內,而可降低因畫素排列圖案與稜鏡面的稜鏡圖案的干涉而產生的莫爾條紋圖案。
另一面,專利文獻4中揭示一種圖像顯示輸入兼用裝置,其為進行圖像輸入(原稿的讀取)與圖像顯示這雙方而包括具有圖案排列畫素的圖像顯示輸入兼用面板、及具備稜鏡片的背光。
該專利文獻4中揭示:藉由使背光的稜鏡片的微稜鏡的間距小於顯示面板的畫素排列圖案的間距,來抑制因畫素排列圖案與稜鏡面的圖案的干涉而產生的莫爾條紋。
[專利文獻1]日本專利特開2009-117683號公報
[專利文獻2]日本專利特開2002-351341號公報
[專利文獻3]日本專利特開2000-206529號公報
[專利文獻4]專利第3007008號公報
然而,例如在將觸控感測器(觸控面板)搭載在具備使用稜鏡片的背光的顯示單元的畫素排列上的外掛(out cell)方式的情形時,有必須考慮因畫素排列、稜鏡片、及觸控感測器的干涉而產生的莫爾條紋的問題。
然而,專利文獻1為如下技術,即在生成導電性膜的配線圖案時,僅根據顯示器的黑矩陣(黑矩陣)/配線圖案的頻率資訊來控制莫爾條紋頻率,從而提供視辨性優異的配線圖案,但由於僅以因顯示器的黑矩陣與導電性膜的配線圖案的干涉而產生的莫爾
條紋為對象,因此完全未考慮因顯示器的背光等照明裝置中所使用的稜鏡片等的稜鏡圖案與黑矩陣或配線圖案的干涉而產生的莫爾條紋,無法抑制因與稜鏡圖案的干涉而產生的莫爾條紋,可視辨出莫爾條紋,從而有莫爾條紋的視辨性的提高不充分的問題。
又,專利文獻2中,雖抑制因照明裝置的導光板的稜鏡面的稜鏡圖案與顯示面板的畫素排列圖案的干涉而產生的莫爾條紋,但該莫爾條紋的抑制只不過是使畫素排列圖案與稜鏡圖案這兩者的圖案排列方向傾斜,從而有在抑制因與如配線圖案般的網狀圖案的干涉而產生的莫爾條紋時存在極限的問題。
又,專利文獻2中,具有作為觸控面板發揮功能的配線圖案的是氧化銦錫(indium-tin-oxide,ITO)等透明電極,因此,從根本上說,只要可抑制因照明裝置的導光體的導光板的稜鏡面的稜鏡圖案與顯示面板的畫素排列圖案的干涉而產生的莫爾條紋即可,由此因與包含金屬細線的不透明配線圖案的干涉而產生的莫爾條紋完全不成問題,又完全不必視為問題。因此,存在如下問題,即與抑制因不透明配線圖案與稜鏡圖案的干涉、及因不透明配線圖案、畫素排列圖案及稜鏡圖案這三者的干涉而產生的莫爾條紋,來提高莫爾條紋的視辨性無關。
又,專利文獻3中,為降低莫爾條紋圖案的產生而亦具體揭示有簡單地將背光的光學片材的單純的列狀圖案的間距P2、與傾斜規定角度θ來重疊的顯示面板的單純的畫素排列圖案的間距P1的關係以規定關係式來規定或規定在規定範圍內,如專利文
獻1所揭示般,無法對畫素排列圖案應用可降低莫爾條紋的網狀配線圖案般的無規圖案,即便能應用該無規圖案,亦有在抑制因與配線圖案的干涉而產生的莫爾條紋的方面存在極限的問題。
再者,專利文獻3中,雖言及亦可應用於在觸控面板與光學片材或液晶面板之間產生的莫爾條紋,但完全未進行具體記載,且亦完全未言及觸控面板的配線,明顯是沒有考慮到觸控面板為單純的重複線狀圖案。因此,有無法應用於抑制因無規配線圖案與稜鏡圖案的干涉、及因無規配線圖案、畫素排列圖案及稜鏡圖案這三者的干涉而產生的莫爾條紋,來使莫爾條紋的視辨性提高的問題。
又,專利文獻4中,雖使背光的稜鏡片的間距小於顯示面板的畫素排列圖案的間距來防止莫爾條紋的產生,但沒有考慮到以背光的稜鏡片與顯示面板之間的莫爾條紋,又,只不過為兩圖案均為單純的列狀圖案的情形。因此,有無法應用於抑制因無規配線圖案與稜鏡圖案的干涉、及因無規配線圖案、畫素排列圖案及稜鏡圖案這三者的干涉而產生的莫爾條紋,來使莫爾條紋的視辨性提高的問題。
進而,專利文獻2~專利文獻4揭示的背光的稜鏡片的稜鏡圖案如圖21(A)所示般,包含形成有多個的剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列75,在自正面觀察稜鏡片76的情形時,如圖21(B)所示般視辨不出微稜鏡列75的稜鏡圖案77,但在自傾斜方向觀察的情形時,如圖21(C)所示般視辨出稜鏡圖案77,即
便可藉由專利文獻2~專利文獻4揭示的技術來抑制自正面觀察的情形時的莫爾條紋的產生,亦有在自傾斜方向觀察的情形時,抑制莫爾條紋的產生不充分而視辨出莫爾條紋的問題。
本發明的目的在於解決上述現有技術的問題,提供一種導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法,該導電性膜在設置在具有使用稜鏡片的背光單元的顯示裝置的顯示單元上時,可抑制莫爾條紋的產生,從而可使視辨性大幅提高。
尤其,本發明的目的在於提供一種導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法,該導電性膜在將具有配線的透明導電性膜用作觸控面板用電極的情形時,可抑制將導電性膜重疊於具備使用稜鏡片的背光單元的顯示裝置的顯示單元的黑矩陣來視辨時成為一大畫質障礙的、因稜鏡片的微稜鏡列圖案、顯示單元的畫素排列圖案及透明導電性膜的配線圖案的干涉而產生的莫爾條紋,從而可使觸控面板上的顯示的視辨性大幅提高。
為達成上述目的,本發明的第1態樣的導電性膜是設置在顯示裝置的顯示單元上者,上述顯示裝置包括:顯示單元,具有畫素排列圖案;及背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;其特徵在於包括:透明基體;及導電部,形成在透明基體的至少一面,包含多個金屬細線;導電部具有藉由多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開
口部的配線圖案,配線圖案重疊於顯示單元的畫素排列圖案,就藉由導電部的配線圖案、與位於顯示單元側的稜鏡片的微稜鏡列圖案的干涉而獲得的第1莫爾條紋而言,配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、與微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率的差分超過3週期/mm。
為達成上述目的,本發明的第2態樣的導電性膜是設置在顯示裝置的上述顯示單元上者,上述顯示裝置包括:顯示單元,具有畫素排列圖案;及背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;其特徵在於包括:透明基體;及導電部,形成在上述透明基體的至少一面,包含多個金屬細線;上述導電部具有藉由多個上述金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述配線圖案重疊於上述顯示單元的畫素排列圖案,就上述導電部的上述配線圖案、上述顯示單元的上述畫素排列圖案、及上述稜鏡片的上述微稜鏡列圖案這三者干涉而視辨出的第2莫爾條紋而言,該視辨出的第2莫爾條紋的最低頻率,較藉由上述配線圖案與上述畫素排列圖案的干涉而獲得的第3莫爾條紋的最低頻率位於高頻率側。
又,就藉由導電部的配線圖案與顯示單元的畫素排列圖案的干涉而獲得的莫爾條紋而言,較佳為配線圖案的峰值空間頻率與畫素排列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率的差分超過3週期/mm。
又,就顯示單元的畫素排列圖案與稜鏡片的微稜鏡列圖案的干涉而獲得的莫爾條紋而言,較佳為畫素排列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率與微稜鏡列圖案的峰值空間頻率的差分超過3週期/mm。
再者,較佳為導電部的配線圖案及顯示單元的畫素排列圖案的頻譜峰值是考慮有至10次項為止的頻譜峰值者。
又,畫素排列圖案較佳為黑矩陣圖案。
又,較佳為至少1片稜鏡片包含微稜鏡列圖案相互正交的2片稜鏡片。
又,較佳為導電部包括:第1導電部,形成在透明基體的一面,包含多個金屬細線;及第2導電部,形成在透明基體的另一面,包含多個金屬細線;且配線圖案是藉由將第1導電部及第2導電部加以組合而形成。
又,更佳為上述導電性膜包括:第1保護層,設置在一面上,覆蓋第1導電部;及第2保護層,設置在另一面上,覆蓋第2導電部;且基體相對於第1保護層的相對折射率、及/或基體相對於第2保護層的相對折射率為0.86以上且1.15以下。
又,更佳為上述導電性膜進而具有第1冗餘電極部,上述第1冗餘電極部形成在一面,且包含與第1導電部電性絕緣的多個金屬細線,第1導電部配置在一方向,具有多個第1感測部分別連接的多個第1導電圖案,第1冗餘電極部具有配置在鄰接的第1導電部的配線圖案彼此之間的間隙部的多個第1虛設配線
圖案,第1虛設配線圖案的配線密度與第1導電部的配線圖案的配線密度相等。
或,較佳為導電部形成在透明基體的一面。
又,為達成上述目的,本發明的第3態樣的顯示裝置的特徵在於包括:顯示單元,具有畫素排列圖案;背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;及上述第1態樣的導電性膜。
又,為達成上述目的,本發明的第4態樣的觸控面板的特徵在於包括:上述第1態樣的導電性膜;及檢測控制部,檢測自導電性膜的一面側的接觸位置或接近位置。
為達成上述目的,本發明的第5態樣的顯示裝置的特徵在於包括:顯示單元,具有畫素排列圖案,基於顯示信號而在顯示畫面上顯示圖像;背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;及上述第3態樣的觸控面板;且觸控面板的導電性膜使另一面側對向於顯示單元來配置在顯示畫面上。
為達成上述目的,本發明的第6態樣的導電性膜的圖案的決定方法是如下導電性膜的配線圖案的決定方法,上述導電性膜設置在顯示裝置的上述顯示單元上,上述顯示裝置包括:顯示單元,具有畫素排列圖案;及背光單元,具有至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;且上述導電性膜具有藉由多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配
線圖案,上述決定方法的特徵在於:獲取上述配線圖案的透過率圖像資料、及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料,對上述配線圖案的透過率圖像資料及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換,算出上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、與上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率,在各個組合中算出如此算出的上述配線圖案的多個上述峰值頻率與上述微稜鏡列圖案的1次及2次這兩個上述峰值頻率的差分,將所獲得的上述配線圖案與上述微稜鏡列圖案這兩者的上述峰值頻率的差分與3週期/mm進行比較,當在所有組合中算出的上述峰值頻率的差分均超過3週期/mm時,將上述配線圖案設定為上述導電性膜的配線圖案,當上述峰值頻率的差分為3週期/mm以下時,將上述配線圖案的透過率圖像資料變更為新的配線圖案的透過率圖像資料,重複上述峰值頻率的算出、上述峰值頻率的差分的算出、及上述峰值頻率的差分與3週期/mm的比較的各步驟直至上述所有組合的上述峰值頻率的差分均超過3週期/mm為止,相對於上述配線圖案、上述顯示單元的上述畫素排列圖案及上述稜鏡片的上述微稜鏡列圖案這三者干涉而獲得的第2莫爾條紋,而使上述配線圖案最佳化。
為達成上述目的,本發明的第7態樣的導電性膜的圖案的決定方法是如下導電性膜的配線圖案的決定方法,上述導電性膜設置在顯示裝置的上述顯示單元上,上述顯示裝置包括:顯示
單元,具有畫素排列圖案;及背光單元,具有至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;且上述導電性膜具有藉由多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述決定方法的特徵在於:獲取上述配線圖案的透過率圖像資料、上述配線圖案所重疊的、上述顯示單元的上述畫素排列圖案的透過率圖像資料、及上述顯示單元的上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料,對上述配線圖案的透過率圖像資料、上述畫素排列圖案的透過率圖像資料及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換,算出上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、上述畫素排列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率,自如此算出的上述畫素排列圖案的多個上述峰值空間頻率、上述配線圖案的多個上述峰值頻率算出上述第3莫爾條紋的頻率,自如此算出的因上述配線圖案與上述畫素排列圖案的干涉而產生的上述第3莫爾條紋的頻率而求出第3莫爾條紋的峰值頻率,在各個組合中求出如此求出的上述第3莫爾條紋的峰值頻率與上述微稜鏡列圖案的至2次項為止的上述峰值頻率的差分,而作為因上述配線圖案、上述畫素排列圖案及上述微稜鏡列圖案這三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的頻率來算出,自如此算出的多個上述第2莫爾條紋的頻率中求出視辨出的第2莫爾條紋的最低頻率,且自之前算出的
多個上述第3莫爾條紋的頻率中求出視辨出的第3莫爾條紋的最低頻率,對如此求出的上述第2莫爾條紋的最低頻率與上述第3莫爾條紋的最低頻率進行比較,在上述第2莫爾條紋的最低頻率較上述第3莫爾條紋的最低頻率位於高頻率側時,將上述配線圖案設定為上述導電性膜的配線圖案,在上述第2莫爾條紋的最低頻率為上述第3莫爾條紋的最低頻率以下的低頻率時,重複上述各步驟直至上述第2莫爾條紋的最低頻率較上述第3莫爾條紋的最低頻率成為高頻率側為止,從而相對於上述配線圖案、上述顯示單元的上述畫素排列圖案及上述稜鏡片的上述微稜鏡列圖案這三者干涉而獲得的第2莫爾條紋,使上述配線圖案最佳化。
再者,本發明的第1態樣及第2態樣中較佳的態樣,可以說分別在本發明的第6態樣及第7態樣中亦為較佳的態樣。
如以上所說明般,根據本發明,在設置在具有使用稜鏡片的背光單元的顯示裝置的顯示單元上而使用的情形時,亦可抑制莫爾條紋的產生,從而可使視辨性大幅提高。
即,本發明中,將藉由稜鏡片的微稜鏡列圖案及導電性膜的配線圖案的頻率分析而獲得的兩者的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率的差分的數值以莫爾條紋的視辨性優異的方式限定為超過規定值,因此可消除因莫爾條紋的產生而妨礙畫質,從而可獲得優異的視辨性。又,本發明中,藉由稜鏡片的微稜鏡列圖案、導電性膜的配線圖案及顯示裝置的畫素排
列圖案的干涉而獲得的莫爾條紋的頻率峰值的兩者干涉而視辨出的第2莫爾條紋的最低頻率,以較藉由配線圖案與畫素排列圖案的干涉而獲得的第3莫爾條紋的最低頻率位於高頻率側的方式來限定,因此可消除因莫爾條紋的產生而妨礙畫質,從而可獲得優異的視辨性。
尤其,根據本發明,在將導電性膜用作觸控面板用電極的情形時,可抑制將導電性膜重疊在具備使用稜鏡片的背光單元的顯示裝置的顯示單元的黑矩陣並視辨時的成為一大畫質障礙的莫爾條紋,從而可使觸控面板上的顯示的視辨性大幅提高。
10、11、80‧‧‧導電性膜
12‧‧‧透明支持體/透明基體
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16、16a、16b‧‧‧導電部
18、18a、18b‧‧‧接著層
20、20a、20b‧‧‧保護層
22‧‧‧開口部
24、82‧‧‧配線圖案
26‧‧‧冗餘電極部
30‧‧‧顯示單元
32a、32b‧‧‧偏光濾光器(偏光板)
34‧‧‧陣列基板
36‧‧‧液晶層
38‧‧‧彩色濾光片基板
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧背光單元
44‧‧‧觸控面板
44a‧‧‧輸入面
46‧‧‧框體
48‧‧‧蓋構件
50‧‧‧纜線
52‧‧‧可撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧接著層
58‧‧‧接觸體
62、62r、62g、62b‧‧‧畫素
64‧‧‧黑矩陣(黑矩陣)
66‧‧‧區域
68‧‧‧畫素排列(黑矩陣)圖案
70‧‧‧光源
72‧‧‧導光板
74a‧‧‧光源反射片材(反射板)
74b‧‧‧反射片材(反射板)
75‧‧‧微稜鏡列
76、76a、76b‧‧‧稜鏡片
77‧‧‧微稜鏡列圖案(稜鏡圖案)
78‧‧‧擴散片材
82‧‧‧配線(EC)圖案
Ph‧‧‧水平畫素間距
Pv‧‧‧垂直畫素間距
S10、S12、S14、S16、S18、S20、S22、S24、S26、S28、S30、S32‧‧‧步驟
Z1、Z2‧‧‧箭頭
圖1是示意性地表示本發明的第1實施方式的導電性膜的一例的局部放大俯視圖。
圖2是圖1所示的導電性膜的示意性局部剖面圖。
圖3是本發明的第2實施方式的導電性膜的一例的示意性局部剖面圖。
圖4是圖3所示的導電性膜的示意性俯視圖。
圖5是裝入有圖3所示的導電性膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖6是示意性地表示圖5所示的顯示裝置的具體構成的一實施例的剖面示意圖。
圖7是表示本發明的導電性膜所適用的顯示單元的彩色濾光
片(filter)基板的畫素排列圖案的一例的概略說明圖。
圖8(A)及圖8(B)分別是表示圖5所示的顯示裝置中所使用的背光的1組稜鏡片的稜鏡列圖案的一例的圖。
圖9是表示在顯示裝置的顯示單元的畫素排列圖案、導電性膜的配線圖案、及稜鏡片的稜鏡列圖案的組合中應考慮的干涉的說明圖。
圖10(A)及圖10(B)分別是本發明中所使用的稜鏡片的透過率圖像及該FFT圖像的一例。
圖11是表示本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的一例的流程圖。
圖12是表示本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的另一例的流程圖。
圖13(A)是表示本發明的導電性膜所適用的顯示單元的背光單元的稜鏡片的微稜鏡列圖案的一例的概略說明圖,圖13(B)是表示本發明的導電性膜的配線圖案的一例的概略說明圖,圖13(C)是表示圖13(B)的導電性膜的配線圖案所重疊的顯示單元的畫素排列圖案的一例的概略說明圖,圖13(D)是圖13(C)的畫素排列圖案的局部放大圖。
圖14是表示在圖11所示的配線圖案的決定方法的透過圖像資料的生成中進行的翻轉處理的一例的概略說明圖。
圖15是表示圖13(C)所示的顯示單元的畫素排列圖案的頻譜峰值的位置的曲線圖的一例。
圖16是將以圖11所示的配線圖案的決定方法求出的稜鏡片的微稜鏡列圖案(PS)、導電性膜的配線圖案(EC)及顯示單元的畫素排列圖案(黑矩陣)的峰值頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖的一例。
圖17(A)及圖17(B)分別是將作為本發明的對象的顯示單元的畫素排列圖案(黑矩陣)及導電性膜的配線圖案(EC)的峰值頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖、及將畫素排列圖案(黑矩陣)與配線圖案(EC)的莫爾條紋的頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖的一例。
圖18是將作為本發明的對象的稜鏡片的微稜鏡列圖案(PS)的峰值頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖的一例。
圖19是以圖11所示的配線圖案的決定方法求出的稜鏡片的微稜鏡列圖案、導電性膜的配線圖案及顯示單元的畫素排列圖案這三者的莫爾條紋(3-MOIRE,3-莫爾條紋)的頻率、配線圖案及畫素排列圖案這兩者的莫爾條紋(2-MOIRE,2-莫爾條紋)的頻率、微稜鏡列圖案(PS)的峰值頻率的曲線圖的一例。
圖20是表示人的標準視覺響應特性的一例的曲線圖。
圖21(A)是背光的稜鏡片的一例的剖面圖,圖21(B)及圖21(C)分別是表示自正面及傾斜方向觀察圖21(A)所示的稜鏡片的情形時的稜鏡片的週期性的圖。
以下,參照隨附的圖式所示的較佳實施方式,對本發明
的導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法進行詳細說明。
以下,對於本發明的導電性膜,以觸控面板用的導電性膜為代表例進行說明,但本發明並不限定於此,若為設置在具備使用稜鏡片的背光的顯示裝置即液晶顯示器(LCD:Liquid Crystal Display)、電漿顯示器(PDP:Plasma Display Panel)、有機電致發光(electroluminescence)顯示器(OELD:Organic ElectroLuminescence Display)或無機電致發光顯示器等顯示裝置的顯示單元上的導電性膜,則為任意者均可,例如當然亦可為電磁波屏蔽用的導電性膜等。
圖1及圖2分別是示意性地表示本發明的第1實施方式的導電性膜的一例的局部放大俯視圖及其示意性的局部剖面圖。再者,圖1中放大表示本實施方式的導電性膜的網形狀配線圖案的一部分。
如該等圖所示般,本實施方式的導電性膜10為設置在具備使用稜鏡片的背光的顯示裝置的顯示單元上者,且為如下的導電性膜,其具有相對於稜鏡片的微稜鏡列圖案(以下,稱為稜鏡圖案)及顯示單元的黑矩陣(BM:Black Matrix)而在抑制莫爾條紋的產生的方面優異的配線圖案、尤其在重疊於黑矩陣圖案(以下,稱為黑矩陣圖案)時相對於稜鏡圖案及黑矩陣圖案而在莫爾條紋的視辨性的方面最佳化的配線圖案,且如圖2所示般包括:透明基體12;導電部16,形成在透明基體12的一面(圖2中為上側
的面),包含多個金屬製的細線(以下,稱為金屬細線)14;及保護層20,以覆蓋金屬細線14的方式經由接著層18而接著在導電部16的大致整個表面。
透明基體12包含具有絕緣性且透光性高的材料,可列舉例如樹脂、玻璃、矽等材料。作為樹脂,列舉例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate,PMMA)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯(polystyrene,PS)等。
導電部16如圖1所示般包括:金屬細線14;及網(mesh)形狀的配線圖案24,由鄰接的金屬細線14間的開口部22形成。金屬細線14若為導電性高的金屬製的細線,則不受特別限制,可列舉包含例如金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)線材等者。金屬細線14的線寬自視辨性的方面而言越細越好,例如為30μm以下即可。再者,在觸控面板的用途中,金屬細線14的線寬較佳為0.1μm以上且15μm以下,更佳為1μm以上且9μm以下,進而佳為2μm以上且7μm以下。
導電部16詳細而言包括將多個金屬細線14排列成網狀而成的配線圖案24。圖示例中,開口部22的網形狀為菱形,但本發明並不限定於此,若可構成相對於後述的規定稜鏡圖案及規定黑矩陣圖案而莫爾條紋視辨性最佳化的配線圖案24,則若為至少具有3邊的多邊形狀則可為任意形狀,又,亦可為相同的網形狀,亦可為不同的網形狀,可列舉例如正三角形、等腰三角形等三角
形、或正方形、長方形等四邊形(矩形)、或五邊形或六邊形等相同或不同的多邊形等。即,若為相對於稜鏡圖案及黑矩陣圖案而莫爾條紋視辨性最佳化的配線圖案,則亦可為藉由具有規則性的開口部22的排列而構成的配線圖案,亦可為藉由不同形狀的開口部22的排列而無規化的配線圖案。
作為接著層18的材料,列舉濕式層壓接著劑、乾式層壓接著劑、或熱熔(hot melt)接著劑等。
保護層20與透明基體12相同地,含有包含樹脂、玻璃、矽的透光性高的材料。保護層20的折射率n1較佳為與透明基體12的折射率n0相等或接近於其的值。該情形時,透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1成為接近於1的值。
於此,本說明書的折射率是指波長589.3nm(鈉的D射線)的光的折射率,例如對於樹脂,以國際標準規格ISO(International Standardization Organization,國際標準化組織)14782:1999(對應於JIS(Japanese Industrial Standards,日本工業標準)K7105)來定義。又,透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1以nr1=(n1/n0)來定義。於此,相對折射率nr1處於0.86以上且1.15以下的範圍即可,更佳為0.91以上且1.08以下。
藉由將相對折射率nr1的範圍限定在該範圍來控制透明基體12與保護層20這兩個構件間的光的透過率,而可使莫爾條紋的視辨性進一步提高,從而得到改善。
上述的第1實施方式的導電性膜10僅在透明基體12的一面具有導電部16,但本發明並不限定於此,亦可在透明基體12的兩面具有導電部。
圖3是表示本發明的第2實施方式的導電性膜的一例的示意性局部剖面圖。圖4中示意性地表示圖3所示的該第2實施方式的導電性膜的俯視圖。再者,圖4所示的該實施方式的導電性膜的局部放大俯視圖,與圖1所示的第1實施方式的導電性膜的局部放大俯視圖相同,因此於此省略。
如圖3及圖4所示般,該第2實施方式的導電性膜11包括:第1導電部16a及冗餘電極部26,形成在透明基體12的一側(圖3的上側)面;第2導電部16b,形成在透明基體12的另一側(圖3的下側)面;第1保護層20a,經由第1接著層18a而接著在第1導電部16a及第1冗餘電極部26的大致整個表面;及第2保護層20b,經由第2接著層18b而接著在第2導電部16b的大致整個表面。
導電性膜11中,第1導電部16a及冗餘電極部26分別包含多個金屬細線14,且均形成在透明基體12的一側(圖3的上側)面,第2導電部16b包含多個金屬細線14,且形成在透明基體12的另一側(圖3的下側)面。於此,冗餘電極部26與第1導電部16a相同地形成在透明基體12的一側(圖3的上側)面,但如圖示例般,包含同樣排列在與形成在另一側(圖3的下側)面的第2導電部16b的多個金屬細線14對應的位置的多個金屬細
線14。
冗餘電極部26與第1導電部16a隔開僅規定間隔而配置,且處於與第1導電部16a電性絕緣的狀態下。
本實施方式的導電性膜11中,亦在透明基體12的一側(圖3的上側)面形成有冗餘電極部26,該冗餘電極部26包含與形成在透明基體12的另一側(圖3的下側)面的第2導電部16b的多個金屬細線14對應的多個金屬細線14,因此可控制透明基體12的一側(圖3的上側)面上的由金屬細線所引起的散射,從而可改善電極視辨性。
於此,第1導電部16a及冗餘電極部26具有由金屬細線14及開口部22形成的網狀的配線圖案24。又,第2導電部16b與第1導電部16a相同地,具有由金屬細線14及開口部22形成的網狀的配線圖案24(參照圖4)。如上述般,透明基體12包含絕緣性材料,第2導電部16b處於與第1導電部16a及冗餘電極部26電性絕緣的狀態下。
再者,第1導電部16a、第2導電部16b及冗餘電極部26,分別可由與圖2所示的導電性膜10的導電部16相同的材料相同地形成。
第1保護層20a以覆蓋第1導電部16a及冗餘電極部26各自的金屬細線14的方式,藉由第1接著層18a而接著在第1導電部16a及冗餘電極部26的大致整個表面。
又,第2保護層20b以覆蓋第2導電部16b的金屬細線14的
方式,藉由第2接著層18b而接著在第2導電部16b的大致整個表面。
於此,第1接著層18a及第2接著層18b,可分別由與圖2所示的導電性膜10的接著層18相同的材料相同地形成,但第1接著層18a的材質與第2接著層18b的材質可相同亦可不同。
又,第1保護層20a及第2保護層20b,可分別由與圖2所示的導電性膜10的保護層20相同的材料相同地形成,但第1保護層20a的材質與第2保護層20b的材質可相同亦可不同。
第1保護層20a的折射率n2及第2保護層20b的折射率n3,均與上述第1實施方式的導電膜10的保護層20相同地為與透明基體12的折射率n0相等或接近於其的值。該情形時,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2、及透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr3均為接近於1的值。於此,折射率及相對折射率的定義為如上述第1實施方式的定義所述。因此,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2以nr2=(n2/n0)來定義,透明基體12相對於第1保護層20b的相對折射率nr3以nr2=(n3/n0)來定義。
於此,相對折射率nr2及相對折射率nr3與上述的相對折射率nr1相同地處於0.86以上且1.15以下的範圍即可,更佳為0.91以上且1.08以下。
再者,藉由將相對折射率nr2及相對折射率nr3的範圍限定在該範圍,而可與相對折射率nr1的範圍的限定相同地使莫爾條紋
的視辨性進一步提高。
上述的本發明的第1實施方式的導電性膜10及第2實施方式的導電性膜11,應用於例如後述的圖5中示意性地表示的顯示單元30(顯示部)的觸控面板,但為具有相對於顯示單元30的畫素排列圖案、即黑矩陣(以下,稱為黑矩陣)圖案及顯示單元30的背光單元42的稜鏡片76的稜鏡圖案而在莫爾條紋視辨性方面最佳化的配線圖案者。再者,本發明中,相對於黑矩陣(畫素排列)圖案及稜鏡圖案而在莫爾條紋視辨性方面最佳化的配線圖案,是指相對於規定黑矩陣圖案及稜鏡圖案而莫爾條紋不會被人的視覺察覺到的1個或2個以上的1群配線圖案。再者,本發明中,最佳化的2個以上的1群配線圖案中,可自最察覺不到的配線圖案至難以察覺的配線圖案來賦予序列,亦可決定最察覺不到莫爾條紋的1個配線圖案。
再者,至於配線圖案相對於規定黑矩陣圖案及稜鏡圖案的莫爾條紋視辨性的最佳化將於下文敍述。
本發明的導電性膜基本上以如上般構成。
其次,參照圖5及圖6對裝入有本發明的導電性膜的顯示裝置進行說明。
圖5是裝入有圖3中所示的導電性膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。圖6是示意性地表示圖5所示的顯示裝置的具體構成的剖面示意圖。
圖5及圖6中,作為顯示裝置40,以列舉裝入有本發明的第
2實施方式的導電性膜11的投影型電容方式的觸控面板為代表例進行說明,但本發明當然並不限定於此。
如圖5所示般,顯示裝置40包括:顯示單元30(參照圖3),可顯示彩色圖像及/或單色圖像;顯示單元30的背光單元42;觸控面板44,檢測自輸入面44a(箭頭Z1方向側)的接觸位置;及框體46,收容顯示單元30、背光單元42及觸控面板44。使用者可經由設置在框體46的一面(箭頭Z1方向側)的大的開口部而接近(access)於觸控面板44。
觸控面板44除包括上述的導電性膜11(參照圖1及圖3)之外,還包括:蓋構件48,積層在導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側);可撓性基板52,經由纜線50與導電性膜11電性連接;及檢測控制部54,配置在可撓性基板52上。
導電性膜11經由接著層56而接著在顯示單元30的一面(箭頭Z1方向側)。導電性膜11使另一主面側(第2導電部16b側)對向於顯示單元30而配置在顯示畫面上。
蓋構件48藉由覆蓋導電性膜11的一面而發揮作為輸入面44a的功能。又,藉由防止接觸體58(例如手指或筆尖)的直接接觸而可抑制擦痕的產生或塵埃的附著等,從而可使導電性膜11的導電性穩定。
蓋構件48的材質例如亦可為玻璃、樹脂膜。亦可使蓋構件48的一面(箭頭Z2方向側)在以氧化矽等塗佈的狀態下密接於導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側)。又,為防止由刮擦等
所引起的損傷,亦可貼合導電性膜11及蓋構件48來構成。
可撓性基板52為具備可撓性的電子基板。在本圖示例中,該可撓性基板52固定在框體46的側面內壁,但配置位置可進行各種變更。檢測控制部54構成電子電路,其在將作為導體的接觸體58接觸(或接近)於輸入面44a時,捕捉接觸體58與導電性膜11之間的電容的變化來檢測該接觸體58的接觸位置(或接近位置)。
顯示單元30如圖6所示般為液晶顯示面板,自圖中下側起包括:偏光濾光器(偏光板)32a;陣列基板34,包含配線、薄膜電晶體(Thin-Film Transistor,TFT)電路、及成為子畫素的電極等;液晶層36,包含液晶材料;彩色濾光片基板38,包含彩色濾光片、黑矩陣(BM64:參照圖7)、及共用電極等;及偏光濾光器(偏光板)32b。
作為顯示單元30的構成要素的一對偏光濾光器32a、偏光濾光器32b、陣列基板34、液晶層36、及彩色濾光片基板38並無特別限制,可使用先前周知者。
再者,顯示單元30並不限定於圖6所示的液晶顯示面板的情況如上述所述。
圖7是示意性地表示應用本發明的導電性膜的顯示單元的彩色濾光片基板的畫素排列圖案的一例的概略說明圖。
如圖7所示般,在顯示單元30的彩色濾光片基板38上呈矩陣狀排列有多個畫素62而構成規定畫素排列圖案。1個畫素62
由3個副畫素(紅色副畫素62r、綠色副畫素62g及藍色副畫素62b)沿水平方向排列而構成。將1個副畫素設為在垂直方向上為縱長的長方形狀。將畫素62的水平方向的排列間距(水平畫素間距Ph)與畫素62的垂直方向的排列間距(垂直畫素間距Pv)設為大致相同。即,由1個畫素62及包圍該1個畫素62的黑矩陣(黑矩陣)64(圖案材料)構成的形狀(參照以斜線表示的區域66)成為正方形。又,1個畫素62的縱橫比不為1,而為水平方向(橫向)的長度>垂直方向(縱向)的長度。
如自圖7所得知般,由多個畫素62的各個副畫素62r、副畫素62g及副畫素62b構成的畫素排列圖案,藉由分別包圍該等副畫素62r、副畫素62g及副畫素62b的黑矩陣64的黑矩陣圖案68而規定,在將顯示單元30與導電性膜10或導電性膜11重疊時產生的莫爾條紋,是藉由顯示單元30的彩色濾光片基板38的黑矩陣64的黑矩陣圖案68、導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24及背光單元42的稜鏡片76的稜鏡圖案77(參照圖21(A))的干涉而產生,因此嚴格而言,黑矩陣圖案68為畫素排列圖案的反轉圖案,但於此,處理為表示相同的圖案者。
當在具有由上述黑矩陣64構成的黑矩陣圖案68的顯示單元30的顯示部上配置例如導電性膜10或導電性膜11的情形時,導電性膜11的配線圖案24相對於黑矩陣(畫素排列)圖案68而在莫爾條紋視辨性方面最佳化,在畫素62的排列週期、導電性膜10或導電性膜11的金屬細線14的配線排列、及背光單元42
的稜鏡片76的微稜鏡75(參照圖21(A))的排列之間幾乎不存在空間頻率的干涉,從而抑制莫爾條紋的產生。
再者,圖7所示的顯示單元30除由圖示例的液晶面板構成之外,亦可由電漿面板、有機電致發光面板、無機電致發光面板等顯示面板構成。
背光單元42用以射出面狀光並供給該面狀光作為顯示單元30的背光,該面狀光在整個面具有均勻的亮度分佈,更佳為具有吊鐘形狀的亮度分佈,即在中央部具有均勻的亮度分佈,且在極周邊部亮度降低,如圖6所示般,該背光單元42配置在顯示單元30的背面側即圖中下側,包括:光源70;導光板72;光源反射片材(反射板)74a,配置在光源70的背側;反射片材(反射板)74b,配置在導光板72的背面側及端面側;2片稜鏡片76(76a、76b),配置在導光板72的表面側(顯示單元30側);及擴散片材78,配置在稜鏡片76上。
於此,光源70照射朝導光板72的入射面入射的光,可使用對向於光入射面而配置且與光入射面平行地延伸的螢光管、雷射二極體(Laser Diode,LD)陣列、發光二極體(Light-emitting Diode,LED)陣列等先前周知的光源。再者,光源70並不限定於配置在導光板72的4邊中的如圖示例般的1邊的光入射面,亦可配置在對向的2邊的光入射面、相互對向的4邊的光入射面。
導光板72包含透明的平板,在顯示單元30側具有矩形狀的光出射面,且在包含光出射面的4邊的4個側面中的至少1
者具有光入射面,該導光板72用以將自光源70出射且自光入射面入射的光沿與光出射面平行的內部方向傳輸。
導光板72在圖示例中為長方體狀的平板,本發明並不限定於此,與光出射面對向的背面亦可為以自光入射面側向另一端側厚度變厚或變薄的方式傾斜,亦可為以中央部成為凸部或凹部的方式向中央部傾斜,亦可為如串列(tandem)型般分段傾斜。
又,導光板72為了促進入射光向與光出射面平行的內部方向的傳輸,或為了促進入射光向與顯示單元30側的光出射面的行進,及為了在內部反射入射光,亦可為在內部分散有使入射光散射的散射粒子者。
再者,導光板72較佳為以光出射面上的出射光的亮度分佈至少在中央部分的整個面變得均勻的方式,調整其形狀或內部的散射粒子的分散狀態而得者。
光源反射片材74a除配置在導光板72的光入射面以外,還以自光源70的背側覆蓋光源70的方式配置,為用以使自光源70出射且未入射至導光板72的光入射面的光反射至光入射面側者。
反射片材74b以覆蓋導光板72的整個背面、及在圖示例中與光入射面對向的整個端面的方式配置,為用以使自光源70出射且自導光板72的光入射面入射並自背面及端面出射的光反射,並再次自背面及端面入射至導光板72的內部者。
稜鏡片76用以使自導光板72的光出射面(尤其為中央
區域)出射的光的亮度分佈在光出射面上更均勻,較佳為具備2片稜鏡片76a、稜鏡片76b,該2片稜鏡片76a、稜鏡片76b如圖21(A)所示般為形成有剖面形狀為微小的三角形的平行的多個微稜鏡列75的透明片材,較佳為如圖5所示的例子般列狀的微稜鏡列75的排列方向、即微稜鏡列圖案(稜鏡圖案)77相互大致正交。
將該2片稜鏡片76a及76b的稜鏡圖案分別示於圖8(A)及圖8(B)中。再者,得知圖8(A)所示的稜鏡片76a的稜鏡圖案77的間距為50μm,傾斜角為138°,圖8(B)所示的稜鏡片76b的稜鏡圖案77的間距為50μm,傾斜角為50°,且兩圖案77大致正交。
再者,本發明中所使用的稜鏡片76的稜鏡圖案77的間距並未特別限制,但自抑制藉由顯示單元30的黑矩陣64、導電性膜10的導電部16或導電性膜11的導電部16a、導電部16b及背光單元42的稜鏡片76的干涉而產生的莫爾條紋的必要性的方面而言,較佳為20μm~50μm。
擴散片材78用以使自導光板72的光出射面(尤其為中央區域)出射的光的亮度分佈在光出射面上更均勻,用以使透過稜鏡片76,較佳為透過2片稜鏡片76a、稜鏡片76b而得的光的亮度分佈均勻,並且使照度不均等更不易被視辨出。在藉由上述稜鏡片76(76a、76b)而將導光板72的出射光的不均降低至不會被視辨出的程度的情形時,亦可不設置擴散片材78。
再者,稜鏡片76(76a、76b)或擴散片材78為用以將自背光
單元42出射的光的不均除去的光學片材(光學構件),因此亦可根據需要而增減其片數,當然可使用對抑制光的不均有效果的其他光學膜。
再者,本發明中所使用的背光單元並不限定於圖6所示的背光單元42,若為使用稜鏡片者、及代替稜鏡片而使用具有稜鏡面的導光板或導光片材者,則可使用以專利文獻2~專利文獻4揭示的背光為代表的先前周知的背光,又,並不限定於圖示例的邊緣發光(edge light)(側光或導光板)方式的背光,當然亦可為直下型。
在如上述般構成的顯示裝置40中,對於在背光單元42的稜鏡片76的規定稜鏡圖案77、顯示單元30的規定黑矩陣圖案68、及導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24之間必須考慮的干涉,則可如以下般來考慮。將該結果示於圖9。
如圖9所示般,黑矩陣(畫素排列)圖案、配線圖案及稜鏡圖案(稜鏡片),分別在光學上具有表示平均透過率的0頻率分量、及表示頻率特性的頻率分量,於此,分別設為直流電(direct current,DC)分量與交流電(alternating current,AC)分量。於此,在黑矩陣(畫素排列)圖案、配線圖案及稜鏡圖案(稜鏡片)之間針對莫爾條紋的產生而必須考慮的干涉,存在由2個交流電分量所引起的干涉的3種情況、及由3個交流電分量所引起的干涉的1種情況。
於此,在由2個交流電分量所引起的干涉的3種情況中
黑矩陣圖案與稜鏡圖案為交流電分量的干涉的情形時,例如可藉由專利文獻2~專利文獻4等揭示的周知的現有技術來消除因兩者的干涉而產生的莫爾條紋,在黑矩陣圖案與配線圖案為交流電分量干涉的情形時,例如亦可藉由專利文獻1等揭示的周知的現有技術等來消除因兩者的干涉而產生的莫爾條紋。
然而,在由2個交流電分量所引起的干涉的3種情況中的配線圖案及稜鏡圖案為交流電分量的干涉的情形時、及由黑矩陣圖案、配線圖案及稜鏡圖案這3個交流電分量所引起的干涉的情形時產生的莫爾條紋,並非被充分消除。
因此,本發明中,至少對該等2種情況進行配線圖案的最佳化,從而可抑制因配線圖案及稜鏡圖案這兩者、以及因黑矩陣圖案、配線圖案及稜鏡圖案這三者的干涉而產生的莫爾條紋,因此,可提供一種導電性膜,其具有可抑制使用該等三者時的莫爾條紋的產生的配線圖案。
由此,在如上述般構成的本實施方式的顯示裝置40中,針對因稜鏡片76的稜鏡圖案77與顯示單元30的黑矩陣圖案68這兩者的干涉而產生的莫爾條紋,可藉由以上述專利文獻2~專利文獻4等揭示的技術為代表的先前周知的技術,而使稜鏡圖案77與黑矩陣圖案68最佳化。
因此,於此,在進行配線圖案24的最佳化時,稜鏡片76的稜鏡圖案77與顯示單元30的黑矩陣圖案68為預先設定者,已完成兩者圖案的最佳化,從而視辨不出因兩者的干涉而產生的莫爾
條紋。
再者,對於因顯示單元30的規定黑矩陣圖案68、導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24這兩者的干涉而產生的莫爾條紋,可藉由以上述專利文獻1等揭示的技術為代表的先前周知的技術,或藉由本申請人申請的日本專利特願2011-221432號、日本專利特願2012-082706號、日本專利特願2012-082711號及日本專利特願2012-166946號的說明書所記載的技術,而使黑矩陣圖案68與配線圖案24最佳化,從而可抑制莫爾條紋的產生。
由此,首先第1:在本發明的第1實施方式中,對於因導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24與稜鏡片76的稜鏡圖案77的干涉而產生的莫爾條紋,以使配線圖案24的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、與稜鏡圖案77的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率的差分(莫爾條紋的頻率)超過3週期/mm的方式,來使配線圖案24最佳化。
首先開始進行用以抑制由配線圖案24與稜鏡圖案77的干涉而產生的莫爾條紋的配線圖案的最佳化的原因在於:與由3個圖案的干涉而產生的莫爾條紋相比,由2個圖案的干涉而產生的莫爾條紋的強度強,從而更易於被視辨出。
於此,對於稜鏡圖案77,僅考慮二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率的原因在於,二維傅立葉頻譜的頻譜峰值隨著成為高次而峰值強度衰減,在2次項成為大致1/10
左右,較3次項為高次項的峰值強度較此更低,即便無視亦不會成為能視辨出的程度的莫爾條紋,從而不會產生大問題。
例如,圖10(A)表示稜鏡片(Prism Sheet,PS)的透過率圖像的一例。再者,稜鏡片的透過率分佈亦會因稜鏡片的製造廠家而不同,又,即便為相同的稜鏡片,亦會因視角而不同,於此,作為其一例,示出微稜鏡的間距為50μm的例子。將對圖10(A)所示的稜鏡片的透過率圖像的圖像資料進行快速傅立葉轉換(Fast Fourier Transform,FFT)處理而得的該透過率圖像的快速傅立葉轉換圖像示於圖10(B)。圖10(B)所示的快速傅立葉轉換圖像中,頻譜峰值為微稜鏡的間距的倒數,因此,圖10(B)所示的例子中,以20週期/mm=(1[mm]/(50[μm]/[間距])表示。該等頻譜峰值的峰值強度在以log10(峰值強度)的絕對值來表示的情形時,自中心依序下降至0.09、0.74、0.82、1、及1.4。因此,亦如自該例所得知般,若考慮至頻譜峰值的2次項為止,則峰值強度成為大致1/10,自莫爾條紋的視辨性方面而言妥當。附帶而言,若考慮3次項,則計算精度提高,但過於耗費計算時間而不實用。
因此,本發明中,對於稜鏡圖案77,考慮二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率。
又,就莫爾條紋而言,2個圖案的頻譜峰值的空間頻率在空間(座標)上的距離越近,即2個圖案的頻譜峰值的峰值空間頻率的差分、即莫爾條紋的頻率越小,則越易於視辨出莫爾條
紋,因此存在可最先視辨出莫爾條紋的頻率,若將該頻率設為最低頻率,則只要為較最低頻率高的頻率則視辨不出莫爾條紋。
由此,本發明中,將上述2個圖案的全峰值空間頻率間的差分(莫爾條紋的頻率)設為超過3週期/mm的原因在於:藉此使3週期/mm成為可視辨出莫爾條紋的最低頻率以上,且可使兩圖案的全峰值空間頻率間的差分為較最低頻率高的頻率。
再者,本發明中,即便上述2個圖案的峰值空間頻率間的差分(莫爾條紋的頻率)在3週期/mm以內,根據2個圖案的頻譜峰值的峰值強度的不同,亦有視辨不出莫爾條紋的情形,但如圖8(A)及圖8(B)所示般,在自正面觀察的情形時及自傾斜方向觀察的情形時,稜鏡圖案的頻譜峰值的峰值強度大幅變化,即若視角變化則峰值強度亦變化,因此不考慮峰值強度而僅藉由峰值頻率進行最佳化的方法為佳且可靠。
其次,第2,在本發明的第2實施方式中,針對由背光單元42的稜鏡片76的規定稜鏡圖案77與顯示單元30的規定黑矩陣圖案68與導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24與這三者的干涉產生莫爾條紋,以該視辨出的莫爾條紋的最低頻率,較藉由配線圖案24與黑矩陣圖案68的干涉所得的莫爾條紋的最低頻率靠近高頻率側的方式來使配線圖案24最佳化。
該理由是:若為藉由該等這三者的干涉而視辨出的莫爾條紋的最低頻率,較藉由配線圖案與黑矩陣圖案的干涉所得的莫爾條紋的最低頻率靠近高頻率側,則即便為稜鏡圖案與配線圖案的組
合,稜鏡圖案與黑矩陣圖案的組合,進而,稜鏡圖案與配線圖案與黑矩陣圖案的組合,亦視辨不出莫爾條紋。
再者,藉由稜鏡圖案77、黑矩陣圖案68、及配線圖案24這三者的干涉而獲得的莫爾條紋,可認為是因藉由三者中的兩者例如黑矩陣圖案68與配線圖案24這兩者的干涉而產生的莫爾條紋的重複圖案、與三者中的剩餘一者例如稜鏡圖案77的重複圖案的干涉而產生的莫爾條紋。
因此,若以藉由上述三者中的兩者例如黑矩陣圖案68與配線圖案24這兩者的干涉而產生的莫爾條紋的頻率峰值(頻譜峰值)的頻率(峰值頻率)、與上述三者中的剩餘一者例如稜鏡圖案77的峰值頻率的差分來求出的藉由上述三者的干涉而視辨出的莫爾條紋的最低頻率,較藉由黑矩陣圖案68與配線圖案24這兩者的干涉而獲得的莫爾條紋的最低頻率位於高頻率側,則可視辨不出因上述三者的干涉而產生的莫爾條紋,從而可使上述三者最佳化。因此,當然可相對於稜鏡圖案77與黑矩陣圖案68最佳化的顯示裝置而使配線圖案24最佳化。
再者,進而對於藉由配線圖案24與黑矩陣圖案68的干涉而獲得的莫爾條紋,配線圖案24的峰值空間頻率與黑矩陣圖案68的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率的差分,較佳為超過3週期/mm。
又,對於藉由黑矩陣圖案68與稜鏡圖案77的干涉而獲得的莫爾條紋,黑矩陣圖案的峰值空間頻率與稜鏡圖案77的峰值空間
頻率的差分,較佳為超過3週期/mm。
上述設定的原因在於,藉由該等,在任一情形時均視辨不出該等2個圖案間的莫爾條紋。
應用本發明的導電性膜的顯示裝置基本上如上述般構成。
其次,對本發明中導電性膜的配線圖案相對於顯示裝置的背光單元的稜鏡片的規定稜鏡圖案及顯示單元的規定黑矩陣圖案的莫爾條紋視辨性的評估及最佳化的步驟進行說明。即,相對於顯示裝置的背光單元的稜鏡片的規定稜鏡圖案及顯示單元的規定黑矩陣圖案,而以莫爾條紋不被人的視覺察覺到的方式對決定本發明的導電性膜中的最佳化的配線圖案的步驟進行說明。
本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式如圖11所示般,算出顯示裝置的背光單元的稜鏡片的稜鏡(微稜鏡列)圖案與導電性膜的配線圖案的藉由使用快速傅立葉轉換(FFT)的頻率分析而獲得的稜鏡圖案的至2次項為止的各頻譜峰值的峰值空間頻率、與配線圖案的多個頻譜峰值的峰值空間頻率,並自算出的兩圖案的各頻譜峰值的峰值空間頻率算出兩圖案的頻譜峰值間的峰值空間頻率的差分,將滿足在各頻譜峰值間算出的峰值空間頻率的差分均超過3週期/mm的條件的配線圖案,決定為以視辨不出第1莫爾條紋的方式進行最佳化的配線圖案。
本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第2實施方式如圖12所示般,進行顯示裝置的背光單元的稜鏡片的稜鏡圖案、顯示單元的畫素排列(黑矩陣)圖案及導電性膜的配線圖案
這三者的使用快速傅立葉轉換(FFT)的頻率分析,算出上述三者干涉而視辨出的第2莫爾條紋的頻率,且自算出的第2莫爾條紋的頻率中決定第2莫爾條紋的最低頻率,並且算出藉由配線圖案與黑矩陣圖案的干涉而獲得的第3莫爾條紋的頻率,且自算出的第3莫爾條紋的頻率中決定第3莫爾條紋的最低頻率,將滿足第2莫爾條紋的最低頻率較第3莫爾條紋的最低頻率位於高頻率側的條件的配線圖案,決定為以視辨不出第2莫爾條紋的方式進行最佳化的配線圖案。
再者,該等本發明的方法中,對於莫爾條紋的頻率,通常使用快速傅立葉轉換,但因利用方法的不同而導致對象物的頻率大幅變化,因此規定以下步驟。
首先,參照圖11,對本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式進行說明。
圖11是表示本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式的一例的流程圖。
再者,圖11所示的例子中,並不是分開單獨進行本發明的方法的第1實施方式及第2實施方式,而是在本發明的方法的第1實施方式之後進行第2實施方式,但本發明的方法並不限定於此,當然亦可分開進行。
本發明的方法的第1實施方式中,首先,作為步驟1,進行生成稜鏡圖案、配線圖案及黑矩陣圖案的透過率圖像資料。即,如圖11所示般,在步驟S10中,生成並獲取圖5所示的顯示裝置40
的背光單元42的稜鏡片76的稜鏡圖案77(參照圖8(A)、圖8(B))的透過率圖像資料、導電性膜80的配線圖案82(金屬細線14)(參照圖13(B))的透過率圖像資料、及顯示單元30的黑矩陣圖案68(黑矩陣64)(參照圖7)的透過率圖像資料。再者,在預先準備有或儲存有黑矩陣圖案68的透過率圖像資料、配線圖案82的透過率圖像資料、及稜鏡圖案77的透過率圖像資料的情形時,亦可自準備或儲存的圖像資料中獲取。於此,生成稜鏡圖案、配線圖案及黑矩陣圖案的透過率圖像資料的原因在於,為預測莫爾條紋而必須準確知道各圖案的間距。
稜鏡片76的稜鏡圖案77例如圖13(A)所示般,設為規定角度例如傾斜50°的規定間距的平行的傾斜線狀圖案。再者,本發明中,作為微稜鏡列75的圖像資料、即稜鏡圖案77的透過率圖像資料,並不限定於圖13(A)所示者,傾斜角度、間距或微稜鏡列75的剖面形狀為任意者均可。
另一方面,導電性膜80的配線圖案82可如例如圖13(B)所示般,設為成為配線的金屬細線14傾斜45°(deg)的正方格子。
顯示單元30的黑矩陣圖案68可如例如圖13(C)及作為其局部放大圖的圖13(D)所示般,設為每1畫素62包含RGB的3色副畫素62r、副畫素62g及副畫素62b的圖案,但在利用單色,例如在僅利用G通道的副畫素62g時,較佳為R通道及B通道的透過率圖像資料設為0。本發明中,作為黑矩陣64的圖像資料、即黑矩陣圖案68的透過率圖像資料,並不限定於如圖13(C)
所示般具有黑矩陣64的長方形的開口(副畫素62r、副畫素62g及副畫素62b)者,若為可使用的黑矩陣圖案,則亦可為不具有黑矩陣64的長方形的開口者,亦可指定具有任意黑矩陣開口的黑矩陣圖案而使用。例如,並不限定於為單純的矩形狀者,亦可為彎曲成複雜的“U”字者或鉤狀者。
再者,於此,規定稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的透過率圖像資料的尺寸,例如設為4096(畫素)×4096(畫素)。又,為了防止或減少後述的步驟2的快速傅立葉轉換處理時的週期偽像(artifact),較佳為稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各圖像如圖14所示般,在所有方向(8個方向)進行翻轉(flip)處理。進行翻轉處理之後的新的圖像尺寸較佳為設為以圖14中的虛線包圍的4個圖像大小的區域內的圖像(一邊為8192(畫素)=4096(畫素)×2)。
其次,作為步驟2,對在步驟1中生成的透過率圖像資料進行二維快速傅立葉轉換(2DFFT(基底2))。即,如圖11所示般,在步驟S12中,對在步驟S10中生成的稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各透過率圖像資料進行二維快速傅立葉轉換(基底2)處理,算出稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率。
再者,雖未圖示,但分別求出稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的二維傅立葉頻譜的強度特性,求出所求出的強度特
性中的頻譜峰值在頻率座標上的位置、即峰值位置作為峰值頻率。
此時,對於稜鏡圖案77,如上述般考慮二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率即可。
於此,如以下般算出並獲取稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各頻譜峰值的峰值頻率。
首先,在獲取峰值頻率時,對於峰值的算出,自稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的基頻求出頻譜峰值(頻率峰值)。其原因在於,進行二維快速傅立葉轉換處理的透過率圖像資料為離散值,因此峰值頻率依賴於圖像尺寸的倒數。頻譜峰值的位置可如圖15所示般,以獨立的二維基頻向量分量a橫標(bar)及b橫標為基礎來組合表示。因此,當然,所獲得的峰值位置成為格子狀。再者,圖15是表示黑矩陣圖案68的情形時的頻譜峰值位置的曲線圖,但稜鏡圖案77、配線圖案82均可相同地求出。
圖16中表示將如此獲得的稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各頻譜峰值(頻率峰值)的峰值頻率在二維空間頻率座標上繪圖而得的圖。圖中,菱形表示導電性膜10、導電性膜11的配線圖案EC的峰值頻率,四邊形表示顯示單元30的黑矩陣圖案(黑矩陣)的峰值頻率,×標記表示稜鏡片76的稜鏡圖案(稜鏡片)的峰值頻率。在圖16所示的例子中得知,黑矩陣圖案68是相對於格子狀的配線圖案82而傾斜規定角度(大致60°)的格子狀圖案,稜鏡圖案77是相對於配線圖案82而傾斜規定角度(大致45°)的平行圖案。
其次,作為步驟3,算出2個圖案的峰值頻率的差分、即第1莫爾條紋的頻率。於此例如,存在如稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68般的有2種規則性圖案的情形時的莫爾條紋的頻率,以在各個基本空間頻率特性的整數(參照圖15)中顯現出的峰值彼此的差、及和來表示。
於此,如圖11所示般,在步驟S14中,自步驟S12中算出的稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68中的各2個圖案的二維傅立葉頻譜的峰值頻率算出其差分、即莫爾條紋的頻率。
實空間中,莫爾條紋原本是因稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68中的各2個圖案的透過率圖像資料的相乘而產生的,因此在頻率空間中,進行兩者的褶積積分(convolution)。然而,由於在步驟S12中算出稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各二維傅立葉頻譜的峰值頻率,因此求出各2個圖案這兩者的各自峰值頻率彼此的差分(差的絕對值)。可將所求出的2個圖案的峰值頻率的差分設為莫爾條紋的頻率。
於此,在將其中的2個圖案的二維傅立葉頻譜的強度特性重疊而獲得的強度特性中,稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68中的各2個圖案的二維傅立葉頻譜的強度特性的各峰值頻率彼此的差分,相當於2個圖案的各頻譜峰值在頻率座標上的峰值位置間的相對距離。
再者,稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68中的各圖案的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值分別存在有多個,因此其中的2
個頻譜峰值間的相對距離的值即頻譜(頻率)峰值彼此的差分(峰值頻率的差分)、即莫爾條紋的頻率亦求出有多個。因此,若在2個圖案中存在多個二維傅立葉頻譜的頻譜峰值,則所求出的莫爾條紋的頻率資訊亦為多個,因而計算處理耗費時間。該情形時,亦可預先對各圖案的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值分別求出峰值強度,僅選定峰值強度強者。例如,如上述般在稜鏡圖案77的情形時,若選定至2次項為止的頻譜峰值即可,在配線圖案82及黑矩陣圖案68的情形時,例如在對人的標準視覺響應特性(參照圖20)進行褶積時,亦可僅選定特定強度以上者。該情形時,僅求出所選定的峰值彼此的差分,因此可縮短計算時間。
其次,作為步驟4,進行決定莫爾條紋的視辨性最佳化的配線圖案。
於此,如圖11所示般,在步驟S16中,將步驟S14中算出的稜鏡圖案(稜鏡片)77與配線圖案(EC)82這兩者的頻譜峰值的峰值頻率的差分與3週期/mm進行比較,來判定是否超過3週期/mm。
其結果,例如在將稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各頻譜峰值(頻率峰值)的峰值頻率在二維空間頻率座標上繪圖而得的圖16的曲線圖中,在以圓圈包圍的位置,以×標記表示的稜鏡圖案EC的頻譜峰值的至2次項為止的峰值頻率、與以菱形表示的配線圖案EC的峰值頻率接近,且成為3週期/mm以下,從而產生可視辨出的莫爾條紋。
再者,步驟S16中,亦可代替稜鏡圖案(稜鏡片)77與配線圖案(EC)82的峰值頻率的差分,或除該差分之外還將步驟S14中算出的配線圖案(EC)82與黑矩陣圖案(黑矩陣)68這兩者的頻譜峰值的峰值頻率的差分、或步驟S14中算出的稜鏡圖案(稜鏡片)77與黑矩陣圖案(黑矩陣)68這兩者的頻譜峰值的峰值頻率的差分與3週期/mm進行比較,來判定是否超過3週期/mm。
因此,在該峰值的頻率的差分為3週期/mm以下的情形時,轉移至步驟S18,將配線圖案82的透過率圖像資料更新為新的配線圖案的透過率圖像資料後,返回至步驟S12。
於此,更新而得的新的配線圖案既可為預先準備者,亦可為新生成者。再者,在新生成的情形時,亦可使配線圖案的透過率圖像資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一者以上變化,亦可變更配線圖案的開口部的形狀或尺寸。進而,亦可使該等具有無規性。
其後,重複步驟S12的峰值頻率的算出、步驟S14的峰值頻率的差分的算出、步驟S16的稜鏡片與配線圖案EC這兩者的峰值頻率的差分(及/或配線圖案EC與黑矩陣這兩者的峰值頻率的差分)與3週期/mm的比較、及步驟S18的配線圖案的透過率圖像資料的更新的各步驟,直至稜鏡片與配線圖案EC這兩者的峰值頻率的差分超過3週期/mm為止。
另一方面,在稜鏡片與配線圖案EC這兩者的峰值頻率的差分超過3週期/mm的情形時,轉移至步驟S22,將配線圖案82決定
為最佳化配線圖案,且設定為本發明的導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24。
再者,僅實施本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式,在該步驟4的步驟S16中,將稜鏡圖案(稜鏡片)77與配線圖案(EC)82的峰值頻率的差分與3週期/mm進行比較來僅判定是否超過3週期/mm的情形時,只要求出稜鏡圖案(稜鏡片)77及配線圖案(EC)82的峰值頻率或其等的差分(莫爾條紋的頻率)即可,因此無需步驟S10中的顯示單元30的黑矩陣圖案(黑矩陣)68的透過率圖像資料的生成、步驟S12中的黑矩陣圖案(黑矩陣)68的峰值頻率的算出、及步驟S14中的稜鏡圖案(稜鏡片)77或配線圖案(EC)82與黑矩陣圖案(黑矩陣)68這兩者間的峰值頻率的差分、即莫爾條紋的頻率的算出等,因此較佳為省略該等中的與黑矩陣圖案(黑矩陣)68相關的處理。
然而,如圖11所示般,在本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式之後實施第2實施方式的情形時,較佳為預先進行與上述黑矩陣圖案(黑矩陣)68相關的處理。
如此,結束本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第1實施方式而可製作出本發明的導電性膜,該導電性膜即便重疊於具備具有稜鏡片的背光的顯示裝置的顯示單元的黑矩陣圖案亦可抑制莫爾條紋的產生,從而莫爾條紋的視辨性優異,且具有最佳化的配線圖案。
再者,在實施本發明的方法的第1實施方式時,顯示單元的
黑矩陣圖案(黑矩陣)與稜鏡圖案(稜鏡片)的莫爾條紋的視辨性,較佳為藉由上述現有技術等最佳化,又,配線圖案(EC)與黑矩陣圖案(黑矩陣)的莫爾條紋的視辨性,較佳為藉由上述現有技術或本申請人申請的說明書中記載的技術等而最佳化,但在該等中的至少一者的莫爾條紋的視辨性未最佳化的情形時,在該第1實施方式中,亦可進行黑矩陣與稜鏡片的峰值頻率的差分、或黑矩陣與配線圖案EC的峰值頻率的差分與3週期/mm的比較而最佳化,當然亦可藉由上述現有技術或本申請人申請的說明書中記載的技術等而最佳化。
其次,參照圖12對本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第2實施方式進行說明。
圖12是表示本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第2實施方式的一例的流程圖。
再者,圖12所示的本發明的方法的第2實施方式是在圖11所示的本發明的方法的第1實施方式之後實施第2實施方式者,因此步驟S10的稜鏡片76的稜鏡圖案77、導電性膜80的配線圖案82及顯示單元30的黑矩陣圖案68的各透過率圖像資料的生成、及步驟S12的2DFFT稜鏡圖案77、配線圖案82及黑矩陣圖案68的各圖案的峰值頻率的算出已結束。
於此,圖17(A)中表示將步驟S12中算出的黑矩陣圖案(黑矩陣)68及配線圖案(EC)82的峰值頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖的一例。再者,圖17(A)中,黑點表示黑矩陣圖
案(黑矩陣)68的峰值頻率,空心四邊形表示配線圖案(EC)82的峰值頻率,配線圖案(EC)82表示相對於格子狀的黑矩陣圖案(黑矩陣)68而傾斜規定角度的格子狀圖案。
又,圖18中表示將步驟S12中算出的稜鏡圖案(稜鏡片)77的峰值頻率在空間頻率座標上繪圖而得的曲線圖的一例。圖18中,稜鏡圖案(稜鏡片)77表示平行圖案。
如此,步驟S12中,調查稜鏡片的頻率特性,且求出稜鏡片的峰值頻率。再者,於此亦如上述般無需峰值強度,僅知道頻率峰值位置即可,因此知道稜鏡片的間距即可。圖18表示稜鏡片的間距為20μm的情形時的一例。再者,於此,稜鏡片的峰值頻率如上述般只要求出至頻譜峰值的2次項為止即可。
其次,如圖12所示般,在步驟S12之後,在步驟S24中,自步驟S12中算出的配線圖案(EC)與黑矩陣圖案(黑矩陣)這兩個圖案的頻譜峰值的峰值頻率,算出配線圖案EC與黑矩陣這兩者的頻譜峰值間的峰值頻率的差分,從而算出因配線圖案EC與黑矩陣這兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的頻率,抽取(算出)所算出的第3莫爾條紋的頻率作為第3莫爾條紋的峰值頻率(頻率峰值)。
例如,步驟S24中,自步驟S12中算出的利用2DFFT的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的頻譜峰值的峰值頻率、及此時同時求出的峰值強度(向量強度:參照圖15),算出配線圖案EC與黑矩陣這兩者的峰值頻率的差分(絕對值),並且算出配線圖案EC與黑
矩陣這兩者的峰值向量強度的積(絕對值)。使人的視覺響應特性(參照圖20)作用於如此算出的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的峰值頻率的差分及峰值向量強度的積,即進行卷積(卷積積分)而算出特定強度以上的莫爾條紋的頻率及強度。
由此,如圖17(B)所示般,可成為僅殘留有特定強度以上的第3莫爾條紋的狀態。
圖17(B)表示因具有圖17(A)所示的峰值頻率的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的干涉而產生的莫爾條紋中的規定強度以上的第3莫爾條紋的頻率。
再者,可求出如此算出的規定強度以上的第3莫爾條紋的頻率作為第3莫爾條紋的峰值頻率。
其次,步驟S26中,算出在步驟S12中算出的圖18所示的稜鏡片的各峰值頻率、與在步驟S24中算出的圖17(B)所示的因配線圖案EC與黑矩陣這兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的各峰值頻率的差分,且算出因稜鏡片、配線圖案EC、及黑矩陣這三者的干涉而產生的多個第2莫爾條紋的頻率。
圖19中表示將如此自圖16所示的稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的各峰值頻率而在步驟S26獲得的因稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的頻率、在步驟S24獲得的因配線圖案EC與黑矩陣這兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的頻率、及在步驟S12獲得的稜鏡片的峰值頻率在二維空間頻率座標上繪圖而得的圖。圖中,菱形表示因三者的干涉而
產生的第2莫爾條紋的頻率峰值,四邊形表示稜鏡片的頻率峰值,三角形表示因配線圖案EC與黑矩陣這兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的頻率峰值。
如圖19所示般,因三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的頻率峰值集中在原點附近,因兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的頻率峰值與稜鏡片的頻率峰值處於接近的位置,表示視辨出第2莫爾條紋。因此,本實施方式中,進行以下步驟。
繼而,在步驟S28中,自步驟S26中算出的因稜鏡圖案(稜鏡片)、配線圖案(EC)及黑矩陣圖案(黑矩陣)這三者的干涉而產生的多個第2莫爾條紋的頻率,選出第2莫爾條紋的最低頻率A。
另一方面,在步驟S30中,自步驟S24中算出的因配線圖案(EC)與黑矩陣圖案(黑矩陣)這兩者的干涉而產生的多個第3莫爾條紋的頻率,選出該第3莫爾條紋的最低頻率B。即,如上述般,自步驟S24中獲得的黑矩陣與配線圖案EC的第3莫爾條紋的頻率,例如自圖17(B)所示的黑矩陣與配線圖案EC的第3莫爾條紋的頻率選出最低頻率,藉此可求出因黑矩陣與配線圖案EC這兩者的干涉而產生的第3莫爾條紋的最低頻率B。
繼而,在步驟S32中,對步驟S28中選出的第2莫爾條紋的最低頻率A與步驟S30中選出的第3莫爾條紋的最低頻率B進行比較,來判定第2莫爾條紋的最低頻率A是否較第3莫爾條紋的最低頻率B為高頻率。
其結果,在第2莫爾條紋的最低頻率A較第3莫爾條紋的最低頻率B不為高頻率(為相等或低頻率)的情形時,轉移至圖11的步驟S18,將配線圖案82的透過率圖像資料更新為新的配線圖案的透過率圖像資料後,返回至步驟S12。
其後,重複圖11所示的步驟S12的稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的各峰值頻率的算出、圖12所示的步驟S24的配線圖案EC及黑矩陣這兩者的第3莫爾條紋的頻率(峰值頻率)的算出、步驟26的第2莫爾條紋的頻率的算出、步驟S28的最低頻率A的抽取、步驟30的第3莫爾條紋的最低頻率B的抽取、步驟S32的最低頻率A與最低頻率B的比較、及圖11的步驟18的配線圖案的透過率圖像資料的更新的各步驟,直至最低頻率A較最低頻率B為高頻率為止。
另一方面,在圖12的步驟S32中最低頻率A較最低頻率B為高頻率的情形時,轉移至圖11的步驟S22,將配線圖案82決定為最佳化配線圖案,並設定為本發明的導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24。
如此,結束本發明的導電性膜的配線圖案的決定方法的第2實施方式而可製作出本發明的導電性膜,該導電性膜即便重疊於具備具有稜鏡片的背光的顯示裝置的顯示單元的黑矩陣圖案,亦均可抑制兩者及三者的莫爾條紋的產生,莫爾條紋的視辨性優異,從而具有最佳化的配線圖案。
本發明的方法的第2實施方式中,亦可在步驟S24之後立即
進行步驟S30,即在步驟S24與步驟S26之間進行步驟S30,亦可在步驟S24與步驟S26之間進行步驟12的稜鏡圖案(稜鏡片)77的峰值頻率的算出。
再者,可如上述般,在圖12的步驟S24中,使圖20所示的人的標準視覺響應特性作用於即相乘(卷積)於自步驟S12中獲得的利用2DFFT的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的頻譜峰值的峰值頻率、及此時同時求出的峰值強度(向量強度)而算出的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的峰值頻率的差分及峰值向量強度的積,而算出第3莫爾條紋的頻率。即,將表示圖20所示的人的標準視覺響應特性的一例的視覺傳遞函數(VTF:Visual Transfer Function),卷積於所獲得的配線圖案EC與黑矩陣這兩者的峰值頻率的差分及峰值向量強度的積。該視覺傳遞函數以杜利-肖(Dooley Shaw)函數為基本來消除低頻分量的感度的衰減。
本發明中,作為人的標準視覺響應特性,使用視覺明晰狀態下且觀察距離為300mm的杜利-肖函數。杜利-肖函數為視覺傳遞函數(VTF)的一種,且為模擬人的標準視覺響應特性的代表性的函數。具體而言,相當於亮度的對比度特性的平方值。再者,曲線圖的橫軸為空間頻率(單位:週期(cycle)/mm),縱軸為視覺傳遞函數的值(單位為無因次)。
若將觀察距離設為300mm,則在0週期/mm~1.0週期/mm的範圍,視覺傳遞函數的值為固定(等於1),且有隨著空間頻率變高而視覺傳遞函數的值逐漸減少的傾向。即,該函數作為
屏蔽中空間頻段~高空間頻段的低通濾波器(low-pass filter)發揮功能。
再者,實際的人的視覺響應特性在0週期/mm附近成為比1小的值,即具有所謂的帶通濾波器(band-pass filter)的特性。然而,本發明中,如圖20所例示般,藉由即便在極低的空間頻段亦使視覺傳遞函數的值為1,來消除低頻分量的感度的衰減。藉此,可獲得抑制因配線圖案82的重複配置所引起的週期性的效果。
以上,針對本發明的導電性膜、具備其的顯示裝置及觸控面板、以及導電性膜的圖案的決定方法,列舉各種實施方式及實施例進行了說明,但本發明並不限定於上述實施方式及實施例,當然亦可在不脫離本發明的要旨的範圍內,進行各種改良或設計的變更。
例如,上述本發明的方法的第2實施方式中,求出因配線圖案(EC)與黑矩陣圖案(黑矩陣)這兩者的干涉而產生的多個第3莫爾條紋的峰值頻率,且自該第3莫爾條紋的峰值頻率與稜鏡圖案(稜鏡片)的峰值頻率,求出因稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的干涉而產生的多個第2莫爾條紋的頻率,但本發明並不限定於此,亦可求出因稜鏡片與配線圖案EC這兩者的干涉而產生的莫爾條紋的峰值頻率,並自該莫爾條紋的峰值頻率與剩餘的黑矩陣的峰值頻率,求出因稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的頻率,又,亦可求出因稜鏡片與黑矩陣這兩者的干涉而產生的莫爾條紋的峰值頻率,並自該莫爾條
紋的峰值頻率與剩餘的配線圖案EC的峰值頻率,求出因稜鏡片、配線圖案EC及黑矩陣這三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的頻率。
S10、S12、S14、S16、S18、S20、S22‧‧‧步驟
Claims (10)
- 一種導電性膜,設置在顯示裝置的顯示單元上,上述顯示裝置包括:上述顯示單元,具有黑矩陣圖案;及背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;上述導電性膜的特徵在於包括:透明基體;及導電部,形成在上述透明基體的至少一面,包含多個金屬細線;且上述導電部具有藉由上述多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述配線圖案重疊於上述顯示單元的上述黑矩陣圖案,就藉由上述導電部的上述配線圖案、與位於上述顯示單元側的上述稜鏡片的微稜鏡列圖案的干涉而獲得的第1莫爾條紋而言,上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、與上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的峰值空間頻率的差分超過3週期/mm。
- 一種導電性膜,設置在顯示裝置的顯示單元上,上述顯示裝置包括:上述顯示單元,具有黑矩陣圖案;及背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡 片;上述導電性膜的特徵在於包括:透明基體;及導電部,形成在上述透明基體的至少一面,包含多個金屬細線;且上述導電部具有藉由上述多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述配線圖案重疊於上述顯示單元的上述黑矩陣圖案,就上述導電部的上述配線圖案、上述顯示單元的上述黑矩陣圖案、及上述稜鏡片的微稜鏡列圖案這三者干涉而視辨出的第2莫爾條紋而言,該視辨出的第2莫爾條紋的最低空間頻率,較藉由上述配線圖案與上述黑矩陣圖案的干涉而獲得的第3莫爾條紋的最低空間頻率存在於較高頻率側。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中上述至少1片稜鏡片包含上述微稜鏡列圖案相互正交的2片稜鏡片。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中上述導電部包括:第1導電部,形成在上述透明基體的一面,包含多個金屬細線;及第2導電部,形成在上述透明基體的另一面,包含多個金屬細線; 第1冗餘電極部,形成在上述透明積體的一面,包含與上述第1導電部電性絕緣的多個金屬細線;且上述配線圖案是藉由將上述第1導電部及上述第2導電部加以組合而形成,上述第1導電部配置在一方向,具有分別連接多個第1感測部的多個第1導電部的配線圖案,上述第1冗餘電極部具有配置在鄰接的上述第1導電部的上述配線圖案彼此之間的間隙部的多個第1虛設配線圖案,上述第1虛設配線圖案的配線密度與上述第1導電部的上述配線圖案的配線密度相等。
- 如申請專利範圍第4項所述的導電性膜,其進而包括:第1保護層,設置在上述一面上,覆蓋上述第1導電部及上述第1冗餘電極部;及第2保護層,設置在上述另一面上,覆蓋上述第2導電部;且上述透明基體相對於上述第1保護層的相對折射率及上述透明基體相對於上述第2保護層的相對折射率為0.86以上且1.15以下。
- 一種顯示裝置,其特徵在於包括:顯示單元,具有黑矩陣圖案; 背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;及如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜。
- 一種觸控面板,其特徵在於包括:如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜;及檢測控制部,用以檢測接觸體在上述導電性膜對向於顯示單元的一面上的接觸位置或接近位置。
- 一種顯示裝置,其特徵在於包括:顯示單元,具有黑矩陣圖案,基於顯示信號而在顯示畫面上顯示圖像;背光單元,具備至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;及如申請專利範圍第7項所述的觸控面板;且上述觸控面板的上述導電性膜的另一面面向於上述顯示單元來配置在上述顯示畫面上。
- 一種導電性膜的圖案的決定方法,其是如下導電性膜的配線圖案的決定方法,上述導電性膜設置在顯示裝置的顯示單元上,上述顯示裝置包括:上述顯示單元,具有黑矩陣圖案;及背光單元,具有至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片,且上述導電性膜具有藉由多個金屬細線形成為 網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述導電性膜的圖案的決定方法的特徵在於:獲取上述配線圖案的透過率圖像資料、及上述稜鏡片的微稜鏡列圖案的透過率圖像資料,對上述配線圖案的透過率圖像資料及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換,算出上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的第1峰值空間頻率、與上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的第2峰值空間頻率,在各個組合中算出上述配線圖案的多個上述第1峰值空間頻率與上述微稜鏡列圖案的至2次項為止的上述第2峰值空間頻率的差分,將所獲得的上述配線圖案與上述微稜鏡列圖案這兩者的上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分與3週期/mm進行比較,當在所有組合中算出的上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分超過3週期/mm時,將上述配線圖案設定為上述導電性膜的配線圖案,當上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分為3週期/mm以下時,將上述配線圖案的透過率圖像資料變更為新的配線圖案的透過率圖像資料,重複上述第1峰值空 間頻率與第2峰值空間頻率的算出、上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分的算出、及上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分與3週期/mm的比較的各步驟直至上述所有組合的上述第1峰值空間頻率與第2峰值空間頻率的差分均超過3週期/mm為止,相對於上述配線圖案、上述顯示單元的上述黑矩陣圖案及上述稜鏡片的上述微稜鏡列圖案這三者干涉而獲得的第2莫爾條紋,而使上述配線圖案最佳化。
- 一種導電性膜的圖案的決定方法,其是如下導電性膜的配線圖案的決定方法,上述導電性膜設置在顯示裝置的顯示單元上,上述顯示裝置包括:上述顯示單元,具有黑矩陣圖案;及背光單元,具有至少1片形成有剖面形狀為微小三角形的平行的微稜鏡列的稜鏡片;且上述導電性膜具有藉由多個金屬細線形成為網狀的、排列有多個開口部的配線圖案,上述導電性膜的圖案的決定方法的特徵在於:獲取上述配線圖案的透過率圖像資料、上述配線圖案所重疊的、上述顯示單元的上述黑矩陣圖案的透過率圖像資料、及上述顯示單元的上述稜鏡片的微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的步驟,對上述配線圖案的透過率圖像資料、上述黑矩陣圖案的透過率圖像資料及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立 葉轉換,算出上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值空間頻率、上述黑矩陣圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的第1峰值空間頻率、及上述微稜鏡列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的至2次項為止的頻譜峰值的第2峰值空間頻率的步驟,自如此算出的上述黑矩陣圖案的多個上述第1峰值空間頻率、上述配線圖案的多個上述第2峰值空間頻率算出第3莫爾條紋的空間頻率的步驟,自如此算出的因上述配線圖案與上述黑矩陣圖案的干涉而產生的上述第3莫爾條紋的空間頻率而求出上述第3莫爾條紋的第3峰值空間頻率的步驟,在各個組合中求出上述第3莫爾條紋的上述第3峰值空間頻率與上述微稜鏡列圖案的至2次項為止的上述第2峰值空間頻率的差分,而作為因上述配線圖案、上述黑矩陣圖案及上述微稜鏡列圖案這三者的干涉而產生的第2莫爾條紋的空間頻率來算出的步驟,自如此算出的多個上述第2莫爾條紋的空間頻率中求出視辨出的上述第2莫爾條紋的最低空間頻率,且自之前算出的多個上述第3莫爾條紋的空間頻率中求出視辨出的上述第3莫爾條紋的最低空間頻率, 對如此求出的上述第2莫爾條紋的最低空間頻率與上述第3莫爾條紋的最低空間頻率進行比較的步驟,在上述第2莫爾條紋的最低空間頻率較上述第3莫爾條紋的最低空間頻率位於更高頻率側時,將上述配線圖案設定為上述導電性膜的配線圖案,在上述第2莫爾條紋的最低空間頻率為上述第3莫爾條紋的最低空間頻率以下的低頻率時,重複上述各步驟直至上述第2莫爾條紋的最低空間頻率較上述第3莫爾條紋的最低空間頻率成為更高頻率側為止,從而相對於上述配線圖案、上述顯示單元的上述黑矩陣圖案及上述稜鏡片的上述微稜鏡列圖案這三者干涉而獲得的上述第2莫爾條紋,使上述配線圖案最佳化。
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