TWI499646B - 用於彩色濾光片的感光性樹脂組成物、以及使用其製備的彩色濾光片 - Google Patents
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Description
本發明涉及一種用於彩色濾光片的感光性樹脂組成物以及使用感光性樹脂組成物製備的彩色濾光片。
彩色濾光片通常用於液晶顯示器、照相機的光學濾光器等,並且透過將用三種或更多種顏色著色的微小的區域塗覆在固態成像設備或透明的基板上而製備。這種著色的薄膜通常由染色、印刷、電沈積、顏料分散體、噴墨印刷等形成。目前,這類方法應用於生產LCD,如行動電話、筆記型電腦、監控器、TV等。
在染色方法中,可以透過在玻璃基板上形成具有如類似明膠、胺改性聚乙烯醇、胺改性丙烯酸類黏合劑樹脂等的天然感光性樹脂的染色基質,隨後利用直接染料染色生產有色的薄膜。為了在相同的基板上形成多色的薄膜,在變色時必須進行阻燃整
理(flame retardant finishing),因此使生產過程複雜化並且延遲生產時間。雖然普通的染料和樹脂本身具有良好的透明度和可分散性,但是這些染料和樹脂具有差的耐光性、耐濕性和耐熱性的缺點,這三者是最重要的特性。
在印刷方法中,可以透過在熱固性或可光致固化的樹脂中印刷其中分散有顏料的墨水,隨後利用熱量或光使這些組分固化來生產有色的薄膜。與其他方法相比,該方法可以減少材料成本。然而,該方法具有難以形成輪廓高度清晰(highly defined)和微小的圖像的缺點,並且形成的薄膜層也不均勻。
韓國專利公開號1996-0011513A公開了一種透過噴墨印刷產生彩色濾光片的方法。然而,因為以染料形式製備從噴嘴噴射以便印刷微小的並且清晰的(defined)色彩的有色感光性樹脂組成物,所以該方法與染色方法類似,提供劣化的耐用性和耐熱性。
在顏料分散體方法中,透過在透明的基板(提供有黑色基質)上重複一系列的塗覆包含著色劑的可光聚合組成物的流程、隨後將組成物以期望的圖案曝光、利用溶劑去除未曝光的部分、和熱固化來生產有色薄膜。顏料分散體方法可以提高耐熱性和耐久性,這是彩色濾光片的最重要特性,並且可以均勻地保持薄膜的厚度。
作為在顏料分散體方法中使用的用於彩色濾光片的顏料,組合使用本質上組成酞花青顏料(phthalocyanine pigment)的
C.I.顏料綠、C.I.顏料黃、C.I.顏料藍、C.I.顏料紫等。然而,在這種情況下,由於顏料顆粒尺寸,顏料的霧化(atomization)可能限制亮度和對比度。作為另外用於改善色彩特性的方法,必須引進在熔融狀態下不具有顆粒狀特性或具有不超過幾奈米的極小一次粒徑(primary particle diameter)的高耐用性染料。
總之,雖然已經進行了為尋找向其中引入多種染料的彩色濾光片的各種研究,然而在期望的顏色範圍中,難以提供優異的光傳輸性和優異的吸收能力二者。此外,在彩色濾光片中使用的滿足高對比度和基本的可靠性的染料非常罕見。
本發明的目的是提供能夠確保高亮度和高對比度並且提供優異的耐熱性的感光性樹脂組成物。
本發明的另一個目的是提供使用感光性樹脂組成物製備的彩色濾光片。
如下所述的本發明可以實現上述及其他目的。
本發明的一個方面涉及感光性樹脂組成物,包含:(A)包含由式1表示的染料的著色劑;(B)丙烯酸類黏合劑樹脂;(C)可光聚合化合物;(D)光引發劑;以及(E)溶劑:
其中,Z1
至Z16
相同或不同,並且各自獨立地是氫、氟、氯或式2至式5中的一種,前提是Z1
至Z16
中的1至8個是用式2至式5中的一種取代;並且M1
是Zn、Mg、Ca、Sr、Ba、Mn、Co、Ni、Pd、Pt、Sn、Fe、InCl、或VCl,
其中,X相同或不同,並且各自獨立地是氧(O)原子、硫(S)原子或碸基(-SO2
-);並且M2
是Zn、Mg、Ca、Sr、Ba、Mn、Co、Ni、Pd、Pt、Sn、Fe、InCl、或VCl,
其中,Y是氧(O)原子、硫(S)原子或碸基(-SO2
-);W是經取代或未經取代的C1
至C20
烷基、經取代或未經取代的C2
至C20
烯基、經取代或未經取代的C3
至C20
炔基、經取代或未經取代的C3
至C30
環烷基、經取代或未經取代的C3
至C30
環烯基、經取代或未經取代的C6
至C30
環炔基,或經取代或未經取代的C6
至C30
芳基;並且k是1至5。
感光性樹脂組成物可以包含(A)0.1wt%至30wt%的著色劑;(B)1wt%至20wt%的丙烯酸類黏合劑樹脂;(C)1wt%至20wt%的可光聚合化合物;(D)0.1wt%至5wt%的光引發劑;以及(E)餘量的溶劑。
著色劑(A)可以進一步包含除了由式1表示的染料以外的選自綠顏料和黃顏料的至少一種顏料。
著色劑(A)可以包含9:1至1:9的重量比的由式1表示的染料和該顏料。
丙烯酸類黏合劑樹脂(B)可以是具有至少一個羧基的第一烯類不飽和單體和與之可共聚的第二烯類不飽和單體的共聚物。
丙烯酸類黏合劑樹脂(B)可以具有範圍為從3,000g/mol至大約150,000g/mol的重均分子量(Mw)。
丙烯酸類黏合劑樹脂(B)可以具有範圍為從15mg KOH
/g至60mg KOH/g的酸值。
可光聚合化合物(C)可以包括選自以下各項中的至少一種:二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸二季戊四醇酯、三丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸雙酚A酯(bisphenol A diacrylate)、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、酚醛環氧丙烯酸酯(novolacepoxy acrylate)、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸二乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、二甲基丙烯酸丙二醇酯、二甲基丙烯酸1,4-丁二醇酯與二甲基丙烯酸1,6-己二醇酯。
光引發劑(D)可以包括選自以下各項中的至少一種:三嗪類化合物、苯乙酮類化合物、二苯甲酮類化合物、噻噸酮類化合物、安息香類化合物與肟類化合物。
感光性樹脂組成物可以進一步包含選自由分散劑、塗層改良劑(coating improver)、黏附促進劑(adhesion promoters)、矽烷偶合劑、調平劑(leveling agent)、界面活性劑、以及聚合引發劑的至少一個添加劑。
本發明的另一個方面涉及包含新化合物或染料的彩色濾光片。
本發明可以提供具有高亮度、高對比度和優異的耐熱性的感光性樹脂組成物,和使用感光性樹脂組成物製備的彩色濾光
片。
根據本發明的一個實施方式的感光性樹脂組成物包含(A)包含由式1表示的染料的著色劑;(B)丙烯酸類黏合劑樹脂;(C)可光聚合化合物;(D)光引發劑;以及(E)溶劑。
在下文中,將詳細描述本發明的實施方式的感光性樹脂組成物的每個成分。
根據本發明的著色劑可以包含由式1表示的染料:
其中,Z1
至Z16
相同或不同,並且各自獨立地是氫、氟、氯、或式2至式5中的一種,前提是Z1
至Z16
中的1至8個是用式2至式5中的一種取代;並且,M1
是Zn、Mg、Ca、Sr、Ba、Mn、Co、Ni、Pd、Pt、Sn、Fe、InCl、或VCl,
其中,X是相同的或不同的,以及各自獨立地是氧(O)原子、硫(S)原子或碸基(-SO2
-);並且M2
是Zn、Mg、Ca、Sr、Ba、Mn、Co、Ni、Pd、Pt、Sn、Fe、InCl、或VCl,
其中,Y是氧(O)原子、硫(S)原子或碸基(-SO2
-);W是經取代或未經取代的C1
至C20
烷基、經取代或未經取代的C2
至C20
烯基、經取代或未經取代的C2
至C20
炔基、經取代或未經取代的C3
至C30
環烷基、經取代或未經取代的C3
至C30
環烯基、經取代或未經取代的C3
至C30
環炔基、或經取代或未經取代的C6
至C30
芳基;並且k是1至5。
如在本文中所使用的,術語“取代的”意味著用取代基取代化合物的氫原子,取代基如鹵素(F、Cl、Br和I)、羥基、硝基、氰基、氨基、疊氮基、脒基、肼基、亞肼基(肼叉基,hydrazono)、羰基、胺甲醯基、硫醇、酯、羧基或其鹽、磺酸或其鹽、磷酸或其鹽、C1
至C20
烷基、C2
至C20
烯基、C2
至C20
炔基、C1
至C20
烷氧基、C6
至C30
芳基、C6
至C30
芳氧基、C3
至C30
環烷基、C3
至C30
環烯基、C3
至C30
環炔基或它們的組合。
由式1表示的染料的實例可以包括由式6和式7表示的化合物。
著色劑可以進一步包含除了由式1表示的化合物以外的選自綠顏料和黃顏料的至少一種顏料。
綠顏料的實例可以包括酞花青顏料,如C.I.顏料7、C.I.
顏料綠36、C.I.顏料綠58等。
黃顏料的實例可以包括異吲哚啉(isoindoline)顏料如C.I.顏料黃139等、喹酞酮(quinophthalone)類顏料如C.I.顏料黃138等、鎳錯合物顏料如C.I.顏料黃150等。
顏料可以與分散劑一起使用以便在感光性樹脂組成物中充分分散。
具體地,可以利用分散劑預表面處理顏料,或可以在製備感光性樹脂組成物時添加包含顏料和分散劑的顏料分散體。
作為分散劑,可以使用非離子分散劑、陰離子分散劑、陽離子分散劑等。分散劑的實例可以包括聚烯烴二醇(polyalkylene glycol)及其酯類、聚氧化烯、多元醇酯烯化氧加合物(polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct)、醇烯化氧加合物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺烯化氧加合物、烷基胺等。這些可以單獨使用,或以其兩種或更多種的組合使用。
當著色劑包含顏料和由式1表示的染料時,染料和顏料以9:1至1:9、更佳3:7至7:3的重量比存在。
在一些實施方式中,由式1表示的染料和顏料的組成物或混合物可以以下述的量包含由式1表示的染料:約10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50、51、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61、62、63、64、65、66、67、68、
69、70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、80、81、82、83、84、85、86、87、88、89或90wt%。進一步,根據本發明的一些實施方式,由式1表示的染料的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
在一些實施方式中,由式1表示的染料和顏料的組成物或混合物可以以下述的量包含顏料:約10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50、51、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61、62、63、64、65、66、67、68、69、70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、80、81、82、83、84、85、86、87、88、89或90wt%。進一步,根據本發明的一些實施方式,顏料的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
在本發明中,基於感光性樹脂組成物的總重量,著色劑以0.1wt%至30wt%、更佳0.5wt%至20wt%的量存在。在一些實例中,感光性樹脂組成物可以以下述的量包含著色劑:約0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29或30wt%。進一步,根據本發明的一些實例,著色劑的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
在著色劑的該範圍內,組成物可以在期望的顏色座標處表現出高對比度和高亮度,同時提供優異的耐熱性。
丙烯酸類黏合劑樹脂是第一烯類不飽和單體和與第一烯類不飽和單體可共聚的第二烯類不飽和單體的共聚物,並且包含至少一個丙烯酸類重複單元。
第一烯類不飽和單體可以包含至少一個羧基。具體地,第一烯類不飽和單體選自丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸以及它們的組合。
基於丙烯酸類黏合劑樹脂的總重量,第一烯類不飽和單體以5wt%至50wt%、具體地以10wt%至40wt%的量存在。第二烯類不飽和單體可以選自由以下組成的族群:烯基芳族單體、不飽和羧酸酯化合物、不飽和羧酸氨基烷基酯化合物、羧酸乙烯酯化合物、不飽和羧酸縮水甘油酯化合物、乙烯基腈化合物、不飽和醯胺化合物、以及它們的組合。
烯基芳族單體的典型實例可以包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等。不飽和羧酸酯化合物的典型實例可以包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基丁酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯等。不飽和羧酸
胺基烷基酯化合物的典型實例可以包括丙烯酸2-胺基乙酯、甲基丙烯酸2-胺基乙酯、丙烯酸2-二甲胺基乙酯、甲基丙烯酸2-二甲胺基乙酯等。羧酸乙烯酯化合物的典型實例可以包括乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等。不飽和羧酸縮水甘油酯化合物的典型實例可以包括丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等。乙烯基腈化合物的典型實例可以包括丙烯腈、甲基丙烯腈等。不飽和醯胺化合物的典型實例可以包括丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等。上述典型實例並不局限於此。這種第二烯類不飽和單體可以單獨或兩種或更多的組合使用。
包含第一烯類不飽和單體和第二烯類不飽和單體的丙烯酸類黏合劑樹脂的實例可以包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物以及甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物,但不限於此。這些化合物可以單獨使用或以其兩種或更多種組合使用。
丙烯酸類黏合劑樹脂具有範圍為從3,000g/mol至150,000g/mol、尤其是從5,000g/mol至50,000g/mol的重均分子量(Mw)。當丙烯酸類黏合劑樹脂的重均分子量在此範圍內時,組成物可以表現出相對於基板的優異的黏附性、優異的物理和化學特性、適當的黏性和優異的可分散性。
丙烯酸類黏合劑樹脂是對感光性樹脂組成物的像素解析度的最具影響的因素。例如,甲基丙烯酸/甲基丙烯苄酯共聚物由
於其酸值和重均分子量可以顯著地影響像素解析度。
基於感光性樹脂組成物的總重量,所使用的丙烯酸類黏合劑樹脂可以以1wt%至20wt%的量存在。
在一些實施方式中,感光性樹脂組成物可以以下述的量包含丙烯酸類黏合劑樹脂:約1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19或20wt%。進一步,根據本發明的一些實施方式,丙烯酸類黏合劑樹脂的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
當感光性樹脂組成物以在上述範圍內的量包含丙烯酸類黏合劑樹脂時,組成物可以表現出相對基板優異的黏附性,確保一致的薄膜厚度並且提供彩色濾光片的優異的後處理特性,如膜強度、耐熱性、耐化學性、餘留影像(afterimage)等。此外,由於適當的交聯,組成物具有優異的表面光潔度。
可光聚合化合物可以選自可光聚合單體或其低聚物以及它們的組合。
可光聚合單體的實例可以包括選自以下各項中的至少一種:二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯(neopentyl glycol di(meth)acrylate)、二(甲基)丙烯酸季
戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸雙酚A酯(bisphenol A di(meth)acrylate)、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、酚醛環氧樹脂(甲基)丙烯酸酯(novolac epoxy(meth)acrylate)、具有羧基的五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯衍生物、環氧乙烷丙三醇三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(ethylene oxide glycerine trimethylol propane tri(meth)acrylate)、環氧丙烷丙三醇三(甲基)丙烯酸酯(propylene oxide glycerine tri(meth)acrylate)。這些可以單獨使用,或以其兩種或更多種的組合使用。
可光聚合低聚物的實例可以包括在“Present and prospect of UV/EB Radiation Curing Technology”,RadTech Japan,CMC books,2003年1月中公開的低聚物,如(甲基)丙烯酸環氧酯、(甲基)丙烯酸聚氨酯、(甲基)丙烯酸聚酯等。
因為可光聚合單體或低聚物趨向於透過與環醚的反應來提高耐溶劑性,所以可光聚合單體或低聚物包含羧基是有利的。具有羧基的可光聚合單體或低聚物的實例可以包括含羥基的(甲基)丙烯酸酯和多元羧酸(carboxylic polyacid)的酯;含羥基的(甲基)丙烯酸酯和多元羧酸酐的酯等。
含羥基的(甲基)丙烯酸酯的實例可以包括二(甲基)丙烯
酸三羥甲基丙烷酯(trimethylolpropane di(meth)acrylate)、二(甲基)丙烯酸甘油酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等。
多元羧酸的實例可以包括芳族多元羧酸如鄰苯二甲酸、3,4-二甲基鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、均苯四酸(pyromellitic acid)、偏苯三酸(trimellitic acid)、1,4,5,8-萘四羧酸、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸等;脂族多元羧酸如琥珀酸、戊二酸、己二酸、1,2,3,4-丁烷四羧酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸等;脂環族多元羧酸如六氫鄰苯二甲酸、3,4-二甲基四氫鄰苯二甲酸、六氫間苯二甲酸、六氫對苯二甲酸、1,2,4-環戊烷三羧酸、1,2,4-環己烷三羧酸、環戊烷四羧酸、1,2,4,5-環己烷四羧酸等。
多元羧酸酐的實例可以包括芳族多元羧酸酐如鄰苯二甲酸酐、苯均四酸酐、偏苯三酸酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐等;脂族多元羧酸酐如衣康酸酐、琥珀酸酐、檸康酸酐(citraconic anhydride)、十二碳烯基琥珀酸酐、丙三羧酸酐(tricarballylic anhydride)、馬來酸酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐等;脂環族多元羧酸酐如六氫鄰苯二甲酸酐、3,4-二甲基四氫鄰苯二甲酸酐、1,2,4-環戊烷三羧酸酐、1,2,4-環己烷三羧酸酐、環戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、降冰片烯二酸酐(himic anhydride)等;含酯基的羧酸酐如乙二醇雙(偏苯三酸酐)(ethylene glycol bis-(anhydro trimellitate))、甘油三偏苯三酸酐等。
因此,含羧基的單體或低聚物的實例可以包括二(甲基)
丙烯酸三羥甲基丙烷酯的鄰苯二甲酸酯、二(甲基)丙烯酸甘油酯的琥珀酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯的鄰苯二甲酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯的琥珀酸酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯的鄰苯二甲酸酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯的琥珀酸酯等。
基於感光性樹脂組成物的總重量,可光聚合化合物可以以1wt%至20wt%、更佳3wt%至15wt%的量存在。在一些實施方式中,感光性樹脂組成物可以以下述的量包含可光聚合化合物:約1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19或20wt%。進一步,根據本發明的一些實施方式,可光聚合化合物的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
當可光聚合化合物的量在該範圍內時,組成物可以表現出充分的固化度、優異的可靠性、適當的黏度以及隨著時間的優異的穩定性。
光引發劑通常用在感光性樹脂組成物中。光引發劑的實例可以包括選自三嗪類化合物、苯乙酮類化合物、雙咪唑類化合物、安息香類化合物、二苯甲酮類化合物、噻噸酮類化合物以及肟類化合物組成的族群中的至少一種,但不限於此。
三嗪類化合物的實例可以包括2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-
三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對-甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。具體地,可以使用2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪與2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪,特別是2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪。
苯乙酮類化合物的實例可以包括二乙氧基苯乙酮,2-甲基-2-嗎啉代-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯丙烷-1-酮、苄基二甲基縮酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基縮酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)
丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮等。具體地,可以使用2-甲基-2-嗎啉代-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮與2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮,特別是2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮或2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮。
雙咪唑類化合物的實例可以包括2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙氧羰基苯基)雙咪唑、2,2',-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-溴苯基)雙咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(2,4-二氯苯基)雙咪唑、2,2'-雙(2-溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(間-甲氧基苯基)雙咪唑、2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、2,2'-雙(2,6-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、2,2'-雙(2-硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑、以及2,2'-雙(2-甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑。具體地,可以使用2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑或2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑。
安息香類化合物的實例可以包括安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苄基二甲基縮酮等。
二苯甲酮類化合物的實例可以包括二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸酯(benzoyl benzoate)、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸二苯甲酮酯(benzophenone acrylate)、
3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、4,4'-雙(二甲氨基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙氨基)二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(叔丁基過氧化羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
噻噸酮類化合物的實例可以包括噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、4-異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧硫基噻噸酮等。
肟類化合物的實例可以包括O-醯基肟化合物、1,2-辛二酮、2-(O-苯甲醯肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧羰基-α-氧基氨基-1-苯基丙-1-酮(O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropane-1-one)等。O-醯基肟化合物的具體實例可以包括1-(4-苯硫基苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫苯基)-辛烷-1-酮肟-O-乙酸酯以及1-(4-苯基硫苯基)-丁烷-1-酮肟-O-乙酸酯。
除上述化合物之外,還可以使用2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、9,10-菲醌、樟腦醌、苯基乙醛酸甲酯(methyl phenylglyoxylate)、二茂鈦(titanocene)化合物等。
此外,光引發劑可以與吸收光激發之後透過轉移能量引起化學反應的光敏劑一起使用。
基於感光性樹脂組成物的總重量,光引發劑可以以0.1wt%至5wt%的量存在。在一些實施方式中,感光性樹脂組成物可以以下述的量包含光引發劑:約0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1、2、3、4或5wt%。進一步,根據本發明的一些實施方式,光引發劑的量可以在從約前述量中的任何值至約前述量中的其他任何值的範圍內。
當光引發劑的量在此範圍內時,組成物在圖案成形處理的過程中可以充分聚合,並且在聚合之後不會由於剩餘的未反應的引發劑引起透射率的任何減少。
溶劑可以具有與丙烯酸類黏合劑樹脂及其他組成成分的相容性而不與這些成分反應。
溶劑的實例可以包括醇類,如甲醇、乙醇等;醚類,如二氯乙醚、正丁基乙醚、二異戊醚、甲基苯基醚、四氫呋喃等;二醇醚類,如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等;溶纖劑乙酸酯(乙酸溶纖劑類,cellosolve acetates),如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等;卡必醇類,如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇等;二乙二醇烷基醚,如二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯,如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯等;芳烴,如甲苯、二甲苯等;酮類,如甲
乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正丙基酮類、甲基-正丁基酮、甲基-正戊基酮、2-庚酮等;飽和脂肪族烷基單羧酸酯,如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等;乳酸酯如乳酸甲酯、乳酸乙酯等;羥乙酸烷基酯(alkyl oxyacetate esters),如羥乙酸甲酯(methyl oxyacetate)、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯等;烷氧基乙酸烷基酯,如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等;3-羥丙酸烷基酯(alkyl 3-oxypropionate esters),如3-羥丙酸甲酯、3-羥丙酸乙酯等;3-烷氧丙酸烷基酯,如3-甲氧基丙酸甲酯,3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等;2-氧基丙酸烷基酯,如2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等;2-烷氧基丙酸烷基酯,如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等;烷基單羥基一元羧酸酯(alkyl monooxy monocarboxylate)包括2-羥基-2-甲基丙酸烷基酯(alkyl 2-oxy-2-methylpropionate),如2-羥基-2-甲基丙酸甲酯和2-羥基-2-甲基丙酸乙酯,以及2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯,如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯和2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯;酯類,如2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯和2-羥基-3-甲基丁酸甲酯;以及酮酸酯,如丙酮酸乙酯。溶劑的實例還可以包括高沸點溶劑如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞碸、苄基乙基醚、二己醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛
醇、1-壬醇、苄醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸乙烯酯(ethylene carbonate)、碳酸丙烯酯以及苯基溶纖劑乙酸酯(phenylcellosolve acetate)。
鑒於溶劑的相容性和反應性,在上述溶劑中,可以利用二醇醚,如乙二醇單甲醚;乙二醇烷基醚乙酸酯,如乙基溶纖劑乙酸酯;酯類,如2-羥基丙酸乙酯;二乙二醇類,如二乙二醇單甲醚;和丙二醇烷基醚乙酸酯,如丙二醇單甲醚乙酸酯,和丙二醇丙基醚乙酸酯。考慮到染料的溶解度,在全部溶劑中,環已酮可以以10wt%至80wt%的量存在。
可以以相對於感光性樹脂組成物的總量的餘量使用溶劑,使得在加入其他成分之後可以適當地調節組成物的溶解度和黏度,並且使得在應用於產品時可以提高物理性質和光學性質。
可選地,感光性樹脂組成物可以進一步包括非離子型、陰離子型或陽離子型分散劑以改善著色劑的可分散性。
分散劑的實例可以包括聚烯烴二醇及其酯類、聚氧化烯、多元醇酯烯化氧加合物、醇烯化氧加合物、磺酸酯、磺酸鹽類、羧酸酯類、羧酸鹽類、烷基醯胺烯化氧加合物、烷基胺等。這些被單獨使用,或以其兩種或更多種的組合使用。
有利地,基於感光性樹脂組成物的總重量,分散劑可以以0.1wt%至4wt%的量存在。
根據需要,樹脂組成物可以進一步包含塗層改良劑,如矽酮塗層改良劑和氟塗層改良劑,以提高可塗覆性和抗發泡特性,或包含黏附促進劑等以提高與基板的黏附力。
基於感光性樹脂組成物的總重量,塗層改良劑和黏附促進劑可以以0.01wt%至1wt%的量存在。
組成物可以進一步包含添加劑,如環氧化合物;丙二酸;3-氨基-1,2-丙二醇;具有乙烯基或(甲基)丙烯醯氧基的矽烷偶合劑;調平劑;矽酮界面活性劑;氟界面活性劑;自由基聚合引發劑等,從而在塗覆之時避免斑點或瑕疵(speck)或防止由於流平性(leveling property)或非顯影導致產生殘餘物。可以根據期望的物理性能輕易地調節使用的添加劑的量。
環氧化合物的實例可以包括酚醛環氧樹脂、四甲基聯苯基環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、鄰甲酚酚醛樹脂等。基於感光性樹脂組成物的總重量,環氧化合物可以以0.01wt%至10wt%的量存在。在該範圍內,組成物可以表現出優異的耐儲存性和加工裕度。
矽烷偶合劑的實例可以包括乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基矽烷)、3-縮水甘油醚氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
基於感光性樹脂組成物的總重量,矽烷偶合劑可以以
0.01wt%至2wt%的量存在。在該範圍內,組成物可以表現出優異的黏附性、耐儲存性和塗覆能力。
矽酮界面活性劑的實例可以包括具有矽氧烷鍵結(siloxane bonding)的界面活性劑。例如,商業可獲得的矽酮界面活性劑可以包括DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH21PA、SH28PA、29SHPA、SH30PA(東麗矽有限公司);SH8400(東麗矽有限公司),其為聚酯改性矽油;信越矽膠KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、GF(信越化學工業株式會社,Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.);TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(東芝有機矽株式會社)等。
氟界面活性劑的實例可以包括具有碳氟化合物鏈等的界面活性劑。例如,商業可獲得的氟界面活性劑可以包括由住友M有限公司(Sumitomo M Ltd.)製造的Fluorad FC 430、Fluorad FC 431;MEGAFAC F142D、MEGAFAC F171、MEGAFAC F172、MEGAFAC F173、MEGAFAC F177、MEGAFAC F183、MEGAFAC F470、MEGAFAC F475、MEGAFAC R30(大日本油墨和化學品公司);Efftop EF 301、Efftop EF 303、Efftop EF 351、Efftop EF 352(新秋田化成株式會社,Shinakida Kasei Co.,Ltd.);Saffron S381、Saffron S382、Saffron SC 101、Saffron SC 105(旭硝子玻璃有限公司);E5844(大金精細化學實驗室有限公司)等。
可以單獨或以兩種或更多的組合使用這種矽酮界面活性劑和氟界面活性劑。
可以使用根據本發明的一個實施方式的感光性樹脂組成物製備根據本發明的一個實施方式的彩色濾光片。
例如,由適當的方法,如旋塗、狹縫塗覆等將感光性樹脂組成物以1.5μm至3.5μm的塗覆厚度塗覆在未施用任何物質的玻璃基板上、以及塗覆在施用有500Å至1,500Å的厚度的SiNx(保護隔膜)的玻璃基板上。在塗覆之後,使組成物經受90℃的軟烤(soft-baking),隨後照射活性輻射(active radiation)以形成用於彩色濾光片的圖案。作為用於照射的光源,使用例如在190nm至450nm、更佳200nm至400nm的範圍內的UV光。電子束和X-射線照射也是適合的。在照射之後,用鹼性顯影液處理塗層以溶解塗層的非照射區域,從而形成彩色濾光片需要的圖案。根據期望顏色的數量,可以重複上述流程,從而獲得具有期望圖案的彩色濾光片。
現在,將參照一些實例更詳細地描述本發明。然而,應當注意的是,提供這些實例僅用於例證,而不應該被理解為以任何方式限制本發明。
製備實例1至4:製備染料
製備1
第一步驟:製備4-(2,3,6-三氯-4,5-二氰基-苯氧基)苯甲酸甲酯(methyl 4-(2,3,6-trichloro-4,5-dicyano-phenoxy)benzoate)
向250mL燒瓶中添加4.8g的四氯酞腈、3.98g的4-羥基苯甲酸甲酯、5g的碳酸鉀(K2
CO3
)以及55mL的乙腈,隨後
加熱12小時同時回流。在反應完成之後,添加30mL的乙酸乙酯並且過濾以去除溶劑。向獲得的固體中添加適量的二氯甲烷以溶解固體,隨後添加用於結晶的己烷。在真空下過濾並且乾燥獲得的固體以獲得化合物4-(2,3,6-三氯-4,5-二氰基-苯氧基)苯甲酸甲酯。可以由反應方案1表示第一反應步驟:
第二步驟:製備4-[(聯苯-2-基)氧基]-3,5,6-三氯酞腈(4-[(biphenyl-2-yl)oxy]-3,5,6-trichlorophthalonitrile)
向250mL燒瓶中添加4.8g的四氯酞腈、4.3g的聯苯-2-醇、5g的碳酸鉀(K2
CO3
)以及55mL的乙腈,隨後加熱12小時同時回流。在反應完成之後,添加30mL的乙酸乙酯並且過濾以去除溶劑。向獲得固體中添加適量的二氯甲烷以溶解固體,隨後添加用於結晶的己烷。在真空下過濾並且乾燥獲得的固體以獲得化合物4-[(聯苯-2-基)氧基]-3,5,6-三氯鈦腈。可以由反應方案2表示第二反應步驟:
第三步驟:製備酞菁化合物
向500mL的燒瓶中添加3.0g的在第一步驟中製備的4-(2,3,6-三氯-4,5-二氰基-苯氧基)苯甲酸甲酯、7.0g的在第二步驟中製備的4-[(聯苯-2-基)氧基]-3,5,6-三氯酞腈、120mL的戊醇、8.5g的DBU(二氮雜雙環十一碳烯,diazabicycloundecene)以及1.5g乙酸鋅,隨後加熱18小時同時回流。在反應完成之後,添加150ml的水,然後過濾。向獲得的固體中添加適量的二氯甲烷以溶解固體,隨後添加用於結晶的己烷。在真空下過濾並且乾燥獲得的固體以獲得由式8表示的酞菁化合物。
第四步驟:製備酞菁的水解化合物
向500mL的燒瓶中添加23g的四氫呋喃(THF)、159g的甲醇和46g的水,隨後添加並且溶解10.0g的在第三步驟中製備的酞菁化合物。向獲得的溶液中添加30g的氫氧化鈉,隨後加熱12小時同時回流。在冷卻至室溫後,使用20mL的二氯甲烷洗滌溶液兩次。向水層添加50mL的乙酸乙酯,隨後透過緩慢添加稀鹽酸水溶液以進行中和。此後,使用水洗滌產物若干次。將獲得的產品溶液進行溶劑去除處理。向獲得的固體中添加少量的乙
酸乙酯以溶解固體,隨後添加用於結晶的二氯甲烷。過濾獲得的固體,在真空下乾燥以獲得由式9表示的包含羧酸的酞菁水解化合物。
第五步驟:製備酞菁化合物的Zn錯合物
向500mL的燒瓶中添加84g的THF和36g的甲醇,隨後添加並且溶解9.0g的在第四步驟中獲得的包含羧酸的酞菁水解化合物。向獲得的溶液中添加4.3g的乙酸鋅,隨後加熱12小時同時回流。在冷卻至室溫後,過濾所獲得的固體。向獲得的固體添加甲醇,並且在真空下過濾並且乾燥未溶解的產品以獲得由式10表示的酞菁的Zn錯合物。
製備實例2
除了在第二步驟中使用6.9g的2,6-二苯基苯酚代替聯苯-2-醇、在第三步驟中使用1.2g的乙酸鎂代替乙酸鋅、以及在第五步驟中使用4.3g乙酸銅代替乙酸鋅外,以與製備實例1相同的方式獲得由式11表示的酞菁的Cu錯合物。
製備實例3
除了在第三步驟中使用1.2g的乙酸鎂代替乙酸鋅、4-(2,3,6-三氯-4,5-二氰基-苯氧基)苯甲酸甲酯的量從3.0g變為5.0g、且4-[(聯苯-2-基)氧基]-3,5,6-三氯酞腈的量從7.0g變為5.0g外,以與製備實例1相同的方式獲得由式12表示的酞菁的Zn錯
合物。
製備實例4
除了在第二步驟中使用3.6g的四氟酞腈代替4.8g的四氯酞腈、以及使用1.8g的2-甲基丙-2-醇代替4.3g的聯苯-2-醇、在第三步驟中4-(2,3,6-三氯-4,5-二氰基-苯氧基)苯甲酸甲酯的量從3.0g變為5.0g和使用3.2g的4-叔-丁氧基-3,5,6-三氟酞腈代替7.0g的4-[(聯苯-2-基)氧基]-3,5,6-三氯酞腈外,以與製備實例1相同的方式獲得由式13表示的酞菁的Zn錯合物。
實例1至4和比較例1至3:製備感光性樹脂組成物
透過混合在表1中列出的組成物的成分製備感光性樹脂組成物。在實例和比較例中使用的成分的詳細資料如下:
(A)著色劑
(a1)使用在製備實例1中製備的由式10表示的酞菁的Zn錯合物。
(a2)使用在製備實例2中製備的由式11表示的酞菁的Cu錯合物。
(a3)使用在製備實例3中製備的由式12表示的酞菁的Zn錯合物。
(a4)使用在製備實例4中製備的由式13表示的酞菁的Zn錯合物。
(a5)使用由式14表示的酞菁染料。
(a6)使用C.I.顏料黃138的分散體(固相含量:22wt%)。
(a7)使用C.I.顏料綠58的分散體(固相含量:23wt%)。
(a8)使用C.I.顏料綠36的分散體(固相含量:25wt%)。
(B)丙烯酸類黏合劑樹脂
使用具有22,000g/mol的重均分子量的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(重量比15:85)(Miwon Commercial有限公司,NPR-1520)。
(C)可光聚合化合物
使用六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯(日本化藥株式會社,NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.)。
(D)光引發劑
使用1,2-辛二酮-1-(4-苯硫基)苯基-2-(o-苯甲醯肟)(汽巴精化有限公司,Ciba Specialty Chemicals,CGI-124)。
(E)溶劑
(e1)使用環己酮。
(e2)使用丙二醇甲基醚乙酸酯。
製備感光性樹脂組成物的顏色試樣
在具有10×10cm2
大小的玻璃基板上透過以300RPM、400RPM或500RPM的旋塗塗覆厚度為1μm至3μm的在實例1至4和比較例1至3中製備的感光性樹脂組成物,隨後在90℃下預烤2分鐘。在室溫下冷卻1分鐘之後,以100mJ/cm2
(基於365nm)
照射塗層以形成薄膜。在照射之後,在200℃的熱風乾燥器中硬烤(hard baking)薄膜5分鐘以獲得固化的薄膜。
評價感光性樹脂組成物的物理性能
(1)測量顏色和亮度
使用色度計(MCPD 3000:Otsuka Electronics Co.,Ltd.)對玻璃基板上的固化薄膜進行光譜學分析以獲得x和y顏色座標(Bx,By)和亮度(Y)。在表2中示出在目標By=0.113處獲得的結果。
(2)測量對比度
使用對比度測試儀(30,000:1,Tsubosaka Electric Co.,Ltd.)測量如上製備的固化薄膜的對比度。在表2中示出結果。
(3)評價耐熱性
在230℃的熱風乾燥器中乾燥固化薄膜30分鐘,隨後基於處理前後的色差計算△Eab *。3或更小的△Eab *表明薄膜具有令人滿意地可靠性,並且△Eab *與耐用性成反比。在表2中示出結果。
如表2所示,使用實例1至4的感光性樹脂組成物製備的彩色濾光片表現出比在比較例1和2和比較例3中的彩色濾光片更好的亮度、對比度和耐熱性,其中,實例1至4使用式1表示的染料,比較例1和2僅使用顏料,比較例3中使用由式14表示的化合物作為染料。
雖然上文已描述一些實施方式,應該理解,本發明不侷限於這些實施方式並且可以以各種不同的方式製成,而且在不悖離本發明的精神和範圍的前提下,本領域的技術人員可以做出各種修改、變動和改變。因此,本發明的範圍應由申請專利範圍及其等價形式限定。
Claims (10)
- 一種感光性樹脂組成物,包括:(A)著色劑,含有由式1表示的染料;(B)丙烯酸類黏合劑樹脂;(C)可光聚合化合物;(D)光引發劑;以及(E)溶劑;
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,包括:(A)0.1wt%至30wt%的所述著色劑;(B)1wt%至20wt%的所述丙烯酸類黏合劑樹脂;(C)1wt%至20wt%的所述可光聚合化合物;(D)0.1wt%至5wt%的所述光引發劑;以及(E)餘量的所述溶劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,其中所述著色劑除了包括由式1表示的所述染料以外,更包括選自綠顏料和黃顏料中的至少一種顏料。
- 如申請專利範圍第3項所述的感光性樹脂組成物,其中所述著色劑以9:1至1:9的重量比包含由式1表示的所述染料和所述顏料。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,其中所述染料是由式6或式7表示的化合物
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,其中所述丙烯酸類黏合劑樹脂(B)是具有至少一個羧基的第一烯類不 飽和單體和與之可共聚的第二烯類不飽和單體的共聚物。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,其中所述可光聚合化合物(C)包括選自以下中的至少一種:二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸二季戊四醇酯、三丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸雙酚A酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、酚醛環氧丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸二乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、二甲基丙烯酸丙二醇酯、二甲基丙烯酸1,4-丁二醇酯與二甲基丙烯酸1,6-己二醇酯。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,其中所述光引發劑(D)是選自三嗪類化合物、苯乙酮類化合物、二苯甲酮類化合物、噻噸酮類化合物、安息香類化合物與肟類化合物中的至少一種。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物,更包括:選自由分散劑、塗層改良劑、黏附促進劑、矽烷偶合劑、調平劑、界面活性劑、以及聚合引發劑所組成的族群中的至少一種添加劑。
- 一種由如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的感光性樹脂組成物製備的彩色濾光片。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130099322A KR101768255B1 (ko) | 2013-08-21 | 2013-08-21 | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201508033A TW201508033A (zh) | 2015-03-01 |
TWI499646B true TWI499646B (zh) | 2015-09-11 |
Family
ID=52479528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103121802A TWI499646B (zh) | 2013-08-21 | 2014-06-25 | 用於彩色濾光片的感光性樹脂組成物、以及使用其製備的彩色濾光片 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9341743B2 (zh) |
KR (1) | KR101768255B1 (zh) |
CN (1) | CN104423159B (zh) |
TW (1) | TWI499646B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102376426B1 (ko) * | 2015-05-04 | 2022-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 녹색 컬러필터용 감광성 조성물 |
KR101816232B1 (ko) * | 2015-10-16 | 2018-01-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
KR20180071039A (ko) | 2016-12-19 | 2018-06-27 | 삼성전기주식회사 | 아크릴계 바인더 및 적층 전자부품 |
KR102325836B1 (ko) * | 2018-11-06 | 2021-11-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 |
JP7159948B2 (ja) * | 2019-04-03 | 2022-10-25 | 三菱ケミカル株式会社 | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 |
JP7207173B2 (ja) * | 2019-05-30 | 2023-01-18 | 三菱ケミカル株式会社 | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW583244B (en) * | 2000-08-17 | 2004-04-11 | Mitsubishi Chem Corp | Composition for color filter and color filter |
US7842440B2 (en) * | 2004-08-02 | 2010-11-30 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and manufacturing method thereof |
TW201247787A (en) * | 2011-04-28 | 2012-12-01 | Fujifilm Corp | Colored curable composition for color filter, color cured film, color filter and production method thereof and display device |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4809125A (en) | 1987-02-20 | 1989-02-28 | Westinghouse Electric Corp. | Circuit interrupter apparatus with a style saving rating plug |
JP3372724B2 (ja) | 1994-09-21 | 2003-02-04 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法、液晶パネルならびに情報処理装置 |
KR100256392B1 (ko) * | 1996-09-30 | 2000-05-15 | 겐지 아이다 | 칼라필터용 감광성 수지 착색 조성물 및 이로부터 형성된 칼라필터 및 그 제조방법 |
JP4357392B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2009-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP4926552B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2012-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有感光性組成物並びにそれを用いたカラーフィルター及びその製造方法 |
KR100796517B1 (ko) * | 2006-07-18 | 2008-01-21 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터 |
KR100881860B1 (ko) * | 2007-01-17 | 2009-02-06 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터 |
KR101344790B1 (ko) * | 2010-06-10 | 2013-12-24 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
JP6019597B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2016-11-02 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
KR101413074B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2014-06-30 | 제일모직 주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
-
2013
- 2013-08-21 KR KR1020130099322A patent/KR101768255B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-06-18 US US14/307,590 patent/US9341743B2/en active Active
- 2014-06-23 CN CN201410284151.4A patent/CN104423159B/zh active Active
- 2014-06-25 TW TW103121802A patent/TWI499646B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW583244B (en) * | 2000-08-17 | 2004-04-11 | Mitsubishi Chem Corp | Composition for color filter and color filter |
US7842440B2 (en) * | 2004-08-02 | 2010-11-30 | Fujifilm Corporation | Colored curable composition, color filter and manufacturing method thereof |
TW201247787A (en) * | 2011-04-28 | 2012-12-01 | Fujifilm Corp | Colored curable composition for color filter, color cured film, color filter and production method thereof and display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150053900A1 (en) | 2015-02-26 |
US9341743B2 (en) | 2016-05-17 |
CN104423159B (zh) | 2018-10-09 |
TW201508033A (zh) | 2015-03-01 |
CN104423159A (zh) | 2015-03-18 |
KR101768255B1 (ko) | 2017-08-14 |
KR20150021860A (ko) | 2015-03-03 |
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