JP5398881B2 - Voc含有ガスの処理装置および処理方法 - Google Patents

Voc含有ガスの処理装置および処理方法 Download PDF

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本発明は、アルコール、パラフィン系炭化水素、アセチレン系炭化水素、芳香族系炭化水素、ケトン類、エステル類などのVOC(揮発性有機化合物)を含有するVOC含有ガスを、触媒と酸素により酸化分解して無害化処理するVOC含有ガスの処理装置および処理方法に関するものである。
VOCの処理方法としては、放散塔による放散処理、燃焼装置による直燃法、オゾン酸化法、吸着法、触媒酸化法などが挙げられる。このうち、放散処理は排水中のVOC成分を放散して凝縮させるのみであってその凝縮廃液が残されてしまい、また直燃法は高温加熱が必要で燃料費が多くなり、さらにオゾン酸化法や吸着法は低温での処理が可能であるものの二次処理が必要となるなどの問題がそれぞれあることから、近年では特許文献1に記載されたような触媒を用いた触媒酸化法が多く用いられるようになっている。
ここで、触媒を用いたこの触媒酸化法を採用した場合、触媒反応器の触媒を保護する目的から、触媒反応器に供給するVOC含有ガスの温度を制御する必要がある。そこで、例えば特許文献2には、触媒燃焼炉へ供給するVOC含有ガスを予熱する熱交換器を複数に分割し、各熱交換器の触媒燃焼炉から排出される燃焼排ガスの流路と触媒燃焼炉へのVOC含有ガスの供給流路をそれぞれ直列に接続し、さらにこの供給流路にバイパス流路を設けてVOC含有ガスを予熱し、このVOC含有ガスに起動炉を介して燃焼空気を混合して触媒燃焼炉により処理することが提案されている。
また、特許文献3には、VOC含有ガスの一部を触媒反応器から排出される排ガスと第1熱交換器において熱交換して加熱し、残りのVOC含有ガスは第1熱交換器をバイパスさせて、加熱されたVOC含有ガスの上記一部と混合し、こうして混合したVOC含有ガスをさらに第2熱交換器で上記排ガスと熱交換することで、触媒反応器に供給されるVOC含有ガスを温度むらなくコントロールすることが提案されている。
特公平8−24819号公報 実開平6−22729号公報 特開2001−74205号公報
ところが、このうちまず特許文献2では、VOC含有ガスに燃焼空気を混合する起動炉は、起動時に燃焼触媒を予熱するために補助燃料を助燃バーナにより燃焼させるためのものとされ、通常の運転時には必要でないものとされているが、実際には通常の運転時に混合される燃焼空気の温度によっては、予熱されたVOC含有ガスの温度が低下したりするおそれがあるため、常時助燃バーナによって補助燃料を燃焼させ続けなければならなくなり、運転コストの上昇を招くのは勿論、触媒燃焼炉に供給されるVOC含有ガスに温度むらが生じやすくなる。
一方、特許文献3に記載の処理装置および処理方法では、触媒反応器に供給されるVOC含有ガスの全量が上記第2熱交換器において熱交換されることから、この第2熱交換器の大型化が避けられず、またVOCの成分によっては熱交換器の閉塞や、腐食等による早期の劣化のおそれが懸念される。さらに、第1熱交換器において加熱されるのも、一部とは言えVOC含有ガスであるので、長期の運転のうちにはやはりVOC成分による閉塞や腐食が発生することが避けられない。
本発明は、このような背景の下になされたもので、低コスト、省エネルギーでありながら触媒反応器に供給されるVOC含有ガスの温度むらを防ぎつつ、触媒反応器によって処理された処理ガスを熱源としてVOC含有ガスを加熱する加熱手段における閉塞や腐食を防ぐことが可能なVOC含有ガスの処理装置および処理方法を提供することを目的としている。
上記課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明のVOC含有ガスの処理装置は、VOCを含有するガスと空気加熱手段によって加熱された空気とを混合する第1混合手段と、この第1混合手段によって混合された混合ガスのうち一部の混合ガスを分岐するバイパス経路と、上記混合ガスのうち残りの混合ガスを加熱する混合ガス加熱手段と、この混合ガス加熱手段によって加熱された上記残りの混合ガスと上記バイパス経路を経て分岐した上記一部の混合ガスとを混合する第2混合手段と、この第2混合手段によって混合された混合ガスを触媒に反応させて処理する触媒反応器と、この触媒反応器によって処理された処理ガスを上記混合ガス加熱手段に供給する処理ガス供給経路と、上記触媒反応器によって無害化処理されるとともに上記混合ガス加熱手段の熱源とされて冷却された上記処理ガスを排出する誘引ファンとを備えることを特徴とし、また本発明のVOC含有ガスの処理方法は、VOCを含有するガスと空気加熱手段によって加熱された空気とを混合して混合ガスとし、この混合ガスのうち一部の混合ガスをバイパス経路に分岐させるとともに、残りの混合ガスを混合ガス加熱手段によって加熱し、この加熱された上記残りの混合ガスと上記バイパス経路を経て分岐した上記一部の混合ガスとを混合して触媒反応器により触媒に反応させて処理し、この触媒反応器によって処理された処理ガスを上記混合ガス加熱手段に供給し、上記触媒反応器によって無害化処理されるとともに上記混合ガス加熱手段の熱源とされて冷却された上記処理ガスを、誘引ファンを経て排出することを特徴とする。
このようなVOC含有ガスの処理装置および処理方法において、VOC含有ガスは、まず空気加熱手段によって加熱された空気と第1混合手段において混合されて加熱され、こうして混合された混合ガスは、その一部がバイパス経路に分岐される一方、残りは触媒反応器により処理された処理ガスを熱源とする混合ガス加熱手段において熱交換されて加熱され、第2混合手段において上記一部の混合ガスと再び混合されることにより、触媒による酸化分解処理に適した温度に調整される。そして、こうして温度調整されたVOC含有ガスは、上述のように触媒反応器によって酸化分解処理されて高温の処理ガスとなり、この処理ガスを熱源として上記残りの混合ガスが加熱させられる。
このため、本発明の処理装置および処理方法によれば、こうして触媒反応器において処理された処理ガスを熱源として、触媒反応器に供給されるVOC含有ガスと空気との混合ガスのうち上記残りの混合ガスが加熱させられるため、省エネルギーで低コストに触媒反応器に供給されるVOC含有ガスの温度調整を行うことができる。そして、このように温度調整を行う際に混合ガス加熱手段に供給されるVOC含有ガスは、空気と混合された混合ガスのうち、一部がバイパス経路に分岐した残りであるため、処理されるVOC含有ガスの全量がこの混合ガス加熱手段に供給されることはなく、空気によって希釈されたガスの一部を加熱することで、混合ガス加熱手段の小型化を図るとともに閉塞や腐食を抑制することができる一方、上記混合ガスは、混合される空気が空気加熱手段によって予め加熱されているため、混合ガスのうち分岐した一部にもある程度の高い温度を与えることができ、加熱された残りの混合ガスと第2混合手段において混合された際の温度差を小さくすることができ、温度むらが生じるのを防ぐことができる。
なお、本発明において第1混合手段により加熱空気と混合されるVOC含有ガスは、VOCがガス状のまま存在している場合にはこれを直接加熱空気と混合すればよいが、例えば排水中にVOCが含有されているような場合には、本発明の処理装置においては、このVOCを含有する排水に水蒸気を供給することにより上記VOCを含有するガスを生成する放散塔を備え、また本発明の処理方法においては、放散塔によりVOCを含有する排水に水蒸気を供給して上記VOCを含有するガスを生成することにより、このVOCを含有するガス自体も水蒸気の熱によって予め加熱して高温とすることができ、混合ガス加熱手段や空気加熱手段への負荷を軽減するとともに、触媒反応器に供給される混合ガスの温度むらを一層確実に抑制することが可能となる。
また、このVOC含有ガスと混合させられる空気を予め加熱する空気加熱手段の熱源についても、本発明の処理装置においては、上記処理ガス供給経路を、上記混合ガス加熱手段から上記空気加熱手段に接続して、この混合ガス加熱手段に供給された上記処理ガスを、さらに上記空気加熱手段に供給して上記空気の加熱の熱源とするものとし、本発明の処理方法においては、上記混合ガス加熱手段に供給された上記処理ガスを、さらに上記空気加熱手段に供給して上記空気を加熱することにより、この処理ガスの熱を一層有効に利用して、さらなる省エネルギー化、低コスト化を促すことが可能となる。
以上説明したように、本発明によれば、触媒反応器に供給されるVOC含有ガスの温度むらを防いでVOCの安定した酸化分解処理を図りつつ、この酸化分解された処理ガスの熱を利用して低コストで省エネルギーな処理を可能とし、そして上記触媒反応器に供給されるVOC含有ガスを加熱する混合ガス加熱手段において、その大型化を防ぐとともに、VOCによる閉塞や腐食を抑制して長期にわたる円滑かつ安定的な処理を行うことが可能となる。
本発明のVOC含有ガスの処理装置の一実施形態を示す概略図である。
図1は、本発明のVOC含有ガスの処理装置の一実施形態を示すものであり、以下この実施形態の処理装置について説明しながら、本発明のVOC含有ガスの処理方法の一実施形態についても説明する。本実施形態の処理装置においては、まずVOCを含有する排水に水蒸気を供給することによりVOC含有ガスAを生成する放散塔1が備えられていて、本実施形態において処理されるVOC含有ガスAは、この放散塔1によってVOCを含有する排水に水蒸気を供給してVOC成分を放散することにより生成されたものとされている。ただし、放散塔の他に蒸留塔、ばっき槽を用いてもよい。なお、こうして生成されたVOC含有ガスAは、その温度が例えば90〜110℃程度とされ、供給管路2を経て当該処理装置に供給される。
一方、このVOC含有ガスAを酸化分解処理する際の酸素は、ダクト3から空気調整弁4を介して誘引される空気Bとして供給される。そして、この空気Bは、空気加熱手段5により常温から例えば120〜150℃程度の温度にまで加熱されて供給管路6に供給される一方、この空気Bの供給管路6には上記VOC含有ガスAの供給管路2が接続されていて、これらの供給管路2,6の接続部分においてVOC含有ガスAと加熱された空気Bとが混合されることになる。すなわち、本実施形態ではこの供給管路2,6の接続部分が第1混合手段7とされ、これより以降の供給管路8には例えば110℃程度の温度のVOC含有ガスAと空気Bとの混合ガスCが供給されることになる。
なお、上記空気加熱手段5は、本実施形態では後述するVOC含有ガスAを酸化分解処理した処理ガスと加熱前の空気Bとの間で熱交換を行う熱交換器とされ、プレート式やシェル・アンド・チューブ式などの各種のものが使用可能であるが、洗浄が容易であることから特にプレート式のものが望ましい。
さらに、上記混合ガスCの供給管路8は、混合ガス調整弁9を介して混合ガス加熱手段10に接続されるとともに、この混合ガス調整弁9の手前においてバイパス経路11に分岐させられており、このバイパス経路11はバイパス調整弁12を介して、上記混合ガス加熱手段10から排出される加熱された混合ガスDの供給管路13に接続されている。従って、これらバイパス経路11と供給管路13との接続部分が本実施形態における第2混合手段14とされ、これより以降の供給管路13には、供給管路8により供給された混合ガスCのうち、バイパス経路11を経て分岐した一部の混合ガスEと、混合ガス加熱手段10によって加熱された残りの上記混合ガスDとを再び混合した混合ガスFが供給されることになる。
なお、上記混合ガス加熱手段10も、空気加熱手段5と同様にVOC含有ガスAを酸化分解処理した処理ガスと上記残りの混合ガスDとの間で熱交換を行う熱交換器とされ、プレート式、シェル・アンド・チューブ式などの他の種のものが使用可能であり、特にプレート式が好ましい。
さらに、上記第2混合手段14以降の供給管路13は、必要に応じて例えば電熱式のガス加熱器15を経て、触媒反応器16に接続されている。この触媒反応器16には、特許文献1に記載されたような金、銀、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムおよび白金から選ばれる少なくとも1種および/または鉄、マンガン、クロム、銅、ニッケルおよびコバルトの酸化物から選ばれる少なくとも1種の触媒成分をアルミナに担持してなる触媒17、あるいは特開平8−97039号公報に記載されたようなアンモニア分解触媒、即ち、触媒A成分としてTiを含む酸化物と触媒B成分としてバナジウム、タングステン及びモリブデンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属あるいは酸化物と触媒C成分として白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、クロム、マンガン、鉄、銅よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属あるいは酸化物とを含有する触媒17が配設されていて、供給管路13から、主として上記一部の混合ガスEと加熱された残りの混合ガスDとの混合比率を上記混合ガス調整弁9やバイパス調整弁12によって調整することにより例えば300℃程度の温度に調整された混合ガスFが供給され、この混合ガスFのVOC含有ガスA中のVOC成分が空気B中の酸素とともに触媒17により150℃〜400℃程度の反応温度でCOとHOに酸化分解されて無害化処理され、500℃程度の高温の処理ガスGが発生する。
こうして発生した高温の処理ガスGは、処理ガス供給経路18を介してまず混合ガス加熱手段10に供給され、この混合ガス加熱手段10に供給された上記残りの混合ガスDとの間で上述のように熱交換を行うことにより該残りの混合ガスDを加熱する熱源とされる。また、処理ガス供給経路18は、この混合ガス加熱手段10から上記空気加熱手段5に接続されていて、混合ガス加熱手段10に供給されて残りの混合ガスDを加熱した処理ガスGは、さらに空気加熱手段5に供給されてやはり空気Bを加熱する熱源とされる。
そして、このように触媒反応器16によって無害化処理されるとともに混合ガス加熱手段10および空気加熱手段5の熱源とされて自身は240℃程度に冷却された処理ガスGは、さらに必要に応じて図示されない熱交換器等によって熱回収された後、誘引ファン19を経て排出される。なお、上記空気調整弁4は放散塔1におけるVOC含有ガスAの生成量や圧力、温度等に基づいて外部に排出される排ガス量が一定となるようにその開度が制御され、また混合ガス調整弁9およびバイパス調整弁12の開度と、ガス加熱器15による加熱およびその温度も、図中に破線で示すように触媒反応器16における反応温度等によって制御される。
このように、上記構成のVOC含有ガスの処理装置、および該処理装置を用いたVOC含有ガスの処理方法においては、放散塔1で生成されたVOC含有ガスAに空気加熱手段5によって加熱された空気Bが第1混合手段7において混合されて高温の混合ガスCとされ、この混合ガスCのうち一部の混合ガスEがバイパスされた後の残りの混合ガスDが、触媒反応器16によってVOC成分を酸化分解処理して生成された高温の処理ガスGにより加熱させられ、こうして加熱された混合ガスDと加熱されなかった上記一部の混合ガスEとが第2混合手段14において再び混合させられることにより、触媒反応器16に供給される混合ガスFが触媒17による酸化分解反応に適した温度に調整される。
従って、上記処理装置および処理方法によれば、まず触媒反応器16で生成された処理ガスGの熱を利用して、このように残りの混合ガスDを混合ガス加熱手段10により加熱しているので、省エネルギーで低コストにVOC含有ガスAの処理を図ることができ、例えば実際の運転でもガス加熱器15は高温の処理ガスGが発生するまでの起動時だけ混合ガスFを加熱すれば済むだけとなる。
また、こうして混合ガスCのうち一部の混合ガスEがバイパス経路11に分岐させられ、残りの混合ガスDだけが混合ガス加熱手段10に供給されるので、熱交換器であるこの混合ガス加熱手段10において、その小型化を図ることができるとともに、VOC成分による閉塞や腐食を抑制して劣化を防止することができる。しかも、この混合ガス加熱手段10に供給される残りの混合ガスDは、VOC含有ガスAが空気Bによって希釈されたものであるので、当該混合ガス加熱手段10の閉塞や腐食を一層確実に抑えることが可能である。
さらに、こうしてVOC含有ガスAを希釈するとともに触媒17による酸化分解の際の酸素を供給する空気Bは、空気加熱手段5によって加熱されたものであるので、これらを混合した混合ガスCにおいてもその温度を高温とすることができ、そのうち一部の混合ガスEを分岐して、加熱された残りの混合ガスDと第2混合手段14において再び混合した際にも温度差が小さく、触媒反応器16に供給される混合ガスFに温度むらが生じることが少ない。従って、触媒反応器16においてVOC成分の安定した酸化分解を促すことが可能となる。
しかも、本実施形態では、この空気加熱手段5も熱交換器とされていて、混合ガス加熱手段10から接続された処理ガス供給経路18を介して供給される処理ガスGを熱源として空気Bを加熱しているので、高温の処理ガスGの熱をさらに有効に利用して一層省エネルギーかつ低コストの処理を促すことができる。また、この空気加熱手段5は空気Bだけを加熱すればよいので、閉塞や腐食が生じるおそれもない。
一方、本実施形態では、VOC成分を含有する排水からVOC含有ガスAを生成するのに放散塔1が備えられており、この放散塔1において上記排水に水蒸気を供給することによりVOC成分を放散して高温のVOC含有ガスAを発生させている。このため、第1混合手段7において当該VOC含有ガスAと加熱した空気Bとを混合してなる混合ガスCを一層高い温度とすることができ、これに伴い触媒反応器16に供給される混合ガスFの温度むらをより確実に防止したり、空気加熱手段5や混合ガス加熱手段10における加熱温度を抑えて熱的負荷を軽減したりすることが可能となる。
ただし、本実施形態ではこのように放散塔1を備えて排水からVOC含有ガスAを生成する場合について説明したが、本発明はVOC成分が予めガス状で存在している場合にも適用可能であり、この場合は放散塔1を要することなくガス状のVOC成分すなわちVOC含有ガスAをそのまま加熱した空気Bと混合すればよい。また、空気加熱手段5については、処理ガスG以外の熱源によって空気Bを加熱するようにしてもよい。
1 放散塔
5 空気加熱手段
7 第1混合手段
10 混合ガス加熱手段
11 バイパス経路
14 第2混合手段
16 触媒反応器
17 触媒
18 処理ガス供給経路
A VOC含有ガス
B 空気
C,F 混合ガス
D 混合ガスCのうち残りの混合ガス
E 混合ガスCのうち一部の混合ガス
G 処理ガス

Claims (5)

  1. VOCを含有するガスと空気加熱手段によって加熱された空気とを混合する第1混合手段と、この第1混合手段によって混合された混合ガスのうち一部の混合ガスを分岐するバイパス経路と、上記混合ガスのうち残りの混合ガスを加熱する混合ガス加熱手段と、この混合ガス加熱手段によって加熱された上記残りの混合ガスと上記バイパス経路を経て分岐した上記一部の混合ガスとを混合する第2混合手段と、この第2混合手段によって混合された混合ガスを触媒に反応させて処理する触媒反応器と、この触媒反応器によって処理された処理ガスを上記混合ガス加熱手段に供給する処理ガス供給経路と、上記触媒反応器によって無害化処理されるとともに上記混合ガス加熱手段の熱源とされて冷却された上記処理ガスを排出する誘引ファンとを備えることを特徴とするVOC含有ガスの処理装置。
  2. 上記第2混合手段は、この第2混合手段によって混合された混合ガスを当該処理装置の起動時に加熱するガス加熱器を経て上記触媒反応器に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のVOC含有ガスの処理装置。
  3. 上記空気加熱手段によって加熱される空気はダクトから空気調整弁を介して誘引され、この空気調整弁は、上記誘引ファンを経て排出される排ガス量が一定となるようにその開度が制御されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のVOC含有ガスの処理装置。
  4. 上記VOCを含有するガスを生成する放散塔、蒸留塔、およびばっき槽のうち1つを備えていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のVOC含有ガスの処理装置。
  5. VOCを含有するガスと空気加熱手段によって加熱された空気とを混合して混合ガスとし、この混合ガスのうち一部の混合ガスをバイパス経路に分岐させるとともに、残りの混合ガスを混合ガス加熱手段によって加熱し、この加熱された上記残りの混合ガスと上記バイパス経路を経て分岐した上記一部の混合ガスとを混合して触媒反応器により触媒に反応させて処理し、この触媒反応器によって処理された処理ガスを上記混合ガス加熱手段に供給し、上記触媒反応器によって無害化処理されるとともに上記混合ガス加熱手段の熱源とされて冷却された上記処理ガスを、誘引ファンを経て排出することを特徴とするVOC含有ガスの処理方法。
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