TWI554400B - 光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法 - Google Patents

光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI554400B
TWI554400B TW101105311A TW101105311A TWI554400B TW I554400 B TWI554400 B TW I554400B TW 101105311 A TW101105311 A TW 101105311A TW 101105311 A TW101105311 A TW 101105311A TW I554400 B TWI554400 B TW I554400B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
titanium oxide
reflecting plate
light reflecting
coated titanium
Prior art date
Application number
TW101105311A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201238756A (en
Inventor
人見一迅
鈴木健悟
水谷友彥
Original Assignee
積水化成品工業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 積水化成品工業股份有限公司 filed Critical 積水化成品工業股份有限公司
Publication of TW201238756A publication Critical patent/TW201238756A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI554400B publication Critical patent/TWI554400B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
    • G02B5/0866—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers incorporating one or more organic, e.g. polymeric layers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00—Reflectors for light sources
    • F21V7/0083—Array of reflectors for a cluster of light sources, e.g. arrangement of multiple light sources in one plane
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法
本發明是有關於一種具有優異的光反射性能的光反射板及用於形成該光反射板的樹脂組成物、以及光反射板的製造方法。
近年來，液晶顯示裝置作為顯示裝置而應用於各種用途。該液晶顯示裝置於液晶單元的背面配設背光單元。背光單元包含冷陰極管或發光二極體(Light Emitting Diode，LED)等發光光源、燈反射器、導光板、以及配設於上述導光板的後面側的光反射板。該光反射板發揮使洩漏至導光板後面側的光朝液晶單元側反射的作用。
作為上述光反射板，可使用包含鋁、不鏽鋼等的金屬薄板，使銀於聚對苯二甲酸乙二酯膜上蒸鍍而成的膜，積層有鋁箔的金屬箔，多孔性樹脂片等。
另外，作為生產性高的光反射板，亦可使用使聚丙烯系樹脂中含有硫酸鋇、碳酸鈣、氧化鈦等無機填充劑而成的光反射板。
作為光反射板，於專利文獻1中揭示有具備如下的層作為反射使用面側的最外層的反射膜，該層包含含有脂肪族聚酯系樹脂或聚烯烴系樹脂及微粉狀填充劑而成的樹脂組成物，樹脂組成物中的微粉狀填充劑的含有比例大於0.1質量%、且未滿5質量%。
另外，於專利文獻2中，揭示有將氧化鈦用作微粉末 狀填充劑，並利用含有氧化鋁、二氧化矽及氧化鋯等惰性無機氧化物的塗層包覆該氧化鈦的表面，藉此無損藉由氧化鈦所獲得的高反射性能而提高膜的耐光性。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4041160號公報
[專利文獻2]日本專利特開2010-66512號公報
但是，液晶顯示裝置的進一步的高亮度化受到期待，因此對於光反射板，亦期待光反射性能的進一步的提昇。使專利文獻2的光反射板中所使用的表面形成有含有惰性無機氧化物的塗層的氧化鈦於光反射板中進行微分散非常困難，因此存在不具有充分的光反射性能的問題。
因此，本發明的目的在於提供一種具有優異的光反射性能的光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法。
本發明的光反射板的特徵在於包括：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦(coated titanium oxide)20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而形成、且含水率為0.5wt%(重量百分比)以下。
另外，本發明的光反射板形成用樹脂組成物的特徵在於包括：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物 的塗層塗布氧化鈦的表面而形成、且含水率為0.5wt%以下。
進而，本發明的光反射板的製造方法的特徵在於包括：將如下的光反射板形成用樹脂組成物供給至擠出機中進行熔融混煉後自擠出機中擠出的步驟，該光反射板形成用樹脂組成物包含：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而形成、且含水率為0.5wt%以下。
關於含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦，該塗層氧化鈦中所含有的水分非常少，塗層氧化鈦的凝聚得到抑制而具有優異的分散性。進而，當為了藉由擠出成形等來製造光反射板而對光反射板形成用樹脂組成物進行熔融混煉時，根據含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦，可抑制因正進行熔融混煉的樹脂組成物中的塗層氧化鈦中所含有的水分氣化而形成氣泡的情況，從而抑制由氣泡的形成所引起的塗層氧化鈦的分散性的下降。因此，藉由使用含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦，可提供一種氣泡的形成得到充分抑制且微分散有塗層氧化鈦的光反射板，此種光反射板可均勻地發揮優異的光反射性能。
另外，氣泡的形成得到充分抑制的本發明的光反射板於將其供給至具有熱成形等加熱步驟的二次步驟時，亦可抑制因光反射板受到加熱而導致光反射板中所包含的氣泡 膨脹並於光反射板表面不規則地形成大的凸部的情況。因此，本發明的光反射板即便於對其進行了具有加熱步驟的二次步驟後，亦可保持二次步驟前的優異的表面形態，亦可抑制因凸部的形成而導致光反射板的光反射性能下降或不均勻化的情況。
本發明的光反射板包括：聚烯烴系樹脂；以及塗層氧化鈦，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而形成、且含水率為0.5wt%以下。於此種光反射板中，塗層氧化鈦分散並包含於聚烯烴系樹脂中。
本發明者等鑒於塗層氧化鈦的凝聚性而進行各種研究的結果，判明塗層氧化鈦的塗層中所包含的矽氧化物及鋁氧化物容易與水分進行加成反應而形成水合物，因此塗層氧化鈦含有比較多的水分。關於如上述般含有大量水分的塗層氧化鈦，塗層氧化鈦彼此的凝聚力變大而容易引起凝聚，使其於光反射板中進行微分散變得非常困難。
另外，當為了製造光反射板，而對包含含有大量水分的塗層氧化鈦的光反射板形成用樹脂組成物進行熔融混煉並進行擠出成形時，存在塗層氧化鈦中所含有的水分因樹脂組成物受到加熱而氣化，於正進行熔融混煉的樹脂組成物中產生氣泡的情況。若於正進行熔融混煉的樹脂組成物中產生氣泡，則該樹脂組成物中所存在的塗層氧化鈦因氣泡的存在而朝樹脂組成物中的其他部位移動，其結果，塗層氧化鈦凝聚。另外，若將正進行熔融混煉的樹脂組成物 擠出時等該樹脂組成物中的氣泡擴散至外部，則亦成為於所獲得的光反射板的表面形成大的凹坑(crater)狀的凹部的原因。此種凹坑狀的凹部成為引起光反射板的光反射性能的下降或不均的原因。
進而，若於正進行熔融混煉的樹脂組成物中產生氣泡，則使用其而獲得的光反射板中亦含有氣泡。光反射板中所含有的氣泡因光反射性低，故成為射入至光反射板中的光透過光反射板而自光反射板背面導出的原因。因此，含有氣泡的光反射板不僅無法獲得優異的光反射性能，而且光反射板的面方向上的光的反射性變得不均勻。
因此，含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦因其所含有的水分的量非常少，故不僅分散性優異，而且於擠出成形時亦可充分抑制正進行熔融混煉的樹脂組成物中形成由塗層氧化鈦中所含有的水分氣化所產生的氣泡，即便於樹脂組成物中，亦可維持塗層氧化鈦的優異的分散性。另外，藉由氣泡的形成得到抑制，亦可抑制光反射板表面形成大的凹坑狀的凹部。
因此，關於含有含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦的光反射板，塗層氧化鈦幾乎未凝聚而微分散於光反射板中，並且可抑制光反射板中形成氣泡，可於光反射板的整個面上均勻地發揮優異的光反射性能。
如此，本發明的光反射板中所含有的塗層氧化鈦的含水率相對於塗層氧化鈦的總量，限定於0.5wt%以下，但較佳為0.01wt%~0.5wt%，更佳為0.01wt%~0.45wt%。
再者，光反射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率的測定能夠以如下方式進行。光反射板中所使用的聚烯烴系樹脂、抗氧化劑、紫外線吸收劑及光穩定劑等塗層氧化鈦以外的成分無吸水性而無法含有水，僅光反射板中所包含的塗層氧化鈦的塗層可含有水。因此，光反射板中所包含的水可看作全部包含於塗層氧化鈦的塗層中。另外，由於光反射板中所包含的塗層氧化鈦分散於聚烯烴系樹脂中，因此幾乎不存在光反射板中所包含的塗層氧化鈦的表面未被聚烯烴系樹脂包覆而露出的情況，塗層氧化鈦表面由無吸水性的聚烯烴系樹脂包覆。因此，即便長時間放置光反射板，塗層氧化鈦的含水率亦大致不發生變化而保持為固定。
根據以上所述，於本發明中，首先藉由將光反射板切斷成規定的大小來製成重量為5g的試驗片，並根據下述程序測定試驗片的水分量(W1[g])，將該試驗片的水分量看作試驗片中的塗層氧化鈦的水分量。然後，根據下述程序測定試驗片中所包含的塗層氧化鈦的重量(W2[g])，將利用式：100×W1/(W1+W2)所算出的值作為試驗片中所包含的塗層氧化鈦的含水率[wt%]。而且，自光反射板製作至少30片試驗片，對各試驗片測定塗層氧化鈦的含水率，將其算術平均值作為光反射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率。
試驗片的水分量的測定是藉由如下方式進行：將試驗片於溫度25℃、相對濕度30%的環境下放置一小時後，於下述條件下利用水分氣化裝置使試驗片中所包含的水分氣 化，然後利用依據JIS K0068中所記載的化學製品的水分測定方法的卡氏水分儀測定經氣化的水分量[g]。
裝置：水分氣化裝置(京都電子工業(股份)製造ADP-511)
京都電子工業(股份)製造MKC-510N
氣化溫度：230℃
載氣(carrier gas)：N2 200ml/min
水分量測定時間：30分鐘
另外，試驗片中所包含的塗層氧化鈦的重量是藉由如下方式進行測定：使用電爐(例如，Isuzu股份有限公司製造 馬弗爐STR-15K等)，於550℃下對試驗片進行1小時煅燒而使其灰化，藉此獲得灰，利用計量器(例如，A&D股份有限公司製造 高精度分析用上皿電子天平HA-202M)測定該灰的重量[g]，將所獲得的值看作試驗片中所包含的塗層氧化鈦的重量。
塗層氧化鈦的平均粒徑較佳為0.10μm~0.35μm，更佳為0.15μm~0.35μm，特佳為0.15μm~0.30μm，最佳為0.20μm~0.30μm。藉由使用平均粒徑為上述範圍內的塗層氧化鈦，可提供一種可於光反射板的面方向上均勻地發揮優異的光反射性能的光反射板。
另外，平均粒徑為上述範圍內的先前的塗層氧化鈦因非常微細，故容易引起凝聚而形成粗大的凝聚粒子，但於本發明中，藉由使用含水率少的塗層氧化鈦，可充分抑制塗層氧化鈦的凝聚而使塗層氧化鈦微分散於光反射板中。 具體而言，於沿光反射板的厚度方向的剖面中，可將光反射板中的粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數設為150個/900μm2~550個/900μm2，尤其可設為200個/900μm2~500個/900μm2。
光反射板中所包含的塗層氧化鈦的平均粒徑及粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數的測定能夠以如下方式進行。
塗層氧化鈦的平均粒徑的測定能夠以如下方式進行。首先，例如，沿光反射板的厚度方向，即與表面正交的方向遍及全長切斷光反射板。其次，根據利用掃描型電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)，以10,000倍的倍率拍攝光反射板的剖面所獲得的SEM照片，測定100個以上的塗層氧化鈦的粒徑，並對所獲得的值進行算術平均，藉此可算出塗層氧化鈦的平均粒徑。
再者，於本發明中，所謂塗層氧化鈦的粒徑，是指可包圍塗層氧化鈦的最小徑的正圓的直徑。
另外，光反射板中所包含的粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數的測定能夠以如下方式進行。首先，例如沿光反射板的厚度方向，即與表面正交的方向遍及全長切斷光反射板。其次，利用掃描型電子顯微鏡(SEM)以2500倍以上的倍率拍攝光反射板的厚度方向的剖面，並自SEM照片中選定光反射板的剖面中的一邊為30μm的正方形狀的測定區域。其次，針對該測定區域中所包含的各個塗層氧化鈦，利用SEM進而以10,000 倍以上的倍率放大來進行觀察，藉此測定塗層氧化鈦的粒徑(μm)後，挑選上述測定區域中所包含的塗層氧化鈦之中粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦，並測定該塗層氧化鈦的個數(個/900μm2)。
而且，針對以於光反射板的剖面中不重複的方式選定的至少10個部位的測定區域，以相同的方式進行上述測定，而測定各個測定區域中所包含的粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數(個/900μm2)，並將其算術平均值設為光反射板中所包含的粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數(個/900μm2)。
塗層氧化鈦是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗層氧化鈦(TiO2)的表面而形成。氧化鈦是由化學式TiO2表示。此種氧化鈦有金紅石型、銳鈦礦型、鈦鐵礦型，金紅石型氧化鈦因耐候性優異而較佳。
此處，氧化鈦是亦作為氧化還原力強的觸媒而為人所知的物質。於含有大量水分的塗層氧化鈦中，上述水分藉由氧化鈦的強大的還原力而自由基化成H．(H自由基)與OH．(OH自由基)。OH自由基具有非常強的氧化力，因此於長時間使用光反射板時，有可能會使塗層氧化鈦的周圍所存在的聚烯烴系樹脂氧化分解、或導致由酚系抗氧化劑等其他添加劑的劣化所引起的著色。若塗層氧化鈦的周圍所存在的聚烯烴系樹脂氧化分解，則存在如下的可能性：於塗層氧化鈦與聚烯烴系樹脂之間產生間隙，光反射板表面所存在的塗層氧化鈦脫離，而於光反射板表面產生 凹坑狀的凹部、或導致光反射性能的下降。另外，由其他添加劑的劣化所引起的著色亦會導致光反射板的光反射性能的下降。尤其，當於液晶電視機等液晶顯示裝置中使用該光反射板時，由於裝置內部的溫度為40℃~60℃而變成高溫，因此有可能會促進上述聚烯烴系樹脂的氧化分解或其他添加劑的變色。
但是，本發明中所使用的含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦因其所含有的水分量非常少，故可充分抑制上述聚烯烴系樹脂的氧化分解或其他添加劑的變色。因此，含有含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦的本發明的光反射板即便於高溫環境下長時間使用，亦可維持優異的光反射性能。
另外，藉由利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗層氧化鈦的表面，可防止氧化鈦與聚烯烴系樹脂直接進行接觸，而抑制由氧化鈦的光觸媒作用所引起的聚烯烴系樹脂的劣化。另外，塗層氧化鈦藉由其塗層而大致防止紫外線朝氧化鈦的射入，並可防止因由氧化鈦的結晶中的光化學變化所引起的氧缺陷而變色成暗灰色，光反射板於其使用過程中幾乎不產生伴隨氧化鈦的變色的著色，且光反射板於其使用過程中具有優異的光反射性能。
於上述塗層氧化鈦中，相對於塗層氧化鈦中的二氧化鈦的總重量，藉由螢光X射線分析來定量的鋁氧化物的換算成Al2O3的量較佳為1wt%~6wt%，更佳為1wt%~5wt%，特佳為1wt%~4wt%。
換言之，於上述塗層氧化鈦中，當將塗層氧化鈦中的二氧化鈦的總重量設為100wt%時，藉由螢光X射線分析來定量的鋁氧化物的換算成Al2O3的量較佳為1wt%~6wt%，更佳為1wt%~5wt%，特佳為1wt%~4wt%。
若於塗層氧化鈦的塗層中鋁氧化物的量過少，則存在如下的可能性：氧化鈦的光觸媒作用的抑制變得不充分，產生由聚烯烴系樹脂的劣化所引起的著色，導致光反射板的光反射性能下降。另外，若於塗層氧化鈦的塗層中鋁氧化物的量過多，則存在如下的可能性：塗層吸收可見光線，氧化鈦引起的光反射減少，其結果，光反射板的光線反射率下降。
另外，於上述塗層氧化鈦中，相對於塗層氧化鈦中的二氧化鈦的總重量，藉由螢光X射線分析來定量的矽氧化物的換算成SiO2的量較佳為0.1wt%~7wt%，更佳為0.1wt%~6wt%，特佳為0.1wt%~5wt%。
換言之，於上述塗層氧化鈦中，當將塗層氧化鈦中的二氧化鈦的總重量設為100wt%時，藉由螢光X射線分析來定量的矽氧化物的換算成SiO2的量較佳為0.1wt%~7wt%，更佳為0.1wt%~6wt%，特佳為0.1wt%~5wt%。
若塗層氧化鈦的塗層中矽氧化物的量過少，則存在如下的可能性：氧化鈦的光觸媒作用的抑制變得不充分，產生由聚烯烴系樹脂的劣化所引起的著色，導致光反射板的光反射性能下降。另外，若於塗層氧化鈦的塗層中矽氧化物的量過多，則存在如下的可能性：塗層吸收可見光線， 氧化鈦引起的光反射減少，其結果，光反射板的光反射性能下降。
再者，於塗層氧化鈦的塗層中，藉由螢光X射線分析來定量的鋁氧化物的換算成Al2O3的量、及藉由螢光X射線分析來定量的矽氧化物的換算成SiO2的量是使用螢光X射線分析裝置來測定。
具體而言，例如可使用自Rigaku公司以商品名「RIX-2100」所銷售的螢光X射線分析裝置，於X射線管(縱型Rh/Cr管(3/2.4kW))、分析直徑(10mmφ)、狹縫(標準)、分光結晶(TAP(F~Mg)PET(Al、Si)Ge(P~Cl)LiF(K~U))、檢測器(F-PC(F~Ca)SC(Ti~U))、測定模式(整體法(bulk method)、10m-Cr、無平衡成分)的條件下進行測定。
詳細而言，將碳雙面黏著帶貼附於碳台上，並使塗層氧化鈦貼附於該碳雙面黏著帶上。塗層氧化鈦的貼附量並無特別限定，但其基準為0.1g左右，較佳為使塗層氧化鈦均勻地貼附於碳雙面黏著帶上所規定的一邊為12mm的平面正方形狀的假想框部內，以看不到假想框部內的碳雙面黏著帶的方式藉由塗層氧化鈦來覆蓋碳雙面黏著帶。
其次，為了防止塗層氧化鈦飛散，可使聚丙烯膜全面地覆蓋於碳台來作為X射線測定用試樣，並使用該X射線測定用試樣，藉由螢光X射線分析裝置於上述測定條件下測定塗層氧化鈦的塗層中的鋁氧化物的換算成Al2O3的量、及矽氧化物的換算成SiO2的量。
再者，作為碳台，只要是由碳形成，直徑為26mm且高度為7mm的圓柱狀即可，例如由應研商事公司以商品名「碳試樣台」，代碼號#15．1046來銷售。作為碳雙面黏著帶，例如可使用由應研商事公司所銷售的SEM用導電性碳雙面膠(12mm寬，20m卷)。作為聚丙烯膜，例如可使用由理學電機工業公司以商品名「Cell Sheet CatNo.3377P3」所銷售的厚度為6μm的聚丙烯膜。
其次，對上述塗層氧化鈦的製造方法進行說明。當製造塗層氧化鈦時，使未經處理的氧化鈦分散於水或以水為主成分的介質中來製作水性漿料。再者，亦可對應於氧化鈦的凝聚程度，使用縱型砂磨機、橫型砂磨機、球磨機等濕式粉碎機對氧化鈦進行預粉碎。
此時，若使水性漿料的pH變成9以上，則可使氧化鈦穩定地分散於水性漿料中，故較佳。進而，亦可向水性漿料中添加分散劑。作為此種分散劑，例如可列舉：六偏磷酸鈉、焦磷酸鈉等磷酸化合物，矽酸鈉、矽酸鉀等矽酸化合物等。
其次，於氧化鈦的表面形成含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層。具體而言，向水性漿料中添加水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽的任一者或兩者。作為上述水溶性鋁鹽，例如可列舉：鋁酸鈉、硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁等。另外，作為上述水溶性矽酸鹽，例如可列舉：矽酸鈉、矽酸鉀等。
進而，於向水性漿料中添加水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽的任一者或兩者後、或者於添加水溶性鋁鹽或水溶性矽 酸鹽的任一者或兩者的同時添加中和劑。作為中和劑，並無特別限定，例如可列舉：硫酸、鹽酸等無機酸，乙酸、甲酸等有機酸等酸性化合物，鹼金屬或鹼土金屬的氫氧化物或碳酸鹽，銨化合物等鹼性化合物等。
再者，作為於氧化鈦的表面形成含有矽氧化物的塗層的要領，可使用日本專利特開昭53-33228號公報、日本專利特開昭58-84863號公報等中所記載的方法。
以上述要領，利用鋁氧化物或矽氧化物的任一者或兩者全面地塗層氧化鈦的表面後，使用迴轉壓機、壓濾機等公知的過濾裝置自水性漿料對氧化鈦進行過濾、分離，且視需要對氧化鈦進行清洗來去除可溶性鹽類。
於向水性漿料中添加了水溶性鋁鹽及水溶性矽酸鹽的情況下，藉由上述要領，可獲得利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面的塗層氧化鈦。
另一方面，於僅向水性漿料中添加了水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽的任一者的情況下，使用由水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽中的任一者包覆的氧化鈦，以與上述相同的要領製作水性漿料，然後以與上述相同的要領向該水性漿料中添加水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽中的另一者，而利用水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽中的另一者塗布氧化鈦的表面，從而可獲得利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面的塗層氧化鈦。
再者，較佳為對應於由水溶性鋁鹽或水溶性矽酸鹽中的任一者包覆的氧化鈦的凝聚程度，先使用鎚磨機、針磨 機等衝擊粉碎機，撕碎機等磨碎粉碎機，噴射磨機等氧流粉碎機，噴霧乾燥器等噴霧乾燥機，縱型砂磨機、橫型砂磨機、球磨機等濕式粉碎機等進行粉碎，較佳為衝擊粉碎機、磨碎粉碎機。
若光反射板中的塗層氧化鈦的含量過少，則存在光反射板的光反射性能下降的可能性。另一方面，若光反射板中的塗層氧化鈦的含量過多，則存在有下述疑慮：預料不到與塗層氧化鈦的含量的增加部分相稱的光反射板的光反射性能的提昇、且光反射板的輕量性下降。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中的塗層氧化鈦的含量限定於20重量份~120重量份，較佳為30重量份~120重量份，更佳為30重量份~100重量份。
本發明的光反射板除含有上述塗層氧化鈦以外，亦含有聚烯烴系樹脂。作為聚烯烴系樹脂，並無特別限定，例如可列舉聚乙烯系樹脂或聚丙烯系樹脂等，較佳為聚丙烯系樹脂。再者，聚烯烴系樹脂可單獨使用，亦可併用兩種以上。
作為上述聚乙烯系樹脂，例如可列舉：低密度聚乙烯、直鏈狀低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、中密度聚乙烯等。
另外，作為上述聚丙烯系樹脂，可列舉：均聚聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、丙烯-α-烯烴共聚物等。進而，當光反射板為發泡而成者時，作為聚丙烯系樹脂，較佳為日本專利第2521388號公報或日本專利特開2001-226510號公報中所揭示的高熔融張力聚丙烯系樹脂。
再者，乙烯-丙烯共聚物及丙烯-α-烯烴共聚物可為無規共聚物、亦可為嵌段共聚物。乙烯-丙烯共聚物中的乙烯成分的含量較佳為0.5wt%~30wt%，更佳為1wt%~10wt%。另外，丙烯-α-烯烴共聚物中的α-烯烴成分的含量較佳為0.5wt%~30wt%，更佳為1wt%~10wt%。
作為α-烯烴，可列舉碳數為4~10的α-烯烴，例如可列舉：1-丁烯、1-戊烯、4-甲基-1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯等。
其中，作為聚烯烴系樹脂，較佳為聚丙烯系樹脂，特佳為均聚聚丙烯。塗層氧化鈦尤其可微分散於聚丙烯系樹脂中。
另外，為了提昇聚烯烴系樹脂中的塗層氧化鈦的分散性，較佳為利用選自由鈦偶合劑(titanium coupling agent)及矽烷偶合劑所組成的組群中的一種以上的偶合劑、矽氧烷化合物、多元醇對塗層氧化鈦的表面進行處理，更佳為利用矽烷偶合劑進行處理。
作為矽烷偶合劑，除具有例如烷基、烯基、胺基、芳基、環氧基等的烷氧基矽烷類以外，可列舉氯矽烷類、聚烷氧基烷基矽氧烷類等。具體而言，作為矽烷偶合劑，例如可列舉正β(胺乙基)γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、正β(胺乙基)γ-胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、正β(胺乙基)γ-胺基丙基甲基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、正苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等胺基矽烷偶合劑，二甲基二甲氧基矽烷、甲基三甲氧基 矽烷、乙基三甲氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、正丁基三甲氧基矽烷、正丁基三乙氧基矽烷、正丁基甲基二甲氧基矽烷、正丁基甲基二乙氧基矽烷、異丁基三甲氧基矽烷、異丁基三乙氧基矽烷、異丁基甲基二甲氧基矽烷、第三丁基三甲氧基矽烷、第三丁基三乙氧基矽烷、第三丁基甲基二甲氧基矽烷、第三丁基甲基二乙氧基矽烷等烷基矽烷偶合劑，較佳為胺基矽烷偶合劑。再者，矽烷偶合劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
作為矽氧烷化合物，例如可列舉二甲基聚矽氧、甲基氫聚矽氧、烷基改質聚矽氧等。另外，作為多元醇，例如可列舉三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、三丙醇乙烷、季戊四醇、新戊四醇等，較佳為三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷。再者，矽氧烷化合物及多元醇可單獨使用，亦可併用兩種以上。
再者，上述塗層氧化鈦由E.I.Dupont de Nemours&Co.、SCM Corporation、Kerr-McGee Co.、CanadeanTitanium Pigments Ltd.、Tioxide of Canada Ltd.、Pigmentos y Productos Quimicos、S.A.de C.V、Tibras Titanos S.A.、Tioxide International Ltd.、SCM Corp.、Kronos Titan GmbH、NL Chemical SA/NV、Tioxide、TDF Tiofine BV、石原產業公司、Tayca公司、堺化學工業公司、古河機械金屬公司、Tokem Products、Titan Kogyo公司、Fuji Titanium Industry公司、Hankook Titanium公司、中國金屬加工公司、ISK台灣公司等銷售。
另外，於光反射板中亦可含有一級抗氧化劑(primary antioxidant)。該一級抗氧化劑是捕捉因熱或光而產生的自由基並使自由基反應停止的穩定劑。作為此種一級抗氧化劑，酚系抗氧化劑因抑制光反射板的光線反射率的下降的效果高而較佳。
作為上述酚系抗氧化劑，例如可列舉2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、正十八基-3-(3',5'-二-第三丁基-4'-羥苯基)丙酸酯、四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥苯基)丙醯氧基甲基]甲烷、三[N-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)]異三聚氰酸酯、亞丁基-1,1-雙(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)、三乙二醇雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯]、3,9-雙{2-[3(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷等，該些可單獨使用，亦可併用兩種以上。
而且，若光反射板中的一級抗氧化劑的含量少，則存在無法抑制光反射板的光線反射率下降的情況，另一方面，即便光反射板中的一級抗氧化劑的含量多，亦存在光反射板的光線反射率的下降的抑制效果無變化，而因一級抗氧化劑本身的著色導致光反射板的光線反射率下降的情況，因此相對於聚烯烴系樹脂100重量份，較佳為0.01重量份~0.5重量份，更佳為0.01重量份~0.3重量份，特佳為0.01重量份~0.2重量份。
此處，若於光反射板中包含具有超過0.5wt%的含水率的塗層氧化鈦，則藉由該光反射板於光反射板的熱成形 時受到加熱，而產生氧化鈦的強大的還原力，導致塗層氧化鈦中所含有的大量的水分自由基化成H．與OH．。由此產生的OH自由基攻擊光反射板中所包含的酚系抗氧化劑而形成苯乙烯醌(stilbene quinone)(茶色)等著色物質，有時亦產生使光反射板變色成黃色等的問題。但是，於本發明中，根據具有0.5wt%以下的含水率的塗層氧化鈦，即便光反射板包含酚系抗氧化劑，由於光反射板中的水分量少，因此亦可充分抑制光反射板的變色，而幾乎不會因OH自由基對於酚系抗氧化劑的攻擊而產生著色物質。
另外，於光反射板中亦可含有二級抗氧化劑(secondary antioxidant)。該二級抗氧化劑對因熱或光而產生的聚烯烴系樹脂的自動氧化劣化的中間物即氫過氧化物(ROOH)進行離子分解來阻止自動氧化。就抑制光反射板的光線反射率的下降的效果高而言，較佳為磷系抗氧化劑或硫系抗氧化劑，更佳為磷系抗氧化劑。
作為上述磷系抗氧化劑，例如可列舉三(壬基苯基)亞磷酸酯、三(2,4-二-第三丁基苯基)亞磷酸酯、二硬脂基季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二-第三丁基苯基)季戊四醇亞磷酸酯、2,2-亞甲基雙(4,6-二-第三丁基苯基)-4,4'-伸聯苯基二-亞膦酸酯等，該些可單獨使用，亦可併用兩種以上。
另外，作為上述硫系抗氧化劑，例如可列舉二月桂基-3,3'-硫基-二丙酸酯、二肉豆蔻基-3,3'-硫基-二丙酸酯、二硬脂基-3,3'-硫基-二丙酸酯、季戊四醇四(3-月桂基硫基-丙酸酯)等，該些可單獨使用，亦可併用兩種以上。
若光反射板中的二級抗氧化劑的含量過少，則存在無法抑制光反射板的光線反射率下降的情況。另一方面，即便光反射板中的二級抗氧化劑的含量過多，亦存在光反射板的光線反射率的下降的抑制效果無變化的可能性。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中的二級抗氧化劑的含量較佳為0.01重量份~0.5重量份，更佳為0.01重量份~0.3重量份，特佳為0.01重量份~0.2重量份。
進而，於光反射板中亦可含有紫外線吸收劑。作為此種紫外線吸收劑，例如可列舉：2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-[2'-羥基-3',5'-雙(α,α-二甲基苄基)苯基]-苯并三唑、2-(2'-羥基-3',5-二-第三丁基苯基)-苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3',5'-二-第三丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3',5'-二-第三戊基)苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-第三辛基苯基)苯并三唑、2,2'-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2N-苯并三唑-2-基)苯酚]等苯并三唑系紫外線吸收劑，2,4-二羥基-二苯基酮、2-羥基-4-甲氧基-二苯基酮、2-羥基-4-甲氧基二苯基酮-5-磺酸、2-羥基-4-正辛基-二苯基酮、2-羥基-4-正十二烷氧基-二苯基酮、雙(5-苯甲醯基-4-羥基-2-甲氧基苯基)甲烷、2,2'-二羥基-4-甲氧基-二苯基酮、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯基酮等二苯基酮系紫外線吸收劑，水楊酸苯酯、水楊酸4-第三丁基苯酯等水楊酸酯系紫外線吸收劑，乙基-2-氰基-3,3-二苯基-丙烯酸酯、2-乙基己基-2-氰基-3,3'-二苯基-丙烯酸酯等氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑，2- 乙氧基-3-第三丁基-2'-乙基-草酸雙苯胺化物(2-ethoxyl-3-tert-butyl-2'-ethyl-oxalic acid bisanilide)、2-乙氧基-2'-乙基-草酸雙苯胺化物等草酸苯胺化物系紫外線吸收劑，2,4-二-第三丁基苯基-3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸酯等苯甲酸酯系紫外線吸收劑，2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-羥基苯酚、2-(2,4-二羥苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪等三嗪系紫外線吸收劑等，其中，就有效地抑制光反射板的光線反射率的下降而言，較佳為苯并三唑系紫外線吸收劑。再者，紫外線吸收劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
紫外線吸收劑的分子量較佳為250以上，更佳為300~500，特佳為400~500。當對光反射板形成用樹脂組成物進行擠出成形來製造光反射板時，分子量未滿250的紫外線吸收劑容易自光反射板形成用樹脂組成物的擠出物表面揮發，該紫外線吸收劑的揮發有可能會使所獲得的光反射板表面產生光澤不均、皸裂(chap)、及裂縫等缺陷。產生了該些缺陷的光反射板的成形體無法均勻地發揮優異的光反射性能。
另外，若光反射板中的紫外線吸收劑的含量過少，則存在無法抑制光反射板的光線反射率下降之虞。另一方面，即便光反射板中的紫外線吸收劑的含量過多，亦存在光反射板的光線反射率的下降的抑制效果無變化的可能性。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中 的紫外線吸收劑的含量較佳為0.01重量份~0.5重量份，更佳為0.01重量份~0.3重量份，特佳為0.01重量份~0.2重量份。
進而，於光反射板中亦可含有受阻胺系光穩定劑。作為此種受阻胺系光穩定劑，並無特別限定，例如可列舉癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、癸二酸雙(N-甲基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、丙二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-2-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)-2-正丁酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯、四(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯、(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯與(2,2,6,6-四甲基-4-十三基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯的混合物、(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯與(1,2,2,6,6-五甲基-4-十三基)-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯的混合物、{2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-3,9-[2,4,8,10-四氧雜螺(5.5)十一烷]二乙基}-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯與{2,2,6,6-四甲基-β,β,β',β'-四甲基-3,9-[2,4,8,10-四氧雜螺(5.5)十一烷]二乙基}-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯的混合物、{1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基-3,9-[2,4,8,10-四氧雜螺(tetraoxaspiro)(5.5)十一烷]二乙基}-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯與{1,2,2,6,6-五甲基-β,β,β',β'-四甲基-3,9-[2,4,8,10-四氧雜螺(5.5)十一烷]二乙基}-1,2,3,4-丁烷-四羧酸酯的混合物、聚[6-(1,1,3,3-四甲基丁基)亞胺基-1,3,5-三嗪-2,4-二基]、[(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基]六亞甲基[(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基]、4- 羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇與琥珀酸二甲酯聚合物的混合物、N,N',N",N'''-四{4,6-雙[丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基]-三嗪-2-基}-4,7-二氮癸烷-1,10-二胺等，該些可單獨使用，亦可併用兩種以上。
另外，若光反射板中的受阻胺系光穩定劑的含量過少，則存在無法抑制光反射板的光線反射率下降的可能性。另一方面，即便光反射板中的受阻胺系光穩定劑的含量過多，亦存在光反射板的光線反射率的下降的抑制效果無變化，而因受阻胺系光穩定劑本身的著色引起光反射板的光線反射率下降的可能性。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中的受阻胺系光穩定劑的含量較佳為0.01重量份~0.5重量份，更佳為0.01重量份~0.3重量份，特佳為0.01重量份~0.2重量份。
此處，聚烯烴系樹脂的劣化起因於高分子主鏈的切斷。具體而言，因熱或光等而生成自由基，該生成的自由基藉由與氧進行反應而變成過氧自由基，自主鏈中抽出氫後成為氫過氧化物。其後，氫過氧化物因熱或光等的作用而分解，成為烷氧基自由基後切斷高分子主鏈，伴隨高分子主鏈的切斷而產生自由基。該反應循環重複進行，高分子主鏈被切斷並低分子量化，而導致聚烯烴系樹脂劣化。該聚烯烴系樹脂的劣化引起聚烯烴系樹脂的黃變，其結果，導致光反射板的光線反射率下降。
因此，於本發明的光反射板中，如上所述，使用利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而成的 塗層氧化鈦，避免氧化鈦與聚烯烴系樹脂的接觸，進而，藉由塗層而儘可能地阻斷射入至氧化鈦中的紫外線，從而防止由氧化鈦的光觸媒作用所引起的聚烯烴系樹脂的氧化分解，並且防止因由氧化鈦的結晶中的光化學變化所引起的氧缺陷的增大而變色成暗灰色。
進而，於構成光反射板的光反射板中，如上所述，藉由添加一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑，可抑制聚烯烴系樹脂的伴隨劣化的黃變或塗層氧化鈦的光化學變化而進一步防止光反射板的光線反射率的下降。
詳細而言，藉由添加紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑，利用聚烯烴系樹脂的光穩定化效果來更有效地防止聚烯烴系樹脂的伴隨劣化的黃變，並且謀求防止由氧化鈦的活化所引起的聚烯烴系樹脂的氧化分解、及進一步抑制光化學變化。
另一方面，如上所述，紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑雖然具有抑制由氧化鈦所引起的聚烯烴系樹脂的氧化分解的能力，但其抑制力並不充分，存在紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑本身因氧化鈦而氧化分解的可能性。
因此，除紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑以外，亦添加一級抗氧化劑及二級抗氧化劑，藉由自由基反應的捕捉及氫過氧化物的離子分解，而更確實地使聚烯烴系樹脂光穩定化來防止伴隨劣化的黃變，並且更確實地防止由氧化鈦所引起的紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑的氧化分 解。
即，除藉由一級抗氧化劑及二級抗氧化劑來防止由聚烯烴系樹脂的劣化所引起的黃變以外，更確實地防止由氧化鈦所引起的紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑的分解，並且藉由該受到保護的紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑來更確實地防止由氧化鈦所引起的聚烯烴系樹脂的氧化分解、及抑制光化學變化，從而可更確實地防止初期所存在的光線反射率於短時間內下降的事態，並且即便經過長時間，亦可維持優異的光線反射率。
進而，光反射板亦可含有抗銅害劑(金屬減活劑)。藉由向光反射板中添加抗銅害劑，即便於光反射板與銅等金屬進行接觸、或者銅離子等重金屬離子作用於光反射板的情況下，亦可將劣化促進因子即銅離子等作為螯合(chelate)化合物來捕捉，當將光反射板組裝入各種液晶顯示裝置或照明裝置等中時，即便光反射板與銅等金屬進行接觸，亦可防止聚烯烴系樹脂劣化並黃變。
作為上述抗銅害劑(金屬減活劑)，例如可列舉N,N-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥苯基)丙醯基]肼等肼(hydrazi)系化合物、3-(3,5-二-四-丁基-4-羥苯基)丙醯基二醯肼等。
而且，若光反射板中的抗銅害劑(金屬減活劑(metal deactivator))的含量過少，則存在添加了抗銅害劑的效果不顯現的可能性。另一方面，若光反射板中的抗銅害劑(金屬減活劑)的含量過多，則存在光反射板的光線反射率下降的可能性。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光 反射板中的抗銅害劑(金屬減活劑)的含量較佳為0.1重量份~1.0重量份。
另外，亦可向光反射板中添加抗靜電劑。如此，藉由添加抗靜電劑，可防止光反射板的帶電，而防止塵埃或塵土附著於光反射板上，並可將光反射板的光線反射率的下降防止於未然。
作為此種抗靜電劑，例如可列舉：聚環氧乙烷、聚環氧丙烷、聚乙二醇、聚酯醯胺、聚醚酯醯胺、乙烯-甲基丙烯酸共聚物等離子聚合物，聚乙二醇甲基丙烯酸酯系共聚物等四級銨鹽，日本專利特開2001-278985號公報中所記載的具有烯烴系嵌段與親水性嵌段反覆交替地鍵結的結構的嵌段共聚物等高分子型抗靜電劑，無機鹽，多元醇，金屬化合物，碳等。
而且，若光反射板中的除高分子型抗靜電劑以外的抗靜電劑的含量過少，則存在添加了抗靜電劑的效果不顯現的情況。另一方面，若光反射板中的除高分子型抗靜電劑以外的抗靜電劑的含量過多，則存在不僅無法獲得與抗靜電劑的添加濃度相稱的效果，而且可看到抗靜電劑的效果的下降，或者產生顯著的滲出、著色及由光所引起的黃變的情況。因此，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中的除高分子型抗靜電劑以外的抗靜電劑的含量較佳為0.1重量份~2重量份。
另外，根據與上述相同的理由，相對於聚烯烴系樹脂100重量份，光反射板中的高分子型抗靜電劑的含量較佳 為5重量份~50重量份。
進而，於上述光反射板中，除銅害抑制劑(金屬減活劑)或抗靜電劑以外，亦可添加硬脂酸金屬皂等分散劑、淬滅劑、內酯系加工穩定劑、螢光增白劑、結晶核劑等。
若光反射板的厚度過薄，則除存在光反射板的剛性下降、光反射板產生彎曲的可能性以外，亦存在當對光反射板進行熱成形而成形為任意的形狀時容易產生薄壁部的可能性。另外，若光反射板的厚度過厚，則存在裝入光反射板的裝置的厚度或重量增大的可能性。因此，光反射板的厚度較佳為0.1mm~1.5mm，更佳為0.1mm~0.8mm，特佳為0.1mm~0.6mm。再者，光反射板的形狀並無特別限制，但較佳為片狀。
其次，對本發明的光反射板的製造方法進行說明。於本發明的光反射板的製造中，使用如下的光反射板形成用樹脂組成物，該光反射板形成用樹脂組成物包含：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而形成、且含水率為0.5wt%以下。
可藉由以下方式來使塗層氧化鈦的含水率變成0.5wt%以下：對用於光反射板的製造的塗層氧化鈦進行加熱，使塗層氧化鈦中所含有的化合水(hydration water)蒸發。較佳為將藉由如上述般預先進行加熱乾燥來使含水率變成0.5wt%以下的塗層氧化鈦用於光反射板的製造。
為了去除或減少塗層氧化鈦中所含有的化合水，較佳 為藉由在較佳為50℃~140℃，更佳為90℃~120℃下對塗層氧化鈦進行加熱來使化合水蒸發而去除或減少化合水。加熱時間較佳為2小時~8小時，更佳為3小時~5小時。
光反射板形成用樹脂組成物較佳為除包含聚烯烴系樹脂及含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦以外，視需要亦包含一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑等其他添加劑。再者，對於光反射板形成用樹脂組成物中所使用的聚烯烴系樹脂、塗層氧化鈦、一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑等其他添加劑的說明如上所述。
另外，光反射板形成用樹脂組成物較佳為預先製作含有聚烯烴系樹脂及塗層氧化鈦的母粒，並包含上述母粒、聚烯烴系樹脂、以及視需要的一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑等其他添加劑。如此，藉由使用含有塗層氧化鈦的母粒，可提昇光反射板形成用樹脂組成物中的塗層氧化鈦的分散性。另外，於母粒中，含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦由聚烯烴系樹脂完全地包覆，幾乎不存在未被聚烯烴系樹脂包覆而露出的塗層氧化鈦。因此，即便長時間放置母粒，母粒中所包含的塗層氧化鈦的含水率亦大致不發生變化而保持為固定。
母粒的製造並無特別限制，但較佳為藉由如下方法來進行：將塗層氧化鈦及聚烯烴系樹脂以規定的重量比供給至擠出機中進行熔融混煉，藉此獲得熔融混煉物後，利用擠出機將該熔融混煉物擠出。另外，即便於使用母粒的情 況下，使用如上述般預先進行加熱乾燥而使含水率變成0.5wt%以下的塗層氧化鈦來製作母粒亦較佳。
當藉由在擠出機中對塗層氧化鈦及聚烯烴系樹脂進行熔融混煉來獲得熔融混煉物時，較佳為使用具有揮發成分去除機構的擠出機，將於熔融混煉時自熔融混煉物中產生的揮發成分排出至擠出機的外部。藉由此種方法，可更充分地去除塗層氧化鈦的塗層中所含有的化合水。
作為具有揮發成分去除機構的擠出機，例如可較佳地使用通氣式擠出機等，所述通氧式擠出機在對塗層氧化鈦及聚烯烴系樹脂進行熔融混煉的擠出機的氣缸的中間部設置有用以將氣缸內部的氣體排出至外部的通氣口。根據通氣式擠出機，可利用真空泵等自通氣口抽吸氣缸內部的氣體並朝外部排出。
當自通氣口抽吸氣體時，較佳為將氣缸內的壓力設為7.5mmHg~225mmHg(1kPa~30kPa)，更佳為設為22.5mmHg~150mmHg(3kPa~20kPa)。藉由將氣缸內的壓力設為上述範圍內，即便於熔融混煉時，亦可去除熔融混煉物中所包含的塗層氧化鈦中所含有的化合水。另外，進行熔融混煉時的熔融混煉物的溫度較佳為180℃~290℃，更佳為180℃~270℃。
光反射板形成用樹脂組成物較佳為藉由將聚烯烴系樹脂及含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦、以及視需要的一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑等其他添加劑以如下方式供給至擠出機中進行熔 融混煉來製造，該方式是於最終所獲得的光反射板中以所需的重量比含有各成分的方式。當使用母粒時，光反射板形成用樹脂組成物較佳為藉由將包含聚烯烴系樹脂及含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦的母粒、聚烯烴系樹脂、以及視需要的一級抗氧化劑、二級抗氧化劑、紫外線吸收劑及受阻胺系光穩定劑等其他添加劑以如下方式供給至擠出機中進行熔融混煉來製造，該方式是於最終所獲得的光反射板中以所需的重量比含有各成分的方式。
另外，即便於藉由在擠出機中對塗層氧化鈦與聚烯烴系樹脂進行熔融混煉來獲得光反射板形成用樹脂組成物時、或者於使用母粒的情況下藉由在擠出機中對母粒與聚烯烴系樹脂進行熔融混煉來獲得光反射板形成用樹脂組成物時，使用通氣式擠出機等具有揮發成分去除機構的擠出機，將於樹脂組成物的熔融混煉時自樹脂組成物中產生的揮發成分排出至擠出機的外部亦較佳。藉由此種方法，可更充分地去除塗層氧化鈦的塗層中所含有的化合水。再者，於母粒的情況下，通氣式擠出機與上述相同。
當自通氣式擠出機的通氣口抽吸氣體時，較佳為將氣缸內的壓力設為7.5mmHg~225mmHg(1kPa~30kPa)，更佳為設為22.5mmHg~150mmHg(3kPa~20kPa)。藉由將氣缸內的壓力設為上述範圍內，即便於熔融混煉時，亦可去除樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦中所含有的化合水。另外，進行熔融混煉時的樹脂組成物的溫度較佳為180℃~290℃，更佳為180℃~270℃。
光反射板形成用樹脂組成物較佳為藉由將聚烯烴系樹脂及塗層氧化鈦等供給至擠出機等通用的混煉裝置中進行熔融混煉來製造，但其後亦可將光反射板形成用樹脂組成物成形為顆粒狀等規定的形狀。於如此成形的光反射板形成用樹脂組成物中，含水率為0.5wt%以下的塗層氧化鈦由聚烯烴系樹脂完全地包覆，幾乎不存在未被聚烯烴系樹脂包覆而露出的塗層氧化鈦。因此，即便長時間放置所成形的光反射板形成用樹脂組成物，光反射板形成用樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦的含水率亦大致不發生變化而保持為固定。
當將光反射板形成用樹脂組成物成形為顆粒狀時，例如藉由將塗層氧化鈦及聚烯烴系樹脂供給至擠出機中進行熔融混煉而獲得光反射板形成用樹脂組成物，自擠出機將光反射板形成用樹脂組成物擠出成股線狀後每隔規定的間隔進行切斷，藉此可成形為顆粒狀。另外，於使用母粒的情況下，藉由將母粒及聚烯烴系樹脂供給至擠出機中進行熔融混煉而獲得光反射板形成用樹脂組成物，自擠出機將光反射板形成用樹脂組成物擠出成股線狀後每隔規定的間隔進行切斷，藉此可成形為顆粒狀。
再者，光反射板形成用樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦的含水率的測定是於光反射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率的上述測定方法中，使用藉由稱取光反射板形成用樹脂組成物5g而獲得的試樣來代替藉由裁剪光反射板而獲得的重量為5g的試驗片，除此以外，能夠以相同的 方式進行測定。
而且，藉由將上述光反射板形成用樹脂組成物成形為片狀，可製造包含非發泡片的本發明的光反射板。當將光反射板形成用樹脂組成物成形為片狀時，只要利用膨脹法、T字模法、壓延法等公知的方法將光反射板形成用樹脂組成物成形為片狀即可，較佳為T字模法。當利用T字模法將光反射板形成用樹脂組成物成形為片狀時，例如只要藉由如下方式進行即可，該方式是將T字模安裝於擠出機的前端，自該T字模將於擠出機中進行了熔融混煉的光反射板形成用樹脂組成物擠出成片狀的方式。
當藉由將聚烯烴系樹脂及塗層氧化鈦等供給至擠出機，並於擠出機中進行熔融混煉來獲得光反射板形成用樹脂組成物時，可藉由將該光反射板形成用樹脂組成物自擠出機中直接擠出來製造光反射板。另外，當使用成形為顆粒狀等規定的形狀的光反射板形成用樹脂組成物時，可藉由在將該經成形的光反射板形成用樹脂組成物供給至擠出機中進行熔融混煉後，自擠出機中擠出來製造光反射板。
另外，即便於將光反射板形成用樹脂組成物在擠出機中熔融混煉後成形為片狀時，使用通氣式擠出機等具有揮發成分去除機構的擠出機，將於光反射板形成用樹脂組成物的熔融混煉時自光反射板形成用樹脂組成物中產生的揮發成分排出至擠出機的外部亦較佳。再者，於母粒的情況下，通氣式擠出機與上述相同。
當自通氣式擠出機的通氣口抽吸氣體時，較佳為將氣 缸內的壓力設為7.5mmHg~225mmHg(1kPa~30kPa)，更佳為設為22.5mmHg~150mmHg(3kPa~20kPa)。藉由將氣缸內的壓力設為上述範圍內，即便於熔融混煉時，亦可去除樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦中所含有的化合水。另外，進行熔融混煉時的光反射板形成用樹脂組成物的溫度較佳為180℃~290℃，更佳為180℃~270℃。
另外，較佳為於藉由將光反射板形成用樹脂組成物自擠出機中擠出來獲得片狀的擠出物之後、且於該片狀的擠出物冷卻固化而成為光反射板之前，對片狀的擠出物的至少一面進行鏡面加工處理。根據鏡面加工處理，可提昇片狀的擠出物的表面平滑性而提供具有優異的光反射性能的光反射板。
作為鏡面加工處理，例如可較佳地使用如下的方法等：將片狀的擠出物供給至包含外周面形成為鏡面的鏡面輥、及與該鏡面輥相向配設的支撐輥的一對輥間，使鏡面輥按壓於片狀的擠出物的表面上。
亦可於本發明的光反射板的一面上將片狀的支撐體積層一體化來製成積層體。作為此種支撐體，可列舉：經雙軸延伸的聚丙烯系樹脂膜、經雙軸延伸的聚酯系樹脂膜、聚醯胺系樹脂膜、及紙等。此處，作為聚丙烯系樹脂，可較佳地列舉聚丙烯。作為聚酯系樹脂，可較佳地列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、及聚乳酸。作為聚醯胺系樹脂，可較佳地列舉尼龍-6、尼龍-6,6等。
另外，亦可於本發明的光反射板的一面上將金屬箔積層一體化來製成積層體。作為金屬箔，可較佳地列舉鋁箔。如此，藉由將金屬箔積層一體化，可獲得具有優異的光反射性的積層體。
當於光反射板上將支撐體或金屬箔積層一體化時，並無特別限制，只要使用熱層壓法、乾式層壓法、及擠出層壓等公知的方法進行即可。
進而，本發明的光反射板於其製造時不需要延伸步驟，且具有優異的熱成形性，亦可根據用途而熱成形為所需形狀。作為光反射板的成形方法，例如可列舉真空成形或壓空成形。作為真空成形或壓空成形，例如可列舉：模塞成形、自由拉伸成形、環模塞壓(plug and ridge)成形、對模成形、直接成形、覆蓋成形、反向拉伸成形、氣滑成形、模塞助壓成形、模塞助壓反向拉伸成形等。再者，較佳為於上述成形方法中使用可進行溫度調節的模具。
本發明的光反射板較佳為用於文字處理機、個人電腦、行動電話、導航系統、電視機、攜帶型電視機等液晶顯示裝置的背光單元。如上所述，本發明的光反射板具有優異的光反射性能，因此藉由將此種光反射板用於液晶顯示裝置的背光單元，可提供亮度的下降或不均的產生得到抑制的液晶顯示裝置。
當將本發明的光反射板用於液晶顯示裝置的背光單元時，可將光反射板組裝入構成液晶顯示裝置的直下光式背光源、側光式背光源或面狀光源式背光源內來使用。
將使用本發明的光反射板的液晶顯示裝置的側光式的背光單元的示意圖示於圖1。圖1所示的液晶顯示裝置包括：光反射板10、於該光反射板10上積層一體化而成的光擴散層20、配設於該光擴散層20上的導光板30、配設於導光板30的側方且對導光板30放射光的發光光源40、以及用以使自發光光源40所放射的光朝導光板30反射的燈反射器50。再者，作為發光光源40，例如可列舉冷卻陰極或LED等。
光擴散層20是使包含苯乙烯系樹脂或丙烯酸系樹脂等的透光性粒子21分散於熱塑性樹脂等黏合劑樹脂中而形成。另外，光擴散層20的表面具有藉由透光性粒子21而形成的凹凸形狀，可藉由該凹凸形狀來使光擴散。再者，光擴散層20可藉由將使黏合劑樹脂中含有透光性粒子而成的塗料塗布於光反射板的表面並加以乾燥來形成。
於液晶顯示裝置中，藉由發光光源40而射入至導光板30內的光於導光板30的表面及背面間反覆反射，藉此自導光板30的表面朝導光板30的外部導出。另外，自導光板30的背面導出的光藉由利用透光性粒子21而形成於光擴散層20表面的凹凸形狀，而以面向導光板30的表面側變得均勻的方式擴散並反射。進而，於自導光板30的背面導出的光透過了光擴散層20的情況下，上述光藉由光反射板10而朝導光板30的表面側反射。如此，藉由將發光光源與導光板30、光擴散層20及光反射板10加以組合，可提昇液晶顯示裝置的亮度。
另外，本發明的光反射板除可較佳地用於上述液晶顯示裝置的背光單元以外，亦可較佳地用於廣告或看板用的照明裝置。以下，一面參照圖式一面對使用本發明的光反射板的照明裝置的一例進行說明。
當將光反射板用於廣告或看板用的照明裝置時，較佳為將光反射板預先熱成形為規定的形狀來使用。經熱成形的光反射板具體而言如圖2及圖3所示，具有縱橫地連續成形的多個逆四角錐台狀的凹部12、12…，於上述凹部12、12…的底面部13上形成有貫穿孔13a作為用以配設光源的光源配設部，並且上述凹部12、12…的周壁部14形成為反射自上述光源所放射的光的光反射面。
而且，將使用如上述般進行了熱成形的光反射板的照明裝置示於圖4。如圖4所示，該照明裝置是於框體60內配設具備光反射板10與發光二極體L的照明體C而構成。上述框體60包含具有比光反射板10大一圈的大小的平面矩形狀的底面部61、及自該底面部61的四方外周緣朝上方延設的四角框狀的周壁部62。再者，於周壁部62的內周面上端部遍及其全周而形成有段部62a，且構成為磨砂玻璃或光學片80可裝卸自如地配設於該段部62a上。再者，照明體C的光源除發光二極體以外，亦可為通用的光源。
另外，準備光源體70，光源體70是於大小為可鋪設在框體60的底面部61上的平面正方形狀的基板71上配設多個發光二極體L、L…而成。再者，在使光反射板10疊 合於光源體70上的狀態下，以使各凹部12的貫穿孔13a與光源體70的各發光二極體L的位置吻合的方式般構成。
而且，上述光源體70於使其發光二極體L面向上方(框體60的開口方向)的狀態下鋪設在框體60的底面部61上，於光源體70上鋪設有光反射板10，光源體70的發光二極體L穿過光反射板10的凹部12的貫穿孔13a來配設，從而構成照明體C。
當使用該照明裝置B時，首先，將磨砂玻璃或光學片80裝卸自如地配設於框體60的周壁部62的段部62a上，然後使發光二極體L發光(參照圖4)。於是，光自發光二極體L呈放射狀地放射，射入至光反射板10的凹部12的內周面的光由內周面反射一次或多次後前進方向朝向磨砂玻璃或光學片80方向而射入至磨砂玻璃或光學片80中。再者，較佳為不使照明體C的光反射板10與磨砂玻璃或光學片80密接。
而且，光學片80於其內部含有使光擴散的氧化鈦等光擴散劑，射入至光學片80內的光於光學片80內藉由光擴散劑而漫反射、或者射入至磨砂玻璃內的光藉由磨砂玻璃而漫反射並進一步擴散後，自磨砂玻璃或光學片80朝外側放出，磨砂玻璃或光學片80若自正面進行觀察，則成為整個面大致均勻地發光的狀態。
此處，射入至磨砂玻璃或光學片80內的光於磨砂玻璃或光學片80中漫反射，光的一部分朝光反射板10方向反射而再次朝光反射板A方向射入，但再次射入至光反射板 10內的光於凹部12的內周面上反射而再次射入至磨砂玻璃或光學片80內。
如此，自發光二極體L所放射的光藉由在凹部12的內周面上反射，而一面擴散一面朝磨砂玻璃或光學片80方向反射，藉此，磨砂玻璃或光學片80遍及其整個面以大致均勻的光束照射光，因此幾乎不存在發光二極體的位置透過磨砂玻璃或光學片80而得到辨認的情況。
而且，直接描繪於磨砂玻璃或光學片80上的圖案或文字、或者描繪於磨砂玻璃或光學片80上所配設的裝飾片上的圖案或文字藉由自整個磨砂玻璃或光學片80均勻地放射的光而成為明瞭且均勻地浮起的狀態。因此，上述照明裝置可較佳地用作廣告或看板用的照明裝置。
於上述中，對在光反射板的表面形成光擴散層，藉由光擴散層而使光擴散的情況進行了說明，但亦可將光反射板的一面或兩面形成為凹凸面，藉由該凹凸面而使射入至光反射板中的光擴散。
作為將光反射板的表面形成為凹凸面的方法，並無特別限定，較佳為例如下述(1)的方法：藉由膨脹法、T字模法、壓延法等公知的方法並使用光反射板形成用樹脂組成物來製造片狀的擠出物，將該片狀的擠出物供給至一對輥間，然後使形成於一根輥或兩根輥的表面的凹凸轉印至片狀的擠出物的表面，藉此將光反射板的表面形成為凹凸面。根據上述(1)的方法，於自擠出機中擠出來製造的片狀的擠出物的表面連續地形成凹凸，藉此能夠以一個步驟 連續地製造表面形成為凹凸面的光反射板。
若光反射板的凹凸面的表面粗糙度Ra小，則存在光反射板的光擴散性下降的情況，若光反射板的凹凸面的表面粗糙度Ra大，則存在自光反射板所反射的光的擴散性變得不均勻、自光反射板所反射光的擴散反射率下降的情況，因此較佳為1μm~20μm，更佳為1μm~15μm。
若光反射板的凹凸面上的凹凸的平均間隔Sm小，則存在光反射板的光擴散性下降的情況，若光反射板的凹凸面上的凹凸的平均間隔Sm大，則存在自光反射板所反射的光的擴散性變得不均勻、自光反射板所反射光的擴散反射率下降的情況，因此較佳為5μm~300μm，更佳為10μm~130μm。
若光反射板的凹凸面的最大高度(Ry)小，則存在光反射板的光擴散性下降的情況，若光反射板的凹凸面的最大高度(Ry)大，則存在自光反射板所反射的光的擴散性變得不均勻、自光反射板所反射的光的擴散反射率下降的情況，因此較佳為較佳為5μm~80μm，更佳為10μm~50μm，特佳為10μm~30μm。
光反射板的凹凸面的表面粗糙度Ra是指依據JIS B0601，以基準長度2.5mm、評價長度12.5mm進行測定所得的值。光反射板的凹凸面上的凹凸的平均間隔Sm是指依據JIS B0601，以基準長度2.5mm、評價長度12.5mm進行測定所得的值。光反射板的凹凸面的最大高度(Ry)是指依據JIS B0601，以基準長度2.5mm、評價長度12.5 mm進行測定所得的值。具體而言，可將自基恩斯(Keyence)公司以商品名「雙重掃描高精度雷射測定器LT-9500」及「雙重掃描高精度雷射測定機LT-9010M」所銷售的測定器、以及自COMS公司以商品名「非接觸輪廓形狀．粗糙度測定系統MAP-2DS」所銷售的測定器加以組合來測定表面粗糙度Ra及平均間隔Sm。
如此，藉由在光反射板的表面形成凹凸，可對光反射板賦予優異的光擴散性。如上所述，當將片狀的擠出物供給至一對輥間，並使形成於一根輥或兩根輥的外周面的凹凸轉印至片狀的擠出物的表面，藉此將光反射板的至少一面形成為凹凸面時，可使形成於輥的外周面的凹凸準確地轉印、形成於光反射板的表面，藉此，可於光反射板的表面均勻地形成所需的凹凸來製成凹凸面，而使得光反射板具有均勻的光擴散性。
而且，當將光反射板的表面形成為凹凸面時，藉由將形成於皺紋輥的外周面的凹凸等凹凸按壓在片狀的擠出物的表面，而將光反射板的表面形成為凹凸面，因此可不論光反射板的厚度，而將光反射板的至少一個表面形成為凹凸面，並可容易地製造厚度厚且光擴散性優異的光反射板。
至少一面形成為凹凸面的光反射板亦與上述光反射板相同，於其製造時不需要延伸步驟，且具有優異的熱成形性，可根據用途而熱成形為所需形狀。再者，由於成形方法為與上述相同的要領，因此省略其說明。
上述光反射板因其至少一面形成為凹凸面，故當於熱 成形中，光反射板的凹凸面與模具接觸時，在光反射板的凹凸面與模具的表面之間形成空隙部，可透過該空隙部將光反射板與模具的相向面間所存在的空氣順利地排除，從而可將光反射板準確地熱成形為所需形狀。
再者，若在光反射板的凹凸面與模具接觸的狀態下對光反射板進行熱成形，則存在光反射板的四凸面於熱成形中被模具按壓，凹凸面的凹凸略微變小的情況。即，存在凹凸面的表面粗糙度Ra、凹凸面的凹凸的平均間隔Sm及凹凸面的最大高度(Ry)於光反射板的熱成形後變小的情況。因此，當在光反射板的凹凸面與模具接觸的狀態下對光反射板進行熱成形時，較佳為於熱成形後的光反射板中，以使凹凸面的表面粗糙度Ra、凹凸面的凹凸的平均間隔Sm及凹凸面的最大高度(Ry)取得所需值的方式進行調整，於熱成形前的光反射板中，以使凹凸面的表面粗糙度Ra、凹凸面的凹凸的平均間隔Sm及凹凸面的最大高度(Ry)均大於熱成形後的所需值的方式進行調整。
[實例]
以下，利用實例更具體地說明本發明，但本發明並不限定於此。
(實例1)
首先，準備塗層氧化鈦A(石原產業公司製造 商品名「CR-93」，平均粒徑為0.28μm)。該塗層氧化鈦A是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦A中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化 物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為3.1wt%。另外，於塗層氧化鈦A中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為4.2wt%。
其次，於100℃下將上述塗層氧化鈦A加熱5小時並使其乾燥，藉此減少塗層氧化鈦中所含有的化合水。利用口徑為120mm的通氣式雙軸擠出機，於230℃下對該減少了化合水的塗層氧化鈦A 53.8重量份、及均聚聚丙烯(homopolypropylene)(SunAllomer公司製造 商品名「PL500A」，熔融流動速率：3.3g/10min，密度：0.9g/cm3)40重量份進行熔融混煉並加以顆粒化來製作塗層氧化鈦A的母粒。再者，當於通氣式雙軸擠出機的氣缸內對塗層氧化鈦A及均聚聚丙烯進行熔融混煉時，以使氣缸內的壓力成為60mmHg(8kPa)的方式利用真空泵將氣缸內的氣體自通氣口朝外部排出。
然後，將母粒93.8重量份、均聚聚丙烯(SunAllomer公司製造 商品名「PL500A」，熔融流動速率：3.3g/10min，密度：0.9g/cm3)60重量份、酚系抗氧化劑(BASF公司製造 商品名IRGANOX(註冊商標)1010)0.15重量份、磷系抗氧化劑(BASF公司製造 商品名IRGAFOS168)0.15重量份、苯并三唑系紫外線吸收劑1(分子量為315.8，BASF公司製造 商品名TINUVIN(註冊商標)326)0.15重量份、及受阻胺系光穩定劑(BASF公司製造 商品名TINUVIN(註冊商標)111)0.15重量份供給至口徑為120 mm的通氣式單軸擠出機中並於220℃下進行熔融混煉，藉此獲得光反射板形成用樹脂組成物，自安裝於擠出機的前端的T字模(片材寬度：1000mm，狹縫間隔：0.2mm，溫度200℃)將該光反射板形成用樹脂組成物擠出成片狀，從而獲得片狀的擠出物。繼而，將該片狀的擠出物供給至包含外周面形成為鏡面的鏡面輥、及與該鏡面輥相向配設的支撐輥的一對輥間，使鏡面輥按壓於片狀的擠出物的表面上，藉此獲得一個面受到鏡面加工處理、厚度為0.2mm且密度為1.3g/cm3的非發泡的光反射板。再者，當於通氣式單軸擠出機的氣缸內對樹脂組成物進行熔融混煉時，以使氣缸內的壓力成為60mmHg(8kPa)的方式利用真空泵將氣缸內的氣體自通氣口朝外部排出。
(實例2)
使用塗層氧化鈦B(石原產業公司製造 商品名「CR-90」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦B是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦B中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為2.7wt%。另外，於塗層氧化鈦B中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為3.6wt%。
(實例3)
使用塗層氧化鈦C(石原產業公司製造 商品名「CR-80」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦C是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來包覆金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦C中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為3.3wt%。另外，於塗層氧化鈦C中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為1.8wt%。
(實例4)
使用塗層氧化鈦D(石原產業公司製造 商品名「CR-63」，平均粒徑為0.21μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦D是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來包覆金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦D中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為1.4wt%。另外，於塗層氧化鈦D中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為0.7wt%。
(實例5)
使用塗層氧化鈦E(石原產業公司製造 商品名「CR-50」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A， 除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦E是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來包覆金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦E中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為2.3wt%。另外，於塗層氧化鈦E中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為0.1wt%。
(實例6~實例10)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
(實例11及實例12)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
(比較例1~比較例4)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
(比較例5及比較例6)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例1相同的方式製造光反射板。
(實例13)
首先，準備塗層氧化鈦A(石原產業公司製造 商品名「CR-93」，平均粒徑：0.28μm)。該塗層氧化鈦A是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來包覆金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦A中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為3.1wt%。另外，於塗層氧化鈦A中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為4.2wt%。
其次，於100℃下將上述塗層氧化鈦A加熱5小時並使其乾燥，藉此減少塗層氧化鈦中所含有的化合水。利用口徑為120mm的通氣式雙軸擠出機，於230℃下對該減少了化合水的塗層氧化鈦A 53.8重量份、及均聚聚丙烯(SunAllomer公司製造商品名「PL500A」，熔融流動速率：3.3g/10min，密度：0.9g/cm3)40重量份進行熔融混煉並加以顆粒化來製作塗層氧化鈦A的母粒。再者，當於通氣式雙軸擠出機的氣缸內對塗層氧化鈦A及均聚聚丙烯進行熔融混煉時，以使氣缸內的壓力成為60mmHg(8 kPa)的方式利用真空泵將氣缸內的氣體自通氣口朝外部排出。
繼而，將母粒93.8重量份、均聚聚丙烯(SunAllomer公司製造 商品名「PL500A」，熔融流動速率：3.3g/10min，密度：0.9g/cm3)60重量份、酚系抗氧化劑(BASF公司製造 商品名IRGANOX(註冊商標)1010)0.15重量份、磷系抗氧化劑(BASF公司製造 商品名IRGAFOS168)0.15重量份、苯并三唑系紫外線吸收劑1(分子量為315.8，BASF公司製造 商品名TINUVIN(註冊商標)326)0.15重量份、及受阻胺系光穩定劑(BASF公司製造 商品名TINUVIN(註冊商標)111)0.15重量份供給至口徑為120mm的通氣式單軸擠出機中並於220℃下進行熔融混煉，藉此獲得光反射板形成用樹脂組成物。自安裝於通氣式單軸擠出機的前端的噴嘴模具將該樹脂組成物擠出成股線狀，每隔2.5mm的長度切斷該股線來成形為直徑為2.5mm的圓柱狀，藉此獲得經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物。再者，當於通氣式單軸擠出機的氣缸內對光反射板形成用樹脂組成物進行熔融混煉時，以使氣缸內的壓力成為60mmHg(8kPa)的方式利用真空泵將氣缸內的氣體自通氣口朝外部排出。
然後，將經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物供給至口徑為120mm的通氣式單軸擠出機中並於220℃下進行熔融混煉後，自安裝於擠出機的前端的T字模(片材寬度：1000mm，狹縫間隔：0.2mm，溫度200℃)將該光 反射板形成用樹脂組成物擠出成片狀，從而獲得片狀的擠出物。繼而，將該片狀的擠出物供給至包含外周面形成為鏡面的鏡面輥、及與該鏡面輥相向配設的支撐輥的一對輥間，使鏡面輥按壓於片狀的擠出物的表面上，藉此獲得一個面受到鏡面加工處理、厚度為0.2mm且密度為1.3g/cm3的非發泡的光反射板。再者，當於通氣式單軸擠出機的氣缸內對經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物進行熔融混煉時，以使氣缸內的壓力成為60mmHg(8kPa)的方式利用真空泵將氣缸內的氣體自通氣口朝外部排出。
(實例14)
使用塗層氧化鈦B(石原產業公司製造 商品名「CR-90」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦B是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦B中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為2.7wt%。另外，於塗層氧化鈦B中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為3.6wt%。
(實例15)
使用塗層氧化鈦C(石原產業公司製造 商品名「CR-80」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦C是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦C中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為3.3wt%。另外，於塗層氧化鈦C中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為1.8wt%。
(實例16)
使用塗層氧化鈦D(石原產業公司製造 商品名「CR-63」，平均粒徑為0.21μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦D是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦D中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為1.4wt%。另外，於塗層氧化鈦D中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為0.7wt%。
(實例17)
使用塗層氧化鈦E(石原產業公司製造 商品名「CR-50」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
再者，塗層氧化鈦E是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層來塗布金紅石型氧化鈦的表面。於塗層氧化鈦E 中，藉由螢光X射線分析對鋁氧化物的量進行定量，結果換算成Al2O3後，相對於二氧化鈦的總重量為2.3wt%。另外，於塗層氧化鈦E中，藉由螢光X射線分析對矽氧化物的量進行定量，結果換算成SiO2後，相對於二氧化鈦的總重量為0.1wt%。
(實例18~實例22)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
(實例23及實例24)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
(比較例7~比較例10)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
(比較例11及比較例12)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑 2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例13相同的方式製造光反射板。
(實例25)
使用外周面上形成有凹凸的皺紋輥來代替鏡面輥，並使皺紋輥的外周面的凹凸按壓於片狀的擠出物的表面，除此以外，以與實例1相同的方式獲得光反射板。於所獲得的光反射板中，皺紋輥所按壓的面形成為凹凸面。
(實例26)
使用塗層氧化鈦B(石原產業公司製造 商品名「CR-90」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(實例27)
使用塗層氧化鈦C(石原產業公司製造 商品名「CR-80」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(實例28)
使用塗層氧化鈦D(石原產業公司製造 商品名「CR-63」，平均粒徑為0.21μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(實例29)
使用塗層氧化鈦E(石原產業公司製造 商品名「CR-50」，平均粒徑為0.25μm)來代替塗層氧化鈦A，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(實例30~實例34)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(實例35及實例36)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(比較例13~比較例16)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的種類，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(比較例17及比較例18)
如表1所示般變更塗層氧化鈦的調配量，且未進行塗層氧化鈦的加熱乾燥，進而使用苯并三唑系紫外線吸收劑2(分子量為447.6，BASF公司製造商品名TINUVIN(註冊商標)234)來代替苯并三唑系紫外線吸收劑1，除此以外，以與實例25相同的方式製造光反射板。
(比較例19)
使用其他皺紋輥作為皺紋輥，除此以外，以與比較例 13相同的方式製造光反射板。
(評價)
藉由上述方法來測定光反射板中所包含的塗層氧化鈦的平均粒徑。將結果示於表1~表3。另外，於沿光反射板的厚度方向的剖面中，藉由上述方法來測定粒徑為0.10μm~0.39μm且未凝聚的塗層氧化鈦的個數。再者，上述塗層氧化鈦的個數是對自沿光反射板的厚度方向的剖面任意選定的10個部位的測定區域(各測定區域的大小是一邊為30μm的正方形狀)進行測定，並將其算術平均值示於表1~表3。
另外，光反射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率亦藉由上述方法來測定。再者，將光反射板切斷來準備30片試驗片，針對各試驗片，根據上述方法測定塗層氧化鈦的含水率，將其算術平均值作為光反射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率。將結果示於表1~表3。
進而，針對實例13~實例24及比較例7~比較例12中所製作的經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物，亦藉由上述方法來測定該些光反射板形成用樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦的含水率。再者，自經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物準備30個試樣，針對各試樣，根據上述方法測定塗層氧化鈦的含水率，將其算術平均值作為經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦的含水率。於任一比較例及實例中，經顆粒化的光反射板形成用樹脂組成物中所包含的塗層氧化鈦的含水率與光反 射板中所包含的塗層氧化鈦的含水率均相同。
而且，根據下述程序分別評價光反射板的成形性、以及耐候性試驗前的光線反射率及耐候性試驗後的光線反射率。將結果示於表1~表3。根據下述程序評價光反射板的表面平滑性。將結果示於表1、表2。根據下述程序評價光反射板的表面均勻性。將結果示於表3。針對熱成形前後的光反射板的凹凸面，以上述要領測定表面粗糙度Ra、凹凸的平均間隔Sm、凹凸面的最大高度(Ry)、光線反射率及擴散反射率。將結果示於表3。
(表面平滑性)
以目視評價實例1~實例24及比較例1~比較例12的光反射板的經鏡面加工處理的面的表面平滑性。於表1及表2中，「優」(excellent)、「良」(good)、及「不良」(bad)分別如下述般。
優：於光反射板中形成有貫穿其兩面間的貫穿孔及凸部的部位為0個部位。
良：於光反射板中形成有貫穿其兩面間的貫穿孔及凸部的部位為1個~3個。
不良：於光反射板中形成有貫穿其兩面間的貫穿孔及凸部的部位超過3個。
再者，所謂形成於光反射板中的凸部，是指因由光反射板內部所存在的水分等所引起的發泡，而自光反射板的經鏡面加工處理的面膨出0.01mm以上的凸部。
(成形性)
將實例1~實例24及比較例1~比較例12的光反射板切出成一邊為64cm的平面正方形狀，以使其表面成為170℃的方式利用350℃的加熱爐進行加熱後，於去除了四方外周緣部的部分，藉由對模成形而使逆四角錐台狀的凹部12、12…自經鏡面加工處理的面(表面)朝與該面相向的面(背面)膨出成形，然後自規定部位進行切斷，藉此進行光反射板的熱成形。如上述般進行了熱成形的光反射板於大致整個面上縱橫地連續形成有96個凹部12、12…，且具有縱42cm、橫29.7cm的平面長方形狀(A3尺寸)。再者，凹部12、12…於長邊方向上形成有12個，於短邊方向上形成有8個。
所獲得的光反射板10的凹部12包含一邊為0.6cm的平面正方形狀的底面部13、及自該底面部13的四方外周緣朝表面側延設成緩慢地擴展的狀態的周壁部14，周壁部14的內周面是整個面形成為光反射面。周壁部14的開口端形成為縱3.2cm、橫3.5cm的平面長方形狀，自底面部13的內表面至連結部15的頂部為止的高度為1.6cm。進而，於凹部12的底面部13上橫跨表背面間而貫設有一邊為0.54cm的平面正方形狀的貫穿孔13a。
而且，以與上述相同的方式對100個光反射板進行熱成形，對經熱成形的光反射板的表面狀態分別進行目視，並根據以下的基準評價光反射板的成形性。於表1及表2中，「優」(excellent)、「良」(good)、及「不良」(bad)分別如下述般。
優：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了光澤不均、皸裂的光反射板未滿3個。
良：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了光澤不均、皸裂的光反射板為3個~10個。
不良：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了光澤不均、皸裂的光反射板超過10個。
再者，將藉由目視觀察而確認於熱成形後的光反射板表面上，局部地產生了光澤度的程度低的部分者評價為於熱成形後的光反射板表面上產生了「光澤不均」。另外，將於熱成形後的光反射板表面上，因由反射板內部所存在的水分等所引起的發泡，而產生了自光反射板表面膨出0.01mm以上的凸部、或者局部地產生了凹部、或者產生了龜裂者評價為於光反射板表面產生了「皸裂」。
(耐候性試驗)
自光反射板切出縱50mm×橫150mm的試驗片，依據JIS A1415(塑膠建築材料的促進暴露試驗方法)於下述條件下對該試驗片進行促進暴露試驗。
照射裝置：Suga Test Instruments公司製造 商品名「Sunshine Super Long-life Weather Meter WEL-SUN-HC．B型」
照射條件：背板溫度：60℃~70℃，噴霧器噴霧：無
試驗槽溫度：45℃~55℃，相對濕度：10%~30%
(光線反射率)
於實例1~實例24及比較例1~比較例12的光反射板 中，以下述要領測定進行上述促進暴露試驗之前、進行上述促進暴露試驗500小時之後、及進行上述促進暴露試驗1000小時之後的試驗片的光線反射率。再者，準備30個試驗片，將各試驗片的光線反射率的算術平均值作為光線反射率。另外，光線反射率的測定是對試驗片的經鏡面加工處理的面進行。
於實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板中，以下述要領測定進行上述促進暴露試驗之前、及進行上述促進暴露試驗1000小時之後的試驗片的光線反射率。再者，準備30個試驗片，將各試驗片的光線反射率的算術平均值作為光線反射率。另外，光線反射率的測定是對試驗片的凹凸面進行。
試驗片的光線反射率是指依據JIS K7105中所記載的測定法B於8°的射入條件下進行全反射光測定時的波長550nm的光線反射率，且是以將使用硫酸鋇板作為標準反射板時的光線反射率設為100時的絕對值來表示者。
具體而言，可將自島津製作所公司以商品名「UV-2450」所銷售的紫外可見分光光度計、及自島津製作所公司以商品名「ISR-2200」所銷售的積分球附屬裝置(內徑：φ60mm)加以組合來測定試驗片的光線反射率。
(表面均勻性)
針對實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板，以下述要領評價表面均勻性。具體而言，對光反射板的凹凸面進行目視觀察，確認於光反射板中是否產生了 凸部或貫穿兩面間的貫穿孔。
進而，於光反射板的凹凸面的任意的部分特別指定一邊為64cm的平面正方形狀的測定部D。如圖5所示般，於將測定部D中的相互相向的邊的中間點彼此加以連結的直線上，每隔8cm的間隔規定測定點E，並依據JIS K7105中所記載的測定法B於0°的射入條件下測定各測定點E處的擴散反射率。
於表3中，「優」(excellent)、「良」(good)、及「不良」(bad)分別如下述般。
優：於光反射板中形成有貫穿其兩面間的貫穿孔及凸部的部位為0個部位、且所有測定點E的擴散反射率中的最大值與最小值的差為0.2%以下。
不良：於光反射板中形成有貫穿其兩面間的貫穿孔及凸部的部位超過3個、或者所有測定點E的擴散反射率中的最大值與最小值的差為0.4%以上。
將「優」及「不良」以外的光反射板評價為「良」。
再者，所謂形成於光反射板中的凸部，是指因由光反射板內部所存在的水分等所引起的發泡，而自光反射板的凹凸面的最大的凸部的頂點膨出0.03mm以上的凸部。
所有測定點的擴散反射率中的最大值與最小值的差大表示於光反射板的凹凸面上未均勻地形成凹凸、或者於光反射板中形成有厚度偏差或貫穿兩面間的貫穿孔。
(成形性)
將實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射 板切出成一邊為64cm的平面正方形狀，以使其表面成為170℃的方式利用350℃的加熱爐進行加熱後，於去除了四方外周緣部的部分，藉由對模成形而使逆四角錐台狀的凹部12、12…自凹凸面(表面)朝與該面相向的面(背面)膨出成形，然後自規定部位進行切斷，藉此進行光反射板的熱成形。如上述般進行了熱成形的光反射板於大致整個面上縱橫地連續形成有96個凹部12、12…，且具有縱42cm、橫29.7cm的平面長方形狀(A3尺寸)。再者，凹部12、12…於長邊方向上形成有12個，於短邊方向上形成有8個。
所獲得的光反射板10的凹部12包含一邊為0.6cm的平面正方形狀的底面部13、及自該底面部13的四方外周緣朝表面側延設成緩慢地擴展的狀態的周壁部14，周壁部14的內周面是整個面形成為光反射面。另外，相互鄰接的凹部12、12彼此是於其等的開口端緣，經由形成為格子狀的連結部15而一體地形成。周壁部14的開口端形成為縱3.2cm、橫3.5cm的平面長方形狀，自底面部13的內表面至連結部15的頂部為止的高度為1.6cm。進而，於凹部12的底面部13上橫跨表背面間而貫設有一邊為0.54cm的平面正方形狀的貫穿孔13a。
而且，以與上述相同的方式對100個光反射板進行熱成形，對經熱成形的光反射板的表面狀態分別進行目視，並根據以下的基準評價光反射板的成形性。於表3中，「優」(excellent)、「良」(good)、及「不良」(bad)分別如下 述般。
優：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了皸裂的光反射板未滿3個。
良：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了皸裂的光反射板為3個~10個。
不良：100個經熱成形的光反射板之中，表面產生了皸裂的光反射板超過10個。
再者，將於熱成形後的光反射板表面上，因由反射板內部所存在的水分等所引起的發泡，而產生了自光反射板的凹凸面的最大的凸部的頂點膨出0.03mm以上的凸部、或者局部地產生了凹部、或者產生了龜裂者評價為於光反射板表面產生了「皸裂」。
(光反射板的凹凸面的評價)
針對實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板的凹凸面，以上述要領測定表面粗糙度Ra、凹凸的平均間隔Sm及凹凸面的最大高度(Ry)。
將以上述要領對實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板進行熱成形而獲得的光反射板中的凹部12的周壁部14任意地切出3個部位，而製作3個梯形狀的試驗片。測定各試驗片的凹凸面的表面粗糙度Ra，將試驗片的表面粗糙度Ra的算術平均值作為光反射板的表面粗糙度Ra。測定各試驗片的凹凸面的凹凸的平均間隔Sm，將試驗片的凹凸的平均間隔Sm的算術平均值作為光反射板的凹凸的平均間隔Sm。測定各試驗片的凹凸面的 凹凸的最大高度(Ry)，將試驗片的凹凸面的最大高度(Ry)的算術平均值作為光反射板的凹凸面的最大高度(Ry)。測定各試驗片的光線反射率，將試驗片的光線反射率的算術平均值作為光反射板的光線反射率。
針對實例1~實例24及比較例1~比較例12的光反射板的經鏡面加工處理的面，以上述要領測定表面粗糙度Ra、凹凸的平均間隔Sm及凹凸面的最大高度(Ry)。於實例1~實例24及比較例1~比較例12的所有光反射板中，表面粗糙度Ra為0.4μm，凹凸的平均間隔Sm為1μm，凹凸面的最大高度(Ry)為1μm。
(平均亮度)
針對實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板，以下述要領對按照上述要領進行熱成形之前的光反射板的凹凸面測定平均亮度。具體而言，對將實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板用作液晶顯示裝置的光反射板時的液晶畫面的亮度進行評價。準備由DELL公司所銷售的液晶畫面的大小為12.1吋的筆記型個人電腦(商品名「Latitude LS H400ST」)。卸除個人電腦的背光源的反射膜，使用實例或比較例中所獲得的光反射板來代替該反射膜。使用亮度計(Topcon Technohouse公司製造商品名「BM-7」)，自在相對於液晶畫面正交的方向上與液晶畫面的對角線的交點相距500mm的位置測定亮度。
(擴散反射率)
針對實例25~實例36及比較例13~比較例19的光反射板，依據JIS K7105中所記載的測定法B，於0°的射入條件下對以上述要領進行熱成形之前後的光反射板的凹凸面進行測定。熱成形後的擴散反射率是對光反射板中的凹部12的周壁部14的凹凸面進行測定。
根據表1及表2可知，本發明的光反射板與比較例的光反射板相比，光線反射率提昇了0.3%~0.4%，而具有優異的光反射性能。例如，當將本發明的光反射板用於液晶顯示裝置的背光源時，射入至導光板內的光於導光板的表背面與光反射板之間反覆反射後朝導光板的表面側，即液晶面板側導出，但導光板的表背面與光反射板之間的光的反射實際上反覆進行了幾萬次。因此，本發明的光反射板與比較例相比，光線反射率提高了0.3%~0.4%左右，但如上所述，因光的反射於反覆進行了幾萬次後到達液晶面板，故光反射板的光線反射率的0.3%~0.4%的差於液晶面板的亮度中表現為極大的差。因此，藉由將本發明的光反射板用於背光單元，可大幅度地提昇液晶顯示裝置的亮度。
[產業上之可利用性]
本發明的光反射板例如可組裝入構成文字處理機、個人電腦、行動電話、導航系統、電視機、攜帶型電視機等液晶顯示裝置的背光單元，照明箱之類的面發光系統的照明器的背光源，防撞(strobe)照明器，影印機，投影儀方式的顯示器，傳真機，電子黑板等的照明裝置內來使用。
10‧‧‧光反射板
12‧‧‧凹部
13‧‧‧底面部
13a‧‧‧貫穿孔
14‧‧‧周壁部
15‧‧‧連結部
20‧‧‧光擴散層
21‧‧‧透光性粒子
30‧‧‧導光板
40‧‧‧發光光源
50‧‧‧燈反射器
60‧‧‧框體
61‧‧‧框體的底面部
62‧‧‧框體的周壁部
62a‧‧‧框體的段部
70‧‧‧光源體
71‧‧‧基板
80‧‧‧光學片
B‧‧‧照明裝置
C‧‧‧照明體
D‧‧‧測定部
E‧‧‧測定點
L‧‧‧發光二極體
圖1是可較佳地使用本發明的光反射板的液晶顯示裝置的背光單元的示意圖。
圖2是經熱成形的本發明的光反射板的立體圖。
圖3是經熱成形的本發明的光反射板的縱剖面圖。
圖4是使用經熱成形的本發明的光反射板的照明裝置的縱剖面圖。
圖5是表示擴散反射率的測定點的平面圖。
10‧‧‧光反射板
12‧‧‧凹部
13‧‧‧凹部的內底面
13a‧‧‧貫穿孔
14‧‧‧內周面
15‧‧‧連結部

Claims (6)

  1. 一種光反射板，其特徵在於包括：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗布氧化鈦的表面而形成，且含水率為0.5wt%以下，其至少一面形成為凹凸面，上述凹凸面的表面粗糙度Ra為1μm~20μm且凹凸的平均間隔Sm為5μm~300μm。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光反射板，其中聚烯烴系樹脂包含聚丙烯系樹脂。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光反射板，其中聚烯烴系樹脂包含均聚聚丙烯。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光反射板，其中光反射板的厚度為0.1mm~1.5mm。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光反射板，其中凹凸面的最大高度Ry為5μm~80μm。
  6. 一種光反射板的製造方法，其特徵在於包括：將一光反射板形成用樹脂組成物供給至擠出機中進行熔融混煉後自擠出機中擠出的步驟，其中該光反射板形成用樹脂組成物包含：聚烯烴系樹脂100重量份；以及塗層氧化鈦20重量份~120重量份，其是利用含有鋁氧化物及矽氧化物的塗層塗層氧化鈦的表面而形成、且含 水率為0.5wt%以下，製造其至少一面形成為凹凸面的光反射板，且上述凹凸面的表面粗糙度Ra為1μm~20μm且凹凸的平均間隔Sm為5μm~300μm。
TW101105311A 2011-02-21 2012-02-17 光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法 TWI554400B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011035077 2011-02-21
JP2011192018 2011-09-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201238756A TW201238756A (en) 2012-10-01
TWI554400B true TWI554400B (zh) 2016-10-21

Family

ID=46720679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101105311A TWI554400B (zh) 2011-02-21 2012-02-17 光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TWI554400B (zh)
WO (1) WO2012114895A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014021476A1 (ja) * 2012-08-03 2014-02-06 帝人デュポンフィルム株式会社 白色反射性フィルム
JP6115749B2 (ja) * 2012-10-12 2017-04-19 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光反射シート用ポリプロピレン系樹脂組成物とそれを用いた光反射シート
JP6168291B2 (ja) * 2013-07-04 2017-07-26 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光学部材、照明装置、および光学部材の製造方法
JP2015175976A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光線反射樹脂組成物
US20170222095A1 (en) * 2014-08-06 2017-08-03 Ns Materials Inc. Resin molded product and manufacturing method thereof, and wavelength conversion member and illumination member

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040125603A1 (en) * 2002-12-30 2004-07-01 Ferro Corporation Light reflecting polymeric compositions
US20070218293A1 (en) * 2004-09-15 2007-09-20 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Light-reflecting sheet and shaped article thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH083035B2 (ja) * 1987-04-23 1996-01-17 コニカ株式会社 ポリエステル樹脂組成物の製造方法
US20090068402A1 (en) * 2005-04-19 2009-03-12 Kenichi Yoshida Foamed Sheet for Reflector, Reflector, and Method for Producing Foamed Sheet for Reflector
JP2010066512A (ja) * 2008-09-10 2010-03-25 Sekisui Plastics Co Ltd 光反射板及び光反射積層板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040125603A1 (en) * 2002-12-30 2004-07-01 Ferro Corporation Light reflecting polymeric compositions
US20070218293A1 (en) * 2004-09-15 2007-09-20 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Light-reflecting sheet and shaped article thereof

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012114895A1 (ja) 2012-08-30
TW201238756A (en) 2012-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI490119B (zh) 光反射板
JP6355204B2 (ja) 液晶ディスプレイのエッジライト型バックライト用白色反射フィルム及びそれを用いたバックライト
TWI554400B (zh) 光反射板、光反射板形成用樹脂組成物及光反射板的製造方法
TW527507B (en) White film for surface light source
JP2008203877A (ja) 光反射体
TW200829962A (en) White polyester film for light reflecting plate
WO2007007852A1 (ja) 発泡樹脂シートおよび液晶表示装置
TWI662333B (zh) 反射片、面光源裝置用反射單元及面光源裝置
JP2010066512A (ja) 光反射板及び光反射積層板
JP5464997B2 (ja) 光反射体及び面光源装置
JP4067814B2 (ja) 光拡散シート
WO2016204234A1 (ja) 反射フィルムおよび面光源装置用反射ユニット
JP2003176367A (ja) 光反射体
JP2012048015A (ja) 反射シート
JP2013076738A (ja) 光反射成形体の製造方法及び金型
JP7074420B2 (ja) 白色樹脂組成物、及びそれからなる白色成形体と白色積層体
JP2010099878A (ja) ポリエステルフィルムならびにそれを用いた液晶ディスプレイ用バックライトおよび太陽電池用
KR101640270B1 (ko) 광 반사체 및 면광원 장치
JP2009244749A (ja) 光反射板
JP4049659B2 (ja) 光反射体
JP2006330546A (ja) 直下型バックライト用光拡散板
JP2004109990A (ja) 光反射体
JP2011075931A (ja) 光反射板及び光反射積層板
JP2010237325A (ja) 光反射板
JP2013232406A (ja) 白色フィルム並びにそれを用いてなるランプユニット液晶表示装置および照明装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees