TWI542289B

TWI542289B - 遮蔽構件及保護帽

Info

Publication number: TWI542289B
Application number: TW100127198A
Authority: TW
Inventors: 大熊亘; 中山文治; 田島紀孝
Original assignee: 綠安全股份有限公司
Priority date: 2010-07-30
Filing date: 2011-07-29
Publication date: 2016-07-21
Also published as: JPWO2012015035A1; WO2012015035A1; TW201208592A

Description

遮蔽構件及保護帽

本發明係關於一種覆蓋穿戴者顏面之遮蔽(shield)構件及設有此遮蔽構件之保護帽。

以往，在住宅的建築作業中，已知有一種保護作業者眼部(顏面上部)之附帶遮蔽(遮蔽板)的保護帽(頭盔(helmet))，以作為防範作業者因為打釘機釘子反彈而刺傷眼睛等事故的對策。以遮蔽板之安裝方式而言，雖有安裝於保護帽之帽體外部的方式、及以可收納自如之方式安裝於保護帽之帽體內部的方式，惟在外部安裝方式中，由於會有遮蔽板忘記設置或會造成作業的困擾，因此係以在不使用遮蔽板時可將遮蔽板收納於帽體內部的內部安裝方式受到歡迎。

以內部安裝方式之保護帽而言，可列舉專利文獻1、專利文獻2所記載的保護帽。

專利文獻1所記載的保護帽，係設為在吸收撞擊襯墊(liner)與內帽網(hammock)之間，配置由形成有3個引導孔之支撐板、及透過卡合構件以升降自如之方式設於上述引導孔之顏面保護板(遮蔽板)所構成的顏面保護板配件(assembly)，且使引導孔之下端部靠外側而中央位於下方，使支撐板撓曲而可3階段設定顏面保護板之位置調整之方式構成。

專利文獻2所記載之保護帽，係設置組裝在直線形狀導引(guide)孔之前遮蔽(front shield)板、及將一端以可與前遮蔽板轉動之方式組裝且另一端組裝於曲線(curve)形狀之導引孔之左右側邊(side)遮蔽板，當將前遮蔽板朝下方拉出時，形成左右側邊遮蔽板亦連動而朝前方斜下方拉出的構成。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2003-049316號公報

專利文獻2：日本特開2003-253519號公報

在上述具備習知之遮蔽板的保護帽中，雖係以遮蔽板來覆蓋穿戴者顏面上部(眼睛部位)或顏面側面，惟穿戴保護帽者之顏面的下半部分並未被覆蓋，而會露出穿戴者顏面的下半部分，使得顏面下半部分成為無防備狀態。

然而，在電氣機器之維修(maintenance)等中，會有極些微的機率從電氣機器產生火星之情形，而需以遮蔽板來覆蓋穿戴者顏面整體而加以保護。

因此，雖可考慮用以保護穿戴保護帽者顏面整體者，惟若只是單純保護顏面整體，會有撞上遮蔽板之飛來物在遮蔽板反彈，而使該反彈物撞上穿戴者頸部(連結頭與身體的部分)之虞。

本發明係有鑑於前述問題而研創者，其目的在提供一種遮蔽板及保護帽，該保護帽係具備用以覆蓋穿戴者顏面大致整體的遮蔽構件，可防止撞上遮蔽板而反彈的飛來物撞上保護帽之穿戴者的頸部。

本發明之第1形態之發明係一種遮蔽板，其係設置於保護穿戴者頭部之帽體而用以覆蓋前述穿戴者顏面的遮蔽板，其係徵為：具備本體部與帽簷部而構成，該本體部係以透明體或半透明體形成為彎曲的板狀，該帽簷部係在該本體部之下方朝與前述本體部相反側彎曲而突出；前述本體部係形成為朝前方突起的球殼狀，而上下方向的尺寸，係在左右方向之中央部變長，且隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小；前述帽體之開口平面與前述帽簷部之交叉角度係為45度以上且未達90度，而前述帽簷部在左右方向之中央部自前述本體部突出的長度係為10mm至80mm(10mm以上且為80mm以下)，而前述帽簷部自前述本體部突出的長度，係在左右方向之中央部變長，且隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小。

第2形態之發明係如第1形態之遮蔽板，其中，前述帽體之開口平面與前述帽簷部之交叉角度，在左右方向之中央部係為55度左右，而在隨著朝向左右方向之端部而逐漸變大而成為57度左右之後，逐漸變小而成為52度左右。

第3形態之發明係如第1或第2形態之遮蔽板，其中，在左右方向之中央部及其附近部位，前述本體部大致朝上下方向延伸，而在左右方向之端部及其附近部位，前述本體部之下端以位於外側之方式些微傾斜延伸。

第4形態之發明係一種保護帽，其係為具有：如第1至第3形態中之任一形態之遮蔽板；前述帽體；及導引手段，用以導引前述遮蔽板，以使前述遮蔽板可在收納於前述帽體之收納位置與前述遮蔽板覆蓋前述穿戴者顏面之被覆位置之間移動。

依據本發明，在具備用以覆蓋穿戴者大致整個顏面之遮蔽構件的保護帽中，可達成防止撞上遮蔽板而反彈的飛來物撞上保護帽之穿戴者之頸部的效果。

如第1圖等所示，保護帽(附帶遮蔽面之頭盔)1係例如具備有形成大致左右對稱之帽體3、遮蔽板5、及用以引導遮蔽板5之導引手段7所構成。

另外，以下有將保護帽1(帽體3、遮蔽板5等)之各方向設為寬度方向(左右方向)、前後方向、上下方向，且使用「右」、「左」、「上」、「下」、「前」、「後」之文句來進行說明的情形。上述各方向係為站立(直立)之穿戴者穿戴保護帽時之方向，而上述3個各方向係彼此大致正交。

如第15圖等所示，帽體3係為用以保護穿戴者頭部者，例如，由樹脂等之材料所構成，且形成為碗狀(例如半球殼狀)。

在此，所謂半球殼係指將從預定半徑的第1球截去半徑較該第1球之半徑稍小且中心與前述第1球一致之第2球之形狀的立體，以通過前述各球之中心或其附近的平面，予以分割為2時所形成之一方的立體。

帽體3係形成為「半球殼狀」，並非形成為完整的「半球殼」的形狀。亦即，帽體3係為了符合穿戴者頭部形狀等而形成為曲率半徑適當變化的形狀。此外，帽體3之開口部(淵部，下側端部)9，亦非為完整的圓形，而係為了符合穿戴者頭部形狀等而形成為曲率半徑適當變化的圓形狀。

藉由帽體3形成為半球殼狀，站立的穿戴者穿戴保護帽1時，帽體3之開口部9形成大致水平，而開口部9會位於較穿戴者耳部稍靠上側，而露出有穿戴者的耳部(參照第1至6圖)。另外，在帽體3之開口部9的前側，係設有帽簷部10。

遮蔽板(面體；遮蔽構件)5係為用以保護穿戴者大致整個顏面者，其由樹脂等之透明(含有色透明)或半透明的材料所構成。

導引手段7係為於遮蔽板5相對於帽體3移動時，用以引導遮蔽板5的手段，藉由導引手段7來引導，可使遮蔽板5得以在收納位置P1與被覆位置P3之間，以描繪圓弧狀軌跡方式移動。收納位置P1係為遮蔽板5收納於帽體3之前側內部的位置，被覆位置P3係為遮蔽板5覆蓋穿戴者大致整個顏面(頭部前面)的位置。另外，在使遮蔽板5位於由站立的穿戴者穿戴保護帽1之被覆位置P3的狀態下，當從穿戴者前方觀看時，穿戴者的耳部會被遮蔽板5所隱藏。

被導引手段7所引導的遮蔽板5，係形成為不易從帽體3分離，並且不會朝保護帽1之左右方向移動，而可以朝保護帽1(帽體3)之左右方向延伸之預定之軸C1(參照第3圖、第6圖、第8圖)為轉動中心移動(轉動)。預定的軸C1係通過穿戴者耳部後方，朝帽體3之左右方向(與第3圖、第6圖、第8圖之紙面正交的方向)延伸。

茲詳細說明遮蔽板5位於收納位置P1之狀態，在此狀態下，遮蔽板5並非完全收納於帽體3之內部，而是遮蔽板5之下端部(設有帽簷部17的下端部)及其附近部位，從帽體3之下端部(帽體3前側的開口部)9朝下方突出。另外，帽簷(帽簷部)17，係在遮蔽板5的下端部反轉。亦即，帽簷部17係朝反方向(從穿戴者顏面離開的方向)彎曲而延伸。藉此，即使飛來物撞上遮蔽板(位於被覆位置P3之遮蔽板的本體部11)5(參照第6圖之箭頭A6)，亦可避免飛來物會滑動於遮蔽板5的表面而與穿戴者身體接觸的事態。

在遮蔽板5位於收納位置P1的狀態下，即使遮蔽板5之下端部或其附近部位從帽體3之下端部9朝下方突出，也不會妨礙穿戴者，穿戴者得以在其視野不會意識到遮蔽板5的存在下來穿戴保護帽1。此外，遮蔽板5之上端部係位於帽體3的頂上部附近。

在遮蔽板5位於被覆位置P3的狀態下，遮蔽板5之下端部係位於較穿戴者的顎部靠下側，而由遮蔽板5覆蓋穿戴者的大致整個顏面。亦即，從正面觀看時，係藉由遮蔽板5覆蓋穿戴者的整個顏面(參照第4至6圖)。此外，遮蔽板5的上端部，係在帽體3之下端部(帽體3之前側的開口部9)附近位於帽體3的內部。

此外，在保護帽1中，係設有用以保持遮蔽板5的保持手段13。保持手段13係用以保持遮蔽板5的手段，以使遮蔽板5位於收納位置P1或被覆位置P3時，遮蔽板5相對於帽體3不易移動。

在此，進一步詳細說明遮蔽板5。

如前所述，遮蔽板5係設置於保護穿戴者頭部的帽體3，用以覆蓋穿戴者之例如大致整個顏面者，且藉由透明體或半透明體形成為彎曲的板狀。

遮蔽板5係形成為厚度方向之一側為凹狀而厚度方向之另一側為凸狀之彎曲的板狀。再者，厚度隨著從中央部朝向周邊部逐漸變薄(參照第22圖(b)、第23圖)。另外，遮蔽板5係例如由丙烯酸(acrylic)或聚碳酸酯(polycarbonate)等樹脂所構成，且以射出成形來形成。此外，遮蔽板5係依據ANSI規格，以1.6mm至2.0mm左右的厚度形成，即使施以高速撞擊試驗亦不會破裂。

藉由遮蔽板5形成為彎曲的板狀，使屬於穿戴者顏面側之遮蔽板5之內側的面(厚度方向之一面)形成為凹狀，而屬於厚度方向另一面之外側的面則形成為凸狀。此外，遮蔽板5之左右方向之曲率半徑係形成為較上下方向之曲率半徑還小，而遮蔽板5之左右方向之厚度之變化的比例，係形成為較上下方向之厚度之變化的比例還大(參照第22圖(b)、第23圖)。另外，遮蔽板5之上下方向之圓弧的中心，係例如與軸C1一致。另一方面，遮蔽板5之左右方向之圓弧之中心O2係例如位於較帽體3之開口部9之中心O1稍微(例如10mm至15mm左右)前側(參照第10圖)。

再者，如第6圖等所示，遮蔽板5係具備有本體部11與帽簷部17所構成，而本體部11係如前所述形成為彎曲的板狀。遮蔽板5之本體部11之凸面(凹面)，係形成為與預定之3次曲面近似的預定形狀。上述預定的3次曲面，係藉由包含前述軸之第1平面、及包含前述軸且以預定角度與前述第1平面交叉之第2平面，將軸方向之中央部膨脹後屬於圓柱狀形狀之酒杯狀立體的側面予以切斷時所獲得之4個3次曲面中之1個曲面。

另外，如第21圖(a)所示，從正面觀看時，遮蔽板5之本體部11之上端，係形成為直線狀，而遮蔽板5之本體部11之下端，係形成為朝下突出的圓弧狀，而遮蔽板5之本體部11之左右方向的兩端，則形成為朝外側突出的圓弧狀。

如上所述，帽簷部17係在本體部11之下方朝與本體部11相反側彎曲而突出。

更詳而言之，如第21圖(a)所示，帽簷部17從正面觀看時係以月牙形狀形成為板狀，而形成為月牙形狀之凹狀的部位，係與遮蔽板5之本體部11之下端相連。再者，帽簷部17係從本體部11之下端朝下方突出而與本體部11一體成形。此外，如第6圖所示，站立的穿戴者穿戴帽體3且以遮蔽板5覆蓋穿戴者顏面時，帽簷部17會隨著從其上端(本體部11側的端)朝向下端，朝從穿戴者顏面離開的方向(前方)突出。

此外，在帽簷部17之寬度方向之中央部，係形成有以預定寬度凹陷於本體部11之內側(後側；穿戴者之顏面側)的凹部15。

在此，茲說明穿戴保護帽1且使遮蔽板5取出放入的動作。

首先，穿戴者係在遮蔽板5位於收納位置P1之狀態下穿戴保護帽1。需使遮蔽板5位於被覆位置P3來進行作業時，係使遮蔽板5之下端部(例如帽簷部17)朝下方拉動而使遮蔽板5朝下方移動。

另一方面，在使位於被覆位置P3之遮蔽板5位於收納位置P1時，係推升遮蔽板5使之朝上方移動。

依據保護帽1，由於遮蔽板5係為其厚度會隨著從其中央部朝向周邊部而逐漸變薄的構成，因此可將穿戴者透過遮蔽板5觀看正面時之光程長度(遮蔽板內之光程長度)、與穿戴者透過遮蔽板5觀看周邊時之光程長度(遮蔽板內之光程長度)之差縮小，且即使穿戴者透過遮蔽板5之周邊部觀看物體時，也可將影像的失真盡可能地減少。

亦即，如第24圖所示，由於遮蔽板5之光程長度L11與光程長度L21之差變小，且光程長度L11與光程長度L31之差變小，因此可將影像的失真盡可能地減少。

在此，第24圖所示之參照符號F0係顯示本實施形態之遮蔽板5之外側之面(凸面)，而參照符號F1係顯示本實施形態之遮蔽板5之內側的面(凹面)。藉此，本實施形態之遮蔽板5的厚度，即隨著從中央部朝向周邊部而逐漸變薄。另一方面，參照符號F0係顯示習知之遮蔽板之外側的面，而參照符號F2係顯示習知之遮蔽板之內側的面，藉此，習知之遮蔽板的厚度係呈固定。

參照符號R1係顯示從正面進入至穿戴者眼睛EY之光的光程，而參照符號R2、R2a係顯示從側面側(遮蔽板之周邊部)進入穿戴者眼睛EY之光的光程，而參照符號R3、R3a係顯示從更為側面側進入穿戴者眼睛EY之光的光程。

從正面進入穿戴者眼睛EY之光(光程R1之光)在遮蔽板5之光程長度(本實施形態之遮蔽板5中之光程長度)L11與光程長度(習知之遮蔽板中之光程長度)L12係彼此長度相等。

另一方面，由於遮蔽板之折射率較空氣的折射率為大，因此依據司乃耳定律(Snell’s law)，相較於從側面側進入穿戴者之眼睛EY之光(光程R2、R2a的光)在遮蔽板之光程長度(習知之遮蔽板中之光程長度)L22，光程長度(本實施形態之遮蔽板5中之光程長度)L21會變短，而光程長度L21之長度，則與光程長度L11之長度大致相等。同樣地，相較於光程長度L32，光程長度L31變短，而光程長度L31之長度，則與光程長度L11之長度大致相等。藉此，可將影像的失真盡可能地減少。

此外，依據保護帽1，遮蔽板5之左右方向之曲率半徑係形成為較上下方向之曲率半徑為小，而左右方向之厚度之變化的比例，係形成為較上下方向之厚度之變化的比例為大，因此可配合穿戴者的顏面形態，將穿戴者透過遮蔽板5之周邊部觀看物品時之影像的失真盡可能地減少。

亦即，由於遮蔽板5之上下方向之曲率半徑形成為較左右方向之曲率半徑為大，因此可配合穿戴者顏面的形狀而覆蓋穿戴者的顏面。此外，由於遮蔽板5之上下方向之曲率半徑形成為較左右方向之曲率半徑為大，因此可將遮蔽板5之上下方向之厚度之變化的比例，較左右方向之厚度之變化的比例更為縮小，而將影像的失真盡可能地減少。

此外，依據保護帽1，由於遮蔽板5之帽簷部17係在本體部11之下方朝與本體部11相反側(反方向；從穿戴者顏面離開的方向)彎曲而突出，因此如上所述，即使飛來物撞上遮蔽板5，亦可避免飛來物會滑動於遮蔽板5之表面，而與穿戴者身體接觸的事態。

亦即，如第6圖箭頭A6所示，從斜上方飛來的飛來物，當以較淺角度撞擊遮蔽板5的下方時，撞擊而反彈的飛來物會滑動於遮蔽板5的表面，而有到達穿戴者頸部之可能性。另外，在第6圖中，由於穿戴者係朝向水平方向，因此上述可能性雖較少，惟穿戴者朝向上方進行作業時，上述撞擊而反彈的飛來物，因為重力的影響而到達穿戴者頸部的可能性會變高。然而，由於設有帽簷部17，因此上述撞擊而反彈的飛來物，會再度撞擊帽簷部17而在從穿戴者離開的位置落下，可避免到達穿戴者頸部(至少頸部，亦可包括肩膀或腹部等)的事態。

此外，依據保護帽1，由於設有凹部15，可使保護帽1之穿戴者易於操作遮蔽板5。

亦即，例如，在遮蔽板5存在於收納位置P1的狀態下，由於在遮蔽板5之帽簷部17設有凹部15，因此在遮蔽板5之帽簷部17與帽體3之帽簷部10之間，形成有可供穿戴者放入手指的間隙。再者，使存在於收納位置P1之遮蔽板5位於被覆位置P3時，可供穿戴者將手指放入上述間隙而易於使遮蔽板5朝下方移動而位於被覆位置P3。

在此，茲進一步詳細說明保護帽1。

如第7圖所示，保護帽1係具備有帽體3、構成導引手段7之導引構件509、遮蔽板5、撞擊吸收構件(撞擊吸收襯墊)513、顎部繩515、及內裝體(內帽網)517而構成。撞擊吸收構件513係例如以泡沫聚苯乙烯形成為碗狀。再者，在帽體3之內側，設置導引構件509與遮蔽板5之組裝體511之後，於帽體3與組裝體511之內側設置撞擊吸收構件513，之後，再將顎部繩515與內帽網517設置於帽體3或導引構件509，藉此組裝產生保護帽1。

保護帽1之帽體3係由帽體本體部519與帽體帽簷部10所構成，例如作成2色成形。帽體本體部519係以不透明的樹脂所構成，而帽體帽簷部10則係由透明(含有色透明)樹脂或半透明樹脂所構成。

如第12圖等所示，導引手段7係具備有導引部523及卡合部525所構成，該導引部523係設於例如由樹脂所構成之導引構件509，而該卡合部525係設於由透明或半透明樹脂所構成之遮蔽板5。

如第18圖、第19圖等所示，導引構件509係具備有具有球面狀曲面而形成為板狀的中央部位527，而導引部523係形成於中央部位527。此外，導引部523係形成為細長且設有複數個，以使遮蔽板5在收納位置P1與被覆位置P3之間移動時用以引導遮蔽板5。各導引部523係彼此成為大致平行且在寬度方向(左右方向)靠中央部位527的中央設置。

詳而言之，中央部位527係形成為1/4的球殼狀。在此，所謂1/4的球殼(1/4球殼)，係指如以下方式形成的立體。首先，獲得從預定半徑的第1球，截去半徑較該第1球的半徑稍小且中心與前述第1球一致之第2球之形狀的立體(球殼)。

接著，以通過前述各球之中心或其附近之第1平面將前述球殼予以分割為2，來獲得分割後之2個立體中之一方立體的半球殼。

接著，以通過前述各球之中心或其附近而與前述第1平面大致正交之第2平面將前述半球殼予以分割為2，來獲得分割後之2個立體中之一方之立體的1/4球殼。另外，由於導引構件509係設置於帽體3之內部(內側)者，因此導引構件509之中央部位527之曲率半徑(上述第1球之曲率半徑)係較帽體3之曲率半徑稍小。

中央部位527係形成為「1/4球殼狀」者，並非形成為完整的「1/4球殼」之形狀。亦即，中央部位527係以與帽體3相同方式，為了符合穿戴者頭部形狀，形成為曲率半徑適當變化的形狀。

中央部位527之端部亦非完整的圓弧，為了符合穿戴者頭部形狀，係形成為曲率半徑適當變化的圓弧狀。在此，所謂中央部位527之端部，係指藉由上述第1平面之分割所形成之圓弧狀(半圓弧狀)的部位(第1半圓狀端部曲線529)、及藉由上述第2平面之分割所形成之圓弧狀(半圓弧狀)的部位(第2半圓狀端部曲線531)。

第1半圓狀端部曲線529係例如大致位於上述第1平面上，而形成在與前述第1平面正交之方向幾乎不存在凹凸的形態。另外，由於中央部位527具備有厚度(上述第1球之半徑與上述第2球之半徑的差)，因此更正確而言，第1半圓狀端部曲線529可稱為第1半圓狀端部曲面。

第2半圓狀端部曲線531係例如在與前述第2平面正交之方向從前述第2平面稍出入。換言之，在與前述第2平面正交的方向存在有些微的凹凸。另外，與第1半圓狀端部曲線529之情形相同，更正確而言，第2半圓狀端部曲線531亦可稱為第2半圓狀端部曲面。

如第8圖等所示，在導引構件509設置於帽體3的狀態下，導引構件509之中央部位527係在帽體3之前方的內側，自帽體3稍分離，且一體設於帽體3。藉此，在帽體3與中央部位527之間，即形成有較帽體3之厚度或中央部位527之厚度為厚之預定厚度之1/4球殼狀空間533，且遮蔽板(位於收納位置P1之遮蔽板)5形成為進入於該1/4球殼狀空間533。

茲進一步說明，第1半圓狀端部曲線529係自帽體3之內壁稍分離而且沿著帽體3的內壁，從位於帽體3之下端之圓形狀邊緣之左端附近，通過帽體3之正上方附近，延伸至位於帽體3之下端之圓形狀邊緣之右端附近。換言之，第1半圓狀端部曲線529係從穿戴者左耳上方，通過穿戴者之頭頂部附近，延伸至穿戴者右耳的上方。

此外，第2半圓狀端部曲線531係從在帽體3之下端位於前側之前側半圓狀邊緣稍分離而且沿著帽體3之前側半圓狀邊緣，從位於帽體3之下端之圓形狀邊緣之左端附近，通過帽體3之邊緣之前端附近，延伸至位於帽體3之下端之圓形狀邊緣之右端附近。換言之，第2半圓狀端部曲線531係從穿戴者左耳之上方，通過穿戴者之額部附近，延伸至穿戴者右耳的上方。

如第18圖(b)等所示，設於導引構件509之中央部位527之導引部523係例如設有3個。各導引部523係由例如分別為長圓狀貫通孔(在厚度方向貫通中央部位527的貫通孔)535、537、539所構成，而在寬度方向則設於中央部位527之中央與左側與右側。

設於中央部位527之中央之導引部523(貫通孔535)，係從第2半圓狀端部曲線531之中央附近，形成至第1半圓狀端部曲線529之中央附近。換言之，設於中央之貫通孔535，在橫方向(寬度方向；左右方向)係保持中央之位置的狀態下，從穿戴者之額部中央附近，通過穿戴者之前頭部之中央，延伸至穿戴者之頭頂部附近。

左側之導引部523(貫通孔537)係與設於中央之貫通孔535平行設置，且從第2半圓狀端部曲線531之左側斜前方部位附近，形成至第1半圓狀端部曲線529之左側斜上方部位附近。換言之，設於左側之貫通孔537，係從穿戴者額部之斜左前方部位附近，通過穿戴者前頭部之斜左前方部位，延伸至穿戴者頭頂部之斜左上方部位附近。

右側之導引部523(貫通孔539)，係隔著設於中央之貫通孔535，與設於左側之貫通孔537對稱設置。亦即，右側之貫通孔539，係相對於通過導引構件509之中心而朝上下前後方向展開的平面，與左側之貫通孔537對稱設置。

在此，進一步詳細說明3個導引部523(貫通孔535、537、539)之位置關係。為了易於說明，忽略導引構件509之各側方部位541、543(參照第18圖等)的存在(假設導引構件509之各側方部位541、543不存在)。

茲將3個貫通孔535、537、539之各延長線(為長圓狀貫通孔535、537、539之寬度方向之中心線且為朝貫通孔535、537、539之長度方向延伸之中心線)、與第2半圓狀端部曲線531之交差點，分別設為下部左側交叉點545、下部中央交叉點547、下部右側交叉點549(參照第18圖(a)、(b)、第19圖(a))。

如此一來，第2半圓狀端部曲線531之左端(與第1半圓狀端部曲線529之左端一致的左端，參照第18圖(a))551與下部左側交叉點545之間的距離(第2半圓狀端部曲線531上的距離)，即與下部左側交叉點545與下部中央交叉點547之間的距離(第2半圓狀端部曲線531上的距離)相等或稍大。

此外，同樣地，第2半圓狀端部曲線531之右端(與第1半圓狀端部曲線529之右端一致的右端，參照第18圖(a))553與下部右側交叉點549之間的距離(第2半圓狀端部曲線531上的距離)，即與下部右側交叉點549與下部中央交叉點547之間的距離(第2半圓狀端部曲線531上的距離)相等或稍大。

此外，如第18圖(b)所示，將3個貫通孔535、537、539之各延長線、與第1半圓狀端部曲線529之交差點，分別設為上部左側交叉點555、上部中央交叉點557、上部右側交叉點559。

如此一來，第1半圓狀端部曲線529之左端551與上部左側交叉點555之間的距離(第1半圓狀端部曲線529上的距離)，即與上部左側交叉點555與上部中央交叉點557之間的距離(第1半圓狀端部曲線529上的距離)相等或稍大。

此外，同樣地，第1半圓狀端部曲線529之右端553與上部右側交叉點559之間的距離(第1半圓狀端部曲線529上的距離)，即與上部右側交叉點559與上部中央交叉點557之間的距離(第1半圓狀端部曲線529上的距離)相等或稍大。

如此，藉由設有導引部523，導引部523(貫通孔535、537、539)即成為在中央部位527之中央部側(在寬度方向靠中央部)朝上下前後方向延伸設置。

另外，亦可將中央的導引部523(貫通孔535)去除而將導引部523設為2個的構成，或亦可將中央的導引部523(貫通孔535)設為2個，使一方的導引部移至中央稍靠左側，且使另一方的導引部移至中央稍靠右側，藉此設置4個導引部(長圓狀貫通孔)的構成。再者，亦可為在中央部位527之中央側(在寬度方向靠中央)，設置5個以上的複數個朝上下前後方向延伸為較長的導引部的構成。

此外，導引構件509係具備有前述之中央部位527、板狀第1側方部位(左側的側方部位)541、及板狀第2側方部位(右側的側方部位)543所構成。第1側方部位541係在中央部位527之寬度方向之一端部側(左側)且為中央部位527之下側，一體設於中央部位527。第2側方部位543係在中央部位527之寬度方向之另一端部側(右側)且為中央部位527之下側，一體設於中央部位527。

再者，係構成為一對中央部位卡合部561(參照第18圖(b)等)卡合於一對中央部位被卡合部563(參照第15圖(c))，左側之第1側方部位卡合部565(參照第18圖(a))卡合於第1側方部位被卡合部567(參照第15圖(c))，右側之第2側方部位卡合部569(參照第18圖(a))卡合於第2側方部位被卡合部571(參照第15圖(c))，而導引構件509則一體設於帽體3。

一對中央部位卡合部561係在各側方部位541、543附近形成於中央部位527，而一對中央部位被卡合部563係設於帽體3的側方。第1側方部位卡合部565係設於第1側方部位541，而第1側方部位被卡合部567係設於帽體3的左斜後側。第2側方部位卡合部569係設於第2側方部位543，而第2側方部位被卡合部571係設於帽體3的右斜後側。

更詳而言之，如第18圖等所示，第1側方部位541係以與中央部位527大致相同的厚度形成為短帶狀。再者，第1側方部位541之長度方向的一端部，係連接於第1半圓狀端部曲線529之下端部側(左下端部側)。此外，第2側方部位543係相對於通過導引構件509之中心而朝上下前後方向展開的平面與第1側方部位541對稱設置。藉此，第1側方部位541之寬度方向之一端部(下端部)即位於中央部位527之第2半圓狀端部曲線531之左側之大致延長線上，而第2側方部位543之寬度方向之一端部(下端部)即位於中央部位527之第2半圓狀端部曲線531之右側之大致延長線上。

導引構件509係相對於帽體3可裝卸自如，且藉由形成於導引構件509之中央部位527之一對中央部位卡合部561卡合於設於帽體3之一對中央部位被卡合部563，可使設置於帽體3之導引構件509不易從帽體3分離。

例如，中央部位卡合部561係由被視為剛體之第1中央部位卡合部(從中央部位527稍向外側突出的突起)573(參照第18圖(a))、與具備彈性之第2中央部位卡合部575(參照第18圖(a))所構成。中央部位被卡合部563係由被視為剛體的部位(從帽體3之內壁朝帽體3之內側稍突出的突起，參照第15圖(c)、第17圖)577所構成。

再者，將導引構件509設置於帽體3時(使第1中央部位卡合部573卡合於中央部位被卡合部563時)，第2中央部位卡合部575會抵接於帽體3(中央部位被卡合部563或其周邊)而彈性變形，而在完成將導引構件509設置於帽體3時(完成使第1中央部位卡合部573卡合於中央部位被卡合部563時)，第2中央部位卡合部575會復原。藉由此復原的第2中央部位卡合部575，暫且設置於帽體3之導引構件509，即不易從帽體3分離。

亦即，即使移動遮蔽板5等，外力施加於帽體3或導引構件509或遮蔽板5時，導引構件509也不易於從帽體3分離。另外，中央部位卡合部561或中央部位被卡合部563係設於不會與遮蔽板5干擾的位置。另外，第11圖(a)係為顯示導引構件509之中央部位卡合部561卡合於帽體3之中央部位被卡合部563的狀態圖。

帶狀第1側方部位541或帶狀第2側方部位543之長度的值，係較第2半圓狀端部曲線531之長度之一半的值稍小。如第18圖(a)等所示，第1側方部位卡合部565係由在厚度方向貫通第1側方部位541之2個貫通孔579、581所構成。

構成第1側方部位卡合部565之2個貫通孔579、581中之一方之貫通孔(後方貫通孔)581，係設於第1側方部位541之前端部(在第1側方部位541之長度方向與中央部位527相反側的端部)附近，而構成第1側方部位卡合部565之2個貫通孔579、581中之另一方的貫通孔(前方貫通孔)579，係在第1側方部位541之長度方向設於中央部位卡合部561與後方貫通孔581之間(例如大致中央部)。

第2側方部位卡合部569亦與第1側方部位卡合部565之情形相同，係由後方貫通孔581與前方貫通孔579所構成，第2側方部位卡合部569之各貫通孔579、581，係相對於通過導引構件509之中心而朝上下前後方向展開的平面，與第1側方部位卡合部565之各貫通孔579、581對稱設置。

如第15圖(c)或第16圖所示，第1側方部位被卡合部567係在帽體3之開口部(下端部的邊緣)附近從帽體3之內壁朝帽體3之內側稍突出的2個突起(前側突起與後側突起)583所構成。第2側方部位被卡合部571係相對於通過帽體3之中心而朝上下前後方向展開的平面，與第1側方部位被卡合部567對稱設置。亦即，各側方部位被卡合部567、571係由2個前側突起583與2個後側突起583所構成。

在第1側方部位卡合部565卡合於第1側方部位被卡合部567之狀態下，第1側方部位541係抵接於帽體3之內壁。此外，在第1側方部位卡合部565卡合於第1側方部位被卡合部567之狀態下，導引構件509(第1側方部位541)之相對於帽體3的上下方向的移動係被限制，而其相對於帽體3之在帽體3的前後方向(帽體3之內周之方向)則可些微移動，而在帽體3的厚度方向，則能夠朝帽體3之內側移動。另外，係構成為，在帽體3之厚度方向的移動係藉由將內帽網517設置於帽體3來予以限制。第2側方部位卡合部569卡合於第2側方部位被卡合部571之狀態，亦與第1側方部位卡合部565卡合於第1側方部位被卡合部567之狀態相同。

在完成將導引構件509設置於帽體3的狀態下，第1側方部位卡合部565係卡合於第1側方部位被卡合部567，第2側方部位卡合部569係卡合於第2側方部位被卡合部571，而中央部位卡合部561係卡合於中央部位被卡合部563。再者，導引構件509係牢固地設置於帽體3。

此外，在完成將導引構件509設置於帽體3的狀態下，導引構件509之下側的邊緣(第2半圓狀端部曲線531與各側方部位541、543的下端部)，係在帽體3的邊緣(開口部)之內側附近沿著帽體3的邊緣而延伸。再者，在完成將導引構件509設置於帽體3的狀態下，當從下側朝向上側觀看帽體3或導引構件509時，帽體3的邊緣，係形成大致圓環狀(前後方向之直徑較寬度方向之直徑為大的圓環狀)。相對於此，導引構件509係形成為僅在後方些微的部位未相連(各側方部位541、543之前端部彼此些微分離)的馬蹄形狀。另外，導引構件509亦可為與帽體3之邊緣同樣形成為圓環狀的構成。

在第1側方部位被卡合部567之處或第2側方部位被卡合部571之處，係形成有由突出量(朝向帽體3之內側的突出量)較構成該等被卡合部567、571之突起583還大之突起所構成的卡扣部(由4個突起所構成的帽體卡扣部)585(參照第15圖(c)、第16圖)。帽體卡扣部585係用以卡扣內帽網517的部位。

在導引構件509之中央部位527之內側且為第2半圓狀端部曲線531的附近，形成有與帽體卡扣部585同樣方式構成的卡扣部(由4個突起所構成的導引構件卡扣部)587(參照第18圖(b)、第20圖)。導引構件卡扣部587亦為用以卡扣內帽網517的部位。

導引構件509之導引構件卡扣部587，係相對於通過導引構件509之中心而朝上下前後方向展開的平面對稱設置。藉此，在完成將導引構件509設置於帽體3的狀態下，會在合計共8處位置設置卡扣部585、587。

再者，在完成將導引構件509設置於帽體3的狀態下，將內帽網517之被卡扣部589卡扣於帽體卡扣部585與導引構件卡扣部587，且於完成將內帽網517設置於帽體3時，導引構件509之各側方部位541、543即被帽體3與內帽網517的被卡扣部589所包夾，而使導引構件509之各側方部位541、543與帽體3之內壁相接，且如前所述，導引構件509之各側方部位541、543會大致固定設置於帽體3(參照第11圖(b)、第11圖(c))。

各側方部位541、543之角部係作成圓弧化而形成。亦即，第1側方部位541或第2側方部位543之長度方向之前端部(與中央部位527相反側的端部)之2處位置的角部(在上下方向中位於兩端部的角部)之外形線，從側方部位541、543之厚度方向觀看時，係形成為1/4的圓弧狀(參照第18圖(a)之參照符號591)。再者，即使側方部位541、543之其他部位(長度方向之中間部且在上下方向係為下端部)，角部亦作成圓弧化而形成(參照第18圖(a)之參照符號593)。

藉由將各側方部位541、543之角部作成圓弧化而形成，可防止因為應力集中所致之導引構件509的破損，此外，可防止因為導引構件509對於帽體3或遮蔽板5或保護帽1之穿戴者造成的傷害。

然而，如前所述，導引構件509之導引部523係例如由3個長圓狀貫通孔535、537、539所構成。與此對應，遮蔽板5之卡合部525係由3個圓柱狀部位595所構成(參照第14圖)。

再者，構成卡合部525之圓柱狀部位595的各者，係卡合於構成導引構件509之導引部523之3個貫通孔535、537、539的各者(圓柱狀部位595進入貫通孔535、537、539)，藉此引導遮蔽板5，而得以在收納位置P1與被覆位置P3之間移動。

更詳而言之，長圓狀貫通孔535、537、539之寬度B501，係僅較圓柱狀部位595之外徑D501稍大(參照第14圖(b))。此外，在圓柱狀部位595的兩端部，係一體設有外徑較圓柱狀部位595之外徑為大的圓板狀凸緣(flange)部599、601，藉此而形成卡合構件597(參照第14圖(a))。

如第21圖(a)所示，在遮蔽板5的上端部，係一體設有用以設置卡合構件597之半圓板狀設置部603。在半圓板狀設置部603的中央部，係形成有將半圓板狀設置部603在其厚度方向貫通之貫通孔(內徑僅較卡合構件597之圓柱狀部位595之外徑D501稍大的貫通孔)605。另外，設置部603或貫通孔605係與導引構件509之3個貫通孔535、537、539對應而設於3處位置。

遮蔽板5之設置部603與導引構件509之中央部位527係進入設於圓柱狀部位595之兩端部之各凸緣部599、601之間，而使遮蔽板5之設置部603與導引構件509之中央部位527係被各凸緣部599、601所夾入，且使圓柱狀部位595貫通導引部523之長圓狀貫通孔535、537、539與設置部603之圓形貫通孔605。藉此，遮蔽板5相對於帽體3或導引構件509移動時，遮蔽板5得以僅在構成導引部523之貫通孔535、537、539之大致長度方向移動。

另外，由圓柱狀部位595與各凸緣部599、601所構成之卡合構件(附帶凸緣之構件)597，係由在一方之端部具備有凸緣部599之第1筒狀構件607與在另一方之端部具備有凸緣部601之第2筒狀構件609、及沿著各筒狀構件607、609之中心軸貫通且藉由鉚接將各筒狀構件607、609一體化之鉚釘(rivet)611所構成。

在遮蔽板5位於收納位置P1的狀態下，附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595，係抵接於各長圓狀貫通孔535、537、539之上端部。另一方面，在遮蔽板5位於被覆位置P3之狀態下，附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595係抵接於各長圓狀貫通孔535、537、539之下端部。

此外，在保護帽1中，係設有用以保持遮蔽板5位於收納位置P1或被覆位置P3之狀態的保持手段13。在此，詳細說明保持手段13。

形成有導引部523之3個長圓狀貫通孔535、537、539之中存在於左右側的2個長圓狀貫通孔537、539之寬度係為固定。另一方面，形成有導引部523之3個長圓狀貫通孔535、537、539之中存在於中央之長圓狀貫通孔535，在其長度方向之端部附近，寬度極小(參照第14圖(b))。藉此，遮蔽板5得以在收納位置P1或被覆位置P3維持其位置。

茲進一步詳細說明，如第14圖(b)所示，存在於導引構件509之中央之長圓狀貫通孔(中央貫通孔)535之上端部位615係圓弧狀且形成為馬蹄形狀。圓弧狀且形成為馬蹄形狀之上端部位615之圓弧的直徑D503，係與附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595之外徑D501相等或稍大。

上端部位615之兩端部617彼此的距離(圓弧狀且馬蹄形狀之上端部位615之出口之寬度方向的距離)L501，係較附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595之外徑D501稍小。再者，係構成為位於長圓狀中央貫通孔535之長度方向之中間部的附帶凸緣之構件597，於移動至長圓狀中央貫通孔535之上端部位615時，附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595，會與上端部位615之兩端部617接觸，而使導引構件509之一部份彈性變形，且兩端部617間之距離L501，會變大至圓柱狀部位595之外徑D501的值。再者，當移動附帶凸緣之構件597，使附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595位於上端部位615時，各兩端部617即復原，而得以保持附帶凸緣之構件597的位置。

在兩端部617、與從兩端部617朝長圓狀貫通孔535之下端側離開預定距離的離間部位619之間，長圓狀貫通孔535之寬度會隨著從該離間部位619朝向兩端部617而一點一點地逐漸變窄。亦即，在離間部位619與兩端部617之間係形成有斜錐(taper)部621。藉此，在使遮蔽板5從被覆位置P3移動至收納位置P1時，附帶凸緣之構件597之圓柱狀部位595不會再突然地抵接於馬蹄形狀之上端部位615的兩端部617，而可防止上端部位615之兩端部617的損傷。

另外，長圓狀貫通孔535之下端部側亦具備有與上端部側相同的斜錐部等而形成。此外，為使馬蹄形狀兩端部617易於彈性變形，在馬蹄形狀兩端部617之外側附近，係設有一對貫通孔(將導引構件509之中央部位527在其厚度方向貫通之圓形狀2個貫通孔)623。

另外，亦可取代或除了在長圓狀貫通孔535之上端部側，將上述貫通孔623設於長圓狀貫通孔535之下端部側。

再者，亦可為取代或除了在中央之長圓狀貫通孔535，將上述之保持手段13等設於左右之長圓狀貫通孔537、539的構成。

然而，如第19圖(a)等所示，在設於導引構件509之中央部位527之長圓狀貫通孔535、537、539之周邊，係設有稍向中央部位527內側凹陷的凹部625。此凹部625係具備預定寬度，且設成為包圍各長圓狀貫通孔535、537、539。此外，如上所述設於遮蔽板5之上端部之設置部603，亦以稍向遮蔽板5內側凹陷方式設置(參照第21圖(b)、第22圖)。在此等3個凹部625附近且為導引構件509之中央部位527之第2半圓狀端部曲線531之處，係設有3個突起627。此等3個突起627係在導引構件509之中央部位527之厚度方向朝中央部位527之前側(外側)突出。

在使用與3個貫通孔535、537、539對應而設之3個附帶凸緣之構件597將遮蔽板5設置於導引構件509的狀態下，遮蔽板5之上端部的3處位置，會透過附帶凸緣之構件597而支撐於導引構件509，而設於遮蔽板5之上端部之設置部603，則會陷入於設於中央部位527的凹部625，並且遮蔽板5內側的面，例如會隔著詳如後述之墊料(packing)631而間接抵接於中央部位527之各突起627。

再者，自將設置有遮蔽板5之導引構件509設置於帽體3的狀態下，於遮蔽板5外側的面與帽體3前側之半圓弧狀邊緣之間，形成有些微的間隙629(參照第8圖)。

藉此，在常態(站立的穿戴者僅單純穿戴保護帽1的狀態)下，遮蔽板5之上端部的3處位置，會透過附帶凸緣之構件597而支撐於導引構件509，再者，遮蔽板5之內側的面，會例如隔著詳如後述之墊料631而間接抵接於中央部位527的突起627，而使遮蔽板5支撐於導引構件509，且使遮蔽板5得以在收納位置P1與被覆位置P3之間作圓弧狀移動。

此外，在將設置有遮蔽板5之導引構件509設置於帽體3的狀態下，提起遮蔽板5之下端之方向或是將遮蔽板5從穿戴者顏面拉開之方向的外力施加於遮蔽板5時，在遮蔽板5之外側的面與帽體3前側之圓弧狀邊緣之間，不會再有些微的間隙629，而遮蔽板5之外側的面，會例如隔著詳如後述之墊料631而間接地抵接於帽體3前側之圓弧狀邊緣，而得以限制由上述外力所造成遮蔽板5的轉動。

亦即，遮蔽板5係在其上端部之設置部603卡合於導引構件509。此外，遮蔽板5係在其下側的部位(帽體3之覆蓋穿戴者顏面的部位)，被夾在突起627與帽體3前側之半圓弧狀邊緣而卡合於突起627與帽體3前側之半圓弧狀邊緣之任一者。再者，防止遮蔽板5會大幅晃動。

另外，上述之卡合之部位以外之遮蔽板5的部位，係隔著些微的間隙與導引構件509或帽體3相對向。

在設於導引構件509之中央部位527之3個突起627及其周邊、及形成有間隙629之帽體3之邊緣及其附近，黏貼有例如板狀墊料(低摩擦構件、防止損傷材料)631(參照第13圖(a))。藉此，不會再有遮蔽板5(除設置部603或帽簷部17以外)接觸於導引構件509或帽體3，而使遮蔽板5可以較小摩擦阻力在收納位置P1與被覆位置P3之間移動，並且防止進入帽體3之穿戴者之視野之遮蔽板5之部位510受損。

另外，第21圖(a)或第22圖(a)中有網格狀的部位510，係為依ANSI規格的光學特性範圍(為使保護帽1之穿戴者透過遮蔽板5觀看物品，光學特性良好的範圍)。

設於導引構件509中央部之墊料631A，係形成為橫「U」字形，以夾持中央之長圓狀貫通孔535之方式，從導引構件509之下端朝向上端，設為較其他墊料631長。藉此，可更確實地防止對於遮蔽板5造成的損傷。

茲進一步詳細說明設於導引構件509之中央部位527之長圓狀各貫通孔535、537、539、形成於此等貫通孔535、537、539周圍之凹部625、及導引構件卡扣部587之位置關係。

如前所述，導引構件卡扣部587另如第18圖(b)所示設於4處位置。位於最左側之導引構件卡扣部587A，係在第2半圓狀端部曲線531之延伸方向，位於左側之中央部位卡合部561A與左側之貫通孔537之間的大致中央，接著位於左側之導引構件卡扣部587B，係在第2半圓狀端部曲線531之延伸方向，與左側之貫通孔537之凹部625鄰接，而位於左側之貫通孔537與中央之貫通孔535之間。此外，位於右側之2個導引構件卡扣部587C、587D，係相對於通過導引構件509之中心而朝上下前後方向展開的平面，與右側之導引構件卡扣部587A、587B對稱設置。

由於在此種位置設有導引構件卡扣部587，因此既避免導引構件卡扣部587與導引構件509之導引部523的干擾，又可將內帽網517設置於導引構件509之適當的位置，而可與內帽網517適當地承受施加於帽體3的外力。

此外，使耳繩(顎部繩)515之被卡扣部633卡合於帽體卡扣部585中設於最左側之卡扣部585A或接著設於左側的卡扣部585B(參照第15圖(c))、及導引構件卡扣部587中設於最左側之卡扣部587A(參照第18圖(b))，且進而使另外的耳繩(顎部繩)515之被卡扣部633卡合於帽體卡扣部585中設於最右側之卡扣部585D或設於第二右側之卡扣部585C(參照第15圖(c))、及導引構件卡扣部587中設於最右側之卡扣部587D(參照第18圖(b))，而可將各顎部繩515設置於帽體3或導引構件509之適當的位置，且可使保護帽1之穿戴者在無違和感下穿戴保護帽1且使用各顎部繩515將保護帽1固定於穿戴者的頭部。

另外，如所理解，由於帽體卡扣部585設於帽體3之後側，且導引構件509設於帽體3的前側，因此帽體卡扣部585位於較導引構件卡扣部587偏靠後側。

在使顎部繩515之被卡扣部633卡合於帽體卡扣部585或導引構件卡扣部587之後，使內帽網517之被卡扣部589卡合於帽體卡扣部585或導引構件卡扣部587，藉此得以使顎部繩515(被卡扣部633)或內帽網517(被卡扣部589)，一體設置於帽體3或導引構件509。另外，內帽網517係相對於帽體3或導引構件509可易於裝卸自如，而得以使暫時設置之內帽網517，不易從帽體3或導引構件509脫落。

再者，在保護帽1中，導引構件509之各側方部位541、543與顎部繩515之被卡扣部633，係被帽體3與內帽網517之被卡扣部589所包夾，而一體設置於帽體3(參照第11圖(b))。

依據保護帽1，導引構件509係具備具有球面狀曲面而形成為板狀的中央部位527，而導引部523係形成於中央部位(例如在寬度方向靠中央部位527之中央)527，因此會形成所謂的窄導軌(narrow guide)，相較於將導引部523設置於中央部位527之側方側(寬度方向中之各端部側)之情形，可順暢地進行遮蔽板5的取出放入(在收納位置P1與被覆位置P3之間的移動)。

此外，依據保護帽1，導引構件509係具備中央部位527與各側方部位541、543而構成，在各側方部位541、543附近形成於中央部位527之一對中央部位卡合部561(561A、561B)係卡合於設於帽體3之一對中央部位被卡合部563，而形成於各側方部位541、543之側方部位卡合部565、569則卡合於形成於帽體3之側方部位被卡合部567、571，因此在取出放入遮蔽板5時，可減少導引構件509相對於帽體3的晃動。

亦即，取出放入遮蔽板5時，由於係以導引構件509引導遮蔽板5，因此以朝帽體3之寬度方向延伸之軸C1為中心的旋轉力矩(moment)會施加於導引構件509，而此旋轉力矩會從導引構件509傳遞至帽體3，然而卡合於帽體3之中央部位被卡合部563之導引構件509的中央部位卡合部561成為支點，且卡合於帽體3之側方部位被卡合部567、571之導引構件509的側方部位卡合部565、569會承受旋轉力矩，因此可減少上述晃動。

此外，由於將導引構件509之側方部位卡合部565、569設於左側2處位置、及右側2處位置，因此可更為減少晃動。再者，由於左側之2個側方部位卡合部565之中之後側的側方部位卡合部(貫通孔581)、與右側之2個側方部位卡合部565之中之後側的側方部位卡合部(貫通孔581)係位於帽體3之後端部附近，因此成為支點之中央部位卡合部561與後側之側方部位卡合部565之間的距離會變大，而可更進一步減少晃動。

再者，依據保護帽1，係構成為導引構件509之導引部523係由3個長圓狀貫通孔535、537、539所構成，而遮蔽板5之卡合部525係由3個圓柱狀部位595所構成，而圓柱狀部位595的各者，係與3個貫通孔535、537、539的各者卡合，藉此引導遮蔽板5，而在收納位置P1與被覆位置P3之間移動，因此既可以簡易的構成減小遮蔽板5相對於導引構件509的晃動，又可使遮蔽板5相對於導引構件509順暢地移動。

在此，一面參照第25圖、第26圖、第27圖等來詳細說明遮蔽板5。

第25圖中之參照符號O2係為呈圓弧狀之遮蔽板5之本體部11的中心，如前所述，係位於較第10圖所示之中心(帽體3之開口部9之中心)更靠10mm至50mm左右(例如30mm左右)前方。

茲假想第8圖所示之帽體3之開口平面PL。開口平面PL係於將帽體3單體以開口部9朝下且以頂上部朝上之方式載設於平面時，帽體3之姿勢為穩定的前述平面。亦即，當載設帽體3於開口平面PL時，帽體3之開口部9之邊緣(邊緣的複數處位置)即接觸開口平面PL而使帽體3的姿勢穩定。

第25圖至第27圖所示之XY平面P_XY係指與帽體3之開口平面PL平行的平面，且為通過導引構件509之最前方之下端(前端)的平面。XY平面P_XY係相對於帽體3之開口平面PL位於10mm至30mm左右(例如25mm左右)上方(參照第8圖)。此外，XY平面P_XY係朝前後左右方向展開。

YZ平面P_YZ係為與XY平面P_XY正交的平面，且為通過中心O2而朝上下前後方向展開的平面。A-A剖面係為依據YZ平面P_YZ的剖面。將遮蔽板5之本體部11與XY平面P_XY與YZ平面P_YZ相交的點設為點PA1，且將與XY平面P_XY與YZ平面P_YZ正交的平面且包含點PA1之平面設為XZ平面P_XZ。

第25圖(b)係顯示YZ迴旋平面P_YZE、P_YZC、P_YZD、P_YZE、P_YZF。在第25圖(b)中，YZ迴旋平面P_YZB係為以YZ平面P_YZ為中心O2而迴旋(旋轉)15度的平面。在第25圖(b)中，YZ迴旋平面P_YZC係為以YZ平面P_YZ為中心O2而迴旋30度的平面。在第25圖(b)中，YZ迴旋平面P_YZD係為以YZ平面P_YZ為中心O2而迴旋45度的平面。在第25圖(b)中，YZ迴旋平面P_YZE係為以YZ平面P_YZ為中心O2而旋轉60度的平面。在第25圖(b)中，YZ迴旋平面P_YZF係為以YZ平面P_YZ為中心O2而旋轉69度的平面。

剖面B-B至剖面F-F係為各YZ迴旋平面所形成之遮蔽板5的剖面。茲將遮蔽板5之本體部11與XY平面P_XY與各YZ迴旋平面相交的點設為點PB1至PF1。在此，在第25圖(b)中，線段O2-PA1與線段O2-PB1與線段O2-PC1與線段O2-PD1與線段O2-PE1與線段O2-PF1係彼此相等。

將與XY平面P_XY與迴旋YZ平面P_YZB正交之平面且包含點PB1之平面設為迴旋XZ平面P_XZB、將與XY平面P_XY與迴旋YZ平面P_YZC正交之平面且包含點PC1之平面設為迴旋XZ平面P_XZC、將與XY平面P_XY與迴旋YZ平面P_YZD正交之平面且包含點PD1之平面設為迴旋XZ平面P_XZD、將與XY平面P_XY與迴旋YZ平面P_YZE正交之平面且包含點PE1之平面設為迴旋XZ平面P_XZE、將與XY平面P_XY與迴旋YZ平面P_YZF正交之平面且包含點PF1之平面設為迴旋XZ平面P_XZF。

在第25圖中，為了防止圖的形態繁雜，僅顯示各XZ迴旋平面中之1個迴旋XZ平面P_XZD。

如前所述，遮蔽板5係設置於保護穿戴者頭部的帽體3而用以覆蓋穿戴者顏面者，其具備有藉由透明體或半透明體形成為彎曲之板狀本體部11、及在該本體部11之下方朝與本體部11相反側彎曲而突出的帽簷部(從本體部11朝穿戴者斜前下方突出的折返部)17而構成。

此外，本體部11係形成為朝前方突出的球殼狀，且上下方向的尺寸在左右方向的中央部為最長，且上下方向的尺寸，隨著朝向左右方向的端部而逐漸變小。

例如，如第26圖、第27圖所示，XY平面P_XY與遮蔽板5之本體部11之下端之間之上下方向的尺寸，在A-A剖面中，係成為143mm左右，在B-B剖面中，係成為142mm左右，在C-C剖面中，成為138mm左右，在D-D剖面中，成為132mm左右，在E-E剖面中，成為118mm左右，而在F-F剖面中，則成為111mm左右。此外，上下方向之尺寸減少的比例會逐漸變大。

此外，在遮蔽板5中，帽體3之開口平面PL(XY平面P_XY)與遮蔽板5之帽簷部17之交叉角度係為45度以上且未達90度。換言之，遮蔽板5之帽簷部17、與各XZ迴旋平面的交叉角度(XY平面P_XY與遮蔽板5之帽簷部17之交叉角度的補角)成為較0度為大且為45度以下。

茲進一步說明，帽體3之開口平面PL(XY平面P_XY)與遮蔽板5之帽簷部17之交叉角度，在YZ平面P_YZ之處(在剖面A-A中)係成為55度左右(例如54.9度)，在剖面B-B剖面中，係成為55度左右(例如55.0度)，在剖面C-C中，係成為55度左右(例如55.3度)，在剖面D-D中，係成為57度左右(例如56.8度)，在剖面E-E中，係成為56度左右(例如56.4度)，而在剖面F-F中，則成為52度左右(例如52.2度)。然而，上述交叉角度並不限定於上述值，上述交叉角度在A-A剖面至F-F剖面中，可為50度至60度的範圍內，更廣泛可為50度至70度的範圍內，更廣泛可為45度至70度的範圍內，更廣泛可如上所述為45度至90度的範圍內。

遮蔽板5之帽簷部17的突出長度(自本體部11突出的長度)，在遮蔽板5之左右方向之中央部為最長，且隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小。此外，遮蔽板5之帽簷部17之突出長度(在遮蔽板5或帽簷部17之左右方向之中央部之自本體部11突出的長度)，係成為10mm至80mm。

例如，如第26圖、第27圖所示，剖面A-A中之帽簷部17的突出長度係成為40mm，剖面B-B中之帽簷部17的突出長度係成為39mm，剖面C-C中之帽簷部17的突出長度係成為36mm，剖面D-D中之帽簷部17的突出長度係成為26mm，剖面E-E中之帽簷部17的突出長度係成為17mm，而剖面F-F中之帽簷部17的突出長度則成為11mm。此外，突出長度減少的比例會逐漸變大。

另外，帽簷部17的突出長度並不限定於上述值，帽簷部17的突出長度，在A-A剖面中，亦可為40mm至50mm，更廣泛可如上所述為30mm至80mm，或亦可為20mm至80mm。在B-B剖面中，可為40mm至50mm之範圍內，更廣泛可為20mm至70mm之範圍內，更廣泛可為15mm至80mm之範圍內。此外，帽簷部17的突出長度，在C-C部面中，可為30mm至40mm之範圍內，更廣泛可為20mm至60mm之範圍內。此外，帽簷部17的突出長度，在D-D剖面中，可為20mm至50mm之範圍內，更廣泛可為15mm至50mm之範圍內。另外，亦可將帽簷部17於D-D剖面中之突出長度，設為10mm至30mm。此外，帽簷部17之突出長度，在E-E剖面中，可為20mm至40mm之範圍內，更廣泛可為15mm至45mm之範圍內。另外，亦可將帽簷部17於E-E剖面中之突出長度設為較0mm為大且為10mm以下。此外，帽簷部17之突出長度，在F-F剖面中，可為20mm至30mm之範圍內，更廣泛可為15mm至35mm之範圍內，再更廣泛可為10mm至35mm之範圍內。另外，亦可取消帽簷部17於F-F剖面中之突出長度。

此外，帽體3之開口平面PL與帽簷部17的交叉角度，如前所述在左右方向的中央部係為55度左右，且在隨著朝向左右方向的端部而逐漸變大成為57度左右之後，又逐漸變小而成為52度左右。

更具體而言，在A-A剖面中，交叉角度成為54.9度，在B-B剖面中，交叉角度成為55.0度，在C-C剖面中，交叉角度成為55.3度，在D-D剖面中，交叉角度成為56.8度，在E-E剖面中，交叉角度成為56.4度，而在F-F剖面中，交叉角度則成為52.2度。

此外，在遮蔽板5中，於左右方向之中央部及其附近的部位，遮蔽板5之本體部11係朝大致上下方向延伸，而於左右方向之端部及其附近的部位，遮蔽板5之本體部11之下端係稍傾斜延伸成位於外側。

亦即，如第26圖所示，在剖面A-A中，遮蔽板5之本體部11之下端(本體部11與帽簷部17的邊界)PA2，係位於XZ平面P_XZ上，而在剖面B-B中，遮蔽板5之本體部11之下端PB2係位於XZ迴旋平面P_XZB上，在剖面C-C中，遮蔽板5之本體部11之下端PC2係位於XZ迴旋平面P_XZC上。

相對於此，如第27圖所示，在剖面D-D中，遮蔽板5之本體部11之下端PD2係位於較XZ迴旋平面P_XZD靠外側(斜前方)，而在XZ迴旋平面P_XZD與遮蔽板5之間，係形成有間隙SD。此外，在剖面E-E中，遮蔽板5之本體部11之下端PE2係位於較XZ迴旋平面P_XZE靠外側(斜前方)，而在XZ迴旋平面P_XZE與遮蔽板5之間，係形成有間隙SE，在剖面F-F中，遮蔽板5之本體部11之下端PF2係位於較XZ迴旋平面P_XZF靠外側(斜前方)，而於XZ迴旋平面P_XZF與遮蔽板5之間，係形成有間隙SF。此外，間隙SE係較間隙SD為大，而間隙SF係較間隙SE為大。換言之，間隙的值，係愈朝遮蔽板5之側方則愈大。

然而，在第25至27圖中，雖係斷續地採取YZ迴旋平面或ZX迴旋平面，惟在斷續地採取之2個YZ迴旋平面或ZX迴旋平面之間，如已所理解，遮蔽板5之形狀係作為插補者。

依據保護帽1，由於遮蔽板5係具備有本體部11及朝與本體部11相反側彎曲而突出之帽簷部17所構成，且帽體3之開口平面PL與帽簷部17之交叉角度為45度以上且未達90度，因此撞上位於被覆位置P3之遮蔽板5之本體部11而反彈的飛來物，被遮蔽板5的帽簷部17干擾，而不會到達保護帽1之穿戴者頸部，可防止撞上保護帽1之穿戴者頸部(例如未被穿戴者穿著之上衣所覆蓋之頸部部位)，而保護穿戴者不會被飛來物撞上。

亦即，可藉由遮蔽板5之本體部11而防止飛來物撞上顏面(正面觀看時之從髮際附近至至下顎之下巴部之最下端之下巴點的顏面部分)，而保護穿戴者不會被飛來物撞上。

此外，藉由遮蔽板5之帽簷部17，可防止飛來物從穿戴者穿著作業衣等之衣服所覆蓋之顏面撞上下胸或腹部等(從正面觀看時之下顎之下巴部之最下端的下巴點靠下的身體部分)，而保護穿戴者不會被飛來物撞上。

尤其是藉由遮蔽板5之帽簷部17，可防止穿戴者即使穿著作業衣等之衣服亦未被覆蓋而露出肌膚之狀態的顎部或頸根等(從正面觀看時之從下顎之下巴部之最下端之下巴點至鎖骨之前頸部(下巴下三角、顎三角、頸動脈三角、筋三角、胸鎖乳突筋部、外側頸三角部、後頸部、大鎖骨上窩、小鎖骨上窩、頸切痕等))，而保護穿戴者不會被飛來物撞上。

此外，依據保護帽1，本體部11之上下方向之尺寸，係隨著朝向本體部11之左右方向之端部而逐漸變小，而帽簷部17之自本體部11突出的突出長度，係隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小。藉此，如第26圖、第25圖之各剖面所示，位於被覆位置P3之遮蔽板5之上下方向之尺寸，即隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小(182mm至121mm)。因此，即使遮蔽板5位於被覆位置P3之保護帽1的穿戴者將頸部朝橫方向彎曲時，亦可防止帽簷部17抵接於保護帽之穿戴者的頸部，穿戴者不會感覺不舒服。再者，藉由設置帽簷部17，可確保遮蔽板5的強度。

帽簷部17之自本體部11突出的突出長度，雖隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小，惟為配合顏面下半部的輪廓(從正面觀看時之由下顎體與下顎枝所構成之下顎骨的輪廓)而使突出長度隨著朝向左右方向之端部而逐漸變小，因此可防止飛來物撞上穿戴者，而保護穿戴者不會被飛來物撞上。

此外，依據保護帽1，藉由將帽體3之開口平面PL與帽簷部17之交叉角度設為52度至57度左右，可使穿戴遮蔽板5位於被覆位置P3之保護帽1之穿戴者的視野良好。亦即，遮蔽板5位於被覆位置P3之保護帽1之穿戴者將視線移至帽簷部17方向(斜下方)時，由於帽簷部17之厚度方向之兩面的展開方向與視線方向大致一致，因此在穿戴者的眼中，會映照帽簷部17為最小或接近此的狀態。再者，會使穿戴者的視野良好。

此外，依據保護帽1，帽體3之開口平面PL與帽簷部17之交叉角度，在左右方向之中央部係為55度左右，而在隨著朝向左右方向之端部而逐漸變大成為57度左右之後，再逐漸變小而成為52度左右，因此相較於交叉角度為例如55度左右成為一定的情形，帽簷部17係成為接近大致平面的形狀。再者，撞上位於被覆位置P3之遮蔽板5之本體部11而反彈的飛來物撞上遮蔽板5之帽簷部17時，相較於交叉角度為55度左右成為一定的情形，會反彈至遮蔽板5的前方。藉此，即可更確實地保護飛來物撞上保護帽1之穿戴者之肩膀等。

另外，由於遮蔽板5之上下方向之尺寸在左右方向的端部較短，因此在左右方向之端部側撞上遮蔽板而反彈的飛來物，撞上穿戴者的可能性會變高。然而，如上所述，在左右方向之端部及其附近的部位，為使遮蔽板5之本體部11之下端位於外側，本體部11係稍傾斜延伸，因此撞上位於被覆位置P3之遮蔽板5之本體部11而反彈的飛來物，相較於本體部11朝上下方向延伸之情形，會朝遮蔽板5之前側稍上方反彈。藉此，可確實地防止飛來物撞上保護帽1之穿戴者之胴部或腳等。

在此說明保護帽1的試驗結果。

如第28圖所示，試驗係以配置人頭模型PM(參照第30圖)、保護帽1、遮蔽板(存在於被覆位置的遮蔽板5)5、及噴霧(spray)罐SPY，且朝向遮蔽板5噴射10秒鐘水性塗料之方式來進行。以人頭模型而言，係使用依據JIST8151所記載之航空醫學實驗隊「航空自衛隊員之身體測定值-裝備品等設計用的人類工學資料」(1972)之尺寸的試驗用人頭。以噴霧而言，係使用Asahipen股份有限公司的Creative Color Spray Gloss(有光澤)66鮮綠色(Fresh Green)。

第28圖所示之參照符號HL係顯示水平線，參照符號VL係顯示垂直線，而參照符號SPB則係概略性顯示塗料的噴射區域。

試驗結果如第29圖所示。第29圖之突出長度帽簷部17之自本體部11突出的突出長度，而第29圖之交叉角度係為帽體3之開口平面PL(XY平面P_XY)與遮蔽板5之帽簷部17之交叉角度。

第29圖所示之○符號，係為在人頭模型PM之顏面部或頭部與頸部部分無塗料附著者。只要是○符號，在含人頭模型PM之顎部之顏面與顏面以外之頭部(頸部以上的部分)都無附著塗料，因此可充分達成目的。

第29圖所示之△符號，係為在人頭模型PM之顏面部或頭部與頸部的大部分無塗料附著者。然而，在頸部的根部(頸部與胴體之邊界及其附近部位)則為有塗料附著者。△符號者，係應節制使用。

第29圖所示之×符號，係在人頭模型PM之顎部或頸部有塗料附著者，當然應該節制使用。

另外，在第29圖中，雖僅顯示中央部的突出長度作為突出長度，惟在中央部之突出長度為80mm者中，左右方向之兩端部中之突出長度係例如為35mm，而在中央部之突出長度為70mm者中，左右方向之兩端部中之突出長度係例如為35mm，而在中央部之突出長度為40mm者中，左右方向之兩端部中之突出長度係例如為35mm，而在中央部之突出長度為30mm者中，左右方向之兩端部中之突出長度係例如為10mm，而在中央部之突出長度為20mm者中，左右方向之兩端部中之突出長度係例如為10mm。

1．．．保護帽

3．．．帽體

5．．．遮蔽板

7．．．導引手段

9．．．開口部

10．．．帽簷部

11．．．本體部

13．．．保持手段

15．．．凹部

17．．．帽簷部

509．．．導引構件

510．．．部位

511．．．組裝體

513．．．撞擊吸收構件

515．．．下顎繩

517．．．內帽網

519．．．帽體本體部

523．．．導引部

525．．．卡合部

527．．．中央部位

529．．．第1半圓狀端部曲線

531．．．第2半圓狀端部曲線

533．．．空間

535．．．貫通孔

537．．．貫通孔

539．．．貫通孔

541．．．第1側方部位

543．．．第2側方部位

545．．．下部左側交叉點

547．．．下部中央交叉點

549．．．下部右側交叉點

551．．．左端

553．．．右端

555．．．上部左側交叉點

557．．．上部中央交叉點

559．．．上部右側交叉點

561、561A．．．中央部位卡合部

563．．．中央部位被卡合部

565．．．第1側方部位卡合部

567．．．第1側方部位被卡合部

569．．．第2側方部位卡合部

571．．．第2側方部位被卡合部

573．．．第1中央部位卡合部

575．．．第2中央部位卡合部

579．．．前方貫通孔

581．．．後方貫通孔

583．．．突起

585、585A、585B、585C、585D．．．帽體卡扣部

587、587A、587B、587C、587D．．．導引構件卡扣部

589．．．被卡扣部

595．．．圓柱狀部位

597．．．附帶凸緣之構件

599．．．凸緣部

601．．．凸緣部

603．．．設置部

605．．．貫通孔

607．．．第1筒狀構件

609．．．第2筒狀構件

611．．．鉚釘

615．．．上端部位

617．．．兩端部

619．．．離間部位

621．．．斜錐部

623．．．貫通孔

625．．．凹部

627．．．突起

629．．．間隙

631．．．墊料

631A．．．墊料

633．．．被卡扣部

PL．．．開口平面

C1．．．軸

D501．．．外徑

D503．．．直徑

EY．．．眼睛

L11、L21、L31、L32．．．光程長度

L501．．．距離

O1、O2．．．中心

P1．．．收納位置

P3．．．被覆位置

PA2、PB2、PC2、PD2、PE2、PF2．．．下端

PL．．．開口平面

PM．．．人頭模型

SD、SE、SF．．．間隙

SPY．．．噴霧罐

第1圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的斜視圖。

第2圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的正面圖。

第3圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的側面圖。

第4圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的斜視圖。

第5圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的正面圖。

第6圖係為穿戴者穿戴遮蔽板位於收納位置之保護帽時的側面圖。

第7圖係為顯示保護帽之概略構成之分解斜視圖。

第8圖係為顯示保護帽之概略構成之剖面圖。

第9圖係為保護帽之正面圖，且為第8圖中之IX箭頭圖。

第10圖係為保護帽之底面圖，且為第8圖中之X箭頭圖。

第11圖(a)至(c)係為顯示帽體與導引構件之卡合狀態、帽體與顎部繩或內帽網之卡合狀態之圖。

第12圖係為顯示導引構件與遮蔽構件之組裝體之圖，(a)係為組裝體之正面圖，(b)係為(a)之XIIB箭頭圖。

第13圖係為導引構件與遮蔽板之組裝體之圖，(a)係為第12圖(a)之XIIIA箭頭圖，(b)係為第12圖(b)之XIIIB-XIIIB剖面圖。

第14圖係為顯示導引構件中之導引部等之詳細內容之圖，(a)係為第13圖(b)之XIVA部的放大圖，(b)係為(a)之XIVB箭頭圖，且為第18圖(b)之XIVB部的放大圖。

第15圖係為顯示帽體之概略構成圖，(a)係為正面圖，(b)係為(a)之XVB箭頭圖，(c)係為(a)之XVC箭頭圖。

第16圖係為顯示設於帽體之側方部位被卡合部的圖，(c)係為(a)之XVIC箭頭圖，(b)係為(c)之XVIB箭頭圖，(d)係為顯示(b)之XVID-XVID剖面之圖。

第17圖係為顯示設於帽體之中央部位被卡合部的圖，(b)係為(a)之XVIIB箭頭圖。

第18圖係為顯示導引構件的圖，(a)係為正面圖，(b)係為(a)之XVIIIB箭頭圖。

第19圖係為顯示導引構件的圖，(a)係為第18圖(a)之XIXA箭頭圖，(b)係為(a)之XIXB-XIXB剖面的圖，(c)係為(a)之XIXC-XIXC剖面的圖。

第20圖係為顯示導引構件卡扣部的圖，(c)係為(a)之XXC箭頭圖，(b)係為(c)之XXB箭頭圖，(d)係為顯示(b)之XXD-XXD剖面的圖，(g)係為(e)之XXG箭頭圖，(f)係為(g)之XXF箭頭圖，(h)係為顯示(f)之XXH-XXH剖面的圖。

第21圖係為顯示遮蔽板之圖，(a)係為正面圖，(b)係為(a)之XXIB箭頭圖，(c)係為(b)之XXIC箭頭圖，(d)係為顯示(b)之XXID-XXID剖面的圖。

第22圖係為顯示遮蔽板的圖，(a)係為第21圖(a)之XXIIA箭頭圖，(b)係為第21圖(a)之XXIIB-XXIIB剖面的圖。

第23圖係為顯示第21圖(a)之XXIII-XIII剖面的圖。

第24圖係為顯示遮蔽板的剖面圖且為與第23圖對應的圖。

第25圖係為顯示遮蔽板的具體形狀圖，(b)係為(a)之XXVB箭頭圖，且為與第21圖(b)相同的圖，(c)係為顯示(b)之A-A剖面的圖且為與第22圖(b)相同的圖。

第26圖係為顯示遮蔽板之具體形狀的圖，且為第25圖(b)之A-A剖面、B-B剖面、C-C剖面的圖。

第27圖係為顯示遮蔽板之具體形狀圖，且為第25圖(b)之D-D剖面、E-E剖面、F-F剖面的圖。

第28圖係為顯示進行遮蔽板之保護功能之實驗時之保護帽等之配置狀態的圖。

第29圖係為顯示遮蔽板之保護功能之實驗結果的圖。

第30圖係為顯示人頭模型的圖。