TWI586427B - 用於調節過濾器裝配的系統和方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 52
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 title description 31
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 112
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 109
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims description 70
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 66
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 62
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 47
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 41
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 13
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 11
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 9
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 3
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 2
- 230000002262 irrigation Effects 0.000 claims 4
- 238000003973 irrigation Methods 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 5
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- LZCLXQDLBQLTDK-BYPYZUCNSA-N ethyl (2S)-lactate Chemical compound CCOC(=O)[C@H](C)O LZCLXQDLBQLTDK-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D41/00—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids
- B01D41/04—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids of rigid self-supporting filtering material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/62—Regenerating the filter material in the filter
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/22—Directing the mixture to be filtered on to the filters in a manner to clean the filters
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D37/00—Processes of filtration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
- B01D65/027—Cleaning of other parts of the apparatus than the membrane
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Description
本發明係屬於用於調節過濾器裝配的系統和方法。
許多行業(包括微電子行業及醫藥行業)中所用之化學品必須極純。此等行業通常需要在使用時對此等化學品進行極精細過濾以移除可能中斷所用製程或破壞所製造產品的任何污染物。用於過濾此等化學品之過濾器裝配一般具有可滲透過濾介質。化學品將流過該過濾介質,且該化學品中之任何污染物將被截留在過濾介質內或過濾介質之表面上。
在過濾化學品之前,過濾器裝配可經調節以防止該過濾器裝配本身向化學品中引入污染物。一般而言,將沖洗液吹洗通過過濾器裝配以移除過濾器裝配內可能含有的任何污染物,即使新製造之過濾器裝配亦如此。沖洗液可為與待過濾化學品相容的任何液體。對於毒性較低或較便宜化學品,沖洗液可以是化學品本身。更通常,沖洗液可為化學品之較低毒性或較便宜液體組分或化學品之液體溶劑。在吹洗過濾器裝配時,沖洗液可置換過濾器裝配內的任何氣體且帶走過濾器裝配中所含之任何氣體及其他污染物。吹洗後,填充有沖洗液的經調節過濾器裝配可儲存及/或裝運,且其可在自過濾器裝配移除沖洗液之後用於過濾化學品。
實施本發明之系統及方法可用於每次調節一個或每次調節
若干個過濾器裝配。各過濾器裝配可包括過濾介質、入口、通風孔及出口。過濾介質可具有在過濾器裝配內的上游側及下游側。入口及通風孔可在過濾介質之上游側,且出口可在過濾介質之下游側。
根據本發明之一個態樣,用於調節過濾器裝配之方法可包含打開過濾器裝配之入口,用沖洗液填充過濾器裝配內過濾介質之上游側,及用沖洗液填充過濾器裝配內過濾介質及過濾介質之下游側。該等方法亦可包含關閉入口及在入口關閉時向打開的出口施加真空來調節過濾器裝配。
根據本發明之另一態樣,用於調節過濾器裝配之系統可包含沖洗液供應源、真空裝置、入口閥及控制器。沖洗液供應源可耦接至過濾器裝配之入口,且真空裝置可耦接至過濾器裝配的至少一個出口。入口閥可操作以打開及關閉過濾器裝配之入口,且控制器可至少連接至真空裝置及入口閥。控制器可操作以打開入口閥且自沖洗液供應源供應沖洗液,通過打開的入口以便用沖洗液填充過濾器裝配內過濾介質之上游側、過濾介質及過濾介質之下游側。控制器亦可操作以關閉入口閥且啟動真空裝置以向填充有沖洗液的過濾器裝配之打開的出口施加真空。
實施本發明之此等態樣的方法及系統具有許多有利特徵,包括例如在過濾器裝配用於過濾任何化學品之前自過濾器裝配高度有效移除任何污染物的特徵。舉例而言,藉由用沖洗液填充該過濾器裝配(包括過濾介質之上游側、過濾介質本身及過濾介質之下游側),實施本發明之方法及系統確保過濾器裝配經沖洗液澈底沖洗。過濾器裝配內部之污染物(包括氣體(諸如空氣))被沖洗液置換及/或帶走,留下基本上不含污染物之過濾器裝配。此外,藉由在入口關閉時向打開的出口施加真空,任何剩餘污染物(尤其截留於過濾介質之孔及空隙中或沖洗液中夾帶的任何氣體)藉由真空經由打開的出口快速且有效地移除。對於許多具體實例,在入口關
閉時,出口及通風孔皆可為打開的,且真空裝置可向打開的出口及打開的通風孔兩者施加真空,以更快速且有效地移除過濾器裝配中的任何剩餘氣體。
根據本發明之另一態樣,調節過濾器裝配之方法可包含藉由以下步驟調節過濾器裝配:1)使沖洗液流過打開的入口,沿過濾介質之上游側,通過過濾器裝配之打開的通風孔流入廢液池,及2)使沖洗液流過打開的入口,通過過濾介質,沿過濾介質之下游側,通過過濾器裝配之打開的出口流入廢液池。該等方法亦可包含用具有類似入口、出口及通風孔之第二裝配置換經調節之過濾器裝配,關閉第二裝配之入口,及使沖洗液自廢液池通過第二裝配之打開的出口及打開的通風孔中之至少一者流入第二裝配。
實施本發明之此態樣之方法亦具有若干有利特徵。舉例而言,藉由使沖洗液自廢液池流入第二裝配,沖洗液廢液可純淨且安全地容納於第二裝配內。第二裝配之入口、出口及通風孔可密封,且含有沖洗液廢液的經密封之第二裝配可經適當處置(例如焚燒)而不使環境或任何服務人員暴露於任何危險物質。
10‧‧‧調節系統
11‧‧‧過濾器裝配
11a‧‧‧第二裝配
12‧‧‧過濾介質
13‧‧‧外殼
14‧‧‧上游側
15‧‧‧下游側
20‧‧‧入口
21‧‧‧通風孔
22‧‧‧出口
23‧‧‧封閉端帽
24‧‧‧沖洗液供應源
25‧‧‧入口管線
26a‧‧‧廢液池
26b‧‧‧廢液池
28‧‧‧室
29‧‧‧真空泵
30‧‧‧真空裝置
31‧‧‧通風管線
32‧‧‧出口管線
33‧‧‧入口閥
34‧‧‧通風閥
36‧‧‧控制器
37‧‧‧歧管
40‧‧‧壓力源
圖1為用於調節過濾器裝配之系統之具體實例的示意圖。
圖2為用於調節過濾器裝配之系統之另一具體實例的示意圖。
根據本發明之一或多個態樣的用於調節過濾器裝配之系統可以多種方式中之任一者實施且可用於調節多種過濾器裝配中之任一者,每次一個過濾器裝配或每次複數個過濾器裝配。
各過濾器裝配可經不同地組態。如圖1中所示,各過濾器裝
配11可包括過濾介質12以自工業過程中所用之液體化學品移除污染物。對於許多此等行業(例如微電子行業及醫藥行業),化學品必須極純。因此,過濾介質可具有在微孔或奈米孔範圍內之移除等級。舉例而言,移除等級可低至約0.05μm或小於0.05μm,包括約40、30、20、10或5nm或小於5nm。過濾器可例如由可滲透金屬材料、可滲透陶瓷材料或可滲透聚合材料形成,包括聚合纖維或長絲之可滲透聚合膜或可滲透薄片或塊。此外,過濾介質可具有例如平坦、蜂巢、摺疊或螺旋捲繞結構。
過濾器裝配11可進一步包括封閉過濾介質12之外殼13,且過濾介質12可界定過濾器裝配11內之上游側14及下游側15。調節之前,過濾器裝配11(包括過濾介質12內的孔及空隙)可經氣體(例如空氣或惰性氣體,諸如氮氣)填充。過濾器裝配11可進一步在過濾介質12之上游側14包括彼此間隔之入口20及通風孔21,且在過濾介質12之下游側14包括出口22。入口、通風孔及出口可定位於過濾器裝配上的多個位置,包括頂部、底部及/或側面。在所說明之具體實例中,入口20、通風孔21及出口22可各自在外殼13的頂部。外殼13可在過濾器裝配11內界定一或多個流徑,例如在入口20與通風孔21之間及在入口20與出口22之間。對於許多具體實例,過濾介質11可具有一般呈圓柱形之中空組態,且過濾介質12的一端可結合封閉端帽23。過濾器裝配11可排列成自過濾器裝配11在過濾介質12外部之上游側14至過濾器裝配11在過濾介質12內部之下游側15的由外至內流動。或者,過濾器裝配可排列成由內至外流動。許多不同過濾器裝配可藉由實施本發明之系統及方法調節,包括例如以商標名EZD獲自Pall Corporation of Port Washington,New York,USA的過濾器裝配。
圖1中亦顯示調節系統10之具體實例的許多不同實例中之一者。調節系統10可包括沖洗液供應源24,其可以多種方式耦接至過濾器裝配11之入口20。舉例而言,入口管線25可在沖洗液供應源24與過濾器
裝配11的入口20之間延伸。調節系統亦可包括可以多種方式中之任一種耦接至過濾器裝配之通風孔及出口的廢液池。舉例而言,廢液池可為耦接至通風孔及出口兩者之單個貯液池。或者,廢液池可包括耦接至通風孔21之通風孔廢液池26a以及耦接至出口22之分離的出口廢液池26b。舉例而言,通風孔廢液池26a可耦接至自通風孔21延伸的通風管線31,且出口廢液池26b可耦接至自出口22延伸的出口管線32。調節系統10亦可包括至少耦接至過濾器裝配11之出口22以便向出口22施加真空的真空裝置30。對於許多具體實例,真空裝置30可耦接至出口22及通風孔21兩者且可向出口22及通風孔21兩者施加真空。調節系統10可進一步包括入口閥33及通風閥34。入口閥33及通風閥34可分別與過濾器裝配11之入口20及通風孔21可操作地締合,以打開及關閉入口20及通風孔21。對於一些具體實例,調節系統亦可包括可操作地締合至過濾器裝配之出口以打開及關閉出口的出口閥。對於其他具體實例(包括所說明之具體實例),不包括出口閥。儘管可手動進行調節,但對於多數具體實例,調節系統10可另外包括控制器36,該控制器連接至一或多個組件以控制過濾器裝配11之調節。舉例而言,在圖1之調節系統10中,控制器36可連接至真空裝置30、入口閥33及通風閥34。
調節系統10之組件可以多種方式中之任一者組態。舉例而言,沖洗液供應源可不同地組態為例如盛裝大量沖洗液的水槽或鼓狀物,或含有較少量沖洗液之較小容器(包括可撓性容器)。用於供應沖洗液之各種容器可能適合,包括美國專利申請公開案第US 2005/0173458 A1號中所識別的含有分配液體之容器、貯液池及包袋中的多種。沖洗液供應源中可含有多種沖洗液中之任一者。沖洗液可為與待由過濾器裝配過濾之化學品相容的任何液體,包括化學品本身、化學品的一或多種組分(例如主要或基礎組分)或用於化學品或組分之溶劑。化學品及沖洗液可視例如行業內的
所要製程而變化。舉例而言,在光微影行業中,待過濾之化學品可為光反應性化學品,諸如光阻、抗反射塗層或欲分散於基板晶圓上的任何其他化學品。對於許多具體實例,沖洗液可為用於此等可分配化學品之溶劑。該等溶劑之實例包括(但不限於)(S)-2-羥基丙酸乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、環己酮、乙酸丁酯、二氫呋喃-2(3H)-酮及1-甲氧基丙-2-醇。
廢液池26a、26b可以多種方式組態以自正在經調節之過濾器裝配11接收受污染沖洗液。舉例而言,各廢液池26a、26b可為用於接收及容納經由出口或通風孔離開過濾器裝配的任何受污染沖洗液之固定或可撓性容器。
真空裝置30可以多種方式中之任一者組態且可不同地耦接至過濾器裝配11之出口22或通風孔21。舉例而言,對於一些具體實例,真空裝置可包括噴射器機構,其產生至少施加於出口之真空。對於其他具體實例,真空裝置30可包括密封室28及耦接至密封室28之真空泵29以將室28抽真空且在室28內產生真空。真空室28可例如經由出口管線32耦接至出口22且可向出口22施加真空。真空室28亦可例如經由通風管線31耦接至通風孔21且可向通風孔21施加真空。或者,真空室可僅耦接至出口。
多種閥中之任一者適於入口閥33、通風閥34及任何出口閥。一或多個閥可為可變流量閥且可用於控制流向過濾器裝配及/或流出過濾器裝配的流體流量。然而,對於許多具體實例,閥可為二元開/關閥,例如快速開/關閥,且流體流量可由真空裝置30控制。各閥可位於多個位置以打開及關閉過濾器裝配之入口、通風孔或出口。舉例而言,入口閥33可位於入口管線25中且通風閥34可位於通風管線31中。
控制器36可以多種方式中之任一者組態。舉例而言,控制器36可為電子控制器且可包括例如微處理器或邏輯陣列(例如可程式化邏輯陣列)來執行過濾器裝配調節中所涉及的多個步驟。控制器可為分離單
元且可與調節系統之其餘部分或調節系統之任何其他組件一起實際定位。或者,除了調節過濾器裝配之外,控制器可與較大電子系統整合以控制一或多個製程,例如分配製程。控制器可連接至調節系統之任何組件以接收及/或發送與系統有關之資訊及/或調節調節系統之一或多個組件的功能。舉例而言,圖1中所示之控制器36可連接至真空裝置30以控制自沖洗液供應源24至過濾器裝配11之入口20的沖洗液流量。控制器36亦可連接至入口閥33及通風閥34以打開及關閉閥且控制通過過濾器裝配11之入口20及通風孔21的流量。
調節系統可包括一或多個額外組件,包括(例如)感應器(諸如壓力感應器、溫度感應器、流量感應器及位準感應器)來提供關於系統之額外資訊。額外組件亦可包括用於在系統內執行輔助功能之其他裝置,諸如潤濕器、除氣器、氣泡收集器及過濾器。
根據本發明之一或多個態樣的用於調節過濾器裝配之方法亦可以多種方式中之任一者實施。在實施本發明之調節系統中安裝過濾器裝配之後,過濾器裝配可根據此等方法中之任一者調節,且系統控制器可根據針對此等方法中之任一者所述之步驟及步驟序列程式化。
調節方法之具體實例之許多不同實例中之一者可包括打開過濾器裝配之入口,用沖洗液填充過濾器裝配內過濾介質之上游側,且用沖洗液填充過濾器裝配內過濾介質及過濾介質之下游側。對於許多具體實例,打開過濾器裝配之入口可包括例如在控制器36指導下打開入口閥33。或者,可手動打開入口閥。
可使用沖洗液(例如如上文所述之溶劑)以多種方式中之任一者填充過濾器裝配(例如過濾介質之上游側、過濾介質本身及過濾介質之下游側)。舉例而言,沖洗液供應源可包括以正壓力(錶壓),亦即大於大氣壓之壓力自沖洗液容器壓出沖洗液的壓力源。填充過濾器裝配又可包
括以正錶壓將沖洗液壓入打開的入口且壓入過濾器裝配內過濾介質之上游側、過濾介質本身及過濾介質之下游側。替代地或另外,用沖洗液填充過濾器裝配可包括向過濾器裝配之出口及/或通風孔施加真空(亦即小於大氣壓之壓力)且將沖洗液抽入打開的入口中。填充過濾器裝配又可包括以小於大氣壓之壓力將沖洗液抽入打開的入口且使沖洗液在過濾器裝配內沿過濾介質之上游側,通過過濾介質本身及沿過濾介質之下游側流過。填充過濾器裝配可包括首先用沖洗液填充過濾介質之上游側,接著填充過濾介質及過濾介質之下游側。或者,過濾介質之上游側、過濾介質及過濾介質之下游側皆可同時用沖洗液填充。此外,填充過濾器裝配亦可包括沖洗液吹洗通過過濾器裝配且通過打開的出口及關閉的通風孔,通過關閉的出口及打開的通風孔,或通過打開的出口及打開的通風孔流出過濾器裝配。舉例而言,可手動或在控制器指導下打開的通風閥,且沖洗液可經吹洗通過打開的入口,沿過濾器裝配內過濾介質之上游側,通過打開的通風孔進入廢液池。隨著沖洗液沿過濾介質之上游側流過時,其置換任何氣體且將污染物(包括自外殼或過濾介質流出或浸出之微粒或其他物質),通過打開通風孔吹洗至廢液池(例如通風孔廢液池)中。
對於對沖洗液流動呈現較低阻力之過濾介質,當通風孔打開且沖洗液沿過濾介質之上游側通過時,沖洗液可同時流過過濾介質,沿過濾介質之下游側,通過打開的出口流入廢液池(例如出口廢液池)。然而,對於許多具體實例,過濾介質對沖洗液流動可呈現較高阻力。接著,在沖洗液自過濾器裝配內過濾介質之上游側充分置換及/或吹洗氣體及其他污染物之後,可例如手動或在控制器指導下關閉通風孔。在通風孔關閉的情況下,沖洗液隨後流過打開的入口,通過過濾介質,填充過濾介質之全部孔及空隙,沿過濾介質之下游側,通過打開的出口流入廢液池(例如出口廢液池)。此外,當沖洗液流過過濾介質且沿過濾介質之下游側時,其置換任
何氣體且將污染物(包括自外殼或過濾介質流出或浸出之微粒或其他物質)通過打開的出口吹洗至廢液池中。
沖洗液沿過濾介質之上游側,通過過濾介質及/或沿過濾介質之下游側的流動速率可視許多因素而變化,該等因素包括過濾器裝配之尺寸、過濾介質性質(例如過濾介質之孔徑)及沖洗液之流動特徵(例如黏度)。一般而言,沖洗液在如下流動速率下流過:1)提供非擾流概況以抑制氣體與沖洗液之任何混合,2)使沖洗液能夠流至外殼底部且以置換在上升沖洗液前面之氣體及其他污染物的方式沿過濾介質之上游側上升,3)使沖洗液能夠澈底填充過濾介質且擴散至過濾介質之所有孔及空隙,自過濾介質置換可能以其他方式仍截留於過濾介質中之所有氣體,及/或4)使沖洗液能夠以置換在上升沖洗液前面之氣體及其他污染物的方式自底部沿過濾介質之下游側向上填充內部。對於許多具體實例,包括預期用於微電子行業之具體實例,沖洗液通過打開的入口之流動速率可在約3mL/min或小於3mL/min至約300mL/min或大於300mL/min範圍內,且沖洗液吹洗通過打開的入口之總體積可在約300mL或小於300mL至約8000mL或大於8000mL範圍內。
圖1之具體實例說明實施本發明之調節方法的許多不同實例中之一者。為了填充過濾器裝配11,可例如在控制器36指導下打開入口閥33及通風閥34。控制器36又可啟動真空裝置30產生真空,該真空可例如經由出口管線32及通風管線31施加於過濾器裝配11之打開的出口22及打開的通風孔21。對於許多具體實例,可向打開的出口22及打開的通風孔21施加約0.04MPa或小於0.04MPa至約0.1MPa範圍內的真空以便將沖洗液抽入打開的入口20中。沖洗液(例如如上文所述之溶劑)接著可例如經由入口管線25自沖洗液供應源24抽入過濾器裝配11之打開的入口20中。沖洗液自打開的入口20沿過濾介質12之上游側14流過打開的通風孔,
且例如經由通風管線31引導至通風孔廢液池26a中。沖洗液自過濾器裝配11內過濾介質12之上游側14吹洗氣體及其他污染物,受污染沖洗液存放於廢液池(例如通風孔廢液池26a)中。當過濾介質12之上游側14實質上不含氣體及其他污染物且經沖洗液填充時,可例如在控制器36指導下關閉通風閥34,終止自通風孔21進入通風孔廢液池26a之流動。
關閉通風閥34之後,由於真空裝置30向打開的出口22施加之真空,沖洗液繼續自沖洗液供應源24抽入打開的入口20中。沖洗液自打開的入口22流過過濾介質12,且沿過濾器裝配11內過濾介質12之下游側15,通過打開的出口22,在打開的出口處例如經由出口管線32引導至出口廢液池26b中。沖洗液自過濾介質12之孔及空隙以及過濾介質12之下游側15吹洗氣體及其他污染物,受污染沖洗液存放於廢液池(例如出口廢液池26b)中。
除了用沖洗液填充過濾器裝配且自過濾器裝配吹洗氣體及其他污染物之外,實施本發明之調節方法可進一步包括關閉過濾器裝配之入口以及當入口關閉時至少向打開的出口施加真空。在過濾器裝配(包括過濾介質之上游側、過濾介質本身及過濾介質之下游側)實質上不含氣體及其他污染物且填充有沖洗液後,可關閉過濾器裝配之入口。對於許多具體實例,關閉過濾器裝配之入口可包括例如在控制器指導下關閉入口閥。在入口閥關閉的情況下,進入過濾器裝配之入口的流動停止且過濾器裝配保持基本上不含污染物且充滿沖洗液。
當入口關閉時,可以多種方式至少向過濾器裝配之打開的出口施加真空。舉例而言,當入口及通風孔皆關閉時,可僅向打開的出口施加真空。或者,可例如在控制器指導下打開通風閥,且當入口關閉時,可向打開的出口及打開的通風孔兩者施加真空。真空用於自過濾器裝配移除可能截留於例如過濾介質之孔及空隙中或夾帶於過濾器裝配中之沖洗液中
的任何剩餘氣體粒子或氣泡。真空強度可視若干因素而定,包括過濾器裝配之尺寸,過濾介質之性質(例如孔徑)及沖洗液之流動特徵(例如黏度)。對於許多具體實例,可至少向打開的出口施加約0.05MPa或小於0.05MPa至約0.09MPa或大於0.09MPa範圍內的真空。此外,可向打開的出口施加真空持續長達約5小時或超過5小時或長達約2小時或超過2小時。對於許多具體實例,尤其用於小過濾器裝配之微電子行業的具體實例,可施加真空持續約1小時或小於1小時以自過濾器裝配移除任何剩餘氣體。
圖1之具體實例說明許多調節方法實例中之一者。當過濾器裝配11實質上不含氣體及其他污染物時,可藉由例如在控制器36指導下關閉入口閥33來關閉過濾器裝配11之入口20。可例如在控制器36指導下打開通風閥34,且可分別藉助於出口管線32及通風管線31將真空裝置30產生之真空至少施加於打開的出口22(例如打開的出口22及打開的通風孔21兩者)。過濾器裝配11中之沖洗液可保持於真空下直至任何剩餘氣體粒子自過濾器裝配11抽出(例如持續約1小時或小於1小時),快速提供無污染物之過濾器裝配11。
一旦過濾器裝配不含所有污染物,即可自調節系統移除過濾器裝配。入口、通風孔及出口可密封,使過濾器裝配在填充有沖洗液且不含污染物情況下儲存及/或裝運。替代地或另外,可例如用待過濾之化學品自過濾器裝配置換沖洗液,且過濾器裝配可投入使用來過濾化學品。
實施本發明之許多調節方法亦允許純淨且安全地處置廢沖洗液而不危害環境或服務人員。此等調節方法可包括藉由以下步驟調節過濾器裝配:1)使沖洗液流過打開的入口,沿過濾介質之上游側,通過過濾器裝配之打開的通風孔流入廢液池,及2)使沖洗液流過打開的入口,通過過濾介質,沿過濾介質之下游側,通過過濾器裝配之打開的出口流入廢液池。如上文所述,沖洗液可以許多方式通過過濾器裝配,例如沿過濾介質
之上游側,通過過濾介質本身及沿過濾介質之下游側。舉例而言,如圖1中所示,可藉由向打開的出口22及打開的通風孔21兩者施加真空將沖洗液通過打開的入口20抽入過濾器裝配11中。在沖洗液自過濾器裝配11吹洗出任何污染物之後,過濾器裝配11可不含污染物且填充有沖洗液,同時不含污染物之廢沖洗液容納於廢液池(例如通風孔廢液池26a及出口廢液池26b)中。
實施本發明之調節方法可進一步包含用具有類似入口、出口及通風孔之第二裝配置換經調節之過濾器裝配,關閉第二裝配之入口,及使廢液池中之沖洗液通過第二裝配之打開的出口及打開的入口中之至少一者流入第二裝配。第二裝配可經不同地組態。對於許多具體實例,第二裝配可為空過濾器裝配,亦即與經調節過濾器裝配實際上相同但缺乏過濾介質的過濾器裝配。空過濾器裝配之外殼的整個內部因此可用於容納一或多個經調節過濾器裝配所產生之存放於廢液池中的廢沖洗液。或者,第二裝配可為第二過濾器裝配,其作為過濾介質但不欲用於過濾。
經調節過濾器裝配可以多種方式置換為第二裝配。舉例而言,用第二裝配置換經調節過濾器裝配可包括分別自入口管線、出口管線及通風管線個別地移除經調節過濾器裝配之入口、出口及通風孔,且將此等管線個別地再連接至第二裝配之入口、出口及通風孔。或者,調節系統可包括歧管,其使入口管線、出口管線及通風管線能夠共同連接至過濾器裝配及第二裝配之入口、出口及通風孔及/或自過濾器裝配及第二裝配之入口、出口及通風孔移除。用第二過濾器裝配置換經調節過濾器裝配又可包括自歧管移除經調節過濾器裝配且將第二裝配連接至歧管。
沖洗液可以若干方式中之任一者自廢液池流入第二裝配。舉例而言,廢液池可僅為單個貯液池,且廢沖洗液可通過單獨的打開的出口或單獨的打開的通風孔或打開的出口及打開的通風孔兩者流入第二裝配裝
置。或者,廢液池可包括耦接至打開的出口及打開的通風孔中之一者或兩者的複數個廢液池。一旦第二裝配之通風孔關閉(例如藉由在控制器指導下關閉入口閥),可允許例如藉由重力將廢沖洗液排入第二裝配中。舉例而言,在經調節過濾器裝配置換為第二裝配且第二裝配之入口關閉後,可例如在控制器指導下退動(deactuate)真空裝置,且廢沖洗液可例如經由出口管線及/或通風管線排入第二裝配中。或者,廢沖洗液可自廢液池壓入第二裝配中。舉例而言,真空裝置之真空泵可反轉且可在真空室中產生微小正錶壓,將廢沖洗液自廢液池壓入第二裝配中。在來自一或多個經調節過濾器裝配之廢沖洗液容納於第二裝配中的情況下,第二裝配可適當處置(例如焚燒)而不使環境或任何服務人員暴露於沖洗液之危害。
圖1之具體實例說明實施本發明之此態樣之調節方法的許多不同實例中之一者。如上文所述,過濾器裝配11可藉由向打開的出口22及打開的通風孔21施加真空,藉由將沖洗液抽入過濾器裝配11之打開的入口20來調節。可例如藉由自歧管37移除經調節過濾器裝配11來置換經調節過濾器裝配11。第二裝配11a又可連接至歧管37,且可藉由例如在控制器36指導下關閉入口閥33來關閉第二裝配11a之入口20。控制器36亦可退動真空裝置30。通風孔廢液池26a及出口廢液池26b中之廢沖洗液接著沿出口管線32及通風管線31,相繼通過打開的出口22及打開的通風孔21,排入第二裝配11a中,廢沖洗液純淨且安全地容納於該第二裝配中。圖1之具體實例說明實施本發明之此態樣之調節方法的許多不同實例中之一者。如上文所述,過濾器裝配11可藉由向打開的出口22及打開的通風孔21施加真空,藉由將沖洗液抽入過濾器裝配11之打開的入口20來調節。可例如藉由自歧管37移除經調節過濾器裝配11來置換經調節過濾器裝配11。第二裝配11a又可連接至歧管37,且可藉由例如在控制器36指導下關閉入口閥33來關閉第二裝配11a之入口20。控制器36亦可退動真空裝置
30。通風孔廢液池26a及出口廢液池26b中之廢沖洗液接著沿出口管線32及通風管線31,相繼通過打開的出口22及打開的通風孔21,排入第二裝配11a中,廢沖洗液純淨且安全地容納於該第二裝配中。
儘管已在上文描述及說明之具體實例中揭示本發明,但本發明不限於彼等具體實例。舉例而言,可消除或改良具體實例之一或多個特徵,一個具體實例之一或多個特徵可與其他具體實例之一或多個特徵組合,或可設想具有極不同特徵之具體實例而不悖離本發明之範疇。舉例而言,對於一些具體實例,調節系統可為與製造或使用過濾器裝配之任何系統分離及遠離的孤立單元。對於其他具體實例,調節系統可為與過濾器製造系統或終端用戶系統(諸如微電子分配系統)整合的子系統。對於一些具體實例,調節系統及方法可製備用於儲存或裝運之過濾器裝配;對於其他具體實例,調節系統及方法可製備用於立即使用之過濾器裝配。
圖2中顯示調節系統10及方法之另一具體實例。圖2之調節系統10的許多組件與圖1之調節系統的組件類似或相同且由相同元件符號識別。圖2之調節系統10可類似地包含由入口管線25耦接至過濾器裝配11之入口20的沖洗液供應源24及連接至控制器36之入口閥33。包括通風孔廢液池26a及出口廢液池26b之廢液池可經由通風管線31及出口管線32耦接至過濾器裝配11之通風孔21及出口22。真空裝置30亦可由通風管線31及出口32連接至過濾器裝配11之通風孔21及出口22。通風閥34可連接在通風管線31中。此外,沖洗液供應源24可包括壓力源40用於向沖洗液容器施加壓力且在正錶壓下將沖洗液壓入過濾器裝配11之打開的入口22。舉例而言,沖洗液供應源24可包含氣動壓出機,諸如以商標名NOWPak獲自ATMI者。
圖2之過濾器裝配的調節方法可類似於圖1之過濾器裝配的調節方法。然而,可在正錶壓下將沖洗液自沖洗液供應源24壓入打開的入
口20,而不是將沖洗液自沖洗液供應源抽入過濾器裝配之打開的入口。舉例而言,可在控制器36指導下打開入口閥33及通風閥34。可由控制器36啟動壓力源40,向沖洗液容器施加壓力且將沖洗液自沖洗液源24壓入過濾器裝配11之打開的入口20。真空裝置30可由控制器36退動,或可啟動以在打開的通風孔21處施加真空且輔助壓力源40。沖洗液在正錶壓下進入打開的入口22且沿過濾器裝配11內過濾介質12之上游側14,通過打開的通風孔21且流入廢液池(例如經由通風管線32流入通風孔廢液池26a)。氣體及其他污染物可由沖洗液自過濾器裝配11,通過打開的通風孔21吹洗至通風孔廢液池2a,留下基本上不含污染物且填充有沖洗液的過濾介質12之上游側14。
接著,可在控制器36指導下關閉通風閥34。壓力源40可在正錶壓下繼續向過濾器裝配11之打開的入口20供應沖洗液。此外,真空裝置30可由控制器36退動或啟動以在打開的出口22處提供真空且輔助壓力源40。沖洗液自打開的入口20流過過濾介質12,沿過濾器裝配11內過濾介質12之下游側15,通過打開的出口22且流入廢液池(例如經由出口管線32流入出口廢液池26b中)。氣體及其他污染物可由沖洗液自過濾器裝配11,通過打開的出口22吹洗至出口廢液池26b,留下基本上不含污染物且填充有沖洗液的過濾介質12及過濾介質12之下游側15。
如上文關於圖1之調節方法所述,實施本發明之調節方法可進一步包含關閉過濾器裝配之入口且至少向打開的出口施加真空。舉例而言,可藉由例如在控制器36y指導下關閉入口通風孔33來關閉過濾器裝配11之入口20。控制器36亦可退動沖洗液供應源24之壓力源40。通風閥34可例如由控制器36打開,且控制器36可啟動真空裝置30。真空裝置30產生之真空可藉助於出口管線32及通風管線31至少施加於打開的出口22,或打開的出口22及打開的通風孔21兩者。過濾器裝配11中之沖洗液可保
持於真空下直至過濾介質12或沖洗液中之任何剩餘氣體粒子自過濾器裝配11抽出且過濾器裝配11無污染物,例如持續約1小時或小於1小時。
本發明因此涵蓋無數具體實例且不限於本文已描述、說明及/或提議之特定具體實例。事實上,本發明包括可能在申請專利範圍之範疇內的所有具體實例及修正。
本文引用之所有參考文獻(包括公開案、專利申請案及專利)均以引用的方式併入本文中,其引用程度就如同各參考文獻個別地且明確地指出以引用的方式併入且其全文在本文中闡述一樣。
除非本文另外指出或與上下文明確相悖,否則在描述本發明之上下文(尤其在隨附申請專利範圍之上下文)中使用術語「一(a/an)」及「該(the)」及其類似指示物應理解為涵蓋單數及複數兩者。除非另外指出,否則術語「包含(comprising)」、「具有(having)」、「包括(including)」及「含有(containing)」應理解為開放式術語(亦即意謂「包括但不限於(including,but not limited to)」)。除非本文另外指出,否則本文數值範圍之列舉僅欲用作個別提及在該範圍內之每一個各別值的速記法,且每一個各別值就如同在本文中個別引用一樣併入說明書中。除非本文另外指出或另外與上下文明確相悖,否則本文所述之所有方法可以任何適合順序執行。本文提供之任何及所有實例,或例示性表述(例如「諸如(such as)」)的使用僅欲更佳地闡明本發明,且除非另外主張,否則不欲對本發明之範疇加以限制。說明書中的表述均不應理解為指示任何非主張要素為實施本發明所必需。
10‧‧‧調節系統
11‧‧‧過濾器裝配
11a‧‧‧第二裝配
12‧‧‧過濾介質
13‧‧‧外殼
14‧‧‧上游側
15‧‧‧下游側
20‧‧‧入口
21‧‧‧通風孔
22‧‧‧出口
23‧‧‧封閉端帽
24‧‧‧沖洗液供應源
25‧‧‧入口管線
26a‧‧‧廢液池
26b‧‧‧廢液池
28‧‧‧室
29‧‧‧真空泵
30‧‧‧真空裝置
31‧‧‧通風管線
32‧‧‧出口管線
33‧‧‧入口閥
34‧‧‧通風閥
36‧‧‧控制器
37‧‧‧歧管
Claims (20)
- 一種用於調節過濾器裝配的方法,該過濾器裝配包括具有上游側及下游側的可滲透過濾介質、封閉該可滲透過濾介質之具有底部的外殼、在該過濾介質之該上游側的入口及通風孔、以及在該過濾介質之該下游側的出口,該方法包含:打開過濾器裝配的入口,用沖洗液填充該過濾器裝配內之該過濾介質的該上游側,其包括使該沖洗液流至該外殼底部以致沖洗液沿該過濾介質之該上游側上升且置換在該上升沖洗液前面之污染物,且用該沖洗液填充該過濾器裝配內之該過濾介質及該過濾介質的該下游側,其包括使該沖洗液流至該外殼底部以致沖洗液置換通過該過濾介質之該下游側在該上升沖洗液前面之污染物;關閉該入口;及在該入口被關閉且該過濾器裝配被填充滿該沖洗液之情況下,向打開的出口施加真空來調節該過濾器裝配。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其進一步包含向打開的通風孔施加真空,同時關閉該入口來調節該過濾器裝配。
- 如申請專利範圍第2項之方法,其中在向該打開的通風孔施加真空同時向該打開的出口施加真空。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法,其中施加真空持續約1小時或少於1小時。
- 如申請專利範圍第2或3項之方法,其包括使沖洗液流入該打開的入口,沿該過濾器裝配內之該過濾介質之該上游側且通過該打開的通風孔。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之方法,其包括使沖洗液流入該打開的入口,通過該過濾介質,沿該過濾器裝配內之該過濾介質 的該下游側且通過該打開的出口。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中填充該過濾介質之該上游測或填充該過濾介質與該過濾介質之該下游側包括向一打開的入口供應處於正錶壓下之沖洗液。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中填充該過濾介質之該上游測或填充該過濾介質與該過濾介質之該下游側包括將沖洗液真空抽入一打開的入口中。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中填充該過濾器裝配的該過濾介質之該上游側包括引導沖洗液通過打開的通風孔到達廢液池。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中填充該過濾器裝配的該過濾介質之該下游側包括引導沖洗液通過打開的出口到達廢液池。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其進一步包含用第二裝配置換該過濾器裝配,該第二裝配具有與該過濾器裝配類似的入口、出口及通風孔,關閉該入口,且將該沖洗液自該廢液池經由打開的出口及打開的通風孔中之至少一者引導至該第二裝配。
- 一種用於調節過濾器裝配的方法,該過濾器裝配包括具有上游側及下游側的可滲透過濾介質、封閉該可滲透過濾介質之具有底部的外殼、在該過濾介質之該上游側的入口及通風孔、以及在該過濾介質之該下游側的出口,該方法包含:藉由以下步驟調節該過濾器裝配:1)使沖洗液流過打開的入口至該外殼之該底部以致該沖洗液沿該過濾介質之該上游側上升且置換在該上升沖洗液前面之污染物,使該沖洗液流過該過濾器裝配之打開的通風孔流入廢液池,及2)使沖洗液流過該打開的入口,通過該過濾介質,沿該過濾介質之該下游側,其包括使該沖洗液流至該外殼底部以致沖洗液置換通過該過濾介質之該下游側在該上升沖洗液前面之污染 物,且使該沖洗液流過該過濾器裝配之打開的出口流入廢液池;用第二裝配置換該經調節之過濾器裝配,該第二裝配具有類似入口、出口及通風孔;關閉該第二裝配之該入口;及使該沖洗液自該廢液池流過該第二裝配之打開的出口及打開的通風孔中之至少一者流入該第二裝配。
- 如申請專利範圍第12項之方法,其中用第二裝配置換該經調節之過濾器裝配包括用空過濾器裝配置換該過濾器裝配,該空過濾器裝配類似於該過濾器裝配但不具有過濾介質。
- 如申請專利範圍第12項或第13項之方法,其中使沖洗液流過該打開的通風孔流入廢液池包括使沖洗液流入第一廢液池,其中使沖洗液流過該打開的出口流入廢液池包括使沖洗液流入第二廢液池,且其中使該沖洗液自該廢液池流入該第二裝配包括使沖洗液自該第一及第二廢液池中之至少一者流入該第二裝配。
- 一種用於調節過濾器裝配的系統,該過濾器裝配包括具有上游側及下游側的可滲透過濾介質、封閉該可滲透過濾介質之具有底部的外殼、在該過濾器裝配之該上游側的入口及通風孔、以及在該過濾器裝配之該下游側的出口,該系統包含:沖洗液供應源,其可耦接至過濾器裝配之入口;真空裝置,其可耦接至該過濾器裝配的至少一個出口;入口閥,其可操作以打開及關閉該過濾器裝配之該入口;及至少連接至該真空裝置及該入口閥之控制器,其中該控制器可操作以打開該入口閥且自該沖洗液供應源通過該打開的入口供應沖洗液至該外殼底部以致該沖洗液沿該過濾介質之該上游側上升且置換在該上升沖洗液前面之污染物,用沖洗液填充該過濾器裝配內的該過濾介 質及該過濾介質之該下游側,其包括使該沖洗液流至該外殼底部以致沖洗液置換通過該過濾介質之該下游側在該上升沖洗液前面之污染物,且其中該控制器可操作以關閉該入口閥且啟動該真空裝置,從而在該入口被關閉且該過濾器裝配被填充滿該沖洗液之情況下,向該過濾器裝配之打開的出口施加真空。
- 如申請專利範圍第15項之系統,其進一步包含通風閥,該通風閥可操作以打開及關閉該過濾器裝配之該通風孔,其中該控制器進一步連接至該通風閥,且其中可操作以向該過濾器裝配供應沖洗液的該控制器包括1)可操作以供應沖洗液的控制器,該沖洗液通過該打開的入口流至該外殼底部以致該沖洗液沿該過濾器裝配內之該過濾介質之該上游側上升且置換在該上升沖洗液前面之污染物,且通過打開的通風孔,及2)可操作以供應沖洗液的控制器,該沖洗液通過該打開的入口,通過該過濾介質流至該外殼底部以致沖洗液置換在該上升沖洗液前面之污染物,使該沖洗液沿該過濾介質之該下游側流,置換在該上升沖洗液前面之污染物且使該沖洗液流過該打開的出口。
- 如申請專利範圍第15項之系統,其中可操作以通過該打開的入口供應沖洗液的該控制器包括可操作以啟動該真空裝置且將沖洗液抽入該過濾器裝配之該打開的入口的控制器。
- 如申請專利範圍第17項之系統,其中可操作以啟動該真空裝置且將沖洗液抽入該打開的入口的該控制器包括可操作以抽吸沖洗液通過該打開的入口,通過該過濾介質,沿該過濾器裝配內的該過濾介質之該下游側且通過該打開的出口的控制器。
- 如申請專利範圍第17項之系統,其進一步包含可操作以打開及關閉該過濾器裝配之該通風孔的通風閥,其中該控制器連接至該通風閥,且其中可操作以啟動該真空裝置且將沖洗液抽入該打開的入口的該控制 器包括可操作以將沖洗液抽入該打開的入口至該外殼底部以致該沖洗液沿該過濾介質之該上游側上升且置換在該上升沖洗液前面之污染物且該沖洗液流過打開的通風孔的控制器。
- 如申請專利範圍第18項之系統,其中抽吸沖洗液通過該打開的出口包括將該沖洗液引導至廢液池。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/674,356 US9421498B2 (en) | 2012-11-12 | 2012-11-12 | Systems and methods for conditioning a filter assembly |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201440879A TW201440879A (zh) | 2014-11-01 |
TWI586427B true TWI586427B (zh) | 2017-06-11 |
Family
ID=49578143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102141018A TWI586427B (zh) | 2012-11-12 | 2013-11-12 | 用於調節過濾器裝配的系統和方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9421498B2 (zh) |
EP (1) | EP2730325B1 (zh) |
JP (1) | JP5799467B2 (zh) |
KR (1) | KR101536768B1 (zh) |
CN (1) | CN103801145B (zh) |
BR (1) | BR102013029173A2 (zh) |
SG (1) | SG2013083845A (zh) |
TW (1) | TWI586427B (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0816310D0 (en) | 2008-09-05 | 2008-10-15 | Mtt Technologies Ltd | Filter assembly |
WO2016079494A2 (en) * | 2014-11-21 | 2016-05-26 | Renishaw Plc | Additive manufacturing apparatus and methods |
KR102023345B1 (ko) * | 2014-12-31 | 2019-09-20 | 이엠디 밀리포어 코포레이션 | 필터의 완전성 시험을 위한 인터페이스 모듈 |
CN111836677A (zh) * | 2018-03-22 | 2020-10-27 | 富士胶片株式会社 | 过滤装置、纯化装置、药液的制造方法 |
WO2019181435A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
JP7072634B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-05-20 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、及び、薬液の製造方法 |
JP7257824B2 (ja) * | 2019-03-12 | 2023-04-14 | オルガノ株式会社 | 微粒子除去膜装置、超純水製造装置、及び超純水製造方法 |
KR20220057623A (ko) * | 2019-09-19 | 2022-05-09 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Ald 프로세스에서의 펄스 형상 제어 |
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US5372653A (en) | 1993-05-28 | 1994-12-13 | Courtaulds Fibres (Holdings) Limited | Cleaning of filters |
JPH11508813A (ja) * | 1995-06-06 | 1999-08-03 | クウォンティック バイオメディカル パートナーズ | 血漿を濃縮するための装置及び方法 |
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US7029238B1 (en) | 1998-11-23 | 2006-04-18 | Mykrolis Corporation | Pump controller for precision pumping apparatus |
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JP4635414B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2011-02-23 | 栗田工業株式会社 | 逆浸透膜装置の洗浄方法 |
JP4696593B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2011-06-08 | 凸版印刷株式会社 | 限外濾過フィルタの使用方法、及び限外濾過フィルタ再生機構付ウェット現像装置 |
US7967978B2 (en) | 2006-12-11 | 2011-06-28 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for filter conditioning |
US8580117B2 (en) | 2007-03-20 | 2013-11-12 | Taiwan Semiconductor Manufactuing Company, Ltd. | System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects |
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-
2012
- 2012-11-12 US US13/674,356 patent/US9421498B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-11 EP EP13192368.2A patent/EP2730325B1/en active Active
- 2013-11-12 KR KR1020130137086A patent/KR101536768B1/ko active IP Right Grant
- 2013-11-12 SG SG2013083845A patent/SG2013083845A/en unknown
- 2013-11-12 BR BRBR102013029173-0A patent/BR102013029173A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2013-11-12 TW TW102141018A patent/TWI586427B/zh active
- 2013-11-12 JP JP2013234057A patent/JP5799467B2/ja active Active
- 2013-11-12 CN CN201310757297.1A patent/CN103801145B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5799467B2 (ja) | 2015-10-28 |
BR102013029173A2 (pt) | 2015-01-27 |
JP2014094376A (ja) | 2014-05-22 |
KR20140061273A (ko) | 2014-05-21 |
TW201440879A (zh) | 2014-11-01 |
US20140131278A1 (en) | 2014-05-15 |
CN103801145A (zh) | 2014-05-21 |
CN103801145B (zh) | 2016-01-13 |
KR101536768B1 (ko) | 2015-07-14 |
US9421498B2 (en) | 2016-08-23 |
SG2013083845A (en) | 2014-06-27 |
EP2730325B1 (en) | 2019-01-09 |
EP2730325A1 (en) | 2014-05-14 |
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