JP4578103B2 - フォトレジストを供給するために用いられるシステム及びフォトレジストを供給する方法 - Google Patents

Description

本発明は、液体を供給する装置、システム及び方法に関する。より具体的には、本発明は、高純度液体を供給する装置、システム及び方法に関する。

本出願は、２００２年１月７日付けで出願され、その内容を参考として引用し本明細書に含めた、米国仮特許出願第６０／３５４，３０１号の優先権の利益を主張するものである。

多くの工業分野において、ある製品を製造する過程中、極めて敏感な高純度液体を正確に供給することは極めて望ましいことである。例えば、多岐に亙る製品を製造する過程中、液晶工業、半導体工業及びインクジェット印刷工業のようなマイクロエレクトロニクス工業分野において供給液体が一般に使用される。かかる供給液体の一例は、集積回路を製造するフォトリソグラフィ法のような工程にて使用することのできるフォトレジストである。

これらの工業分野において、部品、構成要素及び製品をより小型化することが一般的な傾向である。例えば、回路の幾何学的形態は、サブミクロンサイズまで小型化している。かかる顕微鏡的レベルにおいて、供給液体中に不純物が混入し又は形成されることは大きな問題である。微粒子汚染物は、大きな問題となる不純物である。最小の粒子によってさえ供給液体が汚染されることは、極めて高価である供給液体のみならず、製造工程全体の製品を駄目にする可能性がある。

供給液体中の泡はもう１つの問題となる不純物である。供給液体中に泡が形成されることは、微粒子の汚染と同程度に製品を損なう可能性がある。供給液体は、通常、例えば、高揮発性溶剤のような極めて蒸発し易い成分を含んでいる。これらの成分は、容易に蒸発して、例えば、揮発性成分を蒸発させる値まで圧力が降下する可能性のある供給ポンプの吸込み口にて供給液体中に泡を形成し易い。

供給液体に関係したもう１つの大きな問題点は、その敏感で脆いという性質である。すなわち、これらは容易に損傷する。多くの過程は、連続的な液体の流れではなくて、供給液体の周期的な「ショット（ｓｈｏｔ）」を利用する。多くの従来の供給ポンプは、短時間、高圧力にて供給液体の高流量を生じさせることにより「ショット」を供給する。高圧力及び高流量は、供給液体の性質を悪い方向に変更し又は変化させ、供給液体に対してのみならず、供給液体にて製造される製品にも悪影響を与える可能性がある。

本発明の実施の形態は、上述した問題点の１つ以上、及び液体の供給に関係したその他の多くの問題点を取り扱うことができるものである。
本発明の１つの局面によれば、液体供給システムは、供給ポンプ及びフィルタを備えることができる。供給ポンプは、供給液体をポンプ内に吸引するために通る吸込み入口を有している。供給液体は、フィルタを通ってフィルタの上流側から下流側へ流れる。フィルタの下流側は、供給ポンプの吸込み入口と流体的に連通している。液体供給システムは、送り込みアセンブリを含む装置を更に備えている。送り込みアセンブリは、供給ポンプの吸込み入口と流体的に連通している。該装置は、供給ポンプの吸込み入口における圧力を所定の圧力値以上に維持すべく供給液体の流れを供給するように作用する。

本発明の別の局面によれば、液体供給システムは、供給ポンプと、送り込みアセンブリと、弁と、コントローラとを備えることができる。供給ポンプは吸込み入口を有している。送り込みアセンブリは、供給液体を吸込み入口に供給する。弁は、送り込みアセンブリに結合されている。コントローラは、弁に結合されている。送り込みアセンブリ、弁及びコントローラは、供給液体を供給ポンプの吸込み入口に送り込み且つ、供給液体中に泡が形成されるのを防止し得るように配置されている。

本発明の別の局面によれば、液体供給システムは、供給ポンプと、送り込みアセンブリと、弁と、コントローラと、弾性のあるアキュムレータと備えることができる。供給ポンプは、吸込み入口を有している。送り込みアセンブリは、供給液体を吸込み入口に供給する。弁は、送り込みアセンブリに結合され且つ、吸込み入口付近に配置されている。コントローラは、弁に結合されている。弾性のあるアキュムレータは、弁の上流に配置されている。

本発明の別の局面によれば、液体を供給する方法は、吸込み入口における圧力を所定の値以上に維持すべく供給液体を供給ポンプの吸込み入口に供給するステップを備えている。

本発明の別の局面によれば、液体を供給する方法は、供給ポンプの吸込み入口にて供給液体中に泡が形成されるのを防止する圧力又は流量にて供給液体を供給ポンプの吸込み入口にフィルタを通して供給するステップを含むことができる。

本発明の実施の形態は、本発明の上記の局面の１つ以上を含むことができる。圧力が所定の値以下に降下するのを防止すべく供給液体をポンプの吸込み入口に供給する実施の形態は、極めて有益である。例えば、圧力が所定の値以下に降下するのを防止することにより、供給液体中の泡の形成は、最小限とされ又は完全に防止される。好ましくは、本発明の実施の形態は、供給液体がポンプ内に吸引されるとき、ポンプの吸込み入口における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力又は流量にて供給液体をポンプの吸込み入口に送り込むようにする。供給液体中の泡の形成を最小限にし又は防止する実施の形態は、供給液体の高純度を維持し、これにより供給液体を使用する任意の過程の完全性及び信頼性を向上させる。

供給液体は、例えば、揮発性溶剤のような揮発性の汚染物を保持する極めて精緻な混合物であることが多く、また、粘度及び沸点のような化学的及び物理的性質は、ある供給液体と別の液体との間で変動する可能性がある。典型的な供給液体は、フォトレジスト、ドーパント、溶剤、酸及び塩基を含むことができる。本発明の実施の形態は、任意の供給液体を供給するために使用することができるが、敏感な供給液体、すなわち、沸騰し又は蒸発して、通常の動作温度にて供給ポンプの吸込み入口に気泡を形成する供給液体を供給するときに特に有用である。

液体供給システム１００の１つの実施の形態は、図１に図示されている。該液体供給システム１００は、供給ポンプ１０１と、フィルタ１０２と、供給液体をフィルタ１０２を通して供給ポンプ１０１に送り込む圧力補償装置１０３とを備えることができる。

供給ポンプ１０１は、任意の適宜なポンプアセンブリを備えることができる。例えば、ポンプは、容積式ポンプ、隔膜ポンプ、「ショット」ポンプ、又は連続的フローポンプを備えることができる。しかし、特定の用途に適した任意のポンプを使用することができ、また、このシステムと共に使用可能なポンプの型式はこれらの列記したものに限定されるものではない。好ましくは、ポンプ１０１は、正確な量の液体を圧送し得るようにされるものとする。例えば、ポンプが液体の「ショット」を供給するように作動するならば、該ポンプは、作動可能な段階及び不作動段階の双方を備えることができる。例えば、ポンプ１０１が作動可能なとき、該ポンプは、液体を送り込みライン１１０から吸込み入口１１２内に吸引し且つ、液体を供給出口１１３を通じて供給ライン１１１に供給する。ポンプが流体を吸引しないとき、ポンプは、アイドリング状態、又は待機状態、遮断状態にあり、又は液体が供給出口１１３を通らない任意のその他の状態にあることになる。

ポンプ１０１は、製造工程又は製造サイクルの特定の要求に適した任意のポンプとすることができる。供給システムの典型的なサイクルは、約２０秒、継続する。サイクルの間の典型的な供給時間は、約２秒とし、また、典型的な吸込み時間は、約４秒とすることができる。この場合、システムの休止時間（ダウンタイム）は、約１４秒とし、その時間の間、システムは、完成した基板に置換すべく、例えば、ウェハのような新たな基板を再装填することができる。このため、ポンプ１０１は、約６秒間、作動可能であり、また、約１４秒間、待機状態にある。このため、ポンプ１０１が供給液体を例えば、ウェハのような基板に供給するならば、１分当たり約３つのウェハを製造することが可能である。供給液体の典型的なショット量は、用途に依存して、約０．５ｃｃ以下から約１．０ｃｃ以上までの範囲とすることができる。

ポンプ１０１は、サイクルに対する所望の流量、所望の精度レベル及び（又は）供給液体のタイプを含む、多くの因子に基づいて選ぶことができる。例えば、ポンプ１０１は、低流量、例えば、供給液体のせん断作用を生じさせない流量を供給することができることが好ましい。ポンプは、液体を正確で且つ精密な量にて供給するその能力に基づいて選ぶことができる。例えば、基板すなわちウェハの寸法が小さいため、また、多分、液体の敏感さのため、１サイクル中のショットの間、又は製造工程間における変動及び（又は）不均一さは、最終製品にとって有害となる可能性がある。例えば、ポンプ１０１を通じて供給される液体の精度は、０．５ｃｃ／ショットにて供給するシステムの場合、約±０．０００５ｃｃ／ショットの誤差許容公差を有する。

ポンプ１０１は、吸込み入口１１２と、供給出口１１３とを有することができる。吸込み入口１１２は、フィルタ１０２及び圧力補償装置１０３と流体的に連通させることができる。ポンプ１０１の吸引側は、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するとき、ポンプ１０１に対する送り込みライン１１０内の圧力を降下させる。供給出口１１３は、例えば、供給ライン１１１及び供給ライン１１１内の弁１１７を介して供給箇所１０９と流体的に連通することができる。ポンプ１０１は、モータ１１４により駆動し、また、ポンプ及び供給弁１１７の作動を調和させることの可能なポンプ制御ユニットを有することができる。

フィルタ１０２は、特定の供給液体をろ過するのに適した任意のフィルタを備えることができる。フィルタ１０２は、任意の適宜な形状、材料又は構造を備えることができる。フィルタ１０２は、使い捨て型又は清浄化可能なものとすることができる。フィルタ１０２は、システム又は特定のサイクルの要求に基づいて選ぶことができる。例えば、フィルタは所望の流量、温度及び（又は）圧力に基づいて選ぶことができる。フィルタ１０２はまた、例えば、粘度、蒸気圧力、及び比重のような供給液体の特性及び（又は）性質に基づいて供給液体の種類に適した任意のフィルタとすることが可能である。

フィルタ１０２は、１つ以上のフィルタカートリッジ、フィルタ媒体、支持体及び排液層、エンドキャップ、ケージ、コア、又はハウジングを含む任意の適宜な構成要素を備えることができる。フィルタ１０２の構成要素は、プラスチック材料又は金属材料のような、供給液体と適合性のある任意の適宜な材料を備え、また、例えば、全体として円筒状の形状のような任意の所望の形状とすることができる。多くの好ましい実施の形態において、ハウジングの形状は、該ハウジング内に保持されるフィルタカートリッジの形状に相応する。ハウジングは、単一部品構造体又は多層部品構造体を備えることができる。

フィルタカートリッジは、フィルタ媒体を有するフィルタエレメントを備えることができる。フィルタ媒体は、焼結金属粒子の円筒状集合物のような中実又は中空の多孔質集合物、又は例えば、重合体の繊維のような接着され及び（又は）互いにからみ合った繊維の円筒状集合物を備えることができる。フィルタ媒体は、例えば、フィラメントを含む、多孔質の織り又は不織の繊維シートのような、透過性シートを備え、又は透過性又は多孔質の支持され又支持されない重合系膜を備えることができる。フィルタ媒体は、ひだ付きとし、例えば、半径方向に又は非半径方向に延びるプリーツを備えることができ、また、中空の円筒状の形態を有するものとすることができる。フィルタは、例えば、約０．０２μｍ以下から約０．２μｍ以上の範囲の多孔率を含む、任意の適宜な多孔率を有するものとする。更に、フィルタ媒体は、例えば、マイクロろ過又はナノろ過範囲のような除去率を有することができる。フィルタエレメントは、また、排液層、プレフィルタ層、追加的なフィルタ層、基層及び（又は）緩衝層のうちの１つ以上を備えることもできる。フィルタエレメントは、ケージとコアとの間に配置することができるが、これと代替的に、ケージ及びコアの１つのみを備え、又はケージ及びコアの何れも備えないようにしてもよい。フィルタエレメント、ケージ、及び（又は）コアの端部は、エンドキャップをシールすることができる。エンドキャップの一方又はその双方は、開放エンドキャップとする。

好ましくは、フィルタ１０２は、約０．１ｃｃ／秒以下から約６ｃｃ／秒以上、より好ましくは、約０．１ｃｃ／秒以下から約３ｃｃ／秒以上の範囲のフィルタを通る流量に適している。本システムと共に使用するのに適したフィルタは、残留量が小さく、このため、供給液体の無駄が最小限となるフィルタとすることができる。適宜なフィルタの一例は、ポール・コーポレーションからＥＺＤ−２という商標名で販売されているものである。例えば、適宜なフィルタは、好ましくは、ハウジング内の残留量及び（又は）不作用領域を最小限にし得るように取り付けられた内部を有するハウジングを備えることができる。ハウジングの内側壁及びフィルタカートリッジの外側は、同様の形状とし、また、ハウジングの内側とフィルタカートリッジの外側との間に環状の流体の流れ分配通路を画成することができる。好ましくは、環状の通路は、残留量を減少させるような寸法とされる。ハウジングの頂部分の内壁は、フィルタカートリッジの頂部分から隔てることができ、また、気体又は泡が環状の流れ分配チャンバから且つ、フィルタカートリッジの頂部の情報へ上昇するのを許容するような形態とすることができる。ハウジングの頂部分の内壁は、ハウジングの頂部分の内壁と、フィルタカートリッジの頂部分との間の空間のような、フィルタカートリッジの頂部から連続的に離れて増大する勾配付き又は傾斜した形態を備えることができる。ハウジングの頂部分は、例えば、通気口と連結するものとすることができる。ハウジングは、流体入口導管のような流体導管を備えることができ、該流体導管は、入口のような、ハウジングの頂部における接続具からフィルタカートリッジの外周に沿って軸方向に伸び、また、例えば、環状の流れ分配通路のようなハウジングの底部にて開放するものとすることができる。更に、ハウジングの内底部壁及びフィルタカートリッジの底エンドキャップは、合わさる形状とする。ハウジングは、例えば、流体出口導管と流体的に連通した出口を備えることができる。出口は、例えば、フィルタカートリッジのエンドキャップの開口部のような、開口部と流体連通したものとすることができる。かかるフィルタは、その内容を参考として引用し本明細書に含めた、国際公開ＷＯ０１／９５９９３号に示されている。

圧力補償装置１０３は、吸込み入口１１２における圧力が所定の値、例えば、所定の下限定値以下に降下するのを防止するのに十分な供給液体をフィルタ１０２を通して供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に送り込むことが好ましい。この圧力の所定の値は、ポンプ１０１内に吸引される特定の供給液体が通常の作動温度にて沸騰し又は蒸発して気泡を形成するのを最小限にし又は防止するのに十分に大きいことが好ましい。このため、所定の値は、約０℃から約６０℃の範囲にある作動温度、及び液体の沸騰特性、粘度又はせん断され易さを含む、供給液体の化学的及び物理的性質のような因子に依存して変更可能である。任意の所定の供給液体及び供給過程に対し、所定の値は、例えば、経験的に決定することができる。更に、幾つかの場合、所定の値は、例えば、フォトレジストのような、ある種類の供給液体を含む幾つかの供給液体を保護するのに適した値に設定することができる。例えば、−３０ｋＰａ（−０．３バール）（ゲージ圧）という所定の値は、多くのフォトレジストにおける任意の揮発性成分が沸騰し又は蒸発し、且つ殆んどの通常の作動温度にて泡を形成するのを最小限にし又は防止するのに十分に大きいと考えられる。

圧力補償装置１０３は、吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて供給液体を送り込み得るように配置されることが好ましい。供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に流し込むことにより、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するときに生ずる相対的に負の圧力を補償し又は均衡させることのできる相対的に正の圧力が形成される。供給液体を、吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止する任意の圧力及び（又は）流量にて吸込み入口１１２内に流し込むことができる。しかし、多くの好ましい実施の形態において、供給液体は、圧力が所定の値以下に降下するのを防止する値よりも遥かに大きい圧力又は流量にて吸込み入口１１２内に流し込まれない。供給液体の敏感さに依存して、過度に大きい圧力及び（又は）流量は、供給液体を損傷させ又は供給液体の性質を悪い方向に変化させる可能性がある。

圧力補償装置１０３の形態は、泡の形成を最小限にし又は防止するのに十分な供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に送り込み得るように多岐に亙る仕方にて設定することができる。例えば、圧力補償装置１０３は、フィルタ１０２及びポンプ１０１にむかう送り込みライン１１０内の弁１０５と、弁１０５に結合されたコントローラ１０４と、供給液体を送り込みライン１１０に供給する送り込みアセンブリ１０６とを有することができる。

多岐に亙る弁が適している。例えば、弁１０５は、隔膜弁、ニードル弁又は玉形弁とし且つ、電動型、空気圧作動又は液圧作動型のものとすることができる。弁１０５は、例えば、変化する供給液体の流量を提供することのできる、可変流量弁とすることができる。好ましくは、弁１０５は、供給液体が流れるように開弁し又は供給液体の流れを遮断するように閉弁する、単純な二値型の切換え弁であるようにする。弁１０５は、急速作動式弁であることが好ましい。例えば、弁は、約５秒以下、より好ましくは、約１秒以下、または約０．５秒以下、又は約０．１秒以下にて開弁し又は閉弁するようにする。弁１０５は、例えば、供給液体が弁１０５を通って流れるとき、せん断損傷を回避するため、圧力降下を最小限にし且つ供給液体への損傷を回避し得るように選択されることが好ましい。更に、弁１０５は、供給液体と反応せず、従って、汚染物無しの材料から成ることが好ましい。適宜な材料は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）及びポリオレフィンのような、フルオロカーボン材料を含むことができる。

弁１０５は、様々な位置に配置することができる。例えば、弁１０５は、フィルタ１０２と供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２との間の送り込みライン１１０に、又は供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に配置することができる。これと代替的に、弁１０５は、供給ポンプ１０１内、フィルタ１０２内、又は送り込みアセンブリ１０６内に配置することができる。好ましくは、弁１０５は、送り込みアセンブリ１０６の下流及びフィルタ１０２の上流にて送り込みライン１１０内に配置される。

コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１のポンプ吸込み入口１１２が供給液体を供給ポンプ１０１内に吸引するとき、吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な、吸込み入口１１２に対する供給液体の送り込み量が存在することを保証するために使用される。コントローラ１０４は、例えば、情報又はコマンドを受け取り又は送るべく構成要素と接続するように、各種の構成要素に結合することができる。例えば、コントローラ１０４は、吸込み入口１１２の圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに適した任意の時点にて弁１０５を開弁すべく弁１０５に直接的に又は間接的に結合されることが好ましい。コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引し始める前に又はし始めた後に、弁１０５を開弁することができる。好ましくは、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引し始める時点付近にて弁１０５を開弁するようにする。コントローラ１０４は、また、供給液体の送り込みを終了すべきときに、弁１０５を閉じるために使用できる。例えば、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するのを停止する前又は停止した後に、弁１０５を閉じることができる。好ましくは、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するのを停止する時点付近にて弁１０５を閉じるようにする。

コントローラ１０４は、また、例えば、送り込みアセンブリ１０６にも結合することができ、また、送り込みアセンブリ１０６の１つ以上の機能を調節する作用を果たすことができる。例えば、コントローラ１０４は、送り込みアセンブリ１０６から送り込みライン１１０内に供給される供給液体の圧力を調節し、又はコントローラ１０４は、送り込みアセンブリ１０６内の供給液体の量を監視し且つ、供給液体の液位が低いとき、適宜な信号を提供することができる。

弁１０５を開弁し且つ閉弁し且つ（又は）送り込みアセンブリ１０６を調節する適宜なタイミングを維持するため、コントローラ１０４は、様々な他の構成要素に結合することができる。例えば、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１、例えば、モータ１１４、ポンプ制御ユニット又は供給ポンプ１０１の任意のその他の構成要素に接続して、弁１０５を開弁し又は閉弁してよいときを決定する。例えば、コントローラ１０４は、吸込み入口１１２が供給液体をポンプ１０１内に吸引し始めるとき、又は液体をポンプ１０１内に吸込むのを停止するときに、弁１０５を開弁し又は閉弁することができる。これと代替的に又は追加的に、コントローラ１０４を、例えば送り込みライン１１０内の圧力センサ又は流量計のような構成要素に接続し、フィルタ１０２を送り込みアセンブリ１０６に接続して、例えば圧力又は流量が変化するときに弁１０５を開弁し又は閉弁するときを決定することができる。別の１つの代替例として、コントローラ１０４及びポンプ１０１は、供給過程の全体を監視するマスターコントローラによって同調させることができ、又は、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１のタイミングシーケンスに相応する予め設定したタイミングシーケンスを有するようにすることができる。

コントローラ１０４は、空気圧作動型又は液圧作動型のコントローラとすることができるが、マイクロプロセッサのような電子装置、又は論理アレイ又はリレーアレイのような電子回路であることが好ましい。コントローラ１０４は、例えば、送り込みアセンブリ１０６及び（又は）弁１０５と共に物理的に配置することができ、又は、該コントローラは、独立した構成要素とすることができる。コントローラ１０４は、例えば、供給ポンプ１０１内の別個の構成要素とし又は供給ポンプのコントローラの一部分として、供給ポンプ１０１と結合させることができる。これと代替的に、コントローラ１０４は、マスターコントローラの一部分としてもよい。

送り込みアセンブリ１０６は、供給液体の供給源として作用可能である。例えば、送り込みアセンブリは、供給液体に対する容器又はリザーバを有することができる。これと代替的に、送り込みアセンブリ１０６は、供給液体の供給ラインを有することができる。例えば、送り込みアセンブリ１０６は、供給液体を提供し、例えば、供給ライン内で供給液体を循環させる１つ以上のポンプを有することができる。好ましくは、送り込みアセンブリ１０６は、吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を、例えば送り込みライン１１０に沿ってフィルタ１０２を通して供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２まで流し込む圧力源も有する。供給液体のリザーバ又は容器に接続できる圧力源は、加圧した気体供給源、ポンプ、圧搾機のような機械的装置、重力送り込みアセンブリ、又は、十分な供給液体を吸込み入口１１２に流し込む任意の他の装置とすることができる。圧力供給源によって供給液体に加えられ、供給液体を吸い込み入口１１２に流し込む圧力は、例えば、フィルタ１０２における圧力降下のような圧力降下や、例えば供給液体の粘度又は供給液体のせん断され易さといった供給液体の化学的及び物理的性質のような因子に依存して変化する可能性がある。所望の圧力は、例えば、経験的に、任意の所定の過程及び供給液体に対して決定することができる。多くの過程及び供給液体に対して、例えば、約４００ｋＰａ(４バール)以下のような圧力にて、加圧した気体を供給液体に直接的に又は間接的に付与することができる。

１つの好ましい作動モードにおいて、液体供給システム１００の供給ポンプ１０１は、供給液体をポンプ１０１の吸込み入口１１２内に吸引し且つ供給液体を供給出口１１３を通じて供給ライン１１１に沿って供給箇所１０９まで供給することができる。圧力補償装置１０３は、吸込み入口１１２における圧力を例えば供給液体中に泡が形成されるのを最小限にし又は防止する所定の下限値のような所定の値に制限するのに十分な供給液体を、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給することが好ましい。例えば、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引し始め又は吸引しつつあることを感知し、弁１０５を開弁することができる。多くの実施の形態において、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸込み始め又は吸込みを停止する時点及び弁１０５が部分的に又は完全に開弁し又は閉弁するのに必要な時間は、コントローラ１０４から弁１０５へのコマンドのタイミングを決定する主要な因子である。例えば、コントローラ１０４は、供給液体が吸込み入口１１２内に流動する前に弁１０５が少なくとも部分的に開弁することを保証し得るよう、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸込む十分に前に、弁１０５に対し開弁信号を発することができる。

弁１０５が開弁したならば、送り込みアセンブリ１０６は、例えば、吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を送り込みライン１１０に沿って且つフィルタ１０２を通して吸込み入口１１２に供給し、これにより供給液体中の泡の形成を最小限にし又は防止する。その結果、供給液体は、極めて純粋な状態にて供給ポンプ１０１に達する。例えば、微粒子又はゲルのような任意の不純物をフィルタ１０２によって除去することができ、気泡不純物の形成は、圧力補償装置１０３によって最小限とされ又は防止される。次に、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２に吸込むのを停止しようとしたとき、又はより好ましくは停止したときを感知し、また、弁１０５を閉弁して供給ポンプ１０１への供給液体の流れを停止させることができる。

図２には、送り込みアセンブリ１０６の１つの実施の形態が図示されている。図示するように、送り込みアセンブリ１０６は、リザーバ１２０と、例えば窒素供給源１２１のような加圧気体供給源とを備えることができる。供給液体は、リサーバ１２０内に保持し、また、リザーバ１２０は、送り管１１０と流体連通するものとすることができる。リザーバ１２０は、例えば、供給液体を周囲環境から隔離し、窒素供給源１２１の圧力に抵抗し、供給液体の完全さ及び純度を保つべく供給液体を保持する、任意の適宜なリザーバとすることができる。リザーバ１２０は、関係した弁を取り付けることができる任意の数の入口及び出口を有することができる。リザーバ１２０は、重合体材料又は金属材料のような汚染物のない材料から構成することができる。例えば、リザーバ１２０は、フルオロカーボン材料、ポリオレフィン材料及び（又は）ナイロン材料を含むことができる。

供給液体を、気体の圧力、好ましくは窒素気体の圧力により、リザーバ１２０から送り込みライン１１０に供給することができる。このように、窒素供給源１２１はリザーバ１２０と流体連通していることが好ましい。窒素気体圧力は、可変圧力にてリザーバ１２０の内部に付与することができるが、好ましくは窒素気体の圧力が一定であるようにする。より好ましくは、窒素気体の圧力は、システムのサイクルの全体に亙って一定であり、また、所定の量の供給液体に対してシステムの全てのサイクルに対し一定であるようにすることができる。リザーバ内への窒素気体の流れは、弁１０５が開弁したとき、供給液体をリザーバから排除するように作用する。好ましくは、窒素気体の圧力は、約１０ｋＰａ（０．１バール）以下から約１００ｋＰａ（１バール）以上の範囲にあるようにする。

図示した実施の形態において、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１に接続することができ、また、ポンプ１０１の作動に基づいて動作可能である。例えば、コントローラ１０４は、ポンプ１０１が吸込み入口１１２を通じて供給液体を吸込むときに弁１０５を開弁するよう指示ことができる。弁１０５が開弁すると、供給液体がリザーバ１２０から弁１０５を通って流れる。窒素供給源１２１を通ってリザーバ１２０内に流れる加圧した窒素気体は、供給液体を排除し且つ供給液体をリザーバ１２０から弁１０５を通じて送り込みライン１１０内にまた、ポンプ１０１の吸込み入口１１２内に流し込む。図２の送り込みアセンブリ１０６のリザーバ１２０及び窒素供給源１２１は、供給ポンプ１０１の吸込み側１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み側１１２に供給する。供給液体をポンプ１０１の吸込み入口１１２に流し込むことにより、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するときに形成される相対的に負の圧力を補償する（又は均衡させる）ことができる相対的に正の圧力が形成される。コントローラ１０４は、例えば、ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸込むのを停止するとき、ポンプ１０１の作動に従って弁１０５を閉弁することができる。

別の液体供給システムが図３に図示されている。図２に示した実施の形態において、コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１の作動を感知し得るように供給ポンプ１０１に接続されている。しかし、供給システムは、これらの特徴に限定されるものではない。例えば、図３に示すように、圧力センサ１２２をコントローラ１０４に接続し、例えば送り込みライン１１０内の、ポンプ１０１の吸い込み入口１１２と流体連通するように構成することができる。例えば、圧力センサ１２２は、フィルタ１０２の下流側とポンプ１０１の吸込み入口１１２との間に配置することができる。更に、圧力センサ１２２は、図示した位置の１つの代替案として他の箇所に配置してもよい。システムは、任意の適宜な位置に配置された追加の圧力センサを有することができ、例えば、圧力センサは、例えばフィルタ１０２における圧力降下を検出し得るように、フィルタ１０２の上流及び下流に配置することができる。図示した実施の形態において圧力センサが図示されているが、例えば、流量計のような、ポンプ１０１の吸込み入口１１２内への流れを表示する任意の他の構成要素を圧力センサ１２２の代わりに、又は圧力センサに加えて、使用することができる。これと代替的に、コントローラ１０４を圧力センサ１２２及びモータ１１４の双方に接続してもよい。

圧力センサ１２２は、好ましくは、僅かな圧力の変化を迅速に検出することのできる圧力センサである、任意の適宜な圧力センサを備えることができる。好ましくは、圧力センサ１２２は、汚染物無しの材料で出来たものとする。好ましくは、供給液体と接触するようになる圧力センサの部分は、フルオロカーボン材料から成るものとすることができる。

図３に示すように、コントローラ１０４は、例えば、ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力のような、圧力センサ１２２から得られた情報に基づいて弁１０５を開弁し且つ閉弁することができる。例えば、コントローラ１０４は、供給液体がポンプ１０１内に吸引されるとき、圧力センサ１２２がポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力の降下を感知したならば、弁１０５に対し開弁するように命令することができる。リザーバ１２０及び図３の送り込みアセンブリ１０６の窒素供給源１２１は、供給ポンプ１０１の吸込み側１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止し、これにより供給液体中の泡の形成を防止し又は最小限にするのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み側１１２に供給する。ポンプ１０１が供給液体を吸込み入口１１２内に吸引するのを停止したとき、圧力センサ１２２は、吸込み入口１１２における圧力の上昇を感知し、そのことは、コントローラ１０４に伝達される。次に、コントローラ１０４は、弁１０５を閉弁することができる。ポンプ１０１の吸込み入口１１２における実際の状態をフィードバックすることにより、システムは、より迅速に反応し、且つ圧力を補償することができる。

別の液体供給システムが図４に図示されている。このシステムは、図３の構成要素の全てを含むものとして図示されている。しかし、コントローラ１０４は、モータ１１４及び圧力センサ１２２の双方に接続されており、システムはガス抜きモジュール１２３ようなガス抜き装置を有している。ガス抜きモジュール１２３は、真空圧に接続され、且つ、例えば供給液体中に存在するであろう全ての液化した窒素ガス又は他の気体を除去することにより、供給液体中の泡を解消することに役立つことができる。ガス抜きモジュール１２３は、弁１０５とフィルタ１０２との間にて送り込みライン１１０内に配置された状態にて図示されているが、ガス抜きモジュールは、これと代替的に、フィルタ１０２の下流のような任意の適宜な位置に配置してもよい。更に、１以上のガス抜きモジュール１２３を使用してもよい。ガス抜きモジュール１２３の数は、システムの要求に依存する。ガス抜きモジュール１２３は、特定の種類の供給液体に適応させた任意の適宜なガス抜きモジュールから構成することができる。例えば、ガス抜きモジュール１２３は、中空のファイバのクロスフローモジュールとすることができる。適宜なガス抜きモジュールは、ポール・コーポレーションからインフュゾール（ＩＮＦＵＺＯＲ）という商標名で販売されている。

図４に示したシステムの操作は、図３に示したシステムの操作と同様とすることができる。しかし、供給ポンプ１０１の吸込み側１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止し、これにより供給液体中の泡の形成を防止し又は最小限にするのに十分な圧力及び（又は）流量にて供給液体が吸込み入口１１２内に流し込まれることを保証するため、ガス抜きモジュール１２３における圧力降下を考慮して、送り込みアセンブリ１０６の駆動圧力を増大するように調節することができる。

別の液体供給システムが図５に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできるコントローラ及び弁を含む圧力補償装置といった多数の要素を備えることが好ましい。更に、液体供給システムは、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を有することもできる。しかし、図５に示したシステムにおいて、送り込みアセンブリ１０６は、圧力容器１３０内に配置されて、供給液体を保持する可撓性の流体バッグ１３１を備えることができる。更に、送り込みアセンブリ１０６は、圧力容器１３０内に配置された１つ以上の可撓性の流体バッグ１３１を備えることができる。可撓性の流体バッグ１３１は、圧力容器１３０に存在し又は圧力容器１３０に供給される窒素ガス又は任意の他の気体から供給液体を隔離することができる。好ましくは、可撓性の流体バッグ１３１は、供給液体と適合性があり且つ汚染物のない材料からなる。流体バッグ１３１は、フルオロカーボン又はポリエチレン材料のようなプラスチック材料から構成されることが好ましい。

窒素供給源１２１は、バッグ１３１の周りで容器１３０を加圧する。弁１０５が開弁したとき、可撓性のバッグ１３１は、窒素供給源の圧力によって収縮して、供給液体を送り込みライン１１０を通じて流す。この場合も、図５の送り込みアセンブリ１０６は、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給することが好ましい。

別の液体供給システムが図６に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、その他の実施の形態、特に、図５に示した実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできるコントローラ及び弁を含む、圧力補償装置といった多数の要素を有することが好ましい。更に、液体供給システムは、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる、圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を有することもできる。しかし、図６に示したシステムにおいて、送り込みアセンブリ１０６は、圧力キャニスタ１４０内に配置された、供給液体を保持する流体バッグ１４１を備えることができる。流体バッグ１４１は、圧力キャニスタ１４０内に存在し又は圧力キャニスタ１４０に供給された窒素ガス又は任意の他の気体から供給液体を隔離することができる。適宜なバッグ及びキャニスタ装置は、ＡＴＭＩパッケージング（ＡＴＭＩ Ｐａｃｋａｇｉｎｇ）社から、ナウパック（ＮＯＷＰＡＫ）（ＮＯＷＰａｋは登録商標である）という商標名で販売されている。

図６に示したシステムは、図５に示したシステムと同様に動作する。例えば、図６に示した窒素供給源１２１は、バッグ１４１の周りでキャニスタ１４０を加圧して、弁が開弁したとき、供給液体を送り込みライン１１０内に送り込む。送り込みアセンブリ１０６は、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止して、これにより供給液体中の泡の発生を防止し又は最小限にするのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給することが好ましい。

別の液体供給システムが図７に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、その他の実施の形態、特に図５及び図６に示した実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することができるコントローラ及び弁（図示せず）を含む、圧力補償装置といったような多数の要素を有することが好ましい。更に、液体供給システムは、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を備えることができる。しかし、図７に示した送り込みアセンブリ１０６は、圧搾機、すなわち、供給液体を圧搾する装置も有している。例えば、送り込みアセンブリ１０６は、空圧作動式圧搾機を有することができ、また、空圧作動式圧搾機は、窒素供給源１２１と協働して作用し、流体バッグ１３１に物理的な圧力を加える空気シリンダ１５０を有することができる。空圧作動式圧搾機は、空気シリンダ１５０から圧力容器１３０内に延び、また、バッグ１３１の外部に伸び、且つ、バッグ１３１を加圧する伸長体すなわちアーム１５１を有することができる。これと代替的に、空気シリンダ１５０は、図６に示すように、バッグ１４１及び圧力キャニスタ１４０と組み合わせてもよい。

図７に示した、システムの動作は、その他の実施の形態、特に、図５及び図６に示した実施の形態の動作と同様である。空気シリンダ１５０に加わる窒素供給源１２１の圧力は、アーム１５１をバッグ１３１に対して押し付け、且つ、弁１０５が開弁したとき、供給液体をバッグ１３１から流す。図７の送り込みアセンブリは、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給することが好ましい。

別の液体供給システムが図８に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできるコントローラ及び弁を含む、圧力補償装置といったような多数の要素を有することが好ましい。更に、液体供給システムは、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を有することもできる。しかし、図８の送り込みアセンブリ１０６は、窒素供給源１２１のような、別の圧力源と共に使用し又は単独にて使用することのできる重力送り込みアセンブリを有することもできる。重力送り込みアセンブリは、色々な形態とすることができる。例えば、送り込みアセンブリは、リザーバ１４０の高さ及びリザーバ１４０から供給される供給液体の圧力水頭を変化させ得るように供給液体リザーバ１４０に接続される、空圧作動式、液圧作動式又は機械作動式シリンダ１５０を有することができる。この実施の形態において、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２は、リザーバ１４０の下方に配置されることが好ましい。これと代替的に、シリンダ１５０は、図５に図示するように、バッグ１３１及び圧力容器１３０と組合わせてもよい。重力送り込みアセンブリは、リザーバ１４０の高さを調節するためコントローラ（図示せず）に接続することができる。リザーバ１４０の高さを垂直方向に増大させることにより、圧力水頭は、ポンプ１０１の吸込み入口１１２に対して増大させることができる。例えば、リザーバ１４０の高さを約１ｍ上昇させることにより、吸込み入口１１２にて約１０ｋＰａ（０．１バール）の正の圧力水頭が生じる。更に、リザーバ１４０を計量するために重力送り込みアセンブリを使用することができる。例えば、バッグ１４１が空になると、重力送り込みアセンブリは、リザーバ１４０の重量の変化を検出し且つ（又は）バッグ１４１が空になったときを決定する。

図８に示したシステムの作動時、コントローラは、シリンダ１５０の高さを調節することができ、該シリンダ１５０は、所望の圧力水頭を提供し得るようにリザーバ１４０の高さを調節することができる。この圧力水頭は、単独又は窒素供給源１２１と共に使用して、供給液体を吸込み入口１１２に流し入れることができる。このように、図７の送り込みアセンブリは、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給することが好ましい。

別の液体供給システムが図９に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできるコントローラ及び弁を含む、圧力補償装置のような多数の要素を有することが好ましい。更に、液体供給システムは、その他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することができる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を有することもできる。しかし、図９の送り込みアセンブリ１０６は、供給流体を送り込みライン１１０内に流し入れる機械式圧搾機を有している。機械式圧搾機は、多岐に亙る形態のものとすることができる。例えば、圧搾機は、その間に可撓性のバッグが配置されるヒンジ止めした板を有することができる。図示した実施の形態において、機械式圧搾機は、ハウジング１７０内に配置されたばね１６０を備えている。ばね１６０は、板１６１に接触し、この板は可撓性の流体バッグ１３１に押し付けられる。ばね１６０は、可撓性の流体バッグに対し任意の所望の力を加えることができる。

作動時、機械式圧搾機は、バッグ１３１を押圧して、コントローラによって弁１０５が開弁したときに供給液体を送り込みライン１１０内に流し込む。好ましくは、図９の送り込みアセンブリは、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給するものとする。

別の液体供給システムが図１０に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできるコントローラ及び弁を含む圧力補償装置のような多数の要素を有することが好ましい。更に、液体供給システムはまた、他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュール（図示せず）を有することもできる。しかし、図１０のシステムは、供給液体を送り込みライン１１０内で蓄積させるアキュムレータ１８０のような１つ以上の追加的な要素を有している。更に、図１０に示すように、弁１０５はフィルタ１０２の下流に配置することができる。弁１０５は、アキュムレータ１８０の下流で、且つ、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２付近に配置されることが好ましい。アキュムレータ１８０及び弁１０５は、例えば、介入する構成要素無しで吸込み入口１１２付近にて送り込みライン１１０内に配置されることが好ましい。しかし、このシステムは、アキュムレータ１８０の下流に配置されたフィルタ１０２のような任意の適宜な装置を備えることができる。

アキュムレータ１８０は、任意の適宜な形態を有することができる。例えば、アキュムレータ１８０は、より堅固な保護容器の内部に配置される、可撓性で、好ましくは弾性のある容器を備えることができる。内側及び外側容器は、同軸状に配置された管を備えることができる。内管は、エラストマー又は弾性のある熱可塑性材料から構成され、且つ、送り込みライン１１０と流体連通することができる。外管は、内管を保護し得るようより堅固な材料及び（又は）構造体を備えることができる。内側容器と外側容器との間の空間は、例えば、窒素ガスによって気体加圧することができるが、殆んど加圧されないことが好ましい。しかし、この空間の寸法は、内管が供給液体を堆積させるときに該内管が弾性的に拡張するのを許容するのに十分であることが好ましい。

作動時、弁１０５が閉弁されたとき、供給液体は、窒素ガスによってリザーバ１２０から送り込みライン１１０及びフィルタ１０２を流される。その後、供給液体は、アキュムレータ１８０内に集まり、又は堆積して、アキュムレータ１８０の内側容器を弾性的に拡張させる。弁１０５が開弁したとき、アキュムレータ１８０の弾性のある内管の壁が収縮して、供給液体をアキュムレータ１８０から弁１０５を介してポンプ１０１の吸込み入口１１２に迅速に流し込む。好ましくは、供給液体は、供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２における圧力が所定の値以下に降下するのを防止するのに十分な圧力及び（又は）流量にて、送り込みアセンブリ１０６及びアキュムレータ１８０から供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２に供給される。

図１０のシステムの１つの有利な効果は、供給液体がフィルタ１０２の下流側で且つ弁１０５の上流側でアキュムレータ１８０内に蓄積することができる点である。このように、弁１０５が開弁したとき、ろ過済みの供給液体は、特に、介在する構成要素無しでアキュムレータ１８０及び弁１０５が吸込み入口１１２付近に配置されているならば、アキュムレータ１８０からポンプ１０１の吸込み入口１１２へ、より迅速に供給されることができる。例えば、フィルタ１０２を（図１０に示すように）アキュムレータ１８０の上流に配置することにより、ろ過済みの供給液体は、フィルタに起因するであろう何らの遅れを生じずに吸込み入口１１２へ流れることができる。

別の液体供給システムが図１１に図示されている。このシステムは、ポンプ、フィルタ、及び、他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる、コントローラ及び弁を含む、圧力補償装置のような多数の要素を備えることが好ましい。更に、液体供給システムは、またその他の実施の形態に関して説明した特徴の任意のものを１つ以上有することのできる圧力センサ及び（又は）ガス抜きモジュールを備えることができる。しかし、送り込みアセンブリ１０６は、２つ以上の送り込みライン１１０ａ、１１０ｂに沿って２つ以上の供給ポンプ１０１ａ、１０１ｂに送り込む単一のリザーバを有することができる。これと代替的に、送り込みアセンブリ１０６は、２つ以上のリザーバと、２つ以上の供給ポンプ１０１ａ、１０１ｂに送り込む１つ以上の圧力源とを備えるようにしてもよい。この組立体の動作は、その他のシステムの任意のものの動作と類似したものとすることができる。特に、送り込みアセンブリ１０６は、同一の供給液体を供給ポンプの全てに供給するため、又は、例えば異なる性質を有する異なる供給液体を異なる供給ポンプ１０１ａ、１０１ｂに供給するために、使用することができる。供給ポンプの各々に対し、送り込みアセンブリ１０６は、吸込み入口１１２ａ、１１２ｂにおける圧力が所定の値以下に降下するのを防止する十分な圧力及び（又は）流量にて、供給液体を供給ポンプ１０１ａ、１０１ｂの吸込み入口１１２ａ、１１２ｂに供給する。

本システムには多数の有利な効果がある。例えば、本システムは、微粒子及び（又は）泡にて液体を汚染させずに供給液体を正確に且つ反復的に供給することを可能にする。本システムは、特定のタイプの供給液体に限定されず、比較的低圧にて、異なる粘度を有する多数の異なる種類の液体をろ過し且つ供給するために利用することもできる。更に、本システムは、また液体に対する分子せん断作用を軽減することができる。液体は、供給ポンプにて連続的に又は不連続的に供給される一方、比較的低圧及び低流量にてろ過することができる。更に、本システムは、例えば供給ポンプの吸込み箇所における圧力を監視することにより、システムの異なるパラメータを自動的にフィードバック制御することが可能であるから、供給液体中の泡の発生を最小限にすることができる。更に、本システムは、２つ以上のポンプを備えることができる一方、本システムは、単一のポンプのみにて使用することもできる。単一のポンプのみを使用する結果、より小型の低廉なシステムとなる。
実施例
図１２に示した試験的システムは、イソブチルアルコールを供給する。この試験的システムは、ＡＴＭＩパッケージング社からナウパックという商標名で販売されている装置のような、圧力キャニスタ１４０内にイソブチルアルコールのバッグ１４１を有する送り込みアセンブリ１０６を備えている。イソブチルアルコールは２０℃にて４ｍＰａ・ｓの粘度を有する。圧力キャニスタは、窒素供給源１２１により９．８ｋＰａまで加圧され、イソブチルアルコールは、送り込みライン１１０を介して送り込みアセンブリ１０６から排出される。０．０５μｍのろ過精度を有するフィルタ１０２、圧力センサ１２２及び空気式作動弁１０５は、それぞれ送り込みアセンブリ１０６と供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２との間に配置されている。コントローラ１０４は、供給ポンプ１０１のモータ１１４及び送り込みライン１１０内の弁１０５に接続されている。供給ポンプ１０１の供給出口１１３は、供給ライン１１１及び供給ライン１１１内の空気作動弁１１７を介して供給箇所１０９と流体連通している。はかり１１９と作用可能に関係した容器１１８が供給箇所１０９にて供給されたイソブチルアルコールを受け取り、はかり１１９は供給量を決定する。

供給ポンプ１０１は、吸込み入口１１２内へ取入れ量が０．４ｍｌ／秒（０．４ｃｍ^３／秒）及び供給出口１１３からの供給量が１．０ｍｌ／秒（１．０ｃｍ^３／秒）となるように設定される。イソブチルアルコールは、２０秒のサイクルにて供給される。各サイクルにおいて、イソブチルアルコールは、３．７５秒にて供給ポンプ１０１の吸込み入口１１２内に取り込まれ、送り込み弁は、取入れ時間の間、すなわち３．７５秒プラス０．６５秒すなわち４．４秒間、開弁している。試験結果が表Ｉに掲げてある。

表Ｉ
サイクル番号 供給量
１ １．７８２
２ １．７８３
３ １．７８３
４ １．７８３
５ １．７８３
６ １．７８３
７ １．７８３
８ １．７８３
９ １．７８３
１０ １．７８３
１１ １．７８３
１２ １．７８３
１３ １．７８２
１４ １．７８２
１５ １．７８３
１６ １．７８２
１７ １．７８３
１８ １．７８４
１９ １．７８２
２０ １．７８６
最小値 １．７８２
最大値 １．７８６
最大値−最小値 ０．００４
平均値 １．７８２９１７７０６
標準偏差 ０．０００８９５４９２

本発明の１つ以上の局面を具体化するシステム及び方法と関係した有利な効果の多くがこれら試験結果に表わされている。例えば、サイクル毎に供給量が顕著に一定であることは、イソブチルアルコール中に何ら顕著な泡の汚染が生じないことを示す。

本発明は、図示及び実施例を介してかなり詳細に説明したが、本発明は、色々な改変例及び代替的な形態にて具体化可能であり、記載した特定の実施の形態にのみ限定されるものではないことを理解すべきである。実施の形態の任意のものの特徴の１つ以上をその他の実施の形態の特徴の１つ以上と組み合わせることができる。例えば、図３及び図４の圧力センサ１２２は、例えば、図５から図９又は図１０の任意の送り込みアセンブリと組み合わせて、例えば、ポンプ１０１の吸込み側１１２における圧力のフィードバックを提供することができる。圧力センサはまた、実施の形態の任意のもののフィルタの任意のものの上流及び下流に配置することが可能である。例えば、図１０におけるようなアキュムレータは、例えば、図５から図９又は図１１の送り込みアセンブリの任意のものと組み合わせることができる。例えば、ガス抜きモジュールは、実施の形態の任意のものと組み合わせることができる。更に、実施の形態は、例えば、圧力センサ、アキュムレータ及びガス抜きモジュールの全てを備えることができる。任意の１つの実施の形態の送り込みアセンブリは、別の実施の形態による送り込みアセンブリに置換することができる。例えば、図７の送り込みアセンブリ１０６は、図４の送り込みアセンブリ１０６に置換することができ、図９の送り込みアセンブリ１０６は、図２の送り込みアセンブリ１０６に置換することができる。任意の１つの実施の形態における特徴の任意のものの１つ以上を改変し又は省略することができる。例えば、図３、図４及び図１１に示した圧力センサを省略することができる。それに代えて例えば、流量計を使用することができる。更に、例えば図２から図４に示した送り込みアセンブリの圧力源は省略し、且つ、例えばポンプ又はポンプアセンブリに置換することができる。更に、図１０に示すように、弁１０５は、任意のその他の実施の形態においてフィルタ１０２の下流に配置することができ、例えば、図２、図３又は図４に示すようにフィルタ１０２の下流に配置することができる。更に、弁は、例えば、フィルタの上流及び下流の双方に配置することができる。このように、説明し且つ図示した実施の形態は、本発明を限定することを意図するものではなく、特許請求の範囲の各々に規定された本発明の精神及び範囲に属する全ての改変例、均等物及び代替例を包含することを意図するものである。

出版物、特許及び特許出願を含む本明細書にて引用した全ての参考資料は、その内容の全体を参考として引用し本明細書に含めるものである。

液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。 別の液体供給システムの概略図である。

Claims (14)

1. 液状のフォトレジストを貯留する貯留手段と、
   前記貯留手段と流体的に接続された吸込み入口と、前記フォトレジストを供給箇所へと供給するための供給出口とを有する供給ポンプと、
   前記貯留手段と前記供給ポンプとを流体的に接続する送り込みラインと、
   前記送り込みラインにおいて前記貯留手段と前記供給ポンプとの間に配置されたフィルタと、
   前記貯留手段と前記供給ポンプとの間に配置された弁と、
   前記供給ポンプの作動状況を検出すると共に、前記弁の開閉動作を制御するコントローラとを備え、
   前記コントローラが、前記供給ポンプによる吸込み動作を検出することを契機として、前記弁を開放するよう前記弁を制御することで、前記貯留手段が、前記フィルタを介して前記フォトレジストを供給することにより、前記供給ポンプの前記吸込み入口における圧力を−３０ｋＰａ（−０．３バール）（ゲージ圧）以上に保つことを特徴とする、フォトレジストを供給するために用いられるシステム。
2. 前記フィルタの下流側に配置された圧力センサを更に備えることを特徴とする、請求項１に記載されたシステム。
3. 前記コントローラが前記圧力センサから信号を受け取ることを特徴とする、請求項２に記載されたシステム。
4. 前記弁が、前記送り込みラインにおいて前記貯留手段と前記フィルタとの間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載されたシステム。
5. 前記弁が、前記送り込みラインにおいて前記フィルタと前記供給ポンプとの間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載されたシステム。
6. 前記弁が、前記送り込みラインにおいて前記フィルタ及び前記圧力センサと前記供給ポンプとの間に配置されていることを特徴とする、請求項２又は３に記載されたシステム。
7. 前記貯留手段がリザーバであり、
   前記リザーバは、圧力容器又は圧力キャニスタを備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載されたシステム。
8. 前記貯留手段に圧力を付与するための圧力源を備え、
   前記貯留手段に貯留されているフォトレジストは、前記圧力源の圧力により下流側に送り出されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載されたシステム。
9. 前記貯留手段に圧力を付与するための圧力源を備え、
   前記貯留手段は、前記フォトレジストを密封する流体バッグであり、
   前記流体バッグ内の前記フォトレジストは、前記圧力源の圧力によって前記流体バッグが収縮することで、下流側に送り出されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載されたシステム。
10. 前記供給ポンプが容積式ポンプであることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載されたシステム。
11. 前記容積式ポンプが隔膜ポンプであることを特徴とする、請求項１０に記載されたシステム。
12. 液状のフォトレジストを貯留する貯留手段に送り込みラインを介して接続された吸込み入口を有する供給ポンプが、内部に前記フォトレジスト吸引するステップと、
    供給出口を有する前記供給ポンプが、供給箇所に前記フォトレジストを供給するステップと、
    前記貯留手段と前記供給ポンプの前記吸込み入口との間の前記送り込みラインにおけるフィルタを通じて前記フォトレジストを濾過するステップと、
    コントローラが、前記供給ポンプによる吸込み動作を検出することを契機として、前記送り込みラインにおける弁を開放するよう前記弁を制御することで、前記供給ポンプの前記吸込み入口における圧力を−３０ｋＰａ（−０．３バール）（ゲージ圧）以上に保つステップとを含み、
    圧力源が前記貯留手段に圧力を付与することによって、前記貯留手段に貯留されている前記フォトレジストを下流側に送り出すことを特徴とする、フォトレジストを供給する方法。
13. 前記貯留手段は、前記フォトレジストを密封する流体バッグであり、
    前記圧力源が前記流体バッグに圧力を付与して前記流体バッグを収縮させることによって、前記流体バッグ内の前記フォトレジストを下流側に送り出すことを特徴とする、請求項１２に記載された方法。
14. 前記フィルタと前記供給ポンプとの間に配置されたセンサによって、前記供給ポンプの前記吸込み側における圧力又は流量を感知することを特徴とする、請求項１２又は１３に記載された方法。

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