CN103801145B - 用于调节过滤组件的系统和方法 - Google Patents

Abstract

调节过滤组件的系统和方法。使清洗液经过过滤组件，以去除来自过滤介质的孔隙和空隙以及来自过滤介质的上游和下游侧的污物。

Description

用于调节过滤组件的系统和方法

背景技术

很多工业领域(包括微电子业和制药业)中使用的化学品必须是极其纯净的。这些化学品在使用时通常需要很精细的过滤，以去除干扰这些工业所使用的方法、或毁掉这些工业制造的产品的任何污物。通常，被用于过滤这些化学品的过滤组件具有可渗透的过滤介质。化学品将通过过滤介质，且化学品中的任何污物将被捕获到过滤介质内或表面上。

在过滤化学品之前，实施本发明的系统和方法调节(condition)过滤组件并阻止过滤组件自身将污物引入化学品中。通常，冲洗经过滤组件以去除任何污物的清洗液可被包含在过滤组件内，即使是新制造的过滤组件。清洗液可以是与要过滤的化学品相容的任何液体。对于毒性或价格较低的化学品，清洗液本身可能为化学品本身。更经常地，清洗液可以是毒性或价格较低的化学品的成份或化学品的液体溶剂。在冲洗过滤组件时，清洗液可将过滤组件内的任何气体移走且将容纳在过滤组件中的任何气体和其它污物带走。冲洗之后，填充有清洗液的被调节的过滤组件可被保留和/或运送，并且在将清洗液从过滤组件上去除之后可将其用于过滤化学品。

发明内容

实施本发明的系统和方法可用于一次调节一个或几个过滤组件。每个过滤组件可包括过滤介质、入口、排气口(vent)、和出口。过滤介质可具有在过滤组件内的上游侧和下游侧。入口和排气口可在过滤介质的上游侧上，并且出口可在过滤介质的下游侧上。

根据本发明的一个方面，用于调节过滤组件的方法可包括：打开过滤组件的入口，用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的上游侧；并且用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的下游侧和过滤介质。该方法还可包括关闭入口并将真空施加到打开的出口，同时入口被关闭以调节过滤组件。

根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的系统可包括清洗液供应部件、真空装置、入口阀、和控制器。清洗液供应部件可被联接(couple)到过滤组件的入口，并且真空装置可被联接到过滤组件的至少出口。入口阀可被被操作成打开和关闭过滤组件的入口，并且控制器可被连接到至少真空装置和入口阀。控制器可被操作成打开入口阀并且从清洗液供应部件经过打开的入口供应清洗液，以用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的上游侧、过滤介质、和过滤介质的下游侧。控制器也可操作成关闭入口阀和致动真空装置，以将真空施加到用清洗液填充的过滤组件的打开的出口。

实施本发明的这些方面的方法和系统具有很多有利的特征，例如包括对于在将过滤组件用于过滤任何化学品之前从过滤组件去除污物高度有效的那些特征。例如，通过用清洗液填充过滤组件，包括过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质的下游侧，实施本发明的方法和系统确保过滤组件被清洗液彻底地冲洗。在过滤组件内部中的污物包括如空气的气体被清洗液移走和/或带走，从而使过滤组件基本没有污物。而且，通过将真空施加到打开的出口同时入口被关闭时，任何剩余的污物、尤其是任何被捕获在过滤介质的孔隙和空隙中或被夹带在清洗液中的任何气体借助通过真空而打开的出口被快速和有效地去除。对于很多实施例，出口和排气口可被打开同时入口被关闭，并且真空装置可将真空施加到打开的出口和打开的排气口，以便甚至更快速和有效地去除过滤组件中的任何剩余的气体。

根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的方法可包括通过以下方式调节过滤组件：1)使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过所述过滤组件的打开的排气口到达废物容置部；和2)使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质、沿所述过滤介质的下游侧，经过滤组件的打开的出口到达废物容置部。该方法还可包括：用具有类似的入口、出口、和排气口的第二组件代替被调节的过滤组件；关闭所述第二组件的入口；以及使清洗液从所述废物容置部经过所述第二组件的打开的出口和打开的排气口中的至少一个到达所述第二组件。

实施本发明的该方法还具有几个有利特征。例如，通过使清洗液从废物容置部进入第二组件，所述清洗液废物可被干净和安全地容纳在第二组件中。第二组件的入口、出口和排气口可被密封，并且容纳清洗液废物的被密封的第二组件可被适当地处置，例如焚毁，而不使环境或任何服务人员暴露于任何危险的物质。

附图说明

图1为用于调节过滤组件的系统的实施例的示意图。

图2为用于调节过滤组件的系统的另一实施方式的示意图。

具体实施方式

根据本发明的一个或多个方面的用于调节过滤组件的系统可以多种方法中的任一种实施并且可用于调节多种过滤组件中的任一种，或者一次用于一个过滤组件，或者一次用于多个过滤组件。

每个过滤组件可被变化地配置。如图1所示，各个过滤组件11可包括过滤介质12，以用于从在工业处理方法中使用的的液体化学品去除污物。对于很多这些工业领域，如微电子工业和制药业，化学品必须是极纯的。因此，过滤介质可具有在微米孔或纳米孔范围上的去除率。例如，去除率可小至约0.05微米或小于0.05微米，包括40、30、20、10、或5纳米或更小。例如，可由可渗透的金属材料、可渗透的陶瓷材料、或可渗透的聚合材料形成过滤器，可渗透的聚合材料包括可渗透的聚合物膜或可渗透片或大量的聚合物纤维或长丝。而且，过滤介质可例如具有扁平的、蜂窝状的、褶状的、或螺旋缠绕的结构。

过滤组件11可进一步包括壳体13，壳体13封装过滤介质12，并且过滤介质12可限定过滤组件11内的上游侧14和下游侧15。在调节之前，可用例如空气或如氮气的惰性气体填充包括过滤介质12内的孔隙和空隙的过滤组件11。过滤组件11可进一步包括在过滤介质12的上游侧14上的彼此间隔开的入口20和排气口21和过滤介质12的下游侧14上的出口22。入口、排气口和出口可定位在过滤组件的变化位置上、包括顶部、底部、和/或侧部。在图示的实施例中，入口20、排气口21、和出口22的每一个均可在壳体13的顶部上。壳体13可限定在过滤组件11上的一个或多个流路，例如在入口20和排气口21之间以及在入口20和出口22之间。对于很多实施例，过滤介质11可具有中空的、大体圆柱形的配置，并且可将盲端盖体23联接于过滤介质12的一端。过滤组件11可配置成用于从过滤组件11的过滤介质12的外部上的上游侧14从外侧流入到过滤组件11的过滤介质12的内部上的下游侧15。可选地，过滤组件可配置用于从内侧流出。很多不同的过滤组件可通过实施本发明的系统和方法调节，包括可从美国纽约华盛顿港的Pall公司获得的商品名称为EZD到的过滤组件。

调节系统10的实施例的很多不同实施例中的一个也在图11中示出。调节系统10可包括清洗液供应部件24，供应部件24可以多种方式联接到过滤组件11的入口20。例如，入口线路25可在过滤组件11的清洗液供应部件24和入口20之间延伸。调节系统还可包括废物容置部，废物容置部能以多种方式中的任一种联接到过滤组件的排气口和出口。例如，废物容置部可以是联接到排气口和出口二者的单个容置部。可选地，废物容置部可包括联接到排气口21的排气口废物容置部26a和联接到出口22的分开的出口废物容置部26b。例如，排气口废物容置部26a可联接到从排气口21延伸的排气口线路31，并且出口废物容置部26b可联接到从排气口22延伸的出口线路32。调节系统10还可包括至少联接到过滤组件11的出口22的真空装置30，以用于向出口22施加真空。对于很多实施例，真空装置30可联接到出口22和排气口21，并可给出口22和排气口21施加真空。调节系统10可进一步包括入口阀33和排气口阀34。入口阀33和排气口阀34可操作地分别与过滤组件11的入口20和排气口21相连以打开和关闭入口20和排气口21。对于一些实施例，调节系统也可包括可操作地与过滤组件的出口相连的出口阀，以打开和关闭出口。对于其它实施例，包括所示出的实施例，可不包括出口阀。虽然可手动执行调节，对于大多数实施例，调节系统10可附加地包括控制器36，控制器36连接到一个或多个元件，以控制过滤组件11的调节。例如，在图1的调节系统10中，可将控制器36连接到真空装置30、入口阀33和排气口阀34。

调节系统10的元件可以多种方式中的任一种被配置。例如，清洗液供应部件可以多种方式配置，例如保持大量清洗液的箱或桶或容纳较小量的清洗液的较小的容器，包括柔性容器。用于供应清洗液的各种容器是可适用的，包括如美国专利申请公开号No.US2005/0173458A1中确定的容纳分配液体的容器、容置部和袋体中的很多种。多种清洗液中的任一种可被容纳在清洗液供应部件中。清洗液可以是与要被过滤组件过滤的化学品相容的任何液体，包括化学品本身、化学品的一个或多个成分(例如主要或基本成分)、或用于化学品或成分的溶剂。化学品和清洗液可例如根据所希望的工业处理方法进行改变。例如，在影印工业中，要被过滤的化学品可以是光反应化学品(如光致抗蚀剂)、抗反射涂层、或用于被分配在衬底晶片上的任何其它化学品。对于很多实施例，清洗液可以是用于这些可分配的化学品的溶剂。这些溶剂的实例包括但不限于，乙基(s)-2-羟基丙(ethyl(S)-2-hydroxypropanoate)、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、环己酮、乙酸丁酯、乙酸二氢呋喃-2(3H)-酮、1-甲氧基丙-2-醇。

废物容置部26a，26b可以各种方式配置，以接纳来自正在被调节的过滤组件11的受污染的清洗液。例如，各个废物容置部26a，26b可以是固定的或柔性的容器，以用于接纳和容纳任何受污染的清洗液，受污染的清洗液经由出口或排气口流出过滤组件。

真空装置30可以多种方式中的任一种配置，并可以多种方式联接到过滤组件11的出口22或排气口21。例如，对于一些实施例，真空装置可包括产生真空的喷射器机构，真空被施加到至少出口。对于其它实施例，真空装置30可包括密封腔室28和联接到密封腔室28的真空泵29，以抽空腔室28并在腔室28内产生真空。真空腔室28可例如经由出口线路32被联接到出口22，并可将真空施加到出口22。真空腔室28可例如经由排气口线路31联接到排气口21，并可将真空施加到排气口21。可选地，真空腔室可仅被联接到出口。

多种阀中的任一种适用于入口阀33、排气口阀34、和任何出口阀。一个或多个阀可以是可变流量阀并可被用于控制到达过滤组件和/或来自过滤组件的流体流量。然而，对于很多实施例，阀可以是二进制开/关阀，例如，快动作开/关阀，并且流体流量可通过真空装置30被控制。每个阀可位于多种位置，以打开和关闭过滤组件的入口、排气口、或出口。例如，入口阀33可位于入口线路25中，并且排气口阀34可位于排气口线路31中。

控制器36可以各种方式中的任一种被配置。例如，控制器36可以是电子控制器，并可包括例如微处理器或逻辑阵列，例如可编程逻辑阵列，以用于执行包含在调节过滤组件中的各种步骤。控制器可以是分开单元并可实体地位于调节系统的其余部分或调节系统的任何其它元件。可选地，控制器可与较大的电子系统相结合，以用于控制一个或多个处理方法，例如，除调节过滤组件之外的分配处理方法。处理器可被连接到调节系统的任何元件，以接纳和/或发送关于系统的信号和/或调节系统的一个或多个元件的功能。例如，图1所示的控制器36可被连接到真空装置30，以控制从清洗液供应部件24到过滤组件11的入口20的清洗液的流量。控制器36还可被连接到入口阀33和排气口阀34，以打开和关闭阀并控制经过过滤组件11的入口20和排气口21的流量。

控制系统可包括一个或多个附加元件，附加元件包括例如传感器，传感器例如是压力传感器、温度传感器、流量传感器、和液位传感器，以用于提供关于系统的附加信息。附加元件还可包括其它装置，如阻尼器、脱气机、除泡器、和滤波器，以用于执行系统内的辅助功能。

根据本发明的一个或多个方面的用于调节过滤组件的方法还可以多种方式中的任一种被实施。在将过滤组件安装在实施本发明的调节系统之后，可根据这些方法中的任一种调节过滤组件，并且可根据任何这些方法所描述的步骤和步骤的顺序对系统控制器编程。

调节方法的实施例的很多不同实施例中的一个可包括打开过滤组件的入口，用清洗液过滤过滤组件内的过滤介质的上游侧，并且用清洗液过滤过滤组件内的过滤介质的下游侧。对于很多实施例，打开过滤组件的入口可包括打开例如在控制器36的方向的入口阀33。可选地，可手动打开入口阀。

过滤组件例如过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质的下游侧可以多种方式中的任一种用清洗液例如前面描述的溶剂填充。例如，清洗液可包括压力源，其在例如大于大气压力的正压力(表压(gauge))下将清洗液从清洗液容器推出。填充过滤组件然后可包括在正表压下迫使清洗液进入打开的入口并且进入过滤组件内的过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质的下游侧。可选地或附加地，用清洗液填充过滤组件可包括在过滤组件的出口和/或排气口施加例如小于大气压力的真空并将清洗液抽入打开的入口。填充过滤组件然后可包括在小于大气压力的压力下将清洗液抽入打开的入口，并且在过滤组件中沿过滤介质的上游侧、经过过滤介质本身、和沿过滤介质的下游侧传送清洗液。填充过滤组件可包括用清洗液对过滤介质的上游侧的第一填充，以及然后填充过滤介质和过滤介质的下游侧。可选地，可同时用清洗液填充过滤介质的上游侧、过滤介质、和过滤介质的下游侧。而且，填充过滤组件还可包括使清洗液冲洗经过过滤组件、和经过打开的出口和关闭的排气口、经过关闭的出口和打开的排气口、或经过打开的出口和打开的排气口而从过滤组件出来。例如，排气口阀可手动地或者在控制的方向上关闭，并且可使清洗液冲洗经过打开的入口、沿过滤组件内的过滤介质的上游侧、经过打开的排气口到废物容置部。由于清洗液沿过滤介质的上游侧通过，清洗液移走任何气体并冲洗污物、包括从壳体或过滤介质流出或滤除的颗粒或其它物质，经过打开的排气口到达废物容置部，例如排气口废物容置部。

对于过滤介质来说，其对清洗液流具有较低阻力，清洗液可同时通过过滤介质、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到废物容置部，例如出口废物容置部，而排气口是打开的并且清洗液沿过滤介质的上游侧通过。然而，对于很多实施例，过滤介质可对清洗液流具有较大阻力。然后，在将清洗液充分地移走和/或清洗液将来自过滤组件内的过滤介质的上游侧的气体和其它污物冲洗之后，排气口可被关闭，例如手动地或在控制器的方向上被关闭。随着排气口关闭，清洗液接下来经过打开的入口、经过过滤介质、填充过滤介质的所有的孔隙和空隙、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达废物容置部，例如出口废物容置部。再一次，当清洗液经过过滤介质和沿过滤介质的下游侧通过时，其将任何气体和冲洗污物移走、包括从壳体或过滤介质流出或滤除的颗粒或其它物质，经过打开的出口到废物容置部。

清洗液沿过滤介质的上游侧、经过过滤介质和/或沿过滤介质的下游侧的流率可根据很多因素，包括过滤介质的尺寸、例如过滤介质的孔隙尺寸的过滤介质的特性、和清洗液的例如粘度的流动特性而变化。通常地，清洗液以以下流率通过：1)提供非湍流的流动特性，以禁止任何气体与清洗液混合，2)以将升起的清洗液前面的气体和其它污物移走的方式，使清洗液流向壳体底部并沿过滤介质的上游侧升起，3)使清洗液完全地填充过滤介质和分配进入过滤介质的所有孔隙和空隙内，从过滤介质移走所有气体，否则气体保持被捕获在过滤介质中，和/或4)以将上升的清洗液前面的气体和其它污物移走的方式，沿过滤介质的下游侧、从底部向上、使清洗液填充内部。对于很多实施例，包括试图用于微电子工业的实施例，清洗液经过打开的入口的流率可以在约3mL/min(或更小)到约300mL/min(或更高)的范围内变化，并且冲洗经过打开的入口的清洗液的总体积的变化范围可以是从约300mL(或更小)到约8000mL(或更高)。

图1的实施例示出了实施本发明的调节方法的很多不同实例中的一个。为了填充过滤组件11，入口阀33和排气口阀34例如在控制器36的方向上可以是打开的。然后控制器36可致动真空装置30以产生真空，真空可例如经由出口线路32和排气口线路31被施加到过滤组件11的打开的出口22和打开的排气口21。对于很多实施例，范围为从约0.04MPa(或更小)到约0.1MPa的真空可被施加到打开的出口22和打开的排气口21，以将清洗液抽入打开的入口20。清洗液(例如前面所描述的溶剂)然后可从清洗液供应部件24例如经由入口线路25抽入过滤组件11的打开的入口20。清洗液从打开的入口20沿过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口并例如经过排气口线路31被引导到排气口废物容置部26a。清洗液冲洗来自过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14的气体和其它污物，被污染的清洗被沉积在如排气口废物容置部26a的废物容置部中。当过滤介质12的上游侧14基本没有气体和其它污物且被填充了清洗液时，排气口阀34例如在控制器36的方向上被关闭，终止经过排气口21到排气口废物容置部26a的流动。

在将排气口阀34关闭之后，由于真空装置30将真空施加到打开的入口22，清洗液继续从清洗液供应部件24抽入打开的入口20。从打开的入口22，清洗液经过过滤介质12并沿过滤组件11内的过滤介质12的下游侧15、经过打开的出口22，在这里清洗液例如经由出口线路32被引入出口废物容置部26b。清洗液冲洗来自过滤介质12的孔隙和空隙和过滤介质12的下游侧15的气体和其它污物，被污染的清洗液被沉积在例如出口废物容置部26b的废物容置部中。

除了用清洗液填充过滤组件和冲洗来自过滤组件的气体和其它污物，实施本发明的调节方法可进一步包括关闭过滤组件的入口，和在入口被关闭时，将真空施加到至少打开的出口。过滤组件的入口可在过滤组件、包括过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质的下游侧基本没有气体和其它污物且被填充了清洗液之后关闭。对于很多实施例，关闭过滤组件的入口可包括例如在控制器方向关闭入口阀。随着入口阀被关闭，进入过滤组件的入口的流动停止，且过滤组件保持基本没有污物并且充满了清洗液。

真空可以多种方式施加到至少过滤组件的打开的出口，同时入口被关闭。例如，真空可仅被施加到打开的出口，同时入口和排气口被关闭。可选地，排气口阀可例如在控制器的方向上被打开，并且真空可被施加到打开的出口和打开的排气口，同时入口被关闭。真空用于去除来自过滤组件的任何剩余的气体颗粒或泡沫，气体颗粒或泡沫可被捕获在例如过滤介质的孔隙和空隙中或被夹带在过滤组件的清洗液中。真空的强度可依赖于几个因素，包括过滤组件的尺寸、例如过滤介质的孔隙尺寸的特性、和清洗液的例如粘度的流动特性。对于很多实施例，范围为从约0.05MPa(或更小)到约0.09MPa(或更大)的真空可至少被施加到打开的出口。而且，真空可被施加到打开的出口达到约5小时或更长，或达到约2小时或更长。对于很多实施例，尤其是用于微电子工业的实施例，其中过滤组件是小的，真空可被施加约1小时或更短，以去除来自过滤组件的任何剩余的气体。

图1的实施例示出了调节方法的很多实例中的一个。在过滤组件11基本没有气体和其它污物时，过滤组件11的入口20可通过关闭例如在控制器36的方向的入口阀33而被关闭。排气口阀34可在例如控制器36的方向被打开，并且通过真空装置30产生的真空可至少被施加到打开的出口22，例如分别经由出口线路32和排气口线路31施加到打开的出口22和打开的排气口21。过滤组件11中的清洗液可保持处于真空，直到任何剩余的气体颗粒从过滤组11被抽取，例如进行约1小时或更短，从而快速地提供没有污物的过滤组件11。

一旦过滤组件没有了全部的污物，可将过滤组件从调节系统去除。入口、排气口、和出口可被密封，以允许将填充了清洗液且没有污物的过滤组件被存储和/或运送。可选地或附加地，清洗可液例如通过要被过滤的化学品而从过滤组件移走，并且过滤组件可投入使用以过滤化学品。

实施本发明的很多调节方法还允许废弃的清洗液被整洁地和安全地沉积而没有损害环境或服务人员。这些调节方法还包括通过以下方式调节过滤组件：1)使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧经过过滤组件的打开的排气口到废物容置部，和2)使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质、沿过滤介质的下游侧、经过过滤组件的打开的出口到废物容置部。清洗液可以多种方式经过过滤组件，例如，沿过滤介质的上游侧、经过过滤介质本身、和沿过滤介质的下游侧，如之前所描述的。例如，如图1所示，清洗液可通过将真空施加到打开的出口22和打开的排气口21而被抽取经过打开的入口20进入过滤组件11。在清洗液冲洗来自过滤组件11的任何污物之后，过滤组件11可能没有污物且填充有清洗液，同时无污物的废弃的清洗液被容纳在废物容置部中，例如，排气口废物容置部26a和出口废物容置部26b。

实施本发明的调节方法可进一步包括：用具有类似的入口、出口、和排气口的第二组件代替被调节的过滤组件；关闭第二组件的入口；并经过第二组件的打开的出口和打开的入口中的至少一个使废物容置部中的清洗液传送到第二组件。第二组件可以各种方式配置。对于很多实施例，第二组件可以是虚拟过滤组件，即，与调节的过滤组件实质上相同但是缺少过滤介质的过滤组件。因此虚拟过滤组件壳体的整个内部对于通过一个或多个调节的过滤组件容纳沉积在废物容置部中废弃的清洗液是可用的。可选地，第二组件可以是第二过滤组件，其作为过滤介质但不期望被用于过滤。

调节的过滤组件可以多种方式被第二组件代替。例如，用第二组件代替调节的过滤组件可包括单个地将调节的过滤组件的入口、出口、和排气口分别从入口线路、出口线路、和排气口线路去除，以及单个地将这些线路重新连接到第二组件的入口、出口、和排气口。可选地，调节系统可包括歧管，歧管能将入口线路、出口线路、和排气口线路共同地连接到第二组件和过滤组件的入口、出口、和排气口和/或从第二组件和过滤组件的入口、出口、和排气口去除。然后，用第二过滤组件代替调节的过滤组件可包括将调节的过滤组件从歧管去除并将第二组件连接到歧管。

清洗液可以多种方式中的任一种从废物容置部传送至第二组件。例如，废物容置部可仅为单个容置部，并且废弃的清洗液可仅经过打开的出口、或仅经过打开的排气口、或打开的出口和打开的排气口二者被传送至第二组件装置。可选地，废弃的容置部可包括联接至打开的出口和打开的排气口中的一个或二个的多个废物容置部。一旦通过在控制器方向关闭入口阀而关闭第二组件的排气口，清洗液可被允许例如借助重力被排入第二组件。例如，在通过第二组件代替调节的过滤组件并且已关闭第二组件的入口之后，真空装置可例如在控制器的方向被停止，并且废弃的清洗液可例如经由出口线路和/或排气口线路被排入第二组件。可选地，废弃的清洗液可从废物容置部受迫进入第二组件。例如，真空装置的真空泵可反转，并且微小的正表压可在真空室内产生，从而迫使废弃的清洗液从废物容置部进入第二组件。随着来自一个或多个调节的过滤组件的废弃的清洗液被容纳在第二组件中，第二组件可被适当地处理，例如焚化，而没有使环境或任何服务人员暴露于清洗液的危险。

图1的实施例示出了实施本发明该方面的调节方法的很多不同实例中的一个。过滤组件11可通过将真空施加到打开的出口22和打开的排气口21而将清洗液抽入过滤组件11的打开的入口20而被调节，如之前所述的。例如，过滤组件11可例如通过将调节的过滤组件11从歧管37去除而被代替。然后第二组件11a可连接到歧管37，并且第二组件11a的入口20可通过例如在控制器36的方向关闭入口阀33而被关闭。控制器36还可使真空装置30停止。排气口废物容置部26a和出口废物容置部26b中的废弃的清洗液然后沿出口线路32和排气口线路31、经过打开的出口22和接下来的打开的排气口21被排入第二组件11a，废弃的清洗液被整洁地和安全地容纳在那里。图1的实施例示出了实施本发明该方面的调节方法的很多不同实例中的一个。过滤组件11可通过将真空施加到打开的出口22和打开的排气口21而将清洗液抽入过滤组件11的打开的入口20而被调节，如之前所述的。例如，过滤组件11可例如通过将调节的过滤组件11从歧管37去除而被代替。然后第二组件11a可连接到歧管37，并且第二组件11a的入口20可通过例如在控制器36的方向关闭入口阀33而被关闭。控制器36还可使真空装置30停止。排气口废物容置部26a和出口废物容置部26b中的废弃的清洗液然后沿出口线路32和排气口线路31、经过打开的出口22和接下来的打开的排气口21被排入第二组件11a，废弃的清洗液被整洁地和安全地容纳在那里。

虽然在前面所描述和示出的实施例中公开了本发明，但本发明不限于那些实施例。例如，实施例的一个或多个特征可被删除或改动，实施例的一个或多特征可与其它实施例的一个或多个特征相组合、或者可设想出具有很不相同的特征的实施例而不脱离本发明的范围。例如，对于一些实施例，调节系统可以是独立式单元，其与用于制造或使用过滤组件的任何系统相分离或间隔开。对于其它实施例，调节系统可以是与过滤器制造系统或用户端系统相结合的子系统，如微电子分配系统。对于一些实施例，调节系统和方法可制备用于存储和运输的过滤组件；对于其它实施例，调节系统和方法可制备用于即时使用的过滤组件。

图2中示出了调节系统10和方法的另一实施例。图2的调节系统10的很多元件与图1的调节系统的元件相似或相同，并以相同的附图标记表示。图2的调节系统10可相似地包括借助入口线路25连接到过滤组件11的入口20的清洗液供应部件24和连接到控制器36的入口阀33。包括排气口废物容置部26a和出口废物容置部26b的废物容置部可经由排气口线路31和出口线路32被联接到过滤组件11的排气口21和出口22。真空装置30还可通过排气口线路31和出口线路32连接到过滤组件11的排气口21和出口22。排气口阀34可被连接在排气口线路31中。另外，清洗液供应部件24可包括压力源40，以用于将压力供应给清洗液容器并且以正表压迫使清洗液进入过滤组件11的打开的入口22内。例如，清洗液供应部件24可包括如能从ATMI获得的商品名称为NOWPak的气动压缩机。

图2的用于调节过滤组件的方法可与图1的用于调节过滤组件的方法相类似。然而，代替将清洗液从清洗液供应部件抽入过滤组件的打开的入口，清洗液可以在正表压受迫从清洗液供应部件24进入打开的入口20内。例如，入口阀33和排气口阀34可在控制器36的方向打开。压力源40可由控制器36致动，以在清洗液容器上施加压力并迫使清洗液从清洗液源24进入过滤组件11的打开的入口20。真空装置30可由控制器36停止或被致动以在打开的排气口21施加真空并辅助压力源40。清洗液以在正表压进入打开的入口22并沿过滤组件11中的过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21并进入废物容置部，例如经由排气口线路32进入排气口废物容置部26a。气体和其它污物可被冲洗液冲洗，从过滤组件11经过打开的排气口21进入排气口废物容置部2a，从而使过滤介质12的上游侧14基本没有污物并且填充有清洗液。

接下来，排气口阀34可在控制器36的方向被关闭。压力源40可继续以在正表压将清洗液供应给过滤组件11的打开的入口20。再次地，真空装置30可由控制器3停止，或被致动以在打开的出口22提供真空并辅助压力源40。清洗液从打开的入口20、经过过滤介质12、沿过滤组件11中的过滤介质12的下游侧15、经过打开的出口22并且进入废物容置部中，例如经由出口线路32进入出口废物容置部26b。气体和其他污物可被冲洗液冲洗，从过滤组件11经过打开的出口22进入出口废物容置部26b，使过滤介质12和过滤介质12的下游侧15基本没有污物并被填充有清洗液。

实施本发明的调节方法可进一步包括关闭过滤组件的入口和至少施加真空给打开的出口，如相对于图1的调节方法在之前描述的。例如，过滤组件11的入口20可通过关闭例如在控制器36y的方向的入口排气口33而被关闭。控制器36还可使清洗液供应部件24的压力源40停止。排气口阀34可例如由控制器36打开，并且控制器36可致动真空装置30。由真空装置30产生的真空可经由出口线路32和排气口线路31被至少施加到打开的出口22、或打开的出口22和打开的排气口21二者。在过滤组件11中的清洗液可保持处于真空，直到在过滤介质12中的任何剩余的气体颗粒或清洗液从过滤组11被抽取并且过滤组件11没有污物，例如进行约1小时或更短。

因此，本发明涵盖了很多的实施例且不限于已经在这里被描述、示出、和/或教导的特定的实施例。而且，本发明包括落在权利要求范围内的所有实施例和修改。

这里引用的所有的参考文献，包括公报、专利申请和专利在这里通过参考被并入、达到就像每个参考文献单个地并且具体地表示为通过参考被并入且在这里以其全文被阐述的程度。

在描述本发明的上下文中(尤其是在如下的权利要求的上下文中)术语“一”、“一个”和“该”以及类似的指代的使用应该解释为覆盖单数和复数，除非这里另有指示或者上下文明显矛盾。术语“包括”、“具有”、“包含”和“含有”应该解释为开放式的术语(即意思是“包括但不限于”)，除非另有指示。这里的值的范围的列举仅是期望用作单个地表示每个落入该范围内的单独的值的简写方法，除非这里另有指示，并且每个单独的值被结合到本说明书中就像其在这里被单个地记载。这里描述的所有方法能以任何合适的顺序执行除非这里另有指示或者上下文明显矛盾。这里提供的任何和所有实例或示例性语言(如“例如”)的使用仅是期望更好地解释本发明并不对本发明的范围形成限制，除非另外声明。说明书中没有语言应该被解释为表示任何非主张的元件对于本发明的实施是必要的。

Claims (19)

1.一种用于调节过滤组件的方法，所述过滤组件包括可渗透的过滤介质，所述可渗透的过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述方法包括：

打开过滤组件的入口，用清洗液填充在所述过滤组件内的过滤介质的上游侧，以及用清洗液填充在所述过滤组件内的过滤介质的下游侧和过滤介质；

关闭入口；并且

在入口被关闭时将真空施加到打开的出口，以调节过滤组件。

2.根据权利要求1所述的方法，其还包括在入口被关闭时将真空施加到打开的排气口，以调节过滤组件。

3.根据权利要求2所述的方法，其中真空被施加到打开的出口，同时真空被施加到打开的排气口。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中真空被施加1小时或更少。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中填充过滤介质的上游侧包括使清洗液进入打开的入口、沿过滤组件内的过滤介质的上游侧并经过打开的排气口。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中填充过滤介质的下游侧和过滤介质包括使清洗液进入打开的入口、经过过滤介质、沿过滤组件内的过滤介质的下游侧并经过打开的出口。

7.根据权利要求5所述的方法，其中使清洗液进入打开的入口包括以正表压将清洗液施加到所述打开的入口。

8.根据权利要求5所述的方法，其中使清洗液进入打开的入口包括将清洗液真空抽入打开的入口。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中填充在所述过滤介质的上游侧上的过滤组件包括将清洗液引导经过打开的排气口到达废物容置部。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中填充在所述过滤介质的下游侧上的过滤组件包括将清洗液引导经过打开的出口到达废物容置部。

11.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括：用具有入口、出口、和排气口但没有过滤介质的第二过滤组件代替所述过滤组件；关闭所述入口；和将清洗液从废物容置部经由打开的出口和打开的排气口中的至少一个引导到所述第二过滤组件。

12.一种用于调节过滤组件的方法，所述过滤组件包括可渗透的过滤介质，所述可渗透的过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述方法包括：

通过以下方式调节过滤组件：1)使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过所述过滤组件的打开的排气口到达废物容置部；和2)使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质、沿所述过滤介质的下游侧，经过滤组件的打开的出口到达废物容置部；

用具有入口、出口、和排气口但没有过滤介质的第二组件代替被调节的过滤组件；

关闭第二组件的入口；并且

使清洗液从所述废物容置部经过第二组件的打开的出口和打开的排气口中的至少一个到达第二组件。

13.根据权利要求12所述的方法，其中使清洗液经过打开的排气口进入废物容置部包括使清洗液进入第一废物容置部，其中使清洗液经过打开的出口进入废物容置部包括使清洗液进入第二废物容置部，并且使清洗液从废物容置部到达第二组件包括使清洗液从第一和第二废物容置部中的至少一个到达第二组件。

14.一种用于调节过滤组件的系统，所述过滤组件包括可渗透的过滤介质，所述可渗透的过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤组件的上游侧上的入口和排气口、和过滤组件的下游侧上的出口，所述系统包括：

可联接到过滤组件的入口的清洗液供应部件；

可联接到过滤组件的至少出口的真空装置；

可操作以打开和关闭的过滤组件的入口的入口阀；和

连接到至少真空装置和入口阀的控制器，其中所述控制器可操作以打开入口阀并且从清洗液供应部件经过打开的入口提供清洗液，以用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的上游侧、过滤介质和过滤介质的下游侧，并且所述控制器可操作以关闭入口阀，并且致动真空装置以将真空施加到用清洗液填充的过滤组件的打开的出口。

15.根据权利要求14所述的系统，其进一步包括可操作以打开和关闭过滤组件的排气口的排气口阀，其中所述控制器进一步连接到所述排气口阀，并且所述控制器可操作以将清洗液供应到过滤组件包括：1)控制器可操作成将清洗液提供经过打开的入口、沿过滤组件内的过滤介质的上游侧并且经过打开的排气口；和2)所述控制器可操作成将清洗液供应经过打开的入口、经过过滤介质、沿过滤介质的下游侧并且经过打开的出口。

16.根据权利要求14所述的系统，其中控制器可操作成将清洗液供应经过打开的入口包括所述控制器可操作成致动真空装置并且将清洗液抽入所述过滤组件的打开的入口。

17.根据权利要求16所述的系统，其中所述控制器可操作成致动真空装置并且将清洗液抽入所述过滤组件的打开的入口包括所述控制器可操作成将清洗液抽取经过打开的入口、经过过滤介质、沿所述过滤组件内的过滤介质的下游侧并且经过打开的出口。

18.根据权利要求16或17所述的系统，其进一步包括可操作成打开和关闭所述过滤组件的排气口的排气口阀，其中所述控制器被连接到所述排气口阀，并且所述控制器可操作成致动真空装置并且将清洗液抽入打开的入口包括所述控制器可操作成将清洗液抽入打开的入口、沿所述过滤介质的上游侧并且经过打开的排气口。

19.根据权利要求17所述的系统，其中经过打开的出口或打开的排气口抽取清洗液包括将清洗液引导到废物容置部。