TWI524373B - 進口端以及具有該進口端的反應系統 - Google Patents

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TWI524373B
TWI524373B TW102143897A TW102143897A TWI524373B TW I524373 B TWI524373 B TW I524373B TW 102143897 A TW102143897 A TW 102143897A TW 102143897 A TW102143897 A TW 102143897A TW I524373 B TWI524373 B TW I524373B
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孫琇彬
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樂金矽得榮股份有限公司
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    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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Description

進口端以及具有該進口端的反應系統
本發明係關於一種用於在半導體製造過程中氣體處理的洗滌器的進口端以及具有該進口端的反應系統。
在一晶片上形成薄膜的半導體過程中使用的不同種類的反應氣體包含氧化成分、可燃成分以及有害成分。因此，如果一廢氣，反應氣體的排氣，直接排放到大氣中，則它可能會損害人體與污染環境。
從廢氣中去除有害成分的一洗滌器可安裝於半導體設備的用於排放廢氣的排氣管線中。為了通過將廢氣的有害成分降低到濃度等於或低於一可允許濃度的一淨化過程，將廢氣排放到大氣中，使用一洗滌器，洗滌器可以是包括一燃燒洗滌器、一燃燒和濕式洗滌器、一燃燒和乾式洗滌器、一乾式洗滌器、以及一濕式洗滌器的一種不同類型的洗滌器。
需要一進口端以連接到半導體設備的具有此洗滌器的排氣管線。在進口端引入到排氣管線中的廢氣與用以消除廢氣中容納的污染物的一清洗液可一起引入到洗滌器中。此時，透過清洗液與污染物之間的反應可產生一反應產物。因此，進口端可透過所產生的反應產物而堵塞。
設計為解決此問題的本發明之一個目的在於提供一種進口端，可延長替換週期及一反應系統停止的時間，有助於增加產量，還關於具有該進口端的一反應系統。
本發明的目的能夠透過提供一進口端獲得，此進口端包含：一主體，其中提供有允許一流體流過的一輸送管道；至少一個第一噴嘴，連接於主體的一側表面的一個區域且適合於將一清洗液噴射於輸送管道中；以及一阻擋板，提供於輸送管道中以與輸送管道的一內壁相間隔，其中從第一噴嘴噴射出的清洗液受到阻擋，防止進入位於阻擋板內部的輸送管道的一個區域中。
阻擋板的一頂端可位於第一噴嘴的一頂部，並且阻擋板的一底端可位於第一噴嘴的一底部。
主體可提供有一固定部，固定部位於輸送管道中的第一噴嘴的一頂部用以支撐阻擋板的一頂端。
固定部可為定位於第一噴嘴的頂部的主體的一部份，固定部的一內徑可相比較於主體的其他部分的一內徑更小。
至少一個第一噴嘴可包含彼此相間隔排列的複數個第一噴嘴。
在第一噴嘴與位於第一噴嘴之一頂部的主體的一外壁之間形成的一角度可以是50°與70°之間。
阻擋板可由一樹脂材料形成，此樹脂材料具有的摩擦係數相比較於主體的一摩擦係數更低。其中阻擋板可由聚四氟乙烯形成。
阻擋板可提供有一頂端、一底端、以及頂端與底端之間的一側表面，並且阻擋板可形成為一圓柱形且在阻擋板的頂端及底端打開。
阻擋板的頂端可形成為一圓環形，此圓環形具有的一直徑相比較於透過固定部保持的側表面的一直徑更大。阻擋板的頂端可從側表面突出。
進口端可更包含至少一個第二噴嘴，第二噴嘴連接至位於阻擋板之下的主體的側表面的另一區域且適合於將一惰性氣體噴射於輸送管道中。此至少一個第二噴嘴可包含彼此相間隔的複數個第二噴嘴。
在第二噴嘴與位於第二噴嘴之一頂部的主體的一外壁之間形成的一角度可以是50°與70°之間。
第二噴嘴沿著輸送管道的一內壁可噴射惰性氣體。
第二噴嘴噴射惰性氣體的一方向與輸送管道之一內壁的一法線之間形成的一角度可大於0°且小於10°。
進口端可更包含至少一個噴嘴，用於在一預定噴射壓力下將一氣體或一液體噴射於在阻擋板的一底端上沉積的，或在阻擋板之下的輸送管道的一內壁上沉積的反應產物上，其中反應產物可以是根據引入到輸送管道中的流體與清洗液之間的一反應的一輸出。
此至少一個第一噴嘴與此至少一個噴嘴可噴射去離子水，此至少一個噴嘴可包含複數個噴嘴。
從第一噴嘴噴射出的去離子水的一噴射壓力對從噴嘴噴射出的去離子水的一噴射壓力的比例可為1：1.5至3。
在本發明的另一方面中，提供了一種反應系統，此種反應 系統包含：一氣體引入管，用以供給一源氣體；一反應器，用於使用通過氣體引入管供給的源氣體形成一反應產物；一氣體排出管，將在反應產物之後產生的一氣體從反應器排出；一洗滌器，用以使用一清洗液清洗從氣體排出管排出的氣體；以及一進口端，將氣體排出管連接至洗滌器，其中進口端包含：一主體，其中提供有允許一流體流過的一輸送管道；至少一個第一噴嘴，連接於主體的一側表面的一個區域且適合於將清洗液噴射於輸送管道中；以及一阻擋板，係位於輸送管道中以與輸送管道的一內壁相間隔，其中從第一噴嘴噴射出的清洗液受到阻擋，防止引入到位於阻擋板內部的一個區域中。
根據本發明的一個實施例，一替換時間可延長，並且用於替換此進口端的反應系統停止的時間可減少。因此產量可增加。
以上關於本發明內容的說明及以下實施方式的說明係用以示範與解釋本發明的原理，並且提供本發明的專利申請範圍更進一步的解釋。
5‧‧‧氣體引入管
10‧‧‧反應器
15‧‧‧氣體排出管
20‧‧‧進口端
20-1‧‧‧進口端
20-2‧‧‧進口端
30‧‧‧洗滌器
100‧‧‧反應系統
101‧‧‧開口
102‧‧‧開口
103‧‧‧第三開口
104‧‧‧第四開口
108‧‧‧輸送管道
110‧‧‧引入部
120‧‧‧排出部
130‧‧‧主體
130-1‧‧‧主體
132‧‧‧側表面
134‧‧‧固定部
136‧‧‧頂部
140‧‧‧第一噴嘴組
142‧‧‧第一噴嘴
144‧‧‧第一噴嘴
150‧‧‧第二噴嘴組
152‧‧‧第二噴嘴
154‧‧‧第二噴嘴
160‧‧‧阻擋板
162‧‧‧頂端
164‧‧‧底端
166‧‧‧側表面
182‧‧‧噴嘴
184‧‧‧噴嘴
186‧‧‧噴嘴
192‧‧‧內壁
194‧‧‧水壁
401‧‧‧清洗液
402‧‧‧清洗液
403‧‧‧特定方向
408‧‧‧未反應的氣體
410‧‧‧反應產物
512‧‧‧反應產物
514‧‧‧反應產物
522‧‧‧反應產物
524‧‧‧反應產物
530‧‧‧橫向
540‧‧‧縱向
601‧‧‧惰性氣體
701‧‧‧法線
D1‧‧‧內徑
D2‧‧‧內徑
P‧‧‧區域
H1‧‧‧厚度
H2‧‧‧厚度
θ1‧‧‧角度
θ2‧‧‧角度
第1圖為根據本發明一示例性實施例的一反應系統之示意圖，此反應系統包含具有一進口端的一洗滌器，以及一反應器。
第2圖為本發明第一實施例之進口端之正視圖。
第3圖為第2圖中所示的進口端之橫截面圖。
第4圖為表示第3圖所示的阻擋板。
第5圖為第3圖中所示的阻擋板之功能的概念圖。
第6A圖表示在沒有提供阻擋板的鑄件中形成一反應產物之示意圖。
第6B圖表示在提供阻擋板的鑄件中形成一反應產物之示意圖。
第7圖為根據本發明第二實施例之一進口之正視圖。
第8圖為第7圖中所示的進口端之橫截面圖。
第9圖為第8圖中所示的第二噴嘴的功能之概念圖。
第10圖為第8圖中所示的第二噴嘴的噴射方向之示意圖。
第11A圖及第11B圖為根據本發明一個實施例的第二噴嘴的一噴射方向之示意圖。
第12圖為根據本發明第三實施例的一進口端之正視圖。
第13圖為第12圖中所示的進口端之橫截面圖。
第14圖為第12圖中所示的進口端的噴嘴的沉積之示意圖。以及第15圖為第13圖中所示的噴嘴的功能之概念圖。
【最佳模式】
現在將詳細參考本發明的較佳實施例，這些實施例的示例性實施例在附圖中示出。在所揭露的實施例中，當一層(膜)、一區域、一圖案、或一結構稱為形成於一基板、一層(膜)、一區域、一墊或一圖案之「上」或「下」時，用語「上」及「下」不僅意味著「直接位於其上」和「直接位於其下」，但也表示具有一中間層的「間接位於其上」和「間接位於其下」。此外，「上」和「下」的概念參照附圖來定義。
關於圖式中所示的構成要素的大小，構成要素可括大、省略、或示意性地示出以便清晰和易於描述。此外，各構成要素的大小並不完全反映真實的大小。在任何可能的情況下，相同的附圖標記將在整個附圖中用作相同或類似的部件。在下文中，將參考附圖來描述根據本發明之實施例的洗滌器的進口端。
第1圖為根據本發明一示例性實施例一反應系統100之示意圖，反應系統100包含具有一進口端20的一洗滌器30，以及一反應器10。並且第2圖為根據本發明第一實施例之進口端20之正視圖。第3圖為第2圖中所示的進口端20之橫截面圖。反應系統100可為一外延反應設備。然而，本發明之實施例並不限制於此。
請參閱第1圖至第3圖，反應系統100可包含一氣體引入管5、一反應器10、一氣體排出管15、一進口端20、以及一洗滌器30。
氣體引入管5連接至反應器10以對反應器10提供不同的源氣體。
反應器10可使用從氣體引入管5供給的一源氣體執行一特定的反應，並且作為反應的結果可形成一反應產物。舉例而言，反應器10可通過一外延反應在一晶片上形成一薄膜。
氣體排出管15可連接至反應器10。在形成反應產物之後產生的一氣體可通過氣體排出管15從反應器10排出。這裡，通過氣體排出管15排出的氣體可為未反應的氣體(例如，TCS、B2H6、HCL以及H2)與污染物。
進口端20可將氣體排出管15連接至洗滌器30，功能上作 為一通道，通過氣體排出管15排放的未反應氣體與污染物通過此移動到洗滌器30。
當進口端20透過反應產物阻塞時，未反應的氣體與污染物不能夠移動到洗滌器30。此種情況下，進口端20必需消除反應產物或由一個新的取代。
洗滌器30能夠使用一清洗液清洗從氣體排出管15排放的未反應的氣體與污染物。
引入到洗滌器30中的污染物可與洗滌器30中存儲的清洗液直接接觸以溶入於清洗液中，或者與通過清洗液擴散的一試劑起反應以進行中和。
進口端20包含一引入部110、一排出部120、一主體130、一第一噴嘴組140、以及一阻擋板160。
引入部110可與主體130的一端相連接且提供有一中空的內部空間以允許一流體引入於其中。
排出部120可連接至主體130的另一端且提供有一中空的內部空間以允許一流體通過此處排出。舉例而言，引入部110、主體130以及排出部120可彼此整合在一起，然而，本發明之實施例不限制於此。
主體130可包含一輸送管道108，輸送管道108允許一流體通過。
舉例而言，主體130可包含形成為一中空圓柱管形狀，允許一流體通過的一輸送管道108。
主體130可由一塑料材料，例如由聚氯乙烯(PVC)形成。 然而，本發明之實施例並不限制於此。
第一噴嘴組140連接至主體130的側表面132的一個區域，由此將清洗液，例如去離子水噴射於主體130的輸送管道108中。
開口101及102提供於主體130的側表面132的一個區域中。第一噴嘴組140可連接至開口101及102。由此，第一噴嘴組140可通過開口101及102將清洗液噴射於主體130的輸送管道108中。
可提供至少一個第一噴嘴與至少一個開口101、102。第2圖及第3圖表示提供有兩個第一噴嘴與兩個開口101及102的一實施例。然而，本發明之實施例不限制於此。複數個第一噴嘴142及144可彼此相間隔排列。
舉例而言，第一噴嘴142可與第一噴嘴144彼此相間隔180°。
第一噴嘴142可連接至一第一開口101。由此，第一噴嘴142可通過第一開口101將清洗液噴射於主體130的輸送管道108中。第一噴嘴144可連接至一第二開口102。由此，第一噴嘴144可通過第二開口102將清洗液噴射於主體130的輸送管道108中。
阻擋板160可設置於主體130的輸送管道108中，以使得阻擋板160的一頂端162定位於第一噴嘴組140的頂部，並且阻擋板160的另一端定位於第一噴嘴組140的底部。
舉例而言，阻擋板160的一端可為阻擋板160的頂端，並且阻擋板160的另一端可為阻擋板160的底端。阻擋板160可位於輸送管道108中以與主體130的輸送管道108的內壁192相間隔。
第一噴嘴組140可位於阻擋板160的一頂端162與阻擋板 160的另一端之間。並且可朝向阻擋板160的側表面166噴射清洗液。
主體130可包含一固定部134，固定部134定位於輸送管道108中第一噴嘴組140的頂部以支撐且固定阻擋板160的一頂端162。
舉例而言，固定部134可為定位於第一噴嘴組140的頂部的主體130的一個區域。固定部134的內徑D1可相比較於主體130的其他部分的內徑D2更小。阻擋板160可透過固定部134固定，並且由此可防止與主體130的輸送管道108向下分離。
第4圖表示第3圖所示的阻擋板160。
請參閱第4圖，阻擋板160的形狀可根據主體130的輸送管道108的形狀確定。
第3圖中所示的阻擋板160包含一頂端162、一底端164以及定位於頂端162與底端164之間的一側表面166。阻擋板160形成為圓柱形且在頂端162與底端164打開。然而，本發明之實施例並不限制於此。
阻擋板160的一頂端162可形成為一圓環形，此圓環形具有的直徑相比較於由固定部134的一頂部(136)保持的側表面166的直徑更大。舉例而言，阻擋板160的一頂端162可形成為從側表面166突出。
阻擋板160可由樹脂材料，例如聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene)形成，此樹脂材料具有的摩擦係數小於主體130的摩擦係數。然而，本發明之實施例並不限制於此。
第5圖為第3圖中所示的阻擋板160之功能的概念圖。
請參閱第5圖，阻擋板160的側表面166的至少一個部分可相鄰於開口101及102。
阻擋板160阻擋從第一噴嘴142及144噴出的清洗液進入到在阻擋板160的輸送管道108中的一個區域P中。由此，位於阻擋板160內部的流體，例如未反應的氣體408可防止直接與清洗液直接相接觸且起反應。
舉例而言，從第一噴嘴142及144噴出的清洗液401可透過清洗液401遇到的阻擋板160的外壁，防止供給到阻擋板160的內部。此外，遇到阻擋板160的清洗液402可沿著輸送管道108的內壁192或阻擋板160的外壁向下移動到第一噴嘴142及144的底部。
從第一噴嘴142及144噴出的清洗液與引入到輸送管道108中的未反應的氣體408之間的反應透過阻擋板160防止在相鄰於第一噴嘴142及144的輸送管道108的內部發生。由此，不產生一反應產物。此外，從阻擋板160向下移動的清洗液402可與在阻擋板160的底端164之下的輸送管道108的一部分中的未反應氣體發生反應，產生一反應產物410。
為了允許噴射到輸送管道108中的清洗液沿著輸送管道108向下平穩流動，第一噴嘴142及144可以一定的角度(θ1)傾斜。
第一噴嘴142及144與位於第一噴嘴142及144頂部的主體130的外壁的一部分產生的角度(θ1)可位於50°與70°之間。
第6A圖表示在沒有提供阻擋板的鑄件中形成一反應產物，並且第6B圖表示在提供阻擋板160的鑄件中形成一反應產物。
請參閱第6A圖，不存在阻擋板160，並且因此清洗液與未反應的氣體之間的反應可在相鄰近於噴出清洗液的第一噴嘴142及144的開口101及102的輸送管道108的內部積極發生。由此，反應產物512及514 可沉積於位於開口101及102的頂部的輸送管道108的內壁上。
根據公式1，具有高黏合性及高易燃性的粉末化的SiO2可製造為反應產物512及514。
反應產物512及514可在位於第一噴嘴142及144頂部的輸送管道108的內壁192生長且功能上作為一生長界面。由於從第一噴嘴142及144噴出的清洗液，可限制反應產物在一縱向上的生長。因此，反應產物512及514的生長主要在橫向530上出現。隨著反應產物在橫向530上保持生長，輸送管道108的內部空間可逐漸變窄，並且可最終阻塞進口端。
如果阻塞進口端，則在反應系統100中使用的氣體量可增加，並且溫度可急遽降低。此外，在反應系統100中的壓力可增加。
請參閱第6B圖，由於阻擋板160，清洗液與未反應的氣體之間的反應可不在相鄰於第一噴嘴142及144的開口101及102的輸送管道108的內部發生，並且反應產物522及524可在阻擋板160的底端164之下產生。
也就是說，由於阻擋板160，產生反應產物的位置可從圍繞第一噴嘴142及144的一位置移動到阻擋板160的底端或位於阻擋板160之下的輸送管道108的內壁。
反應產物522及524可在生長界面上生長。此種情況下，位於阻擋板160之下的輸送管道108的內壁192，或阻擋板160的底端164為生長界面。
由於由聚四氟乙烯形成的阻擋板160的表面相比較於由PVC形成的輸送管道108的內壁192更光滑，因此可抑制作為生長界面的阻擋板160的側表面上反應產物的生長。
由於阻擋板160的底端164位於第一噴嘴142及144之下，因此不抑制反應產物522及524在縱向上的生長。因此，反應產物522及524可在橫向530與縱向540上均勻地生長。
第6B圖中所示的反應產物522及524的厚度H2可相比較與第6A圖中所示的反應產物512及514的厚度H1更大。由此，第6B圖中所示的進口端20由反應產物522及524阻塞所花費的時間相比較於第6A圖中所示的進口端20由反應產物512及514阻塞的所花費的時間更長。
在本發明的本實施例中，透過提供阻擋板160，透過反應產物所阻塞的進口端的替換週期可延長，並且用於替換進口端而停止反應系統所花費的時間可減少。由此產量可增加。
第7圖為根據本發明第二實施例之一進口端20-1之正視圖，第8圖為第7圖中所示的進口端20-1之橫截面圖。與第2圖及第3圖中使用的相同的參考標號代表相同的元件，將省去其描述。
相比較於第2圖及第3圖中所示的進口端20，第7圖及第8圖中所示的進口端20-1更包含一第二噴嘴組150。
第二噴嘴組150連接於阻擋板160的底端164之下的主體130的側表面132的另一區域。第二噴嘴組150可將一內部氣體，例如氬(Ar)、氖(Ne)、氦(He)、氮(N2)以及二氧化碳(CO2)噴射於輸送管道108中。
可提供至少一個第二噴嘴。第7圖及第8圖表示出提供有兩 個第二噴嘴的一實施例。然而，本發明之實施例並不限制於此。複數個第二噴嘴152及154可彼此相間隔排列。
舉例而言，在提供兩個第二噴嘴的情況下，第二噴嘴152可與第二噴嘴154間隔180°。
第三開口103及第四開口104可提供於位於第一開口101及第二開口102之下的主體130-1的側表面132的另一區域中。第二噴嘴組150可連接至第三開口103及第四開口104。由此，第二噴嘴組150可通過第三開口103及第四開口104朝向輸送管道108的內壁192噴射惰性氣體。
舉例而言，第二噴嘴152可連接至第三開口103。由此，第二噴嘴152可通過第三開口103朝向輸送管道108的內壁192噴射一惰性氣體。此外，第二噴嘴154可連接至一第四開口104。由此，第二噴嘴154可通過第四開口104朝向輸送管道108的內壁192噴射一惰性氣體。
第9圖為第8圖中所示的第二噴嘴組150的功能之概念圖。
請參閱第9圖，為了抑制反應產物410在位於阻擋板160下的輸送管道108的內壁192上沉積，第二噴嘴152及154可以一定角度(θ2)傾斜。
舉例而言，第二噴嘴152及154與位於第二噴嘴152及154上的主體130的外壁產生的角度(θ2)可位於50°與70°之間。
第10圖為第8圖中所示的第二噴嘴組150的噴射方向之示意圖。請參閱第10圖，第二噴嘴組150不朝向輸送管道108的中心噴射一惰性氣體。相反，第二噴嘴組150可沿著位於阻擋板160下的輸送管道108的內壁192噴射惰性氣體601。
第二噴嘴152及154可在相同方向上沿著輸送管道108的內壁噴射惰性氣體601。舉例而言，第二噴嘴152及154可噴射惰性氣體601以使得惰性氣體601沿著輸送管道108的內壁192順時針方向流動。
第11A圖及第11B圖為根據本發明一個實施例的第二噴嘴152及154的一噴射方向。請參閱第11A圖，第二噴嘴152及154的噴射方向可與相鄰於第二噴嘴組150及第三開口103及第四開口104的輸送管道108的內壁192的法線701相平行。
請參閱第11B圖，第二噴嘴154的噴射方向可與相鄰於第二噴嘴組150及第三開口103及第四開口104的輸送管道108之內壁192的法線701成一定角度(例如，0θ10°)。
從第二噴嘴組150噴出且沿著位於阻擋板160下的輸送管道108之內壁192流動的惰性氣體601可抑制在輸送管道108的內壁192上沉積反應產物410。
由於第二實施例提供有第二噴嘴組150，因此可抑制在輸送管道108的內壁192上沉積反應產物410。因此，相比較於第一實施例，在第二實施例中，進口端的替換週期進一步延長，並且用於替換進口端的反應系統停止的時間進一步減少。由此，產量可進一步增加。
第12圖為根據本發明第三實施例的一進口端20-2之正視圖，並且第13圖為第12圖中所示的進口端20-2之橫截面圖。第14圖為第12圖中所示的進口端20-2的噴嘴182、184以及186沉積之示意圖。與第2圖及第3圖中使用的相同的標號表示相同元件，並且因此將簡單給出或省去它們的描述。
請參閱第12圖至第14圖，進口端20-2可包含一引入部110、一排出部120、一主體130、一第一噴嘴組140、一阻擋板160、以及噴嘴182、184及186。
噴嘴182、184以及186可為主體130的側表面132的其他區域，並且可將一高壓液體，例如去離子水，或一氣體，例如空氣噴射至位於阻擋板160的底端164之下的輸送管道108的一部分中。這裡，噴嘴182、184以及186可位於阻擋板160的底端164之下。
噴嘴182、184以及186可將一高壓液體或氣體噴射於在阻擋板160底端164的輸送管道108之內壁192上沉積的反應產物上，用以將反應產物從輸送管道108的內壁192上分離或溶解反應產物。
此外，噴嘴182、184以及186可將一高壓液體或氣體噴射於在阻擋板160的底端164上沉積的反應產物上。噴嘴182、184以及186可將一預定的液體或氣體噴射於在阻擋板160的底端164上沉積的反應產物上，用以將反應產物從阻擋板160的底端164分離或溶解反應產物。此種情況下，相比較於在第12圖至第13圖中所示的情況，噴嘴182、184以及186可定位於與阻擋板160的底端164相同的水平上。
此外，噴嘴182、184以及186可將一高壓液體或氣體噴射於阻擋板160的側表面166上。透過將一高壓液體或氣體噴射於在阻擋板160的側表面166上，噴嘴182、184以及186可使得阻擋板160震動。在阻擋板160的底端164沉積的反應產物可透過阻擋板160的震動而從阻擋板160上分離。此種情況下，相比較於第12圖及第13圖中所示的情況，噴嘴182、184以及186可位於阻擋板160的底端164上。
從阻擋板160到噴嘴182、184以及186的距離可位於2毫米至5毫米之間。在從阻擋板160到噴嘴182、184以及186的距離小於2毫米的情況下，可產生水蒸汽且由此反應產物可容易沉積於阻擋板160上。在此距離大於5毫米的情況下，用於分離及溶解反應產物所需要的噴射壓力可增加。
為了將反應產物從輸送管道108的內壁192或阻擋板160的底端164分離且溶解此反應產物，從噴嘴182、184以及186噴出的去離子水的噴射壓力可設置為比從第一噴嘴組140噴出的去離子水的噴射壓力更大。
舉例而言，從第一噴嘴組140噴出的去離子水的噴射壓力對從噴嘴182、184以及186噴出的去離子水的噴射壓力可為1：1.5-3。
可提供至少一個噴嘴182、184以及186。複數個噴嘴182、184以及186可彼此相間隔排列。
在第14圖中，三個噴嘴182、184以及186彼此相間隔120°。然而，本發明之實施例並不限制於此。
透過從第一噴嘴組140噴出的去離子水，可形成在沿著輸送管道108之內壁192的一特定方向403上旋轉的一水壁194。每一個噴嘴182、184以及186可不從輸送管道108的內壁192突出。這樣意在防止每一個噴嘴182、184以及186的一端部不從水壁194伸出。在每一個噴嘴182、184以及186的一個端部從水壁194伸出的情況下，此端部可作為一生長界面且因此反應產物可沉積於此生長界面上。
第15圖為第13圖中所示的噴嘴182、184以及186的功能 的概念圖。
請參閱第15圖，在一預定的壓力下，噴嘴182、184以及186可將一氣體或液體(例如，去離子水)噴射於在阻擋板160的底端或阻擋板160的底端下輸送管道108之內壁上沉積的反應產物410上，由此將反應產物從阻擋板160的底端或輸送管道108的內壁分離或溶解此反應產物。
通過這樣的物理分離或分解反應產物，可防止透過反應產物阻塞進口端且可半永久地使用。此外，反應系統不需要停止用於替換進口端，並且因此產量可增加。
不同的實施例已經在用於執行本發明的最佳方式下進行了描述。
【工業實用性】
根據本發明的一個實施例，一進口端的一替換週期可延長，並且停止反應系統用於替換進口端的時間可減少。由此，產量可增加。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內，所為之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍之內。關於本發明所界定之保護範圍請參照所附之申請專利範圍。
20‧‧‧進口端
101‧‧‧開口
102‧‧‧開口
108‧‧‧輸送管道
110‧‧‧引入部
130‧‧‧主體
132‧‧‧側表面
134‧‧‧固定部
136‧‧‧頂部
140‧‧‧第一噴嘴組
142‧‧‧第一噴嘴
144‧‧‧第一噴嘴
160‧‧‧阻擋板
162‧‧‧頂端
164‧‧‧底端
166‧‧‧側表面
192‧‧‧內壁
D1‧‧‧內徑
D2‧‧‧內徑

Claims (20)

  1. 一種進口端，包含：一主體，其中提供有允許一流體流過的一輸送管道；一第一噴嘴組，係連接於該主體的一側表面的一個區域且適合於將一清洗液噴射於該輸送管道中；以及一阻擋板，係提供於該輸送管道中以與該輸送管道的一內壁相間隔，其中從該第一噴嘴組噴射出的該清洗液受到阻擋，防止進入位於該阻擋板內部的該輸送管道的一個區域中。
  2. 如請求項1所述之進口端，其中該阻擋板的一頂端位於該第一噴嘴組的上方，並且該阻擋板的一底端位於該第一噴嘴組的下方。
  3. 如請求項1所述之進口端，其中該主體提供有一固定部，該固定部位於該輸送管道中的該第一噴嘴組的上方用以支撐該阻擋板的一頂端。
  4. 如請求項3所述之進口端，其中該固定部為定位於該第一噴嘴組的上方的該主體的一部份，其中該固定部的一內徑相比較於該主體的其他部分的一內徑更小。
  5. 如請求項1所述之進口端，其中該第一噴嘴組包含彼此相間隔排列的複數個第一噴嘴。
  6. 如請求項1所述之進口端，其中在該第一噴嘴組與位於該 第一噴嘴組之上方的該主體的一外壁之間形成的一角度是50°與70°之間。
  7. 如請求項1所述之進口端，其中該阻擋板由一樹脂材料形成，該樹脂材料具有的摩擦係數相比較於該主體的一摩擦係數更低。
  8. 如請求項7所述之進口端，其中該阻擋板由聚四氟乙烯形成。
  9. 如請求項1所述之進口端，其中該阻擋板提供有一頂端、一底端、以及該頂端與該底端之間的一側表面，並且該阻擋板形成為一圓柱形且在該阻擋板的該頂端及該底端打開。
  10. 如請求項9所述之進口端，其中該阻擋板的該頂端形成為一圓環形，該圓環形具有的一直徑相比較於透過該固定部保持的該側表面的一直徑更大。
  11. 如請求項10所述之進口端，其中該阻擋板的該頂端從該側表面突出。
  12. 如請求項1所述之進口端，更包含一第二噴嘴組，，該第二噴嘴組連接至位於該阻擋板之下的該主體的該側表面的另一區域且適合於將一惰性氣體噴射於該輸送管道中。
  13. 如請求項12所述之進口端，該第二噴嘴組包含彼此相間隔的複數個第二噴嘴。
  14. 如請求項12所述之進口端，其中在該第二噴嘴組與位於該 第二噴嘴組之一頂部的該主體的一外壁之間形成的一角度是50°與70°之間。
  15. 如請求項13所述之進口端，其中該等第二噴嘴沿著該輸送管道的一內壁噴射該惰性氣體。
  16. 如請求項12所述之進口端，其中該第二噴嘴組噴射該惰性氣體的一方向與該輸送管道之一內壁的一法線之間形成的一角度大於0°且小於10°。
  17. 如請求項1所述之進口端，更包含至少一個噴嘴，用於在一預定噴射壓力下將一氣體或一液體噴射於在該阻擋板的一底端上沉積的，或在該阻擋板之下的該輸送管道的一內壁上沉積的反應產物上，其中該反應產物是根據引入到該輸送管道中的該流體與該清洗液之間的一反應的一輸出。
  18. 如請求項17所述之進口端，其中該第一噴嘴組與該至少一個噴嘴噴射去離子水，該至少一個噴嘴包含複數個噴嘴。
  19. 如請求項18所述之進口端，其中從該第一噴嘴組噴射出的該去離子水的一噴射壓力對從該噴嘴噴射出的該去離子水的一噴射壓力的比例為1：1.5至3。
  20. 一種具有進口端的反應系統，係包含：一氣體引入管，用以供給一源氣體；一反應器，用於使用通過該氣體引入管供給的該源氣體形成一反應產物；一氣體排出管，係將在該反應產物之後產生的一氣體 從該反應器排出；一洗滌器，用以使用一清洗液清洗從該氣體排出管排出的該氣體；以及該進口端，係將該氣體排出管連接至該洗滌器，其中該進口端包含：一主體，其中提供有允許一流體流過的一輸送管道；一第一噴嘴組，係連接於該主體的一側表面的一個區域且適合於將該清洗液噴射於該輸送管道中；以及一阻擋板，係位於該輸送管道中以與該輸送管道的一內壁相間隔，其中從該第一噴嘴組噴射出的該清洗液受到阻擋，防止引入到位於該阻擋板內部的一個區域中。
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