TWI547755B - A photosensitive resin composition, and a hard coat film and an antireflection film using the same - Google Patents

Description

感光性樹脂組成物及使用該組成物之硬質塗層膜與防反射薄膜

本發明係關於高折射率及防帶靜電機能優良的感光性樹脂組成物及使用該樹脂組成物之硬質塗層膜與防反射薄膜。

防止因外來光線反射所造成之對比度降低和影像映入的防反射薄膜或防反射膜，近年被使用於各式各樣的用途。其代表的使用例為等離子體平面面板(PDP)和液晶顯示裝置(LCD)般之影像顯示裝置之最表面防止外來光線反射時所用的防反射膜。被應用於此類用途的防反射膜，被要求防帶靜電性、表面硬度、低反射率、高耐擦性、防污性等。

對於此些要求，經由將作為防反射薄膜等之原料的樹脂組成物的組成加以改良，令其發揮所欲之特性。例如，於特開2002-283509號公報中，揭示於防反射用薄膜中，由導電層含有導電性無機粒子的導電層、與主鏈中含有乙烯醚構造之含氟系共聚物所構成之樹脂層所形成的層合薄膜(專利文獻1)。

又，於特開2006-188588號公報中，揭示於具有防帶靜電機能之防反射薄膜中，使用導電性金屬氧化物和透明性金屬氧化物二種金屬氧化物之高折射率層或硬質塗層所用的感光性樹脂組成物(專利文獻2)。

又，於特開2003-137912號公報中，揭示由聚合性單體和半導體超微粒子所構成之聚合性液體組成物、交聯樹脂組成物(專利文獻3)。

[專利文獻1]特開2002-283509號公報

[專利文獻2]特開2006-188588號公報

[專利文獻3]特開2003-137912號公報

使用ITO和ATO表現導電層之導電性，作成高折射率之情形，發生導電層著色且穿透率降低的問題。又，使用其他之金屬氧化物，表現導電性上，必須大量添加，對於硬度等之其他特性造成影響。具體而言若金屬氧化物變多則黏合劑(樹脂)的份量相對變少，對於硬化組成物本身的強度(易發生裂痕)、耐擦傷性等造成影響。又，若金屬氧化物的份量超過80%，則霧值上升(穿透率降低)。

又，將通常的樹脂作成黏合劑時，因樹脂單體之表面電阻高，故金屬氧化物的表面電阻值若為10³ Ω/□以下，則難以取得充分的防帶靜電特性。此時，使用高導電性、透明性較高之銻酸鋅的案例多，於高折射率上必須添加75%以上。

更且，銻化合物為環境負荷物質，故使用受到限制。

更且，又，使用半導體微粒子等之透明性氧化物時，若添加指定量則可表現高折射率、透明性，另一方面，該氧化物因粒子單獨的表面電阻值不低，故無法發揮充分的防帶靜電機能。

一般，若為了提高防帶靜電性而增加ITO和ATO等導電性金屬氧化物的添加量，雖然防帶靜電效果提高，但折射率和透明性變差。又，若為了提高折射率而增多ZnO和TiO₂ 等透明金屬氧化物的添加量，雖然折射率提高，但防帶靜電特性變差。因此，期望對於防帶靜電特性、高折射率、透明性任一者均具有優良特性的硬質塗層膜和防反射薄膜。

因此，本發明為以提供形成硬化膜時具有充分的防帶靜電特性、高折射率及透明性，不使用環境負荷物質，適於等離子體平面面板(PDP)和液晶顯示裝置(LCD)等之影像顯示裝置之硬質塗層和高折射率層的感光性樹脂組成物及使用該樹脂組成物之硬質塗層膜及防反射薄膜為其目的。

本發明者為對於繼續維持優良之防帶靜電特性，並達成高折射率、高透明性之感光性樹脂組成物的組成，進行各種檢討時，發現經由使用導電性輔助劑，則可於導電性金屬氧化物之間發揮相乘效果。本發明為根據此類發現，提供至少含有，具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物、和具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體、和金屬氧化物、和光聚合起始劑的感光性樹脂組成物。

經由使用具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體作為導電性輔助劑，則可令本發明之感光性樹脂組成物所形成的硬化被膜，依舊維持高導電性、穿透率，成為高折射率。又，於該被膜上塗佈低折射率樹脂並且令其硬化，則可抑制低反射率。

若根據本發明之感光性樹脂組成物，則可使用表面電阻率10³ Ω/□以上之透明金屬氧化物作為防帶靜電劑，且穿透率及折射率亦比先前之感光性樹脂組成物優良。因此，形成硬化膜時具有充分的防帶靜電特性、高折射率及透明性，適於影像顯示裝置之硬質塗層和高折射率層的硬質塗層膜和適於防反射薄膜之製造。又，因為未使用環境負荷物質，故由環境之觀點而言亦佳。

其次，說明關於本發明之實施形態。以下之實施形態為用以說明本發明之例示，本發明並非僅限定於此實施形態之主旨。本發明只要不超脫其要旨，則可以各式各樣之形態實施。

本實施形態之感光性樹脂組成物為含有具有3個以上(甲基)丙烯醯基的光硬化性化合物。經由使用前述具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物，則可取得表面硬度高(具有硬塗性)的硬化膜。

作為前述具有三個以上(甲基)丙烯醯基的光硬化性化合物，例如，以(甲基)丙烯酸酯系單體為適於使用。作為(甲基)丙烯酸酯系單體之較佳例，可列舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基)丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。

更且，與前述具有三個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物併用，使用具有2個(甲基)丙烯醯基且具有醚鏈之自由基系的感光性單體亦可。此時，樹脂組成物形成硬化膜時，可期待醚鍵為輔助性提高硬化膜之電子傳導性的效果。

作為前述具有2個(甲基)丙烯醯基且具有醚鏈之自由基系感光性單體的較佳例，可例舉三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、雙酚A之EO改性(甲基)二丙烯酸酯等之EO改性化合物。

前述光硬化性化合物為具有6個以上之官能基為佳。前述光硬化性化合物為具有6個以上之官能基，可取得表面硬度更高的硬化膜。

即，本實施形態之感光性樹脂組成物所用的光硬化性化合物，其(甲基)丙烯醯基之官能基最低為3個。又，官能基之合計為6個以上為佳。此時，作為其他之官能基，可使用乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基，可單獨、或者併用亦可。官能基全部為(甲基)丙烯醯基時，有乙烯基與(甲基)丙烯醯基、乙烯基與烯丙基與(甲基)丙烯醯基、烯丙基與(甲基)丙烯醯基之組合的情形。

前述具有6個以上官能基之光硬化性化合物具體而言可列舉例如，下述式(1)所示之多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯。

上述式中，A為表示2官能以上之(甲基)丙烯酸酯部分，I為表示異氰酸酯殘基。此處，所謂「異氰酸酯殘基」，係指反應後之異氰酸酯化合物，本實施形態所使用之異氰酸酯為多價異氰酸酯。

相對於前述金屬氧化物、前述光硬化性化合物、前述感光性單體之固形成分的合計量100wt%，前述具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物之含量為5~60wt%為佳，且以20~50wt%為更佳。前述具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物的含量為此類範圍，則可提高膜強度，表現充分的防帶靜電能力。加上，亦可達成高折射率化。

本實施形態之感光性樹脂組成物為含有具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體，作為導電性輔助劑。使用此類感光性單體，則可使用先前無法使用之表面電阻值高的金屬氧化物，可提高硬化膜的導電性。

前述具有聚合性官能基及聚醚鏈的感光性單體，以具有至少一個光陽離子聚合性官能基之光陽離子聚合性單體、或具有至少一個光陰離子聚合性官能基之光陰離子聚合性單體為佳。本實施例中，使用光陽離子聚合性單體。如此，可提高暗反應的反應性，可抑制來自自由基單體之氧阻礙所造成的硬化不良。又，於照射UV光後亦進行反應(暗反應)，加上提高自由基系材料的反應率，且結果提高膜強度。

前述聚醚鏈為於前述感光性單體之一單位中含有3個以上為佳。經由前述聚醚鏈為於前述感光性單體之一單位中含有3個以上，則可表現來自醚鏈的質子傳導。另外，所謂「具有聚醚鏈」，係意指於骨架中具有環氧乙烷鏈(CH₂ CH₂ O)。

前述聚合性官能基為於前述感光性單體之一單位中含有2個以上為佳。經由前述聚合性官能基為於前述感光性單體之一單位中含有2個以上，則令聚合反應為以三次元交聯，提高硬化性。

作為前述聚合性官能基，例如，以具有環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基的光陽離子聚合性官能基為佳，更佳為具有乙烯基的光陽離子聚合性官能基。其理由係因乙烯基可與(甲基)丙烯醯基反應，可以光自由基起始劑開始反應，且可期待與光自由基系樹脂的反應。

作為上述具有乙烯基及醚鏈之光陽離子聚合性單體，可列舉例如，下述式(2)所示之乙烯醚化合物。

上述式中，R₁ 為表示H、烷基鏈或乙烯基，B為表示乙烯基。又，n為3以上之整數。

使用此類具有EO鏈(CH₂ C(R₁ )₂ O)的乙烯醚化合物，則可提高與極性高之樹脂，具體而言與具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物，更具體而言與多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯等樹脂的相溶性。又，前述乙烯醚化合物為低黏度，故亦可利用作為反應性稀釋劑。由於以上之特性，前述乙烯醚化合物於樹脂組成物內可維持良好的分散狀態，並於硬化後之感光性樹脂組成物中可形成緻密的導電性網路。

又，陽離子系乙烯醚化合物與基材的密黏性優良。以陽離子系之乙烯基為較佳之理由，係經由多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯之未反應官能基與該陽離子系之乙烯基的暗反應而促進未反應官能基的反應。

更且，若金屬氧化物的份量變多，一般產生基材的密黏性降低，經由使用陽離子系乙烯醚化合物，則可緩慢進行反應。認為如此則不會發生硬化時所產生的硬化收縮，可抑制與基材之密黏性降低。

更且，經由促進未反應官能基的反應，表面硬化性、耐藥品性亦提高。

又，使用吸收紫外線之金屬氧化物(例如鎵摻混氧化鋅)時，由於下列理由以使用以陽離子系之硬化機構進行的陽離子系乙烯醚化合物為佳。

若根據自由基系之硬化機構，則經由照射紫外線而開始反應(以後，稱為起始反應)，其後之反應(以下，稱為成長反應)為受到起始反應所影響。相對地，陽離子系之硬化機構亦同自由基系之硬化機構經由照射紫外線而開始反應，但其後之成長反應即使未照射紫外線，亦於加熱下繼續進行反應。因此，使用吸收紫外線之金屬氧化物(例如鎵摻混氧化鋅)時，以陽離子系硬化機構較有效率且不會滿遍進行硬化。

圖1為用以說明具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體的導電性機構圖。於具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體的醚骨架部分，於系統內發生質子(H⁺ )，該質子(H⁺ )為於鄰接之聚醚間(圖中之框內)移動，表現出質子傳導。圖1中，(+)為表示質子，(-)為表示經由質子脫離所發生的電子或非共有電子對。又，R₁ 為表示伸烷基鏈(亞乙基、伸乙基鏈等)。

前述具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體的含量，相對於前述金屬氧化物、前述光硬化性化合物、前述感光性單體之固形成分的合計量100wt%，以5~15wt%為佳。令前述具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體含量為此類範圍，則可形成充分的導電性網路，可提高防帶靜電性能。

本實施形態之感光性樹脂組成物，為了賦予防帶靜電性而含有金屬氧化物。因為金屬氧化物本身具有阻擋UV能力，故於感光性樹脂組成物使用金屬氧化物，則可賦予阻擋UV(阻擋360nm以下)、耐光性、改善因太陽光照射所造成的硬化膜惡化。其結果，於感光性樹脂組成物不必使用UV吸收劑。

作為前述金屬氧化物，以至少含有銻酸鋅、氧化錫摻混氧化銦(ITO)、銻摻混氧化錫(ATO)、五氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋅、鋁摻混氧化鋅、鎵摻混氧化鋅所組成群中選出一種以上為佳。特別，以金屬氧化物為鎵摻混氧化鋅時，因為具有阻擋熱線之機能，因亦可賦予本領域所要求的阻擋紅外線機能。

前述金屬氧化物，由透明性之觀點而言，其平均初級粒子為0.001~0.2μm之粒子為佳，且以0.005~0.001μm為更佳。平均粒子為此類範圍，則可防止粒子凝集於未然，並且可防止霧值上升的問題。

前述金屬氧化物之含量，由賦予導電性、高折射率化之觀點而言，相對於前述金屬氧化物、前述光硬化性化合物、前述感光性單體之固形成分的合計量100wt%，以20~75wt%為佳。

本實施形態之感光性樹脂組成物為含有光聚合起始劑。前述光聚合起始劑可使用自由基系、陽離子系、陰離子系之聚合起始劑。

作為前述自由基系之光聚合起始劑的較佳例，可例舉例如，苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、二乙氧基乙醯苯、苄基二甲基縮酮、2-羥基-2,2-甲基苯基丙酮、1-羥基環己基苯基酮、二苯酮、2,4,6-三甲基苯偶姻二硫苯氧化物、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉苯基)-丁烷-1-酮、蜜蚩酮、N,N-二甲胺基苯甲酸異戊酯、2-氯化噻烷酮、2,4-二乙基噻烷酮等。此些聚合起始劑可單獨一種、或混合使用二種以上。

前述自由基系聚合起始劑之添加量為根據其種類，所使用之光硬化性化合物種類及份量比，使用條件等而異，於感光性樹脂組成物中之光硬化性化合物100wt%時，為0.5~10wt%。

作為前述陽離子系聚合起始劑之較佳例，可列舉例如，鋶鹽、銨鹽等以外，可為二芳基碘鎓鹽、三芳基鋶鹽等。又，陽離子系聚合起始劑亦可使用市售品。市售品之代表例可列舉商品名CI-1370、CI-2064、CI-2397、CI-2624、CI-2639、CI-2734、CI-2758、CI-2823、CI-2855及CI-5102下之可取得的市售品(均為日本曹達公司製)、商品名PHOTOINITIATOR2047下之可取得的市售品(Rodia公司製)，商品名UVI-6974及UVI-6990下之可取得的市售品(均為Union Cabite公司製)等。此些聚合起始劑可單獨一種、或混合使用二種以上。

陽離子聚合起始劑之添加量為根據其種類、所使用之光陽離子聚合性單體種類及份量比、使用條件等而異，於感光性樹脂組成物中之光陽離子聚合性單體100wt%時，為0.5~10wt%。

作為前述陰離子系聚合起始劑之較佳例，可例示例如，鹼金屬或有機鹼金屬，且鹼金屬可例示鋰、鈉、鉀、銫、鈉-鉀合金等，有機鹼金屬可使用上述鹼金屬的烷基化物、烯丙基化物、芳基化物等，具體而言，可列舉乙基鋰、正丁基鋰、第二丁基鋰、第三丁基鋰、乙基鈉、聯苯鋰、萘基鋰、三苯基鋰、萘基鈉、萘基鉀、α-甲基苯乙烯鈉二陰離子、1,1-二苯基己基鋰、1,1-二苯基-3-甲基戊基鋰、1,1-二苯基甲基鉀、1,4-二鋰基-2-丁烯、1,6-二鋰基己烷、聚苯乙烯鋰、枯基鉀、枯基銫、卡巴肼鉀等。此些聚合起始劑可為單獨一種、或混合使用二種以上。

陰離子聚合起始劑之添加量為根據其種類，所使用之光陰離子聚合性單體種類及份量比、使用條件等而異，於感光性樹脂組成物中之光陰離子聚合性單體100wt%時，為0.5~10wt%。

本實施形態之感光性樹脂組成物為存在光自由基系樹脂之具有3個以上(甲基)丙烯醯基的光硬化性化合物、和光陽離子聚合性單體或光陰離子聚合性單體之具有聚合性官能基及聚醚鏈的感光性單體。因此，光聚合起始劑為根據前述化合物、前述單體之種類，適當選擇併用自由基系與陽離子系或陰離子系之聚合起始劑為佳。

又，經由併用自由基系與陽離子系或陰離子系之聚合起始劑，則可取得反應速度快、不受到濕度影響之光自由基反應的優點，及不受到氧阻礙、具有暗反應性、硬化收縮少之光陽離子/光陰離子反應的優點。例如，反應初期為進行光自由基反應，其後可以陽離子系或陰離子系以暗反應進行反應。

又，關於反應所得之硬化膜，亦以併用光自由基反應與光陽離子或光陰離子反應所得之硬化膜，因殘存離子故可期待提高導電性。

為了提高上述光聚合起始劑之效率，亦可使用增感劑、胺系添加劑、硫醇系硬化促進劑。特別以硫醇系硬化促進劑於少量添加下可減低氧阻礙，且可形成硬化性高之皮膜，故為佳。

本實施形態之感光性樹脂組成物，由金屬氧化物與樹脂之分散性的觀點而言，可添加有機溶劑。作為前述有機溶劑之較佳例，可列舉甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等之醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等之酮類；2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚等之醚類；2-甲基乙基醋酸酯、2-乙氧乙基醋酸酯、2-丁氧乙基醋酸酯等之醚酯類；甲苯、二甲苯等之芳香族烴類；醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯等之酯類；等。

有機溶劑之添加量為根據感光性樹脂組成物之使用條件(例如，塗佈時之濃度條件)而適當設定。具體而言，相對於光硬化性化合物、感光性單體、金屬氧化物之固形成分的合計量100wt%，為10~9900wt%。

本實施形態之感光性樹脂組成物為於基材上塗佈後，經由光聚合硬化，形成硬質塗層及/或防帶靜電高折射率層。更且，經由在前述硬質塗層膜或防帶靜電高折射率層上形成低折射率層，則可形成2層構造型式或3層構造型式的防反射薄膜。防反射薄膜可應用於等離子體平面面板(PDP)和液晶顯示裝置(LCD)般之影像顯示裝置。

圖2為用以說明令含有表面電阻率為10³ Ω/□以上之金屬氧化物的感光性樹脂組成物硬化，形成硬質塗層膜時之導電性機制圖。圖2(A)為先前例之硬質塗層膜的模式圖，圖2(B)為本實施形態之硬質塗層膜的模式圖。

如圖2(A)所示般，未配合導電性輔助劑之具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體之先前的硬質塗層膜，僅於黏合劑(絕緣體)10中存在表面電阻率為10³ Ω/□以上之金屬氧化物12，其導電性(EC)變弱。

另一方面，如圖2(B)所示般，配合導電性輔助劑之具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體14狀態的硬質塗層膜，因於黏合劑(絕緣體)10中存在乙烯醚鏈，故易發生質子16。其結果，比圖2(A)之硬質塗層膜，導電性(EC)更強。另外，於圖2(B)中，(+)為表示質子16，(-)為表示經由質子脫離所發生的電子或非共有電子對18。

又，經由質子16移動而表現導電性(EC)，即使添加表面電阻率為10³ Ω/□以上之金屬氧化物12，亦可表現本領域所要求之防帶靜電特性。

[實施例]

以下，根據實施例進一步詳細說明本發明，但本發明不被此些實施例所限定。不僅下列所示之實施例，業者可加以各式各樣的變更而實施，此類變更亦被包含於本專利之申請範圍。

1.感光性樹脂組成物之調製

以表1所示之組成調製實施例及比較例之感光性樹脂組成物。首先，於金屬氧化物(A、B、C)中添加光硬化性化合物之多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯(D)和感光性單體之乙烯醚化合物(E)，並於加入有機溶劑(H)攪拌後，添加光聚合起始劑(F，G)，並且經由攪拌取得所欲之感光性樹脂組成物。

C：ATO(觸媒化成工業公司製)

D：UV-7605B(多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯)(日本合成化學工業公司製)

E：TEGVE：(三乙二醇二乙烯醚)(日本Cabite工業公司製)

F：光自由基聚合起始劑：2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮(Ciba Specialty Chemicals公司製)

G：光陽離子聚合起始劑：TS-91(三和Chemical公司製)

H：MIBK(甲基異丁基酮)(關東化學公司製)

2.薄膜之製作

(1)防帶靜電硬質塗層膜之製作

使用上述之感光性樹脂組成物作成防帶靜電硬質塗層膜。使用棒塗器，將上述之感光性樹脂組成物塗佈於易接黏附著的PET上。其次，於80℃之乾燥爐中乾燥1分鐘後，於空氣氛圍氣中，以積算光量為400mJ/cm² 般照射紫外線，令感光性樹脂組成物硬化，取得基材上具有3μm被膜的防帶靜電硬質塗層膜(折射率：1.75)。

(2)2層構造所構成之防反射薄膜的製作

使用棒塗器，將實施例2之感光性樹脂組成物以膜厚1μm般於易接黏附著的PET上塗佈，並於其上塗佈DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)和低折射率金屬氧化物分散液(MIBK分散氟化鎂)、光聚合起始劑、有機溶劑之組成所構成的低折射率用樹脂組成物。其次，於80℃之乾燥爐中乾燥1分鐘後，於氮氛圍氣中，以積算光量為400mJ/cm² 般照射紫外線、硬化，形成0.1μm之被膜。如此，取得於基材上形成防帶靜電硬質塗層(折射率：1.75)及低折射率層(折射率：1.43)之2層構造所構成的防反射薄膜。另外，即使使用其他實施例之感光性樹脂組成物，亦可同樣製造防反射薄膜。

(3)3層構造所構成之防反射薄膜的製作

將DPHA、光聚合起始劑、有機溶劑所構成組成之硬質塗層膜組成物使用棒塗器，於易接黏PET上以膜厚為3μm般塗佈，於80℃之乾燥爐中乾燥1分鐘後，於空氣氛圍氣中，以積算光量為400mJ/cm² 般照射紫外線，將硬質塗層膜組成物硬化，取得具有3μm被膜的硬質塗層膜。於其上將實施例2之感光性樹脂組成物以棒塗器塗佈，於80℃之乾燥爐中乾燥1分鐘後，於空氣氛圍氣中，以積算光量為400mJ/cm² 般照射紫外線，經由硬化，取得具有0.1μm被膜之高折射率防帶靜電層。更且，將DPHA與低折射率金屬氧化物分散液(MIBK分散氟化鎂)、光聚合起始劑、有機溶劑之組成所構成的低折射率用樹脂組成物於高折射率防帶靜電層上塗佈，於80℃之乾燥爐中乾燥1分鐘後，於氮氛圍氣中，以積算光量為400mJ/cm² 般照射紫外線，形成0.1μm之被膜。如此，取得於基材上形成硬質塗層(折射率：1.51)、高折射率防帶靜電層(折射率：1.75)及低折射率層(折射率：1.43)之3層構造所構成的防反射薄膜。另外，即使使用其他實施例之感光性樹脂組成物，亦可同樣製造防反射薄膜。

3.評價試驗

以上述2(1)所得之防帶靜電硬質塗層膜作為樣品，對於下述項目進行評價試驗。

(1)全光線穿透率

使用濁度計(村上色彩研究所公司製Hazemeter HM-150)，測定。

(2)霧值

使用濁度計(村上色彩研究所公司製Hazemeter HM-150)，測定。

(3)以表面電阻計(東亞DKK公司製SME-8310)測定防帶靜電性(防塵埃附著)樣品之表面，並以10¹¹ Ω/□以下評價為具有防帶靜電性(具有防塵埃附著)。

(4)耐擦傷性

將硬化皮膜以鋼棉(日本Steelwool公司製，商品名：Bonster#0000)200g/cm² 擦拭10次，塗佈消光塗料，並以目視觀察有無損傷，根據下列基準進行評價。

○：損傷為3根以下

△：損傷為4根以上10根以下

×：損傷為10根以上

(5)鉛筆硬度

根據JIS K 5400評價。即，將鉛筆觸接硬化膜表面，並以1kg之荷重拉出5根線，經由觀察損傷是否到達基材進行評價。另外，損傷非為4根以上時，判定為OK。又，於表2中，記載此時的鉛筆硬度。

(6)密黏性

根據JIS K 5400測定。即，於硬化皮膜之表面以1mm間隔加以縱、橫11根之切痕作成100個棋盤格，並以賽珞玢膠帶密黏其表面後，表示一次性剝開時未剝離殘存的分格孔的個數。

(7)有無波長阻斷(紫外線阻斷、紅外線阻斷)

以分光光。譜測定器(日本High Technology公司製，U-4100)測定380nm以下之波長，觀測穿透率為5%以下之部分的波長。另外，本發明之評價中，所謂具有紫外線(UV)阻斷機能，係指360nm以下之波長穿透率為5%以下之情形，所謂具有紅外線(IR)阻斷機能，係指1600nm以上之波長(近紅外線)之穿透率為30%以下之情形。圖3為使用實施例2之感光性樹脂組成物所製造之防帶靜電硬質塗層膜之分光穿透光譜的一例。

(1)~(7)之評價試驗結果示於表2。

評價試驗之結果，判定使用實施例之感光性樹脂組成物所製造的防帶靜電硬質塗層膜為依舊維持高導電性、穿透率，且為高折射率。

另外，於先前之硬質塗層用樹脂組成物、高折射率用樹脂組成物中，因為添加勻塗劑，故與低折射率層的密黏性降低。相對地，本發明之感光性樹脂組成物因為不必要加入勻塗劑，故與低折射率層的密黏性變佳。

(8)反射率之測定

使用上述2(2)所得之2層構造的防反射薄膜及上述2(3)所得之3層構造的防反射薄膜，進行反射率之測定。具體而言，將防反射薄膜裏面以#400之砂紙磨粗後，塗佈消光的黑色塗料。其次，以反射率測定器(島津製作所公司製，裝置名：UV-3150)，測定視感平均反射率。其結果示於表3及圖4。另外，圖4為使用實施例2之感光性樹脂組成物所形成之2層構造之防反射薄膜的分光反射光譜。由此些表3及圖4之結果，確認使用實施例之感光性樹脂組成物所形成之2層構造的防反射薄膜及3層構造的防反射薄膜，可抑低反射率。

10．．．黏合劑(絕緣體)

12．．．表面電阻率為10³ Ω/□以上的金屬氧化物

14．．．具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體

16．．．質子

18．．．電子或非共有電子對

EC．．．導電性

圖1為用以說明具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體的導電性機制圖。

圖2為用以說明硬質塗層膜的導電性機制圖。

圖3為防帶靜電硬質塗層膜之分光穿透光譜的一例。

圖4為防帶靜電薄膜之分光反射光譜的一例。

10．．．黏合劑(絕緣體)

12．．．表面電阻率為10³ Ω/□以上的金屬氧化物

14．．．具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體

16．．．質子

18．．．電子或非共有電子對

EC．．．導電性

Claims (13)

1. 一種感光性樹脂組成物，其特徵為至少含有：具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物、和具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體、和金屬氧化物、和光聚合起始劑。
2. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體為光陽離子聚合性單體或光陰離子聚合性單體。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之感光性樹脂組成物，其中前述聚醚鏈為於前述感光性單體之一單位中含有3個以上。
4. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述聚合性官能基為於前述感光性單體之一單位中含有2個以上。
5. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述聚合性官能基為由環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基所組成群中選出之至少一種以上。
6. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述金屬氧化物為至少含有銻酸鋅、氧化錫摻混氧化銦(ITO)、銻摻混氧化錫(ATO)、五氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋅、鋁摻混氧化鋅、鎵摻混氧化鋅所組成群中選出一種以上。
7. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述光硬化性化合物為具有6個以上之官能基。
8. 如申請專利範圍第7項之感光性樹脂組成物，其中前述具有6個以上之官能基的光硬化性化合物為下述式(1)所示之多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯， (上述式中，A為表示2官能以上之(甲基)丙烯酸酯部分，I為表示異氰酸酯殘基)。
9. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中相對於前述金屬氧化物、前述光硬化性化合物、前述感光性單體之固形成分的合計量100wt%，前述具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物的含量為5~60wt%，前述具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體的含量為5~15wt%，前述金屬氧化物的含量為20~75wt%。
10. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述具有3個以上(甲基)丙烯醯基之光硬化性化合物為多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯，前述具有聚合性官能基及聚醚鏈之感光性單體為乙烯醚化合物，前述金屬氧化物為鎵摻混氧化鋅。
11. 一種硬質塗層膜，其特徵為於基材上形成如申請專利範圍第1項~第10項中任一項之感光性樹脂組成物。
12. 一種防反射薄膜，其特徵為於如申請專利範圍第11項之硬質塗層膜上，形成比前述硬質塗層膜之折射率具有更低折射率的低折射率層。
13. 一種防反射薄膜，其為具有基材、和於該基材上所形成之硬質塗層、和於該硬質塗層上所形成，比該硬質塗層之折射率具有更高折射率的高折射率層、和於高折射率層上所形成，比該高折射率層具有更低折射率的低折射率層的防反射薄膜，其特徵為前述高折射率層為由如申請專利範圍第1項~第10項中任一項之感光性樹脂組成物所形成。