TWI520253B - 基板處理系統及基板傳送方法 - Google Patents

基板處理系統及基板傳送方法 Download PDF

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TWI520253B TW100105461A TW100105461A TWI520253B TW I520253 B TWI520253 B TW I520253B TW 100105461 A TW100105461 A TW 100105461A TW 100105461 A TW100105461 A TW 100105461A TW I520253 B TWI520253 B TW I520253B
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Description

基板處理系統及基板傳送方法
本發明係關於一種基板處理系統，並且特別地，本發明關於一種基板處理系統及基板傳送方法，其通過使用線性排列的兩行處理室之間提供的基板傳送裝置，透過雙向傳送一基板，能夠提高基板傳送效率，以及透過旋轉基板傳送裝置將基板傳送至一精確位置。
通常，一平面顯示裝置及一半導體裝置，例如一太陽能電池能夠透過在一基板上選擇性地及重複性地作用複數個半導體製造製程，例如，一沉積製程、一黃光製程、一蝕刻製程、一擴散製程、以及一離子植入製程製造。為了平穩執行各半導體製造製程，需要一種具有多腔室結構的基板處理系統。
具有該多腔室結構的基板處理系統形成為一具有複數個處理室及一傳送室的叢集型，其中這些處理室執行至少一個製程，以及傳送室與這些處理室共同相連接。
傳送室提供有一基板傳送裝置，用以傳送外部提供之基板。
基板傳送裝置將基板裝載於每一處理室，或者透過一傳送臂之提升及旋轉運動自每一處理室卸載基板。
然而，習知技術之基板處理系統具有以下缺點。
首先，基板透過傳送臂之旋轉傳送至叢集型排列的每一處理室，由此由於傳送臂之增加的負荷而降低生產率。
而且，因為必須保證傳送臂之旋轉的空間，所以傳送室之尺寸增加，由此產生傳送室之維護時間的增加。
因此，鑒於上述問題，本發明之目的在於提供一種基板處理系統及基板傳送方法，藉以消除由於習知技術之限制及缺陷所產生之一個或多個問題。
本發明之目的之一在於提供一種基板處理系統及基板傳送方法，其通過使用線性排列的兩行處理室之間提供的基板傳送裝置，能夠雙向傳送一基板，由此提高基板傳送效率。
本發明其他的優點、目的和特徵將在如下的說明書中部分地加以闡述，並且本發明其他的優點、目的和特徵對於本領域的普通技術人員來說，可以透過本發明如下的說明得以部分地理解或者可以從本發明的實踐中得出。本發明的目的和其他優點可以透過本發明所記載的說明書和申請專利範圍中特別指明的結構並結合圖式部份，得以實現和獲得。
為了獲得本發明的這些目的與其他特徵，現對本發明作具體化和概括性的描述，本發明關於一種基板處理系統，其包含有：一傳送室，其具有至少一個雙向基板傳送裝置，用以雙向傳送一基板；以及複數個處理室，其向基板作用一半導體製造過程，其中這些處理室沿著彼此相面對的兩行線性排列，以及傳送室介於這些處理室之兩行之間，其中至少一個雙向基板傳送裝置包含有：一移動單元，其提供於傳送室之內部，並且水平移動；一雙向基板傳送單元，其位於移動單元之中，並且將基板通過一雙向滑動運動傳送至處理室；以及一旋轉單元，提供於移動單元與雙向基板傳送單元之間，以及按照一預定角度旋轉雙向基板傳送單元。
在本發明之另一方面中，一基板處理系統包含有：第一及第二處理室，其彼此相平行面對排列，第一及第二處理室用以向基板作用一半導體製造過程；以及至少一個雙向基板傳送裝置，其提供於第一處理室與第二處理室之間，此至少一個雙向基板傳送裝置透過同時滑動複數個滑動件，將基板傳送至第一及第二處理室，其中此至少一個雙向基板傳送裝置包含有一旋轉單元，此旋轉單元按照一預定角度旋轉這些滑動件。
在本發明之再一方面中，一種基板傳送方法，在一裝載鎖定室與一處理室之間傳送一基板，用以向基板作用一半導體製造過程，處理室與裝載鎖定室相面對，此種基板傳送方法包含：將至少一個雙向基板傳送裝置之任何一個傳送至裝載鎖定室與處理室之間的一空間，其中雙向基板傳送裝置包含有一移動單元、一雙向基板傳送單元、以及一旋轉單元，旋轉單元定位於移動單元與雙向基板傳送單元之間；透過同時線性移動雙向可滑動地提供於雙向基板傳送單元中的複數個滑動件，將基板裝載至裝載鎖定室之內部，以及透過同時的線性運動，將這些滑動件恢復至其起始位置；透過跟隨旋轉單元之作業，旋轉雙向基板傳送單元，按照一預定角度旋轉這些滑動件；透過線性移動這些旋轉的滑動件，將以一預定角度旋轉之基板裝載於處理室；透過此線性運動，將這些旋轉之滑動件恢復至其起始位置；以及根據旋轉單元之作業，透過旋轉雙向基板傳送單元至其起始位置，將這些滑動件旋轉至其起始位置。
在本發明之又一方面中，一種基板傳送方法，在一裝載鎖定室與一處理室之間傳送一基板，用以向基板作用一半導體製造過程，處理室與裝載鎖定室相面對，此種基板傳送方法包含：將至少一個雙向基板傳送裝置之任何一個傳送至裝載鎖定室與處理室之間的一空間；透過同時線性移動雙向可滑動地提供於雙向基板傳送裝置中的複數個滑動件，將基板裝載至裝載鎖定室之內部，以及透過同時的線性運動，將這些滑動件恢復至其起始位置；按照一預定角度旋轉這些滑動件；透過同時滑動這些旋轉滑動件，將以一預定角度旋轉之基板裝載於處理室；透過此線性運動，將這些旋轉之滑動件恢復至其起始位置；以及將這些滑動件旋轉至其起始位置。
可以理解的是，如上所述的本發明之概括說明和隨後所述的本發明之詳細說明均是具有代表性和解釋性的說明，並且是為了進一步揭示本發明之申請專利範圍。
以下，將結合圖式部份對本發明的較佳實施方式作詳細說明。其中在這些圖式部份中所使用的相同的參考標號代表相同或同類部件。
下文中，將結合圖式部份描述本發明之一基板處理系統及基板傳送方法。
「第1圖」係為本發明之實施例之一基板處理系統之示意圖。
請參閱「第1圖」，本發明之實施例之基板處理系統包含有一傳送室(TC)，用以傳送一基板；至少一個裝載鎖定室(LC)，其排列為與傳送室(TC)相連接；以及複數個處理室(PC)，其彼此面對面沿著兩行排列，以及傳送室(TC)並行介入於其間。
裝載鎖定室(LC)可提供於傳送室之兩側之至少一側。裝載鎖定室(LC)能夠使得基板(圖未示)自外部裝載於傳送室(TC)之中，或者將基板自傳送室(TC)卸載至外部。在裝載鎖定室(LC)與傳送室(TC)之間，可具有一閘(GT)，用以容易通過其裝載或卸載基板。
每一處理室(PC)對於自傳送室(TC)傳送出之基板執行一對應的半導體製造過程。同時，半導體製造過程可為用以製造一半導體裝置，例如一平面顯示裝置及一太陽能電池的不同製程之中的任何一個過程。舉例而言，該半導體製造過程可為一沉積製程、一清洗製程、一預熱製程、一乾燥製程、一加熱製程、一感光製程、一蝕刻製程、一擴散製程、或一離子植入製程。
這些處理室(PC)可在分別在傳送室(TC)之頂及底部線性排列。而且，每一閘(GT)可提供於每一處理室(PC)與傳送室(TC)之間，以使得基板能夠容易通過閘(GT)裝載及卸載。
在兩行處理室(PC)之間，在提供多個閘(GT)時，提供一傳送室(TC)，其中每一閘(GT)提供為與每一處理室(PC)相連接。同時，傳送室(TC)之內部可維持於真空狀態之下。
傳送室(TC)可提供有一雙向基板傳送裝置100，以便將基板自裝載鎖定室(LC)傳送至每一處理室(PC)或將基板自每一處理室(PC)傳送至裝載鎖定室(LC)。同時，雙向基板傳送裝置100在傳送室(TC)之內部水平移動，以便在這些處理室(PC)之中傳送基板。
「第2圖」係為本發明之實施例之雙向基板傳送裝置之一透視圖。「第3圖」係為本發明之實施例之雙向基板傳送裝置之一平面圖。
請結合「第1圖」，參閱「第2圖」及「第3圖」，本發明之一實施例之雙向基板傳送裝置100包含有一移動單元200以及一雙向基板傳送單元300。
本發明之一實施例之移動單元200提供於傳送室(TC)之一縱向，以便水平移動雙向基板傳送單元300。為此，移動單元200可由一線性馬達形成。
在本發明之一實施例中，移動單元200包含有一移動導向件210以及一移動塊220。
移動導向件210導向移動塊220之一水平運動。舉例而言，移動導向件210可為一線性馬達之一定子。
移動塊220可移動地提供於移動導向件210之中，以使得移動塊220可沿著移動導向件210水平移動。舉例而言，導向塊220可為線性馬達之一轉子(或線圈)。
在本發明之一實施例中，雙向基板傳送單元300包含有一底架310、一叉架320、第一及第二雙向滑動叉330及340、一叉架起升器350、以及一叉架起升器導向件360。
底架310提供於移動單元200之移動塊220之上，由此底架310與移動塊220一起水平移動。
本發明一實施例之叉架320包含有一第一支撐架322、複數個側壁支撐件324、以及一第二支撐架326。
第一支撐架322在底架310之上的一預定高度提供，其中第一支撐架322支撐為透過叉架起升器350上升及下降。同時，複數個突出物328提供於第一支撐架322之第一及第二側面，其中叉架起升器350在與突出物328相接觸的同時，通過這些突出物328。
如果複數個側壁支撐件324以固定間隔沿著第一支撐架322之邊緣提供，這些側壁支撐件324支撐第二支撐架326。
在第二支撐架326與第一支撐架322相重疊的同時，第二支撐架326提供於這些側壁支撐件324之上。而且，第二支撐架326與第一支撐架322一起上升及下降。
根據本發明一實施例之第一雙向滑動叉330包含有第一及第二滑動叉410及420、一第一叉滑動件430、以及複數個第一基板支撐墊440。
第一及第二滑動叉410及420提供於第一支撐架322之上，其中第一及第二滑動叉410及420以其間的一預定間隔平行提供。根據第一叉滑動件430之一作業，第一及第二滑動叉410及420可在第一或第二水平方向上移動，其中第一及第二水平方向彼此相反。為此，第一及第二滑動叉410及420分別包含有一第一導向塊412，以及第一至第三滑動件(以下，稱作〞滑動桿〞)414、416以及418。
第一導向塊412提供於第一支撐架322之上，以及更特別地，提供於第一支撐架322之兩側面之間，其中第一導向塊412導向第一滑動桿414之滑動運動。
第一滑動桿414提供於第一導向塊412之中。根據第一叉滑動件430之一作業，第一滑動桿414可在第一或第二水平方向上移動。
第二滑動桿416提供於第一滑動桿414之一側面。也就是說，如果第二滑動桿416與第一滑動桿414聯鎖，第二滑動桿416可跟隨第一滑動桿414之滑動運動水平移動。
第三滑動桿418提供於第二滑動桿416之一側面。也就是說，如果第三滑動桿418與第二滑動桿416聯鎖，第三滑動桿418跟隨第二滑動桿416之滑動運動水平移動。
第二及第三滑動桿416及418順次提供於第一滑動桿414之上。因此，第二及第三滑動桿416及418可跟隨第一滑動桿414之滑動移動水平運動。
第一叉滑動件430提供於第一支撐架322之上，並且特別地，提供於第一支撐架322之兩側面之間，以使得第一叉滑動件430提供於第一滑動叉410與第二滑動叉420之間。因此，第一叉滑動件430同時在第一或第二水平方向上移動第一及第二滑動叉410及420，其中第一及第二水平方向彼此相反。為此，第一叉滑動件430包含有一第一導向桿432以及一第一移動氣缸434。同時，第一導向桿432提供於第一支撐架322之上，並且更特別地，提供於第一支撐架322之兩側面之間，以使得第一叉滑動件430透過一支架支撐。而且，第一移動氣缸434可移動地提供於第一導向桿432之中，其中第一移動氣缸434包含一鏈接件(圖未示)，該鏈接件將各個第一及第二滑動叉410及420相連接起來。第一叉滑動件430可由一液壓或氣壓缸形成，以透過提供至第一導向桿432之至少一個側面的液壓或氣壓移動第一移動氣缸434。
複數個第一基板支撐墊440以固定間隔提供於第三滑動桿418之上，其中這些第一基板支撐墊440在傳送基板之過程中，支撐基板之一個後表面。
本發明之上述實施例揭露出第一雙向滑動叉330包含有兩個滑動叉(第一及第二滑動叉410及420)，但並不一定如此。為了穩定地傳送基板，第一雙向滑動叉330之中包含的滑動叉之數目可大於兩個。而且，本發明之上述實施例揭露出第一雙向滑動叉330之第一叉滑動件430由液壓或氣壓缸形成，但是並不必需如此。第一及第二滑動叉410及420可通過使用在一直線運動(LM)導軌、一滾珠螺桿、以及一皮帶中的至少兩個，不使用第一叉滑動件430而滑動。而且，第一雙向滑動叉330透過結合直線運動(LM)導軌、滾珠螺桿以及皮帶中的至少一個或兩個獲得之一電磁馬達型，不使用第一叉滑動件430，可滑動第一及第二滑動叉410及420。
第一雙向滑動叉330可更包含有一位置偵測感測器，用以透過偵測第一至第三滑動桿414、416以及418之雙向滑動的一滑動位置控制第一叉滑動件430。
第一雙向滑動叉330通過使用第一叉滑動件430，透過延伸或回縮第一及第二滑動叉410及420，在第一及第二水平方向上同時滑動第一及第二滑動叉410及420之兩個，其中第一及第二水平方向彼此相反。因此，基板能夠雙向傳送至沿著傳送室(TC)之頂及底側排列的處理室(PC)之任何一個。
本發明一實施例之第二雙向滑動叉340可包含有第三及第四滑動叉510及520、一第二叉滑動件530、以及複數個第二基板支撐墊540。
第三及第四滑動叉510及520位於第二支撐架326之上，其中第三及第四滑動叉510及520以其間的一預定間隔平行提供。根據第二叉滑動件530之一作業，第三及第四滑動叉510及520可在第一或第二水平方向上移動。為此，第三及第四滑動叉510及520之每一個包含有一第二導向塊512、以及第四至第六滑動桿514、516及518。
第二導向塊512提供於第二支撐架326之上，並且特別地，提供於第二支撐架326的兩側面之間，其中第二導向塊512導向第四滑動桿514之滑動運動。
第四滑動桿514提供於第二導向塊512之中。根據第二叉滑動件530之一作業，第四滑動桿514可在第一或第二水平方向上移動。
第五滑動桿516提供於第四滑動桿514之一側面。也就是說，如果第五滑動桿516與第四滑動桿514聯鎖，第五滑動桿516可跟隨第四滑動桿514之滑動運動水平移動。
第六滑動桿518提供於第五滑動桿516之一側面。也就是說，如果第六滑動桿518與第四滑動桿514聯鎖，則第六滑動桿518跟隨第五滑動桿516之滑動運動水平移動。
第五及第六滑動桿516及518順次提供於第四滑動桿514之上。因此，第五及第六滑動桿516及518可跟隨第四滑動桿514之滑動運動水平移動。
第二叉滑動件530提供於第二支撐架326之上，以及特別地，提供於第二支撐架326之兩側面之間，以使得第二叉滑動件530提供於第三及第四滑動叉510及520之間。因此，第二叉滑動件530在第一及第二水平方向同時移動第三及第四滑動叉510及520之兩者，其中第一及第二水平方向彼此相反。為此，第二叉滑動件530包含有一第二導向桿532以及一第二移動氣缸534。第二導向桿532提供於第二支撐架326之上，並且特別地，提供於第二支撐架326之兩側面之間，以使得第二叉滑動件530透過一支架支撐。而且，第二移動氣缸534可移動地提供於第二導向桿532之中，其中第二移動氣缸534包含有一鏈接件536，該鏈接件將各第三及第四滑動叉510及520相連接起來。第二叉滑動件530可由一液壓或氣壓氣缸形成，用以透過提供於第二導向桿532至少一個側面的液壓或氣壓移動第二移動氣缸534。
複數個第二基板支撐墊540以固定間隔提供於第六滑動桿518之上，其中這些第二基板支撐墊540在傳送基板期間，支撐基板之一個後表面。
本發明之上述實施例揭露出第二雙向滑動叉340包含有兩個滑動叉(第三及第四滑動叉510及520)，但是並不必需如此。為了穩定傳送基板，第二雙向滑動叉340中包含的滑動叉之數目可多於兩個。而且，本發明之上述實施例揭露出第二雙向滑動叉340之第二叉滑動件530由液壓或氣壓缸形成，但是並不必需如此。第三及第四滑動叉510及520可通過使用直線運動(LM)導軌、滾珠螺桿、以及皮帶中的至少兩個，不使用第二叉滑動件530而滑動。而且，第二雙向滑動叉340可透過結合直線運動(LM)導軌、滾珠螺桿以及皮帶中的至少一個或兩個獲得之一電磁馬達型，不使用第二叉滑動件530，可滑動第三及第四滑動叉510及520。
第二雙向滑動叉340可更包含有一位置偵測感測器，用以透過偵測第四至第六滑動桿514、516以及518之雙向滑動偵測一滑動位置，用以控制第二叉滑動件530。
第二雙向滑動叉340通過使用第二叉滑動件530，透過延伸或回縮第三及第四滑動叉510及520，在第一或第二水平方向上滑動第三及第四滑動叉510及520之兩者。因此，該基板能夠雙向傳送至沿著傳送室(TC)之頂及底側排列的處理室(PC)之任何一個。
根據本發明之一實施例之叉架起升器350包含有一第一提升支撐件352a、一第二提升支撐件352b、一第一提升單元(以下，稱作〞第一提升馬達〞)354a、一第二提升單元(以下，稱作〞第二提升馬達〞)(圖未示)、一第一架提升件356a(以下，稱作〞第一滾珠螺桿〞)、一第二架提升件(以下，稱作〞第二滾珠螺桿〞)356b、以及一聯鎖件(下文中，稱作〞聯鎖軸〞)358。
第一提升支撐件352a在與叉架320之一第一側面相鄰的同時，與底架310相垂直。
第二提升支撐件352b在叉架320之一第二側面與第一提升支撐件352a相面對時，與底架310相垂直。
第一提升單元354a(第一提升馬達)在相鄰於第一提升支撐件352a之一內側面的同時，提供於底架310之上，第一提升單元354a在第一或第二方向旋轉第一架提升件356a(第一滾珠螺桿)，其中第一及第二方向彼此相反。
由於與第二提升支撐件352b之一內側面相鄰的同時，第二提升馬達提供於底架310之上，因此第二提升馬達使得第二架提升件356b按照與第一架提升件356a相同的方向旋轉。
根據第一架提升件356a在通過叉架320之第一支撐架322之中提供的突出物328時，提供於第一提升支撐件352a與第一提升單元354a(第一提升馬達)之間，叉架320之第一側面透過第一提升單元354a(第一提升馬達)之旋轉提升。同時，第一支撐架322之中提供的突出物328形成與第一架提升件356a(第一滾珠螺桿)相齧合之一螺紋。
根據第二架提升件356b(第二滾珠螺桿)在通過叉架320之第一支撐架322中提供的突出物328時，提供於第二提升支撐件352b與第二提升馬達之間，叉架320之第二側面透過第二提升馬達之旋轉提升。同時，第一支撐架322之中提供的突出物328形成一與第二架提升件356b(第二滾珠螺桿)相齧合之螺紋。
聯鎖軸358位於第一提升單元354a(第一提升馬達)與第二提升馬達之間，以便將第一提升單元354a(第一提升馬達)或第二提升馬達之旋轉能量傳送至另一提升馬達，由此第一提升單元354a(第一提升馬達)之旋轉與第二提升馬達聯鎖及同步。
叉架起升器350基於第一提升單元354a(第一提升馬達)及第二提升馬達之旋轉，根據第一及第二架提升件356a及356b(第一及第二滾珠螺桿)之旋轉提升或降低叉架320，由此第一或第二雙向滑動叉330或340能夠提升或下降至一預定高度。
叉架起升器350可更包含有一位置偵測感測器，用以透過偵測叉架320之一提升位置控制第一提升單元354a(第一提升馬達)及第二提升馬達之旋轉。
根據本發明之一實施例之叉架提升導向件360包含有複數個第一提升導向件(以下，稱作〞提升導向塊〞)362，以及複數個第二提升導向件(以下，稱作〞提升導向軌道〞)364。
這些提升導向塊362對應於叉架320之中的第一及第二側面的角部，提供於側壁支撐件324之中。同時，兩個提升導向塊362可提供於叉架320之第一及第二側面之每一個。
這些提升導向軌道364在與每一提升導向塊362相接觸的同時，與底架310相垂直。因此，當叉架320提升或下降時，這些提升導向軌道364導向提升導向塊362之提升或下降運動。
在本發明之實施例之基板處理系統之中，基板裝載位置可在各處理室(PC)之中不相同。因此，如「第4圖」所示，根據本發明之實施例之基板處理系統之雙向基板傳送裝置100可更包含有一旋轉單元600，其提供於移動單元200與雙向基板傳送單元300之間，以便以一預定角度(θ)透過旋轉雙向基板傳送單元300在適當的裝載位置，將基板裝載於每一處理室(PC)之中。
旋轉單元600包含有一第一旋轉導向件610，其提供於移動單元200之移動塊220之中；一旋轉部份620，其提供於移動塊220之中；一第二旋轉導向件630，其提供於雙向基板傳送單元300之底架310之中且透過第一旋轉導向件610旋轉；以及一旋轉軸部份640，其提供於雙向基板傳送單元300之底架310之中且透過旋轉部份620之旋轉線性移動，以及同時以一預定角度(θ)同時旋轉底架310。
如「第5圖」所示，第一旋轉導向件610具有四個直線運動(LM)導向軌道，這四個直線運動(LM)導向軌道提供於移動塊220之頂表面之四個角部。這四個直線運動(LM)導向軌道可形成為具有一預定曲率之曲線形。
第一旋轉導向件610可提供有四個直線運動(LM)導向塊，這四個直線運動(LM)導向塊位於移動塊220之頂表面之四個角部。
旋轉部份620包含有第一及第二支架621及622，其安裝於移動塊220之頂表面之一側面且在其間具有一預定間隔；一通過第一及第二支架621及622的旋轉件623；一用以旋轉旋轉件623的驅動件624；以及一外罩625，其跟隨旋轉件623之旋轉線性移動。
第一支架621安裝於移動塊220之頂表面之一側面，其中第一支架621可旋轉地支撐旋轉件623之另一側面。
第二支架622在與第一支架621相隔一預定間隔時，與第一支架621相面對。安裝於移動塊220之頂表面中的第二支架622可旋轉地支撐旋轉件623之一個側面。
通過第二支架622的旋轉件623可旋轉地提供於第一支架621之中。
驅動件624與通過第二支架622的旋轉件623相連接，用以由此旋轉旋轉件623。同時，透過將提供於旋轉件623之一側面的一第一結合件626與提供於驅動件624之一驅動軸的一第二結合件627相結合，旋轉件623與驅動件624彼此相連接，由此，旋轉件623跟隨驅動件624之旋轉而旋轉。此種情況下，驅動件624可為一旋轉馬達。
外罩625提供於旋轉件623之內，其中外罩625跟隨旋轉件623之旋轉線性移動。
旋轉部份620使得外罩625跟隨驅動件624之驅動線性移動。
較佳地，上述旋轉部份620朝向移動塊220之一側面定位，以平穩旋轉底架310，也就是說，旋轉部份620相鄰於移動塊220之一個邊緣提供。
如「第6圖」所示，第二旋轉導向件630提供有四個直線運動(LM)導向塊，這四個直線運動(LM)導向塊在與第一旋轉導向件610相對應的同時，提供於底架310之後表面之四個角部。這四個直線運動(LM)導向塊可形成具有一預定曲率之曲線形。
如果第一旋轉導向件610提供有直線運動(LM)導向塊，第二旋轉導向件630在與第一旋轉導向件610相對應的同時，在底架310之後表面之四個角部提供有四個直線運動(LM)導向軌道。
第二旋轉導向件630根據旋轉部份620之驅動，透過外罩625之線性運動，跟隨第一旋轉導向件610旋轉。
旋轉軸部份640包含有一第一支撐板，其位於底架310之後表面上，一旋轉軸644，其可旋轉地提供於第一支撐板642之中，以及一第二支撐板646，其提供於旋轉軸644之中且與旋轉部份620之外罩625相結合。
第一支撐板642透過一螺釘(圖未示)提供於底架310之後表面上。
旋轉軸644可旋轉地提供於第一支撐板642之中，以使得第一支撐板642旋轉。
第二支撐板646與旋轉軸644之一端相連接，並且透過一螺釘與外罩625相結合。
旋轉軸部份640根據外罩625之線性運動，透過第二支撐板646與/或旋轉軸644之線性運動，使得第二旋轉導向件630跟隨第一旋轉導向件610旋轉，用以由此以一預定角度(θ)旋轉底架310。
如「第7圖」所示，旋轉單元600根據設置為與每一處理室(PC)之基板裝載位置相對應的基板旋轉角度，透過驅動驅動件624線性移動外罩625，由此底架310透過旋轉軸部份640的線性運動及旋轉運動與外罩625相結合，按照一預定角度(θ)旋轉。透過底架310之旋轉，放置於雙向基板傳送單元300，也就是說，第一及第二雙向滑動叉330及340之上的基板，按照一預定角度(θ)旋轉，以使得基板與每一處理室(PC)之中的基板裝載位置對準。
根據雙向基板傳送裝置100透過移動單元200之水平運動，移動至處理室(PC)或裝載鎖定室(LC)，該基板能夠透過雙向基板傳送裝置100在雙向傳送。因為雙向基板傳送裝置100通過第一及第二雙向滑動叉330及340之雙向滑動運動，雙向傳送基板，因此當雙向傳送基板時不需要基板之旋轉。
而且，雙向基板傳送裝置100透過旋轉旋轉單元600，以一預定角度(θ)旋轉第一及第二雙向滑動叉330及340；以及然後透過延伸或回縮第一及第二滑動叉410及420或/與第三及第四滑動叉510及520裝載基板，用以能夠使得基板與在每一處理室(PC)之中的精確基板裝載位置對準。
為了提高基板傳送效率，如「第8圖」所示，上述傳送室(TC)可包含有複數個雙向基板傳送裝置100。此種情況下，雙向基板傳送裝置100之數目可根據傳送室(TC)之長度改變。每一雙向基板傳送裝置100與上述雙向基板傳送裝置之結構相同，由此每一雙向基板傳送裝置100能夠傳送在傳送室(TC)之一預定區域中提供的對應基板。以下，假設傳送室(TC)具有一個雙向基板傳送裝置100。
「第9圖」至「第14圖」係為本發明之實施例之基板處理系統之基板傳送方法之示意圖。
以下將連同「第2圖」至「第4圖」，結合「第9圖」至「第14圖」描述本發明之實施例之基板處理系統之基板傳送方法。
首先，如「第9圖」所示，當基板(S)自外部傳送至第一裝載鎖定室(LC1)時，雙向基板傳送裝置100透過移動移動單元200將雙向基板傳送單元300移動至第一裝載鎖定室(LC1)。
然後，如「第10圖」所示，雙向基板傳送裝置100操作叉架起升器350，以使得叉架320之第一雙向滑動叉330提升或降低，用以具有與傳送至第一裝載鎖定室(LC1)的基板(S)相同之高度。其後，雙向基板傳送裝置100使得第一雙向滑動叉330之第一至第三滑動桿414、416以及418滑動至第一方向中，也就是說，第一裝載鎖定室(LC1)之內部；以及然後通過叉架起升器350之一作業，將叉架提升至該預定高度，將基板(S)放置於第一雙向滑動叉330之上。
如「第11圖」所示，雙向基板傳送裝置100將其上放置有基板(S)的第一雙向滑動叉330之第一至第三滑動桿414、416以及418，回縮至叉架320之上的其起始位置；將第一雙向滑動叉330之第一至第三滑動桿414、416以及418滑動至第二方向之中。
如「第12圖」所示，雙向基板傳送裝置100透過作業旋轉單元600，按照一預定角度(θ)旋轉雙向基板傳送單元300，以使得雙向基板傳送單元300對應於其中待裝載基板(S)的處理室(PC)之基板裝載位置旋轉。也就是說，旋轉單元600之驅動件624對應於其中待裝載基板(S)的處理室(PC)之基板裝載位置旋轉，用以由此使得外罩625線性運動。跟隨外罩625之線性運動，旋轉軸部份640線性運動。因此，與旋轉軸部份640之線性運動聯鎖的第二旋轉導向件630，透過第一旋轉導向件610之導向旋轉，由此底架310旋轉，以及其上放置有基板(S)的第一雙向滑動叉330以一預定角度(θ)旋轉，以及與其中待裝載基板(S)的處理室(PC)之基板裝載位置對準。
然後，如「第13圖」所示，雙向基板傳送裝置100將第一雙向滑動叉330之第一至第三滑動桿414、416以及418滑動至第二方向上，也就是說，處理室(PC)之內部；透過作業叉架起升器350將叉架320降低至該預定高度；以及將放置於第一雙向滑動叉330上之基板(S)裝載於處理室(PC)之內部。同時，基板(S)可裝載於處理室(PC)之一基板支撐件(圖未示)或基板支撐架(圖未示)之上。
如「第14圖」所示，當基板(S)裝載於處理室(PC)中時，雙向基板傳送裝置100將第一雙向滑動叉330之第一至第三滑動桿414、416以及418滑動至第一方向上，由此第一至第三滑動桿414、416以及418回縮至叉架320之上的起始位置。然後，雙向基板傳送單元300透過作業旋轉單元600旋轉至起始位置。
在本發明之實施例之基板傳送方法中，第一及第二雙向滑動叉330及340透過旋轉單元600之旋轉，以一預定角度(θ)旋轉，以及然後，第一及第二滑動叉410及420或/與第三及第四滑動叉510及520延伸或回縮，以使得基板(S)與處理室(PC)之精確基板裝載位置對準。
如上所述，本發明之基板處理系統之基板傳送方法具有以下優點。
首先，基板(S)通過兩行線性排列的處理室(PC)之間的雙向基板傳送裝置100雙向傳送，由此提高基板傳送效率且提高生產率。
而且，其上具有基板(S)的複數個滑動桿透過使用旋轉單元600旋轉，以及然後雙向滑動，以使得基板(S)與處理室(PC)之精確基板裝載位置對準。
雖然本發明以前述之較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本領域之技術人員應當意識到在不脫離本發明所附之申請專利範圍所揭示之本發明之精神和範圍的情況下，所作之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍之內。關於本發明所界定之保護範圍請參照所附之申請專利範圍。
100．．．雙向基板傳送裝置
200．．．移動單元
210．．．移動導向件
220．．．移動塊
300．．．雙向基板傳送單元
310．．．底架
320．．．叉架
322．．．第一支撐架
324．．．側壁支撐件
326．．．第二支撐架
328．．．突出物
330．．．第一雙向滑動叉
340．．．第二雙向滑動叉
350．．．叉架起升器
352a．．．第一提升支撐件
352b．．．第二提升支撐件
354a．．．第一提升單元
356a．．．第一架提升件
356b．．．第二架提升件
358．．．聯鎖件
360．．．叉架起升器導向件
362．．．第一提升導向件
364．．．第二提升導向件
410．．．第一滑動叉
412．．．第一導向塊
414．．．第一滑動桿
416．．．第二滑動桿
418．．．第三滑動桿
420．．．第二滑動叉
430．．．第一叉滑動件
432．．．第一導向桿
434．．．第一移動氣缸
440．．．第一基板支撐墊
510．．．第三滑動叉
512．．．第二導向塊
514．．．第四滑動桿
516．．．第五滑動桿
518．．．第六滑動桿
520．．．第四滑動叉
530．．．第二叉滑動件
532．．．第二導向桿
534．．．第二移動氣缸
536．．．鏈接件
540．．．第二基板支撐墊
600．．．旋轉單元
610．．．第一旋轉導向件
620．．．旋轉部份
621．．．第一支架
622．．．第二支架
623．．．旋轉件
624．．．驅動件
625．．．外罩
626．．．第一結合件
627．．．第二結合件
630．．．第二旋轉導向件
640．．．旋轉軸部份
642．．．第一支撐板
644．．．旋轉軸
646．．．第二支撐板
S．．．基板
TC．．．傳送室
PC．．．處理室
GT．．．閘
LC1．．．第一裝載鎖定室
LC2．．．裝載鎖定室
θ．．．預定角度
第1圖係為本發明之實施例之一基板處理系統之示意圖；
第2圖係為本發明之實施例之雙向基板傳送裝置之一透視圖；
第3圖係為本發明之實施例之雙向基板傳送裝置之一平面圖；
第4圖係為本發明之實施例之一旋轉單元之示意圖；
第5圖係為第4圖所示之一第一旋轉導向件及一旋轉部份之示意圖；
第6圖係為第4圖所示之一第二旋轉導向件及一旋轉軸部份之示意圖；
第7圖係為透過第4圖至第6圖所示之一旋轉單元旋轉之一底架之示意圖；
第8圖係為本發明之實施例之一基板處理系統中，具有複數個雙向基板傳送裝置之一傳送室之示意圖；以及
第9圖至第14圖係為本發明之實施例之基板處理系統之基板傳送方法之示意圖。
100．．．雙向基板傳送裝置
200．．．移動單元
300．．．雙向基板傳送單元
340．．．第二雙向滑動叉
TC．．．傳送室
PC．．．處理室
GT．．．閘
LC1．．．第一裝載鎖定室
LC2．．．裝載鎖定室
θ．．．預定角度

Claims (11)

  1. 一種基板處理系統，係包含有：一傳送室，係具有至少一個雙向基板傳送裝置，具有雙向傳送一基板之一底架；以及複數個處理室，其向該基板作用一半導體製造過程，其中該等處理室沿著彼此相面對的兩行線性排列，以及該傳送室介於該等處理室之該兩行之間，其中該至少一個雙向基板傳送裝置包含有：一移動單元，係提供於該傳送室之內部以及水平移動，該移動單元包含位於其一頂表面處的一驅動件；一雙向基板傳送單元，係位於該移動單元之中，以及將該基板通過一雙向滑動運動傳送至該處理室；以及一旋轉單元，其中具有一旋轉件與一外罩，其中該旋轉單元係位於該移動單元與該雙向基板傳送單元之間，以及依照該驅動件藉由該旋轉件的旋轉透過線性移動該外罩而按照一預定角度旋轉該底架，其中該旋轉單元包含：一第一旋轉導向件，係位於該移動單元之一頂表面之每一角部，以及引導該雙向基板傳送單元之旋轉；一第二旋轉導向件，位於該移動單元的該等角部對應的該底架的角部處且跟隨該第一旋轉導向件被移動； 一旋轉軸部份，係位於該底架之該後表面；以及一旋轉部份，係位於該移動單元之該頂表面，以及藉由該驅動件的旋轉線性移動該旋轉軸部份。
  2. 如請求項第1項所述之基板處理系統，其中該雙向基板傳送單元係包含有：該底架，係位於該移動單元之中；一叉架，係位於該底架之上；第一雙向滑動叉及第二雙向滑動叉，係具有提供於該叉架之中的複數個雙向滑動件；以及一叉架起升器，係位於該叉架之一側面，該叉架起升器透過提升及降低該叉架，提升或降低該第一雙向滑動叉及該第二雙向滑動叉。
  3. 如請求項第1項所述之基板處理系統，其中該旋轉單元係包含有：一第一支架，係位於該移動單元之該頂表面；一第二支架，位於該移動單元之該頂表面，與該第一支架距離一預定間隔；以及該外罩，係位於該旋轉件之中，以及使得該旋轉軸部份線性移動，其中該旋轉件係在通過該第二支架的同時，透過該第一支架被可旋轉地支撐， 其中該驅動件係與該旋轉件相連接，以及旋轉該旋轉件。
  4. 如請求項第3項所述之基板處理系統，其中該旋轉軸部份係包含有：一第一支撐板，係位於該底架之該後表面；一旋轉軸，係位於該第一支撐板之中；以及一第二支撐板，係位於於該旋轉軸及該外罩之中，其中該第二支撐板透過該第二旋轉導向件之旋轉，按照一預定角度旋轉該底架。
  5. 如請求項第1項所述之基板處理系統，其中該第一旋轉導向件及該第二旋轉導向件具有一預定曲率之一彎曲形狀。
  6. 一種基板處理系統，係包含有：第一處理室及第二處理室，係彼此面對且平行排列，該第一處理室及該第二處理室向一基板作用一半導體製造過程；以及至少一個雙向基板傳送裝置，具有一底架以及一移動單元，該移動單元包含位於其一頂表面處的一驅動件，該至少一個雙向基板傳送裝置係位於該第一處理室與該第二處理室之間，該至少一個雙向基板傳送裝置透過同時滑動複數個滑動件，將該基板傳送至該第一處理室或該第二處理室，其中該至少一個雙向基板傳送裝置包含有一旋轉單元，該旋轉單元其中具有一旋轉件與一外罩，其中該旋轉單元依照該 驅動件藉由該旋轉件的旋轉透過線性移動該外罩而按照一預定角度旋轉該等滑動件，其中該旋轉單元包含：一第一旋轉導向件，係位於該移動單元之一頂表面之每一角部，以及引導一雙向基板傳送單元之旋轉；一第二旋轉導向件，位於該移動單元的該等角部對應的該底架的角部處且跟隨該第一旋轉導向件被移動；一旋轉軸部份，係位於該底架之該後表面；以及一旋轉部份，係位於該移動單元之該頂表面，以及藉由該驅動件的旋轉線性移動該旋轉軸部份。
  7. 如請求項第6項所述之基板處理系統，其中該至少一個雙向基板傳送裝置更包含有：該移動單元，係位於該傳送室之內部，該移動單元水平移動；該雙向基板傳送單元，係位於該移動單元之中，以及透過一雙向滑動運動將該基板傳送至該處理室，以及其中該旋轉單元位於該移動單元與該雙向基板傳送單元之間，以及按照一預定角度旋轉該雙向基板傳送單元。
  8. 如請求項第7項所述之基板處理系統，其中該雙向基板傳送單元包含有：該底架，係位於該移動單元之中； 一叉架，係位於該底架之上；第一雙向滑動叉及第二雙向滑動叉，係具有位於該叉架之中的複數個雙向滑動件；以及一叉架起升器，係位於該叉架之一側面，該叉架起升器透過提升或降低該叉架，提升或降低該第一雙向滑動叉及該第二雙向滑動叉。
  9. 一種基板傳送方法，係在一裝載鎖定室與一處理室之間傳送一基板，該處理室與該裝載鎖定室相面對，該基板傳送方法係包含：將至少一個雙向基板傳送裝置之任何一個傳送至該裝載鎖定室與該處理室之間的一空間，其中該雙向基板傳送裝置包含有一移動單元、一雙向基板傳送單元、以及一旋轉單元，該雙向基板傳送單元包含一底架，該移動單元包含位於其一頂表面處的一驅動件，以及位於該移動單元之該頂表面之複數個角部的複數個第一旋轉導向件，複數個第二旋轉導向件位於該移動單元的該等角部對應的該底架的角部處，其中該等第一旋轉導向件連接該等第二旋轉導向件，以及該旋轉單元其中具有一旋轉件與一外罩以及位於該移動單元與該雙向基板傳送單元之間；透過同時線性移動該雙向基板傳送單元中的複數個雙向滑動件，將該基板裝載至該裝載鎖定室內，以及透過該同時的 線性運動，將該等雙向滑動件恢復至其起始位置；透過跟隨該旋轉單元之一作業，旋轉該雙向基板傳送單元的該底架，按照一預定角度旋轉該等雙向滑動件與該等第二旋轉導向件，其中該旋轉單元之該作業包含依照該驅動件藉由該旋轉件的旋轉線性移動該外罩，其中該等第二旋轉導向件跟隨該等第一旋轉導向件；透過線性移動旋轉的該等雙向滑動件，將以一預定角度旋轉之該基板裝載於該處理室；透過線性運動，將旋轉之該等雙向滑動件恢復至其起始位置；以及根據該旋轉單元之一作業，透過旋轉該雙向基板傳送單元至其起始位置，將該等雙向滑動件旋轉至其起始位置，其中按照一預定角度旋轉該等雙向滑動件與該等第二旋轉導向件包含：跟隨該外罩之線性運動線性移動一旋轉軸部份，其中該旋轉軸部份位於該外罩及該底架之一後表面之上；以及根據該旋轉軸部份之該線性運動，透過旋轉該底架之該後表面之上的一第二旋轉導向件，按照一預定角度旋轉該底架。
  10. 一種基板傳送方法，係在一裝載鎖定室與一處理室之間傳送一基板，該處理室與該裝載鎖定室相面對，該基板傳送方法係包 含：將至少一個雙向基板傳送裝置之任何一個傳送至該裝載鎖定室與該處理室之間的一空間，其中該雙向基板傳送裝置包含一移動單元、一雙向基板傳送單元以及一旋轉單元，該雙向基板傳送單元包含一底架，該移動單元包含位於其一頂表面處的一驅動件，以及位於該移動單元之該頂表面之複數個角部的複數個第一旋轉導向件，複數個第二旋轉導向件位於該移動單元的該等角部對應的該底架的複數個角部處，其中該等第一旋轉導向件連接該等第二旋轉導向件，以及該旋轉單元其中具有一旋轉件與一外罩；透過同時線性移動該雙向基板傳送裝置中的複數個雙向滑動件，將該基板裝載至該裝載鎖定室內，以及透過同時的線性運動，將該等雙向滑動件恢復至其起始位置；按照一預定角度旋轉該等雙向滑動件與該等第二旋轉導向件，其中該等第二旋轉導向件跟隨該等第一旋轉導向件；透過同時滑動旋轉該等雙向滑動件，將以一預定角度旋轉之該基板裝載於該處理室；透過該線性運動，將旋轉之該等雙向滑動件恢復至其起始位置；以及將該等雙向滑動件旋轉至其起始位置，其中按照一預定角度旋轉該等雙向滑動件與該等第二旋 轉導向件包含：跟隨該外罩之線性運動線性移動一旋轉軸部份，其中該旋轉軸部份位於該外罩及該底架之一後表面之上；以及根據該旋轉軸部份之線性運動，透過旋轉該底架之該後表面之上的一第二旋轉導向件，按照一預定角度旋轉該底架。
  11. 如請求項第9項或第10項所述之基板傳送方法，其中該至少一個雙向基板傳送裝置透過一線性馬達傳送；以及每一該等雙向滑動件在透過一液壓或氣壓延伸或回縮時，雙向滑動。
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