TWI534106B - Wastewater treatment method and treatment device - Google Patents

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TWI534106B TW102141383A TW102141383A TWI534106B TW I534106 B TWI534106 B TW I534106B TW 102141383 A TW102141383 A TW 102141383A TW 102141383 A TW102141383 A TW 102141383A TW I534106 B TWI534106 B TW I534106B
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Description

廢水處理方法及處理裝置
本發明係關於一種自化學設備(plant)、電子零件製造設備、食品加工設備、金屬加工設備、金屬鍍敷設備、印刷製版設備、發電設備、照片處理設備等各種產業設備排出之含有氨或有機態氮化合物的廢水處理方法及處理裝置。
已知有如下方法：利用蒸汽汽提(steam stripping)或空氣汽提等處理，使自化學設備、電子零件製造設備、食品加工設備、金屬加工設備、金屬鍍敷設備、印刷製版設備、發電設備、照片處理設備等各種產業設備排出之含有氨或甲基胺、二甲基胺(DMA)、丙基胺、氫氧化四烷基銨(TMAH)等會擴散之有機態氮化合物之廢水中的例如含有氨之廢水自水中放散，並使用觸媒使放散之氨分解為氮氣與水(例如日本特開平8-197039號公報)。
具體而言，如圖1所示，例如，使於包含氨態氮之廢水1添加鹼2例如氫氧化鈉而轉換為氨之含氨廢水3通過原液預熱器4，藉此進行預熱。將經預熱之廢水供給至汽提塔5，藉由另行供給至汽提塔5內之蒸汽31或空氣等氣體而進行汽提處理。於汽提處理後，自汽提塔5之塔頂以含氨之放散氣體的形式排出。其後，放散氣體係於經由管路6添加加熱空氣後，藉由氣體預熱器7而進行預熱。預熱後，經由管路8，藉由氣體加熱 器10而加熱至特定溫度後，供給至觸媒反應器9，將氨分解為氮氣及水。
於觸媒反應器經分解處理而排出之分解氣體，係導入至氣體預熱器7而對觸媒處理前之放散氣體進行加熱，自氣體預熱器7排出之分解氣體係於空氣預熱器13中對稀釋空氣進行預熱。自空氣預熱器13排出之分解氣體係經由引風機(induced draft fan)14自煙筒39向外部排出。該等氨排水之處理設備中，主要之動力機械係氨廢水供給泵18、氣體加熱器10中之輔助燃料15的燃燒空氣16之供給泵17等各種泵類、放散空氣排風機(blower)、誘導排風機(induced draft blower)等各種排風機類。其中，誘導排風機之動力占設備整體約80%。
通常，已知於使用觸媒對含有氨或有機氮化合物等之被處理氣體進行分解處理的情形時，為了防止觸媒之劣化而必須將供給至觸媒反應器之氣體的水分濃度設為15Vol%、較理想為10Vol%以下。另一方面，必須以觸媒反應器內之反應溫度成為300℃~500℃之方式進行運轉。若反應溫度未達300℃則有產生氨未分解之虞，另一方面，若超過500℃則有分解氣體中之NOx產生量增加，又，觸媒之熱劣化惡化之虞。
再者，於被處理氣體中之氨或有機氮化合物利用觸媒而分解時產生氧化熱(例如，氨之氧化熱係每100Vol.ppm為約1.1℃)，該氧化熱有助於維持觸媒反應器內之溫度。若考慮該等，則較理想為觸媒入口之氨濃度設為0.6~1.2Vol%。
然而，於廢水中之氨濃度或有機氮化合物濃度低之情形時，例如於廢水中所含之氨濃度為3000mg/l以下之情形時，蒸氣放散後之塔頂放散氨濃度成為數Vol%左右之飽和蒸氣，但為了以空氣稀釋該放散氣體之水分濃度成為10Vol%以下，需要大量空氣，其結果為，與稀釋空氣混合之氨氣中之氨濃度成為0.1~0.4Vol%。因此，為了於觸媒反應器中維持分解需要之300~500℃，而需要使用有燃燒器或電加熱器等外部能量加熱，從而 有消耗電能或燃料消耗量增加之虞。又，由於稀釋空氣量增加，故而應處理之氣體量增加，因此，需要引風機之大型化、負載增大，結果而言有消耗電能增加之虞。
另一方面，作為降低觸媒反應器入口氣體水分濃度之對策，雖有利用空氣汽提之去除方法，但與蒸汽汽提相比去除效率惡化，從而導致處理氣體體積(volume)增大，於該態樣中亦導致設備之大型化及運轉成本提高成為問題。
[專利文獻1]日本特開平8-197039號公報
因此，本發明之主要課題，在於即便於廢水中所含之氨、或有機態氮化合物之濃度低的情形時，亦降低觸媒反應設備之燃料消耗量或電力消耗量，抑制觸媒之劣化。
解決上述課題之本發明係如下。
<請求項1記載之發明>
一種廢水處理方法，其係將含有氨或有機態氮化合物之至少一者的廢水導入汽提塔，於汽提塔中自下部吹入放散蒸氣而進行汽提處理，將自汽提塔排出之含有上述廢水中所含之氨或有機態氮化合物之至少一者的放散氣體、與稀釋空氣加以混合，並將混合之放散氣體導入觸媒反應器進行處理，其特徵在於：於使上述汽提塔內之壓力高於該觸媒反應器之壓力的狀態進行汽提處理，使自汽提塔之塔頂部排出之上述放散氣體的一部分凝結，使其回流至汽提塔上部，且將殘留放散氣體導入觸媒反應器；將上述殘留放散氣體、與稀釋空氣加以混合，將經混合之放散氣體導 入觸媒反應器進行處理，藉由自上述觸媒反應器排出之分解氣體而實現經混合之放散氣體之預熱及上述稀釋空氣之預熱，除此以外，於放散氣體之處理系統中未藉由外部熱能進行加熱。
(作用效果)
若使自汽提塔之塔頂部排出含有上述氨或有機態氮化合物之至少一者的放散氣體之一部分凝結，則即便於廢水中之氨或有機態氮化合物濃度低之情形時，亦可提高放散氣體之氨濃度。因此，可抑制或無需為了維持分解觸媒中之反應溫度(300℃~500℃之溫度)範圍而必需使用氣體加熱器，可削減運行成本，又，可於大氣壓以上自汽提塔排出放散氣體，故而可省略引風機，不僅有助於降低生產成本(initial cost)而且有助於削減消耗電能。
<請求項2記載之發明>
如請求項1之廢水處理方法，其中，以汽提塔之塔頂部溫度成為一定或特定之溫度範圍的方式控制放散氣體之凝結回流量。
(作用效果)
藉由以汽提塔之塔頂部溫度成為一定或特定之溫度範圍的方式控制凝結回流量，即便廢水中之氨、或有機態氮化合物濃度發生變動，亦可將放散氣體中之氨或有機態氮化合物濃度保持為一定或特定濃度範圍。
<請求項3記載之發明>
如請求項1或2之廢水處理方法，其中，上述將殘留放散氣體導入觸媒反應器之處理，係將殘留放散氣體導入具有反應溫度為300℃~500℃之分解觸媒的觸媒反應器；上述汽提塔內之上述壓力為大氣壓以上，於排出來自上述觸媒反應器之分解氣體時不使用引風機。
(作用效果)
可無需獲得觸媒反應器之反應溫度(300℃~500℃之溫度)範圍必需的 外部熱能，從而降低大量運轉成本。
<請求項4記載之發明>
如請求項1之廢水處理方法，其中，上述汽提塔內之壓力、與上述觸媒反應器之壓力差ΔP為0<ΔP≦0.05MPa。
(作用效果)
確保處理系統之氣體等流動。
<請求項5記載之發明>
一種廢水處理裝置，具備有：汽提塔，其將含有氨或有機態氮化合物之至少一者之廢水導入汽提塔，於汽提塔中自下部吹入放散蒸氣而進行汽提處理；混合手段，其將自汽提塔排出之含有上述廢水中所含之氨或有機態氮化合物之至少一者的放散氣體、與稀釋空氣加以混合；及觸媒反應器，其將混合之放散氣體分解；其特徵在於，具備有：從自上述汽提塔之塔頂部至上述混合手段之放散氣體流路分支，使放散氣體之一部分凝結，使其回流至汽提塔上部的手段；及設置於放散氣體流路之壓力調整手段。
(作用效果)
取得與請求項1記載之發明同樣之作用效果。
<請求項6記載之發明>
如請求項5之廢水處理裝置，其具有回流量控制系統，即以汽提塔之塔頂部溫度成為一定或特定之溫度範圍的方式控制上述回流手段放散氣體之凝結回流量。
(作用效果)
取得與請求項3記載之發明同樣之作用效果。
如上，根據本發明，即便於廢水中之氨或會放散之有機氮化合物濃度低的情形時，亦可降低廢水處理設備之消耗電能、燃料消耗量， 抑制觸媒之劣化。
1‧‧‧廢水
2‧‧‧鹼
3‧‧‧含氨廢水
4‧‧‧原液預熱器
5‧‧‧汽提塔
6‧‧‧管路
6A、6B‧‧‧分支路徑
8‧‧‧管路
7‧‧‧氣體預熱器
9‧‧‧觸媒反應器
10‧‧‧氣體加熱器
12‧‧‧稀釋空氣排風機
13‧‧‧空氣預熱器
14‧‧‧引風機
15‧‧‧輔助燃料
16‧‧‧燃燒空氣
17‧‧‧供給泵
18‧‧‧氨廢水供給泵
21‧‧‧流量調整閥
22‧‧‧壓力調整閥
23‧‧‧溫度檢測手段
31‧‧‧蒸汽
32‧‧‧流路
33‧‧‧凝結器
34‧‧‧回流槽
35‧‧‧回流路徑
36‧‧‧冷卻水
39‧‧‧煙筒
圖1係習知例之流程圖(flow sheet)。
圖2係本發明例之流程圖。
以下，一面參照隨附之圖2，一面對本發明之一實施形態進行詳細說明。再者，以下較佳之實施形態說明只不過為本質上之例示，並未意圖限制本發明之應用或其用途。
亦有與習知例基本共通之部分，若不嫌重複進行說明，則使對包含氨之廢水1添加鹼2、例如氫氧化鈉，而轉換為氨之含氨廢水3通過原液預熱器4，藉此預熱至70~85℃後，供給至汽提塔5進行汽提處理。
以廢水1之pH值為10~13、較理想為11~12之方式，於預熱前添加鹼2、例如氫氧化鈉。於原液預熱器4，與自汽提塔5下部排出之凝結液進行熱交換，對廢水進行預熱後，供給至汽提塔5進行汽提處理。
於汽提塔中，構成為填充有塔板(tray)等層板或環等填充物之塔，將廢水自上部噴霧，並吹入來自下部之作為放散蒸氣的蒸汽31，使之對流接觸，藉此進行汽提處理。自汽提塔5下部排出之汽提處理液係通過流路32，於在原液預熱器4中加熱廢液1後向系統外排出。
伴隨汽提處理生成之含氨氣體係作為放散氣體而經由管路6，自汽提塔5之塔頂部排出。
於本發明中，於管路6設有分支路徑6A、6B，且於分支路徑6A設有將放散氣體之一部分回流至汽提塔之回流手段。回流手段係由如下構成： 凝結器33，其使放散氣體之一部分凝結且設置於分支路徑6A端部；回流槽34，其將已凝結之氨貯存；回流路徑35，其包含使已貯存之凝結液回流至汽提塔5上部之回流泵。再者，於分支路徑6A、分支路徑6B，分別設有流量調整閥21、壓力調整閥22。
於凝結器33中，藉由來自外部之冷卻水36進行凝結操作。
放散氣體含氨氣體之一部分的移行量、即經由分支路徑6A向凝結器33之移行量能以管路6之溫度成為特定溫度範圍(例如95℃~97℃)的方式，基於溫度檢測手段23之檢測值調整流量調整閥21之開度，從而控制分支流量。
另一方面，壓力調整閥22係以較調整閥更靠上游側之壓力為大的方式調整壓力。於將汽提塔塔頂壓力，與壓力調整閥22下游之觸媒反應步驟的壓力差設為ΔP時，以成為0<ΔP≦0.1MPa、較佳為0<ΔP≦0.05MPa之方式調整壓力調整閥22之開度。藉由有意地提高汽提塔側之壓力，而可利用該壓力差將含氨氣體供給至觸媒反應器。再者，亦可更換流量調整閥21、壓力調整閥22之功能，而將流量調整閥21作為壓力調整用、將壓力調整閥22作為分支路徑6A之流量調整用。又，壓力調整閥22可將汽提塔內設為高於分解反應器之壓力即可，亦可設置孔口(orifice)等背壓手段來代替閥。
殘留含氨氣體係於通過分支路徑6B中，與自稀釋空氣排風機12供給並經空氣預熱器13預熱之加熱空氣於混合部40加以混合後，以氣體預熱器7進行加熱。氣體預熱器7之加熱源較佳為設為自觸媒反應器9排出之分解氣體。混合放散氣體係經由管路8導入觸媒反應器9。再者，於管路8上，根據需要可設置用以對含氨氣體進行再加熱之電加熱器或燃燒器等利用外部熱能的加熱手段(未圖示)，但基本上不需要。
較理想為基於觸媒反應器9出口之溫度指示調節計T之溫 度信號，控制利用稀釋空氣排風機12向空氣預熱器13之稀釋空氣的吹入空氣量。
雖未圖示，但如上所述，於在管路8設置用以對含氨氣體進行再加熱之電加熱器或燃燒器等利用外部熱能之加熱手段(未圖示)的情形時，可進一步基於觸媒反應器9入口之含氨氣體的溫度，利用流量控制閥(未圖示)進行經由該加熱手段之混合放散氣體的流量控制。
經氣體預熱器7加熱之含氨氣體係供給至觸媒反應器9。於觸媒反應器9內，分解反應觸媒與氨成分反應，除含氨氣體本身之溫度以外，藉由氨之自氧化熱而將環境溫度設為350℃~500℃。
作為於觸媒反應器9中使用之氨及有機態氮化合物之分解反應觸媒，上述觸媒可列舉含有作為觸媒A成分之包含Ti的氧化物、作為觸媒B成分之選自由釩、鎢及鉬組成之群中之至少1種的金屬或氧化物、及作為觸媒℃成分之選自由鉑、鈀、銠、釕、銥、鉻、錳、鐵、銅組成之群中之至少1種金屬或氧化物的觸媒，但並不限定於此，可無限制地使用公知者，可列舉先前文獻1或國際公開WO02009/075311等中記載之例。
於觸媒反應器9分解為氮氣或水之氨係作為分解氣體而由氣體預熱器7之熱源利用。又，於氣體預熱器7進行熱交換之分解氣體供給至空氣預熱器13，用於稀釋空氣之加熱。自空氣預熱器13排出之分解氣體係自煙筒39向外部排出。再者，亦可設為於觸媒反應器9之下游設置空氣預熱器13，於該空氣預熱器13之下游設置氣體預熱器7的構成。
[實施例1]
使用作為本發明1例之圖2記載的設備進行以下廢水處理。
．廢水量：3m3/h，廢水中之NH3濃度：3000mg/l
其結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為11.5Vol%，處理氣體量成為1100Nm3/h，無需另行利用加熱燃燒器進行再加熱，而可 於觸媒反應器中進行處理，再者，不使用引風機而可處理放散氣體。
[比較例1]
另一方面，使用作為習知設備之圖1處理同樣之廢水，結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為4.5Vol%，處理氣體量成為3100Nm3/h，為了於觸媒反應器內進行處理，於觸媒反應器前段需要利用加熱燃燒器再加熱。此時燃料消耗量為3.0Nm3/h(LPG換算)。進而，引風機需要相當於動力11kW之能量。
[實施例2]
使用作為本發明1例之圖2記載的設備，實施濃度進一步低之廢水處理。
．廢水量：10m3/h，廢水中之NH3濃度：500mg/l
其結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為12.5Vol%，處理氣體量成為520Nm3/h，無需另行利用加熱燃燒器進行再加熱，而可於觸媒反應器中進行處理，再者，不使用引風機而可處理放散氣體。
[比較例2]
另一方面，使用作為習知設備之圖1處理同樣之廢水，結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為1.1Vol%，處理氣體量成為6300Nm3/h，為了於觸媒反應器內進行處理，於觸媒反應器前段需要利用加熱燃燒器再加熱。此時燃料消耗量為9.0Nm3/h(LPG換算)。進而，引風機需要相當於動力45kW之能量。
[實施例3]
使用作為本發明1例之圖2記載的設備，實施含有作為有機態氮化合物之二甲基胺(DMA)之廢水處理。
．廢水量：3m3/h，廢水中之DMA濃度：1000mg/l
其結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為2.8Vol%，處 理氣體量成為570Nm3/h，無需另行利用加熱燃燒器進行再加熱，而可於觸媒反應器中進行處理，再者，不使用引風機而可處理放散氣體。
[比較例3]
另一方面，使用作為習知設備之圖1處理同樣之廢水，結果為，來自汽提塔5頂部之放散氣體中，氨濃度成為0.72Vol%，處理氣體量成為2170Nm3/h，為了於觸媒反應器內進行處理，於觸媒反應器前段需要利用加熱燃燒器再加熱。此時燃料消耗量為2.8Nm3/h(LPG換算)。進而，引風機需要相當於動力10kW之能量。
實施例1至實施例3之結果意味著可確實地取得本發明之上述效果。
[產業上之可利用性]
於本實施例中，以含有氨及二甲基胺之廢水為對象，但並不限定於此，亦可應用於含有甲基胺、丙基胺、氫氧化四烷基銨(TMAH)等會放散之有機態氮化合物之廢水處理。
1‧‧‧廢水
2‧‧‧鹼
3‧‧‧含氨之廢水
4‧‧‧原液預熱器
5‧‧‧汽提塔
6‧‧‧管路
6A‧‧‧分支路徑
6B‧‧‧分支路徑
7‧‧‧氣體預熱器
8‧‧‧管路
9‧‧‧觸媒反應器
12‧‧‧稀釋空氣排風機
13‧‧‧空氣預熱器
21‧‧‧流量調整閥
22‧‧‧壓力調整閥
23‧‧‧溫度檢測手段
31‧‧‧蒸汽
32‧‧‧流路
33‧‧‧凝結器
34‧‧‧回流槽
35‧‧‧回流路徑
39‧‧‧排氣筒
40‧‧‧混合部

Claims (6)

  1. 一種廢水處理方法，其係將含有氨或有機態氮化合物之至少一者的廢水導入汽提塔，於汽提塔吹入放散蒸氣而進行汽提處理，將自汽提塔排出之含有該廢水中所含之氨或有機態氮化合物之至少一者的放散氣體、與稀釋空氣加以混合，並將混合之放散氣體導入觸媒反應器進行處理，其特徵在於：於使該汽提塔內之壓力高於該觸媒反應器之壓力的狀態進行汽提處理，使自汽提塔之塔頂部排出之該放散氣體的一部分凝結，使其回流至汽提塔上部，且將殘留放散氣體導入觸媒反應器；將該殘留放散氣體與稀釋空氣加以混合，將經混合之放散氣體導入觸媒反應器進行處理，藉由自該觸媒反應器排出之分解氣體而實現經混合之放散氣體之預熱及該稀釋空氣之預熱，除此以外，於放散氣體之處理系統中未藉由外部熱能進行加熱。
  2. 如申請專利範圍第1項之廢水處理方法，其中，以汽提塔之塔頂部放散氣體溫度成為一定或特定之溫度範圍的方式控制放散氣體之凝結回流量。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之廢水處理方法，其中，上述將殘留放散氣體導入觸媒反應器之處理，係將殘留放散氣體導入具有反應溫度為300℃~500℃之分解觸媒的觸媒反應器，上述汽提塔內之上述壓力為大氣壓以上，於排出來自上述觸媒反應器之分解氣體時不使用引風機。
  4. 如申請專利範圍第1項之廢水處理方法，其中，該汽提塔內之壓力、與該觸媒反應器之壓力差ΔP為0<ΔP≦0.05MPa。
  5. 一種廢水處理裝置，具備有：汽提塔，其將含有氨或有機態氮化合 物之至少一者之廢水導入汽提塔，於汽提塔吹入放散蒸氣而進行汽提處理；混合手段，其將自汽提塔排出之含有該廢水中所含之氨或有機態氮化合物之至少一者的放散氣體、與稀釋空氣加以混合；及觸媒反應器，其將混合之放散氣體分解；其特徵在於，具備有：從自該汽提塔之塔頂部至該混合手段之放散氣體流路分支，使放散氣體之一部分凝結，使其回流至汽提塔上部的手段；及設置於放散氣體流路之壓力調整手段。
  6. 如申請專利範圍第5項之廢水處理裝置，其具有回流量控制系統，即以汽提塔之塔頂部溫度成為一定或特定之溫度範圍的方式控制該回流手段放散氣體之凝結回流量。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI577642B (zh) * 2014-09-22 2017-04-11 雷賽克實業股份有限公司 由廢水中回收氨且製備硫酸鈣固體與氯化鈣溶液的方法
CN110615494B (zh) * 2019-10-31 2023-11-10 格琳嘉(杭州)科技发展有限公司 复杂dmf废水回收dmf后的后处理装置及方法
EP4143138A1 (de) * 2020-04-27 2023-03-08 Covestro Deutschland AG Verfahren zur reinigung von mit nitrobenzol belasteten wässrigen abwasserströmen
CN112960836A (zh) * 2021-03-08 2021-06-15 沈阳大学 一种催化剂生产废水的处理方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5335257A (en) * 1976-09-14 1978-04-01 Hitachi Zosen Corp Method for treating drainage containing ammonia by steam stripping
JPS5478857A (en) * 1977-12-05 1979-06-23 Kurita Water Ind Ltd Appartus for treating water containing ammonia
DE4324410C1 (de) * 1993-07-21 1994-08-04 Enviro Consult Ingenieurgesell Verfahren zum Entfernen von Ammonium aus dem Zentratwasser einer biologischen Abwasserreinigungsanlage
JP3698748B2 (ja) * 1995-01-27 2005-09-21 株式会社日本触媒 アンモニア含有廃水の処理方法
JPH10156390A (ja) * 1996-11-27 1998-06-16 Ebara Corp アンモニア含有流動性廃棄物の処理方法
JPH1177024A (ja) * 1997-09-01 1999-03-23 Ebara Corp アンモニア含有排水の処理方法
DE19808433A1 (de) * 1998-03-02 1999-09-09 Fresenius Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung oder Reduzierung des Ammonium-Anteils aus Abwässern
JP4283949B2 (ja) * 1999-09-21 2009-06-24 三菱化工機株式会社 アンモニア、ヒドラジン及びメチルエチルケトンを含有する排水の処理方法
JP3667597B2 (ja) * 2000-05-12 2005-07-06 三菱住友シリコン株式会社 半導体製造工程から排出されるアンモニア含有排水の処理方法
JP4333859B2 (ja) * 2000-07-18 2009-09-16 大阪市 アンモニア含有水の処理方法
JP2002052379A (ja) * 2000-08-09 2002-02-19 Babcock Hitachi Kk アンモニア含有排水の浄化方法および装置
FR2817547B1 (fr) * 2000-12-01 2003-08-22 Total Raffinage Distribution Procede et dispositif pour le traitement en continu d'eaux usees d'origine industrielle par strippage a la vapeur d'eau
JP2003145136A (ja) * 2001-02-02 2003-05-20 Nippon Shokubai Co Ltd 廃水の処理方法及び処理装置
JP2002301468A (ja) * 2001-02-02 2002-10-15 Nippon Shokubai Co Ltd 廃水の浄化方法及び浄化装置
JP2003175385A (ja) * 2001-12-12 2003-06-24 Nippon Shokubai Co Ltd アンモニア含有廃水の浄化方法
JP2004033929A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Nippon Shokubai Co Ltd 廃水の処理方法及び処理装置
JP2004190961A (ja) * 2002-12-12 2004-07-08 Fuji Electric Systems Co Ltd アンモニア除去設備
JP2004261692A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 排水処理装置

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