TWI523162B - 含保護性散熱片的晶片等級封裝 - Google Patents

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TWI523162B
TWI523162B TW099106483A TW99106483A TWI523162B TW I523162 B TWI523162 B TW I523162B TW 099106483 A TW099106483 A TW 099106483A TW 99106483 A TW99106483 A TW 99106483A TW I523162 B TWI523162 B TW I523162B
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semiconductor
heat sink
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array
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麥可米哈利斯
傑爾戈維克怡麗嘉
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沃特拉半導體公司
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Description

含保護性散熱片的晶片等級封裝
本發明係關於一種包含一散熱片之半導體封裝件。
積體電路可製造於一半導體晶粒上。該晶粒亦可稱作「晶片」,且可係所謂「覆晶(flip chip)」。覆晶具有一包括導電凸起之表面,該等導電凸起可稱作「凸塊(bump)」。晶粒可能易碎且易在處理期間發生損壞。可藉由一環氧樹脂或塑膠之塗層對晶粒進行保護。晶粒亦可安裝於一中介層上,且可替代晶粒或與晶粒一起處理該中介層。
在操作期間,晶粒上之積體電路可能產生熱,且可能需要使用一熱沉來將熱量自晶粒傳遞至周圍環境。可將一熱沉附接至晶粒,並在熱沉與晶粒之間設置一導熱片。一旦移除熱沉後,即可移除導熱片。壓縮導熱片可提高晶粒與熱沉之間之熱導率。某些導熱片包含一金屬核心或一金屬層。
特定而言,晶粒之邊角部分可能易碎且易於由於應力集中及增壓而損壞。舉例而言,與晶粒之平坦表面相比,晶粒之邊角部分與接觸該晶粒之物件的接觸面積可能相對較小。特定而言,熱沉與晶粒之間之接觸可能會損壞晶粒。為使墊片在附接期間保護整個晶粒不被熱沉損壞,可能需要精確放置導熱片。
晶粒可安裝於一中介層上,且可將導線電連接至該中介層之引線。晶粒可以機械方式或藉由一封裝該晶粒之黏合劑或熱固性塑膠,而粘結至該中介層。
本揭示案係關於一種半導體封裝件,其包含一散熱片。
在一態樣中,本文所述之設備及方法包含一半導體封裝件,其具有一半導體晶粒,半導體晶粒包含一積體電路且具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面。一導線可電連接至該積體電路且可自該第一晶粒表面延伸。該導線可經組態以接觸一印刷電路板表面上之一導電部分。一散熱片可經組態以覆蓋該第二晶粒表面,且可藉由一層黏合劑而附接至該第二晶粒表面,該黏合劑位於該散熱片與該半導體晶粒之間。
在另一態樣中,製造一半導體封裝件可包含形成一半導體晶粒,於該半導體晶粒之一第一表面上包括一導線。可將一導熱黏合劑應用於該半導體晶粒之一相對第二表面或至一散熱片之一表面或應用於此二者。該散熱片可放置於接近該半導體晶粒且與該導熱黏合劑接觸之位置。該導熱黏合劑可固化。
在另一態樣中,一半導體封裝件包含:一半導體晶粒,其具有一晶粒頂表面;至少部分地包圍該晶粒之封裝;及一散熱片,其經組態以覆蓋該晶粒頂表面。該散熱片藉由一層黏合劑被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,且該散熱片之一外周延伸至該半導體晶粒及封裝之外。
各實現可包含以下之一或多者。除該晶粒頂表面之外,該封裝可實質上包圍該晶粒之所有表面。該封裝可包含一壓模封膠(mold compound)或一底部填膠材料。該封裝可包含一中介層。該封裝可包含一與該晶粒表面齊平之封裝表面。該封裝可藉由一黏合劑被附接至該散熱片。該封裝可包圍該晶粒之一外周。該散熱片之面積,可大於該晶粒頂表面面積與該封裝之一平行於該晶粒頂表面之表面的面積之總和。該散熱片之一底表面可包含一凹槽,該黏合劑層可至少部分位於該凹槽中。該半導體晶粒可包含一單片式整合電源開關及其驅動器。該黏合劑可具熱導性。該黏合劑可為環氧樹脂或銲料。該散熱片可實質上為剛性。該散熱片可包含一金屬(例如,銅),且可塗覆鎳或黑色氧化物。可將一熱沉(heat sink)附接至該散熱片。
在另一態樣中,一半導體組件包含:複數個半導體晶粒,每一晶粒包含一積體電路且具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面;一導線,其電連接至該積體電路並自每一第一晶粒表面延伸,且經組態以接觸一印刷電路板表面上之一導電部分;及一單一式散熱片,其經組態以覆蓋每一第二晶粒表面且於其上附接一層黏合劑,該黏合劑位於該散熱片與每一半導體晶粒之間。
各實現可包含以下之一或多者。該等複數個半導體晶粒可包含至少一列半導體晶粒。
在另一態樣中,一半導體組件陣列包含複數個半導體晶粒、每一晶粒之一導線,及一散熱片陣列。每一晶粒包含一積體電路,且具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面。該導線電連接至該積體電路並自每一第一晶粒表面延伸,且經組態以接觸一印刷電路板表面上之一導電部分。該散熱片陣列具有鄰接之相鄰散熱片。該散熱片陣列經組態以覆蓋每一第二晶粒表面且於其上附接一層黏合劑,該黏合劑位於該散熱片陣列之一散熱片與每一半導體晶粒之間。
各實現可包含以下之一或多者。該散熱片陣列可包含複數列,每一列包含複數個散熱片。該散熱片可配置成一規則矩形陣列。該散熱片可具有相同形狀或不同形狀。該等複數個半導體晶粒可包含複數列,該等複數列之每一列包含兩個或兩個以上半導體晶粒。該等半導體晶粒可配置成一規則矩形陣列。該等半導體晶粒可具有相同形狀或不同形狀。相鄰散熱片之間之一間距可小於該等相鄰散熱片之寬度。相鄰散熱片之間之一連接可由直線路徑組成。相鄰散熱片之該等相對邊緣之間之一連接不必橫向延伸至該等相對邊緣之端部之外。相鄰散熱片之相對邊緣可僅彼此連接。相鄰散熱片可藉由一或多個窄於該等相鄰散熱片之支柱連接。相鄰散熱片可完全藉由一支柱或藉由複數個支柱而連接。該一或多個支柱可比該等相鄰散熱片薄。相鄰散熱片之間之一連接器可在該等相鄰散熱片之整個寬度上延伸。該連接器可比該等相鄰散熱片薄。相鄰散熱片可沿一排穿孔而連接。該半導體晶粒可包含一單片式整合電源開關及其驅動器。該導線可包含銲料或一導電金屬鍍覆。該黏合劑可具熱導性。該黏合劑可係環氧樹脂或銲料。該散熱片可實質上為剛性。該散熱片可包含一金屬(例如,銅),且可塗覆鎳或黑色氧化物。該散熱片可包含塗覆一介電質之金屬。可將複數個半導體晶粒附接至一單一式散熱片。該散熱片陣列可為一單體。可將一熱沉附接至該散熱片。封裝可至少部分包圍該晶粒,且該散熱片之一外周可延伸至該半導體晶粒及封裝之外。該封裝可包含一中介層,而該導線可包含該中介層之一導電部分。該導線可包含該晶粒上之一焊點凸塊。
在另一態樣中,一種製造一半導體陣列之方法包含:形成複數個半導體晶粒,該等複數個半導體晶粒之每一半導體晶粒包含一第一表面及該第一表面上之一導線;形成一相鄰散熱片緊密鄰接之散熱片陣列;將一黏合劑應用於每一半導體晶粒之一相對第二表面或至該散熱片陣列中之複數個散熱片之每一散熱片之一表面;使該等複數個散熱片緊接該等複數個半導體晶粒,以便每一半導體晶粒使用該導熱黏合劑連接至一相關散熱片;及固化該導熱黏合劑。
各實現可包含以下之一或多者。形成複數個半導體晶粒可包含形成複數列,該等複數列之每一列包含兩個或兩個以上半導體晶粒。形成該散熱片陣列可包含形成複數列,每一列包含複數個散熱片。該半導體晶粒可包含一單片式整合電源開關及其驅動器。該黏合劑可具熱導性。應用該黏合劑可包含印刷該黏合劑。可切割該散熱片之一圍繞每一半導體晶粒之部分。封裝可應用於該等晶粒,且該散熱片之一外周可延伸至該半導體晶粒及封裝之外。除該半導體晶粒之第二表面之外,該封裝可實質上包圍該半導體晶粒之所有表面。應用一黏合劑可包含將黏合劑應用於每一半導體晶粒之相對第二表面以及至該等複數個散熱片之每一散熱片之一表面。
在另一態樣中,一半導體封裝件包含一具有一晶粒表面之半導體晶粒,及一經組態以覆蓋該晶粒頂表面之散熱片。該散熱片藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,該等散熱片之一外周延伸至該晶粒之一外周之外,且該等黏合劑之一外周延伸至該晶粒之一外周之外。
在另一態樣中,一半導體封裝件包含一具有一頂表面之半導體晶粒,及一經組態以覆蓋該頂表面之散熱片組件。該散熱片組件藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,該散熱片組件之一外周延伸至該晶粒之一外周之外,且該散熱片組件於該頂表面之上方包含至少一孔。
各實現可包含以下之一或多者。該孔可使用該黏合劑填充。該散熱片組件可為一單體。該散熱片組件可包含複數個藉由至少一間隙分隔之共面部分,該間隙提供至少一孔。
在另一態樣中,一半導體封裝件包含一具有一頂表面之半導體晶粒,及一經組態以覆蓋該頂表面之散熱片。該散熱片藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,該散熱片之一外周延伸至該晶粒之一外周之外且包含一朝下突出部分。
各實現可包含以下之一或多者。該朝下突出部分可經組態以使用一熱導材料附接至該印刷電路板。該朝下突出部分可在該散熱片中界定一凹槽。該等朝下突出部分可垂直延伸至該半導體晶粒之頂表面之外。該朝下突出部分之一下表面可與該半導體晶粒之引線之底部表面齊平。該朝下突出部分之下表面可鍍覆一對銲料可濕潤(wettable)之塗層。
各實現可包含以下特徵之一或多者。該半導體晶粒可包含矽。將該半導體封裝件附接至該印刷電路板之表面,可包含熔化該導線之至少一部分。組裝一半導體封裝件亦可包含將一熱沉附接至該散熱片。
上述實現可提供某些或全部以下優點,亦可能無其中任一優點。在某些或全部該晶粒之處理、該晶粒之安裝,及將一熱沉安裝至該晶粒期間,使用該散熱片封裝該晶粒可緩和或防止對該晶粒之損壞。與直接處理該晶粒相比,該散熱片可充當一可藉以相對輕鬆及安全地處理該晶粒之結構。該散熱片可充當各種熱沉之一附接點,該等熱沉之每一者可適合用於一特定周圍操作環境。該散熱片可在整個熱沉底表面上自該晶粒均勻散熱。與散熱片相比,熱沉之質量相對較大,因而在將晶粒附接至一印刷電路板之前將一散熱片而非一熱沉附接至該晶粒,亦可緩和或防止在運送和處理期間可能由大質量熱沉對該晶粒所造成之損壞。
一半導體封裝件可使用一具有導線之半導體晶粒實現。可藉由一黏合劑(諸如一導熱黏合劑)將一散熱片附接至該晶粒。該散熱片可包含一熱導材料(或由其組成),舉例而言,銅、鋁或碳。在某些實現中,該散熱片之寬度可大於該散熱片所附接至之晶粒在同一方向上之寬度。即,該散熱片可延伸至該晶粒之邊或角部分之外。
該晶粒可經組態以附接至一印刷電路板。該等導線可係對應於該印刷電路板之導電部分之導電凸塊。或者,該等導線可係引線或銲線。該散熱片可在將該晶粒附接至該印刷電路板之前,被附接至該晶粒。特定而言,該散熱片可由晶片製造商或半導體元件封裝廠商附接至該晶粒以形成封裝,且該封裝可作為一單元裝運至一電路板組裝廠商(例如,一電腦製造商),然後由電路板組裝廠商將該封裝放置於一電路板上。含有該晶粒之封裝安裝至該印刷電路板上之後,可將一熱沉附接至該散熱片,以促進該晶粒與周圍操作環境之間之熱交換。
第1A圖係一半導體封裝件100之橫截面示意圖。一晶粒120具有一晶粒底表面124,在某些實現中其可係一電活性側,及一晶粒頂表面126,其有時可被稱作背側。該晶粒120可由一半導體材料(如矽)之基板組成,於其上沉積其他導電及絕緣材料層。該晶粒120可包含積體電路,諸如電晶體(未顯示)、電源開關、及電源開關驅動電路,及其他電子組件,其可以單片形式形成為該晶粒120之一部分。該晶粒120可塗覆一層保護材料,諸如一熱塑性材料、一熱固性塑膠,或某些其他適當材料。在某些實現中,該晶粒120可塗覆一層熱導材料,諸如熱導環氧樹脂,或某些其他適當材料。
導線140可自該晶粒底表面124突出,或形成於其上或其中。該等導線140可連接至該晶粒120之該等積體電路。舉例而言,每一導線140可電連接至一導電接觸墊144(參見第1B圖),其可形成於該晶粒120之一最外層之中或之上。每一接觸墊144可連接至一或多個積體電路。在某些實現中,該等導線140可在該晶粒底表面124上形成為圓形凸起,可稱作「凸塊」,例如在一覆晶或可控制坍塌晶片連接(C4)安裝配置中之焊點凸塊之類。或者,該等導線140可形成為自該晶粒底表面124突出之引線,諸如引腳或引線。該等導線140亦可自該等晶粒窄表面128突出,儘管在這些實現中,該等接觸墊144形成於該晶粒底表面124之中或之上。在某些實現中,「凸塊」可佔用一比銲線更小之區域,藉此促進該晶粒120在一印刷電路板370上具有一更小之配合區域(參見第3A-3C圖)。由於該等引線直接自該晶粒120之底表面124提供,無需一中介層,該半導體封裝件100於實效上係一晶片尺寸之封裝件,以用於放置於該印刷電路板370上。在某些實現中,該等導線140可諸如鍍覆一導電材料,諸如金、銀、銅,或某些其他適當材料。
第1B圖係第1A圖之半導體封裝件之一部分之一實現之橫截面示意圖。該等導線140形成於接觸墊144上。該等接觸墊144形成於該晶粒底表面124之中或之上,如上所述。在此實現中,該等導線140包含一流動型導電材料,諸如一銲料。該銲料可藉由蒸鍍、電鍍、網版印刷、針式沉積,或某些其他適當方法或機制,被附接至該等接觸墊144。
再次參照第1A圖,可藉由一黏合劑180將一散熱片160附接至該晶粒120。該散熱片160可具有一散熱片底部164及一散熱片頂端166。該散熱片底部164可配置成平行於該晶粒120且接近該晶粒頂表面126。該散熱片160可形成為一剛性或半剛性片型材料,且可具有相對均勻之厚度。該厚度可,舉例而言,為大約0.5毫米(mm)。該散熱片160可具有5 HB或更高之勃氏硬度,諸如10 HB或更高,諸如30 HB或更高,諸如90HB或更高。該散熱片160可具有一大於1.5十億帕(GPa)之楊氏模數,例如,大於5.0 GPa,例如,大於50 GPa,例如,大於100 GPa。該散熱片160可具有一大於0.5瓦特每米凱氏度(W/m‧K)之熱導率,例如,大於3.0(W/m‧K),例如,大於30(W/m‧K),例如,大於200(W/m‧K)。該散熱片160可由一熱導材料組成,諸如銅、鋁、碳,或某些其他適當材料。與一熱沉380相比,該散熱片160可相對較薄(參見第3D圖)。舉例而言,該散熱片160之厚度可具有與該晶粒120之厚度相同之數量級。舉例而言,該散熱片160可介於該晶粒120之厚度之大約四分之一至大約五倍於該晶粒120之厚度之間。作為又一實例,該熱沉380之厚度(參見第3D圖)可比該散熱片160之厚度大大約10倍至大約100倍,諸如大約大50倍。此外,該散熱片160之尺寸可大於該晶粒120(參見第3B圖)。即,該散熱片之寬度160可大於該晶粒120沿同一方向之寬度。在某些實現中,該散熱片160係一矩形薄片。該散熱片頂端166可實質上為平面,例如,缺少翅片或其他突起。
該黏合劑180可設置於該晶粒頂表面126與該散熱片底部164之間。該黏合劑180可舉例而言為一熱固性塑膠,諸如一環氧樹脂,諸如一熱導環氧樹脂。該黏合劑180可具熱導性,其熱導率大於0.5瓦特每米凱氏度(W/m‧K),例如,大於1.0(W/m‧K)。該黏合劑180可以一液體或半液體之形式應用,且可固化或設定為一剛性形式。該黏合劑180可適用於該晶粒120、該散熱片160,或此二者。在某些實現中,該黏合劑180可使用印刷技術而應用,諸如網版、模板,或噴墨印刷。該黏合劑180可藉由乾燥、藉由熱、藉由紫外光,或藉由某些其他機制而可固化,諸如某些其他物理或化學機制。一旦乾燥、固化,或以其他方式硬化,該黏合劑180可在該晶粒120與該散熱片160之間提供粘合。在某些實現中,該黏合劑180可係永久性的。即,該黏合劑180可永久附接該晶粒120及該散熱片160,從而分離將可能導致該晶粒120及該散熱片160之一者受損或二者均受損。在某些其他實現中,該晶粒120及該散熱片160可藉由應用熱、一化學藥品,或某些其他機制而分離。
在某些實現中,該黏合劑180僅接觸該晶粒頂表面126及該等晶粒窄表面128,如第1A圖中所示。在這些實現中,該黏合劑180可覆蓋該晶粒120之邊緣122及角123(參見第1A及3B圖),以及該晶粒頂表面126。該晶粒底表面124可不含黏合劑180。即,在某些實現中,在該晶粒底表面124上不存在黏合劑180。同時,在某些此外實現中,該黏合劑180僅接觸該晶粒頂表面126。
該散熱片160可包含彈性比該晶粒120之材料更高的材料。舉例而言,該散熱片160可比該晶粒120脆性更小或更不易於發生開裂或剝離。同時,對該散熱片160之損壞可顯著小於對該晶粒120之損壞,因為該散熱片160實質上不含敏感組件,諸如作為該晶粒120之一部分之該等積體電路(未顯示)。即,與對該晶粒120本身之損壞相比,對該散熱片160之損壞干擾該晶粒120上積體電路之操作的可能性更小。舉例而言,藉由覆蓋該等邊緣122及角123,該散熱片160可防止或緩和否則可能會在處理該晶粒120期間發生之對該晶粒120的損壞。該散熱片160之剛度可組態成足夠高,以保護晶粒120避免損壞。該散熱片160之剛度可組態成足夠低,以降低或最小化在將該散熱片160安裝至該晶粒120期間損壞該晶粒120之風險。
第2A圖係一用於製造一半導體封裝件100之製程200之流程圖。第2B-2D圖顯示一用於製造一半導體封裝件100之封裝裝置260。該封裝裝置260可包含一晶粒支撐274,其具有一設置於其上之封裝器基座270。一散熱片機械臂280經組態以可松脫地夾持(例如,藉由吸氣)該散熱片160及定位該散熱片160,使其與該晶粒120上之黏合劑180接觸。該散熱片機械臂280可裝備位置感測功能及控制電路(未顯示),其經組態以準確定位該散熱片160,而不會對該晶粒120造成實質損壞。
該晶粒120藉由習知半導體製造技術形成(步驟210)。導線140形成於該晶粒底表面124上(步驟220)。將黏合劑180應用於該晶粒頂表面126,該表面可係一具有接觸墊之晶粒底表面124相反之表面(步驟230,參見第2B圖)。或者,可將黏合劑180應用於該散熱片底部164,或應用於該晶粒頂表面126及該散熱片底部164。然後,藉由該散熱片機械臂280將該散熱片160放置於與黏合劑180接觸之位置(步驟240,參見第2C圖)。在某些實現中,在該製程200期間,該晶粒120定位於該散熱片160之下,此時可允許借助重力使該散熱片160抵壓在該晶粒120及該黏合劑180上。在某些實現中,可在安裝期間將該散熱片160按壓該晶粒120上。舉例而言,所應用之力可適合用於塗布該黏合劑180,及在某些實現中,適合用於獲得一均勻薄層黏合劑180。此力之適當幅度可透過實驗方式判定。容許該黏合劑180固化,並縮回該散熱片機械臂280(步驟250,參見第2D圖)。該散熱片機械臂280可在該黏合劑180固化之前、固化期間或固化之後釋放該散熱片160並縮回。藉由在一半導體製造設施中(例如,在一無塵室環境中使用精密設備)執行此封裝製程,可將該散熱片160定位於離該晶粒120一精確距離,而損壞該晶粒之120危險很小。
一旦將該散熱片160附接至該晶粒120以形成該半導體封裝件100,可執行進一步之封裝步驟,例如,可將一保護塗覆應用於該晶粒120之下表面(該等導線140除外)。一旦完成該半導體封裝件100之總成,可封裝該半導體封裝件100(在放置於塑膠覆蓋物中之傳統意義上,例如,一塑膠袋、收縮性塑膠薄膜包裝,或標記有產品資訊且視需要可密封之塑膠容器)以便運送給客戶。然而,如上所述,該半導體封裝件100在裝運時無需一中介層、晶片載體,或在該封裝之底側上之等效支撐。
在某些實現中,多個晶粒120定位於一陣列中,且將一單一式散熱片160降低至該等多個晶粒120上。即,該散熱片160可形成為一連續片型材料,且可將多個晶粒120附接至此單個散熱片160。然後可將該散熱片160分段成多個散熱片160,以舉例而言,為每一晶粒120提供單一散熱片160。即,可將有多個晶粒120附接於其上之單一式散熱片160切割成多個半導體封裝100。
第2E圖係一用於製造一半導體封裝件100之替代製程2000之流程圖。第2F圖顯示一用於製造一半導體封裝件100之封裝裝置2100。第2G圖係第2F圖之封裝裝置2100之平面視圖。該封裝裝置2100可包含一封裝器基座270,於其上設置一散熱片支撐2174。一晶片機械臂2180經組態以可松脫地夾持(例如,藉由吸氣)該晶粒120及定位該晶粒120,使其與該散熱片160上之黏合劑180接觸。該晶片機械臂2180可裝備位置感測功能及控制電路(未顯示),其經組態以準確定位該晶粒120,而不會對該晶粒120造成實質損壞。第2F及2G圖說明在某些位置中被附接至該散熱片160之晶粒120,而在該散熱片160上之某些其他位置等待附接其他晶粒120,諸如藉由該晶片機械臂2180可松脫地夾持之晶粒120,如第2F圖中所示。出於說明之目的,第2F及2G圖中所示之各種組件(諸如該黏合劑180)之厚度不一定按比例顯示。
再次參照第2E圖,如以下更詳盡之描述,可將封裝附接至該晶粒120(步驟2020)。在某些實現中,可在將該晶粒120附接至該散熱片160之後、在切割之後,或在製造中之某些其他適當點,再附接封裝。黏合劑180可應用於該散熱片底部164,其在第2F圖中展示為面朝上方(步驟2030,參見第2F圖)。或者,可將黏合劑180應用於該晶粒頂表面126,或應用於該晶粒頂表面126及該散熱片底部164。然後可藉由該晶片機械臂2180將該晶粒120放置成與黏合劑180接觸(步驟2040)。在某些實現中,在該製程2000期間,該晶粒120定位於該散熱片160之上,此時可允許借助重力使該晶粒120抵壓在該散熱片160及該黏合劑180上。在某些實現中,可在安裝期間將該晶粒160按壓該散熱片120上。舉例而言,所應用之力可適合用於塗布該黏合劑180,及在某些實現中,適合用於獲得一均勻薄層黏合劑180。此力之適當幅度可透過實驗方式判定。可容許該黏合劑180固化,並縮回該晶片機械臂2180(步驟2050)。該晶片機械臂2180可在該黏合劑180固化之前、固化期間或固化之後釋放該晶粒120並縮回。藉由在一半導體製造設施中(例如,在一無塵室環境中使用精密設備)執行此封裝製程,該晶粒160可定位於離該散熱片120一精確距離,而損壞該晶粒之120危險很小。
在某些實現中,一旦將多個晶粒120附接至該散熱片160(如第2F及2G圖中所示),可藉由沿第2G圖中所示虛線2200切割而切割半導體封裝100(步驟2060)。藉由在該散熱片160中之部分蝕刻2190(諸如在該散熱片頂端166中),可有助於切割。應用於該散熱片頂端166之帶(未顯示)亦可藉由改良易處理性或降低該散熱片160破碎或其他損壞之風險,而有助於切割。
或者,參照第2H圖,可將多個晶粒120(例如,單列晶粒120或多列晶粒120)附接至一個、單一式散熱片160以形成一具有多個晶粒120之半導體封裝件2300。儘管第2H圖顯示四個晶粒,但是可存在兩個或三個晶粒(例如,在單列中),或五個或更多晶粒。此外,儘管第2H圖顯示每一列具有相同數目之晶粒,但不同列可具有不同數目之晶粒。此外,儘管第2H圖顯示該等晶粒在該單一式散熱片160上配置成一規則填充陣列,但這並不必要,例如,在該陣列中之某些點可缺少晶粒或者該等晶粒可能成不規則配置。
第2I圖係一替代半導體封裝件2400之立視橫截面示意圖。第2J圖係第2I圖之半導體封裝件2400之平視橫截面示意圖。該散熱片160可具有一厚度T。一托架2410(在本揭示案中亦可被描述為封裝)可圍繞某些或全部晶粒120。該托架2410可由塑膠形成,例如,一射出模塑固態塑膠體。該托架2410可具有一孔2414,該孔具有與該晶粒120所配合插入之晶粒120相同之尺寸,使該晶粒120之該等窄表面128直接接觸該孔2414中該托架2410之內部表面2418。該托架2410具有一托架頂表面2416,其可實質上與該晶粒頂表面126共面。在某些實現中,該托架2410圍繞該晶粒120具有均勻寬度W。該托架2410可包含一唇2419,其自該托架2410之底部向內突出。該晶粒底表面124可抵靠於該唇2419之上,以便該等托架2410在該孔2414中支撐該晶粒120。以替代方式或此外,該晶粒120可壓入配合於該孔2414內。
該散熱片160可覆蓋該晶粒頂表面126及該托架頂表面2416。該散熱片160亦可延伸至該晶粒120及托架2416之外一定距離D。舉例而言,該距離D可介於零至該晶粒120及托架2410之長度L之一半之間,諸如在0至該長度L之五分之一之間。在某些實現中,該散熱片160之一外周162可延伸至該托架2410之一外周2412之外(例如,完全包圍之),這樣可有利於保護該晶粒120及該托架2410避免損壞。因此,在某些實現中,該散熱片160可完全覆蓋該晶粒120及托架2410之該等頂表面。然而,在某些實現中,可於該散熱片160中之一高於該晶粒120之區域中形成孔(例如,第2P圖中之2870),以便曝露該晶粒120之一部分(例如,小於全部)頂表面。在替代實現中,該托架頂表面2416可實質上平行但不與該晶粒頂表面126共面,且經組態以接近該黏合劑180及該散熱片160。第2I圖中所示結構之相對尺寸不一定按比例顯示。舉例而言,該托架2410相對該晶粒120之尺寸可改變。
在某些實現中,一結構薄片包含一由多個散熱片組成之陣列,且在自該陣列切割散熱片之前,將晶粒放置於該陣列中之散熱片上以形成半導體封裝。在切割之後,可將所產生之半導體封裝附接至印刷電路板。因此,在某些實現中,該等半導體封裝不被附接至一印製板,而在該陣列中(儘管該等引線經組態以接觸一印刷電路板)。第2K圖係一包括多個散熱片160之結構薄片2500之示意圖,該等散熱片配置成一陣列2505,例如,一規則陣列,例如,一具有兩個或兩個以上行及兩個或兩個以上列之矩形陣列,相鄰散熱片160之間藉由支柱2510連接。該等支柱2510可係直線型且可相對該散熱片160較短,例如,其長度可小於該相鄰散熱片160在一平行方向上之尺寸,例如,大約為該相鄰散熱片160之寬度X之8%至大約20%。類似地,該等支柱2510之寬度C可窄於該相鄰散熱片160之一尺寸,例如,大約為該相鄰散熱片160高度Y之8%至20%。在某些實現中,該等支柱2510之厚度可約等於一相鄰散熱片之厚度T(參見第2I圖)。然而,該等支柱2510亦可比該相鄰散熱片更厚或更薄。舉例而言,該等支柱2510可比該散熱片薄,以促進在切割期間之切斷。該陣列2505中之散熱片160可均為相同尺寸及厚度,或可為不同尺寸及/或厚度。
儘管第2K圖僅顯示一個連接每一對相鄰散熱片160之支柱2510,但在某些具體實施例中,至少某些相鄰散熱片160可藉由兩個或兩個以上支柱2510連接,諸如兩個或兩個以上平行支柱2510。第2K圖亦說明一可促進製造之可選支撐結構2530。該可選支撐結構2530可形成為該結構薄片2500之一部分,且可經組態以支撐該陣列2505之一側或多側。該支撐結構2530可沿散熱片160之陣列2505之一側延伸,例如,跨越陣列2505之所有列(或行),每一相鄰散熱片160藉由一支柱2510連接至該支撐結構2530。在某些其他實現中,該可選支撐結構2530可圍繞該陣列2505形成為一環(未顯示)。在某些實現中,在切割該陣列2505之該等散熱片160之前,可切斷將該支撐結構2530連接至該陣列2505之該等支柱2510。
該結構薄片2500可藉由以下過程形成:其起始於一連續薄片,並經過打孔、蝕刻或切孔,以留下藉由支柱2510連接之該等散熱片150。在某些實現中,該等支柱被部分蝕刻,例如,穿透其大約一半厚度,或部分打孔,例如,打一排穿孔,該等穿孔佔據該支柱之大約一半寬度,以促進自該薄片2500切割該等散熱片150及/或在封裝製程期間之應力釋放。
第2L圖係半導體封裝100之一陣列2600之示意圖,其中該等散熱片160仍然附接支柱2510。不被支柱2510連接之該等相鄰散熱片部分可藉由狹槽2512分離。某些散熱片160顯示有一晶粒120藉由黏合劑180附接於其上。出於示意性目的,某些其他散熱片160顯示帶有黏合劑180,但無晶粒120附接於其上。作為一實例,該陣列2600可包含四個半導體封裝100,其配置成一二乘二組態。即,該陣列2600在一x方向上可具有兩個半導體封裝100之長度,在一垂直於該x方向之y方向上可具有兩個半導體封裝之長度。
如圖所示,每一散熱片160將接受單一晶粒120,所有該等散熱片160具有相同尺寸,且所有該等晶粒120具有相同尺寸。然而,該陣列可包含未附接元件120之散熱片160,有些散熱片160可附接有兩個或兩個以上晶粒,且可有不同尺寸之散熱片160,且可有不同尺寸之晶粒。
相鄰散熱片160之間之介面可藉由部分2520界定,該部分比該等相鄰散熱片薄(參見第2Q圖)。該等薄部分2520可藉由蝕刻部分穿透該薄片而形成。相鄰散熱片160之間之介面可藉由一排2530穿孔2532(參見第2R圖)界定,該等散熱片將在由此而提供之一位置彼此分斷。該等穿孔可藉由蝕刻或打孔形成。類似地,在該散熱片與該支柱之間之介面可藉由一比該相鄰散熱片及支柱更薄之部分界定,或藉由一排穿孔界定,該排穿孔提供一位置,該支柱將在此位置自該散熱片切斷。在這些實現中,該等相鄰散熱片160可沿其整個公共邊緣相連接,或者該等支柱可跨越其所附接至之散熱片160之整個邊緣。然而,如第2S圖中所示,可於連接相鄰散熱片之支柱2510之間形成一或多個狹槽2540(狹槽2512亦可形成為自該散熱片之邊緣向內延伸,如第2L圖中所示)。該等支柱2510亦可部分蝕刻,以便該等支柱比該等相鄰散熱片160更薄。
該結構薄片2500(其中散熱片160藉由支柱2510連接)可藉由在一金屬薄片上進行蝕刻、打孔或切割以實現一所需圖案而形成。可對該圖案進行選擇,以降低在處理期間在散熱片及晶粒中之扭曲及殘餘應力。
並非每一散熱片都需要附接一晶粒。在某些實現中,散熱片群組可自該陣列切斷,而同時保持彼此連接。然而,該切斷群組中之某些散熱片可能未附接一晶粒。
如上所述,該散熱片160可藉由支柱2510連接。可藉由切斷支撐2612而自該陣列2600分離一或多個半導體封裝100。舉例而言,可藉由切斷將該半導體封裝件102連接至該陣列2600之其他半導體封裝100之該等支撐2612,而自該陣列2600切割半導體封裝件102。切割可執行於已經將晶粒120附接至所有將使用之散熱片160之後,例如,一旦切割執行,晶粒120就不會被附接至未使用的散熱片160。
第2M圖係一半導體元件2700及一散熱片160'之一替代實現之立視橫截面示意圖。該散熱片160'包含一凹槽2720。該凹槽2720可包含該散熱片底部164,且該凹槽2720可經組態以用於諸如藉由黏合劑180而將要附接於其中之晶粒120。界定該凹槽之朝下突出部分2740可停止於該半導體晶粒之頂表面之上,或者,該朝下突出部分2740可延伸至該半導體晶粒之頂表面之外(以虛線示出)。第2N圖係一半導體元件2750之立視橫截面示意圖,該半導體元件包含封裝2760及一散熱片160'之一替代實現。在某些實現中,除該晶粒頂表面126之外,該封裝2760可包圍該晶粒120之所有表面。該封裝2760可永久附接至該晶粒120。或者,該封裝2760可透過可移動方式附接至該晶粒120。在某些實現中,該封裝2760被預模塑,且可作為製程之一部分將該晶粒120插入該封裝2760。該封裝2760可係一模塑化合物,諸如一塑膠或一環氧樹脂,舉例而言,諸如日本東京住友培科股份有限公司提供的EME-G770HCD多芳香環樹脂。或者,該封裝2760可包含一黏合劑,例如,一底部填充黏合劑。該封裝2760可藉由一黏合劑而被附接至該晶粒120,該黏合劑可與用於將該晶粒120附接至該散熱片160之黏合劑180相同或不同。引線140可延伸穿過封裝2760,以便具有用於電連接之曝露表面,例如,與該封裝2760齊平之表面。該封裝2760可與各種其他實現(例如第2M圖中之實現)組合。
一半導體封裝件100亦可包含一中介層2770,其可包含一材料,該材料實質上類似於一可用於形成該印刷電路板370之材料(參見第3A-3C圖)。或者,該中介層2770可由單一銅合金片形成,且經蝕刻以形成電導線(未顯示),該等導線140及外部引線2780透過此等電導線而發生電連接。舉例而言,該銅合金薄片可包含位於密蘇裏州克萊登市的歐林公司提供的歐林194半硬型合金。在某些實現中,該等外部引線2780可鍍覆或塗覆消光錫、銅、銀、銲料、有機銲料保護層,或某些其他適當鍍覆或塗覆。該中介層2770及外部引線2780可視需要與各種其他實現(例如第2M、2O及2P圖之實現)組合,或此等實現亦可無需一中介層即可製造。
第2O圖係一半導體元件2800及一散熱片160"之一替代實現之立視橫截面示意圖。該散熱片160"可具有一或多個垂直延伸且與該散熱片頂端166相對之延伸件2820。該延伸件2820可包圍該晶粒120。在某些實現中,該等散熱片延伸件底部表面2840經組態以附接(例如,使用一熱導材料)至該印刷電路板370,而該等導線140經組態以附接至印刷電路板370。因此,該等延伸件2820之該等底部表面2840可與該等引線140之底表面齊平,且可鍍覆一對銲料可濕潤之塗層。
第2P圖係一半導體元件2850及一分離式散熱片2860之立視橫截面示意圖。該分離式散熱片可包含一第一散熱片部分2864及一第二散熱片部分2866。該散熱片部分2864、2866可經組態以於其間設置一間隙2870。該晶粒120可附接至該等散熱片部分2864、2866之散熱片底部164'。該間隙2870可釋放應力,否則,如果該等散熱片部分2864、2866係單一式且在該晶粒120上連續,則可能存在應力。不限於任何特定理論,實施該間隙2870可降低晶粒120中之應力,否則可能因作用於該等散熱片部分2864、2866作為一連續散熱片之一部分之一元件之上的熱膨脹或機械應變,而產生應力。在某些實現中,該間隙2870可使用黏合劑180部分或完全填充。在某些實現中,透過該散熱片160形成一或多個孔2870,而非具有兩個散熱片部分。
第3A圖係一用於處理一半導體封裝件100之機械臂設備300之橫截面示意圖。第3B圖係第3A圖中所示機械臂設備300之平面示意圖。圖中所示組件之間或之內的隱藏邊界以虛線說明,且第3A及3B圖中之組件不一定按比例顯示。一基座310可包含一基座表面314,且可將一機器人320附接至該基座310。該機器人320可包含一機械臂322,且可提供致動器(未顯示)以移動該機械臂322。
該機械臂322可包含一機械頭340,其可包含一平行於該基座表面314之頭部表面344。該機械臂322可包含一或多個吸氣通道(未顯示),其經組態以將吸氣應用於該頭部表面344上之吸氣口(未顯示)。可應用及移除吸氣以分別吸住和鬆開該散熱片160。該頭部表面344可為適當尺寸,以藉由該散熱片160固定一半導體封裝件100。
該機械臂322可定位於該基座310之一經組態以支撐一半導體封裝件100之部分附近。亦可將一印刷電路板370定位於該基座表面314上,以便該印刷電路板370之至少一部分處於該機械臂322之可及範圍內。該印刷電路板370具有一印刷電路板表面372,其可包含導電部分376。該等導電部分376可經組態以與該晶粒120之該等導線140相對應。可操縱該機械臂322以提升該半導體封裝件100,並將該半導體封裝件100置於該印刷電路板表面372上。然後可致動該機械臂322以將該半導體封裝件100置於該印刷電路板表面372上,以便該等導線140與該等導電部分376對齊。
第3C圖係一定位於一印刷電路板表面370上之半導體封裝件100之一部分之橫截面示意圖。該晶粒120上之該等導線140與該印刷電路板表面372上之該等導電部分376對齊。在第3C圖中,出於示意性之目的,該等導線140及該等導電部分376之尺寸有所誇大。在第3C圖中所示之具體實施例中,該晶粒120被附接至該印刷電路板370,而無需使用一中間組件,諸如一中介層。舉例而言,該晶粒120可係一覆晶型半導體晶粒,且可將該等導線140直接附接至該印刷電路板370。其中該等導線140包含銲料時,此直接附接可使用熱、超音波,或某些其他將該晶粒120直接機械與電連接至該印刷電路板370之適當機制而完成。
第3D圖係顯示第3C圖之半導體封裝件100及一附接於其上之熱沉380之橫截面示意圖。在第3D圖中,出於示意性之目的,該等導線140及該等導電部分376之尺寸有所誇大。該熱沉380可係一單體材料,且可包含一主體382,並帶有自其突出之翅片384。該熱沉380可包括一熱導材料,諸如銅、鋁、鎂、碳、碳化鋁矽,或某些其他適當材料。該熱沉380可經組態以將熱自該晶粒120傳遞至周圍環境。即,其中該周圍環境包含空氣時,該熱沉380可經組態以將熱自一傳導介質(諸如該散熱片160)傳遞至一對流介質,諸如該周圍環境中之空氣。舉例而言,該等翅片384之尺寸、形狀及數量可經組態以在該晶粒120與周圍環境之間提供一所需熱傳遞,或以將該晶粒120維持在一所需溫度範圍內。
該熱沉380具有一熱沉底表面386,可使用一熱沉黏合劑390將該熱沉底表面附接至該散熱片160。該熱沉黏合劑390可係一導熱黏合劑,諸如一熱導環氧樹脂。在某些實現中,可藉由一緊固件(未顯示),諸如一螺釘、一銷,或某些其他適當機制,將該熱沉380附接至該散熱片。其中使用一機械機制將該熱沉380附接至該散熱片160時,可在該熱沉380與該散熱片160之間提供一導熱膏或墊,以促進該熱沉380與該散熱片160之間之熱傳導。或者,可將該熱沉380直接附接至該散熱片160,而無需在該熱沉380與該散熱片160之間設置任何導熱膏或其他傳導材料。
第4圖係一用於安裝一半導體封裝件100之製程400之流程圖。可將該機械頭表面344附接至該半導體封裝件100之散熱片160(步驟410)。即,在某些實現中,在將該晶粒120附接至該印刷電路板370之前,該散熱片160已經被附接至該晶粒120。可致動該機械臂總成320,以將該半導體封裝件100定位於接近該印刷電路板370之位置(步驟420)。該等導線140可與該印刷電路板表面372上之對應導電部分376對齊(步驟430)。可將該半導體封裝件100附接至該印刷電路板表面372(步驟440)。在某些實現中,諸如第2O圖中之所示,可將該散熱片160"之延伸件2820附接至該印刷電路板表面372。可自該機械頭表面344釋放該散熱片160,且可藉由該熱沉黏合劑390將該熱沉380附接至該散熱片160(步驟450)。
在將該晶粒120安裝在該印刷電路板370上之前將該散熱片160附接至該晶粒120,可保護晶粒120避免損壞。舉例而言,該散熱片160可保護晶粒120,避免可能由於使該機械頭表面344直接與該晶粒120接觸而造成損壞。同時,與將該熱沉380直接附接至該晶粒120相比,將該散熱片160附接至該晶粒120可降低導致該晶粒120損壞之可能性。不限於任何特定理論,由於該散熱片160之重量比該熱沉380輕,可導致降低作用於該晶粒120之力。藉此可降低損壞該晶粒120之可能性。即,與在該晶粒120上安裝相對較重之熱沉380相比,在該晶粒120上安裝相對較輕之散熱片160,可降低損壞該晶粒120之可能性。此外,在某些實現中,該散熱片160可比該熱沉380更有彈性。該散熱片160之所以撓性更大,可能是因為該散熱片160之厚度比該熱沉380小。由於該散熱片160與該晶粒120之間之接觸可能使該散熱片160彎曲,而非使該晶粒120破碎或損壞,此撓性可降低損壞該晶粒120之風險。將該散熱片160附接至該晶粒120,可因此保護晶粒120,以避免否則可能由於安裝該熱沉380而造成之損壞。
上述實現可提供某些或全部以下優點,亦可能無其中任一優點。使用該散熱片封裝該晶粒,可緩和或防止在處理該晶粒、將該晶粒安裝至一印刷電路板、或將一熱沉安裝至該晶粒期間對該晶粒之損壞。該散熱片可用於輕鬆及安全地處理該晶粒。該散熱片可充當各種熱沉之一附接點,該等熱沉之每一者可適合用於一特定操作環境。該散熱片可在該熱沉底之整個表面上自晶粒均勻散熱,其可促進在該晶粒與該熱沉之間之熱傳遞,藉此減小所需熱沉尺寸或容量。在將該晶粒附接至一印刷電路板之前,將一散熱片而非一熱沉附接至該晶粒,亦可緩和或防止在運送和處理期間對該晶粒之損壞。即,與該熱沉之相對較大之質量相比,由該散熱片之相對較小質量所施加之加速或慣性力可能損壞該晶粒之可能性更小。
在整個本說明書及申請專利範圍中所使用之「上」、「下」、「頂部」、「底部」、「之上」及「之下」等詞僅用於示意性目的,用以在各種組件之間以及組件之各部分之間進行區分。使用這些術語並不暗示任何組件之一特定方向。類似地,使用任何水平或垂直術語對元件進行之說明,均係相對於所述之該等實現。在其他實現中,相同或類似元件可視情況採用非水平或垂直之其他取向。此外應瞭解,「齊平」或「共面」等詞可包含製造容差。
本文說明了若干具體實施例。然而應瞭解,可在所述標的之精神與範圍內進行各種修改。舉例而言,該散熱片可為彈性而非剛性。同時,該散熱片可由一熱絕緣材料而非一熱導材料組成。此外,在該晶粒與該散熱片之間之黏合劑可固化成一半剛性或撓性形式,而非一剛性形式。因此,其他具體實施例亦在以下申請專利範圍之範疇內。
100...半導體封裝件
102...半導體封裝件
120...晶粒
122...邊緣
123...角
124...晶粒底表面
126...晶粒頂表面
128...窄表面
140...引線
144...接觸墊
160...散熱片
160'...散熱片
160"...散熱片
162...外周
164...散熱片底部
164'...散熱片底部
166...散熱片頂端
180...黏合劑
260...封裝裝置
270...封裝器基座
274...晶粒支撐
280...散熱片機械臂
300...機械臂設備
310...基座
314...基座表面
320...機器人
322...機械臂
324...虛線
330...(未說明)
340...機械頭
344...頭部表面
350...(未說明)
360...(未說明)
370...印刷電路板
372...印刷電路板表面
376...導電部分
380...熱沉
382...主體
384...翅片
386...熱沉底表面
390...熱沉黏合劑
2100...封裝裝置
2174...散熱片支撐
2180...晶片機械臂
2190...部分蝕刻
2200...虛線
2300...半導體封裝件
2400...半導體封裝件
2410...托架
2412...外周
2414...孔
2416...托架頂表面
2418...內部表面
2419...唇
2500...結構薄片
2505...陣列
2510...支柱
2520...薄部分
2530...支撐結構
2532...穿孔
2540...狹槽
2600...陣列
2612...支撐
2700...半導體元件
2720...凹槽
2740...朝下突出部分(未示出)
2750...半導體元件
2760...封裝
2770...中介層(未示出)
2780...外部引線(未示出)
2800...半導體元件
2820...延伸件
2840...延伸件底部表面
2850...半導體元件
2860...分離式散熱片
2864...第一散熱片部分
2866...第二散熱片部分
2870...間隙
C...寬度
D...距離
L...長度
X...寬度
Y...高度
第1A及1B圖係一半導體封裝件之橫截面示意圖。
第2A圖係一用於製造一半導體封裝件之製程之流程圖。
第2B-2D圖係一用於製造一半導體封裝件之設備之示意圖。
第2E圖係一用於製造一半導體封裝件之替代製程之流程圖。
第2F圖係一用於製造一半導體封裝件之設備之示意圖。
第2G圖係第2F圖之設備之平面示意圖。
第2H圖係一具有多個晶粒之半導體封裝件之示意圖。
第2I圖係一包含一托架之半導體元件之立視橫截面示意圖。
第2J圖係第2I圖之半導體封裝件之平視橫截面示意圖。
第2K圖係一散熱片陣列之示意圖。
第2L圖係一散熱片及晶粒陣列之示意圖。
第2M圖係一半導體元件及一散熱片之一替代實現之立視橫截面示意圖。
第2N圖係一半導體元件之立視橫截面示意圖,該半導體元件包含封裝及一散熱片之一替代實現。
第2O圖係一半導體封裝件及一散熱片之一替代實現之立視橫截面示意圖。
第2P圖係一半導體元件及一分離式散熱片之立視橫截面示意圖。
第2Q圖係藉由一細支柱連接之散熱片上之多個半導體晶粒之橫截面示意圖及平面示意圖。
第2R圖係藉由一穿孔區域連接之散熱片上之多個半導體晶粒之橫截面示意圖及平面示意圖。
第2S圖係藉由窄支柱連接之散熱片上之多個半導體晶粒之橫截面示意圖及平面示意圖,該等窄支柱藉由一狹槽分隔。
第3A圖係一用於處理一半導體封裝件之設備之橫截面示意圖。
第3B圖係第3A圖之設備之平面示意圖。
第3C圖係一半導體封裝件之一部分之橫截面示意圖。
第3D圖係一半導體封裝件之橫截面示意圖。
第4圖係一用於安裝一半導體封裝件之製程之流程圖。
在各種圖式中,類似元件符號指示相似元件。
100...半導體封裝件
120...晶粒
122...邊緣
124...晶粒底表面
126...晶粒頂表面
128...窄表面
140...引線
160...散熱片
164...散熱片底部
166...散熱片頂端
180...黏合劑

Claims (78)

  1. 一種用於放置在一印刷電路板上之晶片等級半導體封裝件,包括:一半導體晶粒,具有一晶粒頂表面及一晶粒底表面;一封裝,至少部分包圍該晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板;複數個導線,電連接至該半導體晶粒,該複數個導線之各者從該晶粒底表面延伸至該封裝的該外表面;及一散熱片,經組態以覆蓋該晶粒頂表面,該散熱片藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,且該散熱片之一外周延伸至該半導體晶粒及封裝之外;其中在該散熱片下方的該封裝之所有部分均比該散熱片更窄。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝實質上包圍除了該晶粒頂表面之外的該晶粒之所有表面。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝包括一壓模封膠(mold compound)。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝包括一底部填充材料。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝包含與該晶粒頂表面共平面之一封裝表面。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝藉由一黏合劑被附接至該散熱片。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該封裝包圍該晶粒之一外周。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該散熱片之面積大於該晶粒頂表面之面積與該封裝之平行於該晶粒頂表面之一表面的面積之總和。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該散熱片之一底表面包含一凹槽,且該黏合劑層至少部分地位於該凹槽中。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該半導體晶粒包括一單片式整合電源開關及其驅動器。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該黏合劑具熱導性。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該黏合劑包括一環氧樹脂。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該黏合劑包括一銲料。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該散熱片實質上為剛性。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,其中該散熱片包括一金屬。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之半導體封裝件,其中該散熱片包括銅。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之半導體封裝件,其中該散熱片包括塗覆鎳之金屬。
  18. 如申請專利範圍第15項所述之半導體封裝件,其中該散熱片包括塗覆黑色氧化物(black oxide)之金屬。
  19. 如申請專利範圍第1項所述之半導體封裝件,更包括:一熱沉(heat sink),附接至該散熱片。
  20. 一種用於放置一印刷電路板的半導體組件,包括:複數個半導體封裝件,每一半導體封裝件包含:一半導體晶粒,具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面,封裝,至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板,及一導線,其電連接至該半導體晶粒,並從該第一晶粒表面延伸至該封裝的該外表面,以接觸該印刷電路板上之一導電部分;及一單一式散熱片,其經組態以覆蓋每一第二晶粒表面且藉由一層黏合劑與每一第二晶粒表面附接,該黏合劑位於該散熱片與每一半導體晶粒之間,其中在該散熱片下方的各個半導體封裝件之封裝之所有部分均比該散熱片更窄。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之半導體組件,其中該複數個半導體封裝件包含至少一列半導體封裝件。
  22. 一種用於放置在一印刷電路板上之半導體組件陣列,包括:複數個半導體封裝件,每一半導體封裝件包含:一半導體晶粒,具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面, 封裝,至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板,及一導線,其電連接至該半導體晶粒,並從該第一晶粒表面延伸至該封裝的該外表面,以接觸該印刷電路板上之一導電部分;及一相鄰散熱片緊密鄰接之散熱片陣列,該散熱片陣列經組態以覆蓋每一第二晶粒表面且藉由一層黏合劑與每一第二晶粒表面附接,該黏合劑位於該散熱片陣列之一散熱片與每一半導體晶粒之間,其中在該散熱片下方的各個半導體封裝件之封裝之所有部分均比該散熱片更窄。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該散熱片陣列包含複數列,每一列包含複數個散熱片。
  24. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片配置成一規則矩形陣列。
  25. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片具有相同形狀。
  26. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片具有不同形狀。
  27. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該複數個半導體封裝件包含複數列,該等複數列之每一列包含兩個或兩個以上半導體封裝件。
  28. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等半導體封裝件配置成一規則矩形陣列。
  29. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等半導體封裝件具有相同形狀。
  30. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等半導體封裝件具有不同形狀。
  31. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片之間的間距小於該等相鄰散熱片之寬度。
  32. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片之間的連接由直線路徑組成。
  33. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片之相對邊緣間之連接不橫向延伸至該等相對邊緣之端部之外。
  34. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其 中相鄰散熱片之相對邊緣僅彼此連接。
  35. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片藉由一或多個支柱(strut)連接,該等支柱窄於該等相鄰散熱片。
  36. 如申請專利範圍第35項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片精確地藉由一支柱連接。
  37. 如申請專利範圍第35項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片藉由複數個支柱連接。
  38. 如申請專利範圍第35項所述之半導體組件陣列,其中該一或多個支柱比該等相鄰散熱片薄。
  39. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片間之一連接器在該等相鄰散熱片之整個寬度上延伸。
  40. 如申請專利範圍第39項所述之半導體組件陣列,其中該連接器比該等相鄰散熱片薄。
  41. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中相鄰散熱片沿一排穿孔連接。
  42. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中各個半導體封裝件之該半導體晶粒包括一單片式整合電源開關及其驅動器。
  43. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該複數個半導體封裝件之至少一者的該導線包括銲料。
  44. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該複數個半導體封裝件之至少一者的該導線包括一導電金屬鍍覆。
  45. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該黏合劑具熱導性。
  46. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該黏合劑係環氧樹脂。
  47. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該黏合劑係銲料。
  48. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片實質上為剛性。
  49. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片包括一金屬。
  50. 如申請專利範圍第49項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片包括銅。
  51. 如申請專利範圍第49項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片包括塗覆鎳之金屬。
  52. 如申請專利範圍第49項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片包括塗覆黑色氧化物之金屬。
  53. 如申請專利範圍第49項所述之半導體組件陣列,其中該等散熱片包括塗覆一介電質之金屬。
  54. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,更包括複數個半導體晶粒,附接至一單一式散熱片。
  55. 如申請專利範圍第54項所述之半導體組件陣列,其中該散熱片陣列包括一單體。
  56. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,更包括一熱沉,附接至該等散熱片。
  57. 如申請專利範圍第22項所述之半導體組件陣列,其中該複數個半導體封裝件之每一者的該導線包括在該半導體封裝件之該半導體晶粒上的一焊點凸塊。
  58. 一種製造用於放置在一印刷電路板上之一半導體陣列之方法,包括以下步驟:形成複數個半導體封裝件,該複數個半導體封裝件之每一者包含:一半導體晶粒,具有一第一晶粒表面及一相反第二晶粒表面,封裝,該封裝至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板,及一導線,該導線電連接至該半導體晶粒,且從該第一晶粒表面延伸至該封裝的該外表面,以接觸該印刷電路板上的一導電部分;形成相鄰散熱片緊密鄰接之一散熱片陣列;將一導熱黏合劑施加於每一半導體封裝件之該半導體晶粒的該第二晶粒表面,或施加於該散熱片陣列中每一散熱片之一表面;使該散熱片陣列緊接該複數個半導體封裝件,使得每一半導體封裝件之該半導體晶粒以該導熱黏合劑連接至一相關散熱片,且在該散熱片下方的該半導體封裝件之該封裝的所有部分均比該散熱片更窄;及 固化該導熱黏合劑。
  59. 如申請專利範圍第58項所述之方法,其中形成該複數個半導體封裝件之步驟包含以下步驟:形成複數列,該複數列之每一列包含兩個或兩個以上半導體封裝件。
  60. 如申請專利範圍第58項所述之方法,其中形成該散熱片陣列之步驟包含以下步驟:形成複數列,每一列包含複數個散熱片。
  61. 如申請專利範圍第58項所述之方法,其中該複數個半導體封裝件之每一半導體封裝的該半導體晶粒包含一單片式整合電源開關及其驅動器。
  62. 如申請專利範圍第58項所述之方法,其中施加該黏合劑的步驟包含以下步驟:印刷該黏合劑。
  63. 如申請專利範圍第58項所述之方法,更包括以下步驟:切割該散熱片陣列之每一散熱片的一部分,該部分圍繞該複數個半導體封裝件的一相關半導體封裝件。
  64. 如申請專利範圍第58項所述之方法,其中施加一導熱黏合劑的步驟包含以下步驟:將黏合劑施加於該複數 個半導體封裝件之每一半導體封裝件的該半導體晶粒之該第二晶粒表面,以及施加於該散熱片陣列之每一散熱片之一表面。
  65. 一種用於放置在一印刷電路板上的晶片等級半導體封裝件,包括:一半導體晶粒,具有一晶粒頂表面及一晶粒底表面;一封裝,該封裝至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板;複數個導線,其電連接至該半導體晶粒,該複數個導線之每一者從該晶粒底表面延伸至該封裝的該外表面,以具有至少一個暴露的表面用於電連接至該印刷電路板;及一散熱片,經組態以覆蓋該晶粒頂表面,該散熱片藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,該散熱片之一外周延伸至該晶粒之一外周之外,且該黏合劑之一外周延伸至該晶粒之一外周之外;其中在該散熱片下方的該封裝之所有部分均比該散熱片更窄。
  66. 一種用於放置在一印刷電路板上的晶片等級半導體封裝件,包括:一半導體晶粒,具有一晶粒頂表面及一晶粒底表面; 封裝,該封裝至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸該印刷電路板;複數個導線,其電連接至該半導體晶粒,該複數個導線之每一者從該晶粒底表面延伸至該封裝的該外表面;及一散熱片組件,經組態以覆蓋該晶粒頂表面,該散熱片組件藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片組件與該晶粒之間,該散熱片組件之一外周延伸至該晶粒之一外周之外,該散熱片組件於該晶粒頂表面之上方包含至少一孔;其中在該散熱片組件下方的該封裝之所有部分均比該散熱片組件更窄。
  67. 如申請專利範圍第66項所述之半導體封裝件,其中該孔使用該黏合劑填充。
  68. 如申請專利範圍第66項所述之半導體封裝件,其中該散熱片組件包括一單體。
  69. 如申請專利範圍第66項所述之半導體封裝件,其中該散熱片組件包含複數個藉由至少一間隙分隔之共面部分,該間隙提供該至少一孔。
  70. 如申請專利範圍第69項所述之半導體封裝件,其中 該散熱片組件之外周包含至少一朝下突出部分。
  71. 如申請專利範圍第69項所述之半導體封裝件,其中複數個共面部分不是一單體之一部分。
  72. 一種晶片等級半導體封裝件,包括:一半導體晶粒,具有一晶粒頂表面及一晶粒底表面一封裝,該封裝至少部分地包圍該半導體晶粒,且呈現一外表面準備用於接觸一印刷電路板;複數個導線,其電連接至該半導體晶粒,該複數個導線之每一者從該晶粒底表面延伸至該封裝的該外表面,以具有至少一個暴露的表面用於電連接至該印刷電路板;及一散熱片,經組態以覆蓋該晶粒頂表面,該散熱片藉由一層黏合劑而被附接至該晶粒,該黏合劑位於該散熱片與該晶粒之間,該散熱片之一外周延伸至該晶粒之一外周之外且包含一朝下突出部分;其中在該散熱片下方的該封裝之所有部分均比該散熱片更窄。
  73. 如申請專利範圍第72項所述之半導體封裝件,其中該朝下突出部分經組態以使用一熱導材料附接至該印刷電路板。
  74. 如申請專利範圍第72項所述之半導體封裝件,其中該朝下突出部分在該散熱片中界定一凹槽。
  75. 如申請專利範圍第73項所述之半導體封裝件,其中該朝下突出部分垂直延伸至該晶粒頂表面之外。
  76. 如申請專利範圍第74項所述之半導體封裝件,其中該朝下突出部分之一下表面與該複數個導線之底部表面齊平。
  77. 如申請專利範圍第75項所述之半導體封裝件,其中該朝下突出部分之一下表面鍍覆一對銲料可濕潤(wettable)之塗層。
  78. 如申請專利範圍第72項所述之半導體封裝件,其中該散熱片之外周包含複數個朝下突出部分。
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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8563360B2 (en) * 2009-06-08 2013-10-22 Alpha And Omega Semiconductor, Inc. Power semiconductor device package and fabrication method
JP5419226B2 (ja) * 2010-07-29 2014-02-19 日東電工株式会社 フリップチップ型半導体裏面用フィルム及びその用途
TWI451543B (zh) * 2011-03-07 2014-09-01 Unimicron Technology Corp 封裝結構及其製法暨封裝堆疊式裝置
US8853072B2 (en) * 2011-06-06 2014-10-07 Micron Technology, Inc. Methods of forming through-substrate interconnects
WO2013052672A2 (en) * 2011-10-07 2013-04-11 Volterra Semiconductor Corporation Power management applications of interconnect substrates
BR112015002306A2 (pt) * 2012-07-31 2017-07-04 Hewlett Packard Development Co dispositivo, sistema, e método para montar um dispositivo
TWI508238B (zh) * 2012-12-17 2015-11-11 Princo Corp 晶片散熱系統
US9470720B2 (en) * 2013-03-08 2016-10-18 Sandisk Technologies Llc Test system with localized heating and method of manufacture thereof
US9898056B2 (en) 2013-06-19 2018-02-20 Sandisk Technologies Llc Electronic assembly with thermal channel and method of manufacture thereof
US10013033B2 (en) 2013-06-19 2018-07-03 Sandisk Technologies Llc Electronic assembly with thermal channel and method of manufacture thereof
US9313874B2 (en) 2013-06-19 2016-04-12 SMART Storage Systems, Inc. Electronic system with heat extraction and method of manufacture thereof
US20150076676A1 (en) * 2013-09-17 2015-03-19 Jun Lu Power semiconductor device package and fabrication method
US9158349B2 (en) 2013-10-04 2015-10-13 Sandisk Enterprise Ip Llc System and method for heat dissipation
US9549457B2 (en) 2014-02-12 2017-01-17 Sandisk Technologies Llc System and method for redirecting airflow across an electronic assembly
US9497889B2 (en) 2014-02-27 2016-11-15 Sandisk Technologies Llc Heat dissipation for substrate assemblies
US9752944B2 (en) * 2014-03-12 2017-09-05 Stmicroelectronics S.R.L. Microelectromechanical sensing structure for a pressure sensor including a deformable test structure
US9485851B2 (en) 2014-03-14 2016-11-01 Sandisk Technologies Llc Thermal tube assembly structures
US9348377B2 (en) 2014-03-14 2016-05-24 Sandisk Enterprise Ip Llc Thermal isolation techniques
US9519319B2 (en) 2014-03-14 2016-12-13 Sandisk Technologies Llc Self-supporting thermal tube structure for electronic assemblies
JP6379815B2 (ja) * 2014-07-31 2018-08-29 富士電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
US9746889B2 (en) * 2015-05-11 2017-08-29 Qualcomm Incorporated Package-on-package (PoP) device comprising bi-directional thermal electric cooler
US10150433B2 (en) * 2015-06-26 2018-12-11 Hamilton Sundstrand Corporation Power distribution panel having contactor with thermal management feature
US10083888B2 (en) * 2015-11-19 2018-09-25 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor device package
US10050010B1 (en) 2017-03-22 2018-08-14 International Business Machines Corporation Selectively cross-linked thermal interface materials
TWI659509B (zh) * 2017-12-19 2019-05-11 英屬開曼群島商鳳凰先驅股份有限公司 電子封裝件及其製法
US11152328B2 (en) * 2018-12-13 2021-10-19 eLux, Inc. System and method for uniform pressure gang bonding
US11037915B2 (en) * 2019-02-14 2021-06-15 Facebook Technologies, Llc Integrated display devices
US11495519B2 (en) * 2019-06-07 2022-11-08 Dana Canada Corporation Apparatus for thermal management of electronic components
TWI740643B (zh) * 2020-09-11 2021-09-21 健策精密工業股份有限公司 均熱片的包裝盒與包裝方法
US20230042800A1 (en) * 2021-08-06 2023-02-09 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Electronic package and method of forming the same

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4561011A (en) * 1982-10-05 1985-12-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Dimensionally stable semiconductor device
US5213868A (en) * 1991-08-13 1993-05-25 Chomerics, Inc. Thermally conductive interface materials and methods of using the same
US5362680A (en) * 1992-08-18 1994-11-08 Texas Instruments Incorporated Technique for enhancing adhesion capability of heat spreaders in molded packages
US5396403A (en) * 1993-07-06 1995-03-07 Hewlett-Packard Company Heat sink assembly with thermally-conductive plate for a plurality of integrated circuits on a substrate
US5397921A (en) * 1993-09-03 1995-03-14 Advanced Semiconductor Assembly Technology Tab grid array
JP2944405B2 (ja) * 1993-12-29 1999-09-06 日本電気株式会社 半導体素子の冷却構造および電磁遮蔽構造
US5909056A (en) * 1997-06-03 1999-06-01 Lsi Logic Corporation High performance heat spreader for flip chip packages
US5909057A (en) * 1997-09-23 1999-06-01 Lsi Logic Corporation Integrated heat spreader/stiffener with apertures for semiconductor package
US6314639B1 (en) * 1998-02-23 2001-11-13 Micron Technology, Inc. Chip scale package with heat spreader and method of manufacture
US7233056B1 (en) * 1998-02-23 2007-06-19 Micron Technology, Inc. Chip scale package with heat spreader
TW400631B (en) * 1999-01-06 2000-08-01 Walsin Advanced Electronics Chip package structure
US6214640B1 (en) * 1999-02-10 2001-04-10 Tessera, Inc. Method of manufacturing a plurality of semiconductor packages
KR100297451B1 (ko) * 1999-07-06 2001-11-01 윤종용 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
US6900534B2 (en) * 2000-03-16 2005-05-31 Texas Instruments Incorporated Direct attach chip scale package
JP3874062B2 (ja) * 2000-09-05 2007-01-31 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
TW476147B (en) * 2001-02-13 2002-02-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd BGA semiconductor packaging with through ventilator heat dissipation structure
KR100446290B1 (ko) * 2001-11-03 2004-09-01 삼성전자주식회사 댐을 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조방법
US7361995B2 (en) * 2003-02-03 2008-04-22 Xilinx, Inc. Molded high density electronic packaging structure for high performance applications
DE60326587D1 (de) * 2003-10-13 2009-04-23 Infineon Technologies Ag Halbleitergehäuse mit Wärmeverteiler
WO2005086217A1 (en) * 2004-02-03 2005-09-15 Infineon Technologies Ag Matrix-type semiconductor package with heat spreader
DE102004027074B4 (de) * 2004-06-02 2009-06-04 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines BGA (Ball Grid Array)-Bauteils mit einer dünnen metallischen Kühlfolie
US7975377B2 (en) * 2005-04-28 2011-07-12 Stats Chippac Ltd. Wafer scale heat slug system
DE102005036116B4 (de) * 2005-08-01 2012-03-22 Infineon Technologies Ag Leistungshalbleitermodul
US7729581B2 (en) * 2006-05-05 2010-06-01 Reflex Photonics Inc. Optically-enabled integrated circuit package
US7787250B2 (en) * 2007-12-28 2010-08-31 Universal Scientific Industrial (Shanghai) Co., Ltd. Metallic cover of miniaturization module
US8018072B1 (en) * 2008-12-23 2011-09-13 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package having a heat spreader with an exposed exterion surface and a top mold gate

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