TWI476523B - 用於濾色器的光敏樹脂組合物和使用其的濾色器 - Google Patents

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Description

用於濾色器的光敏樹脂組合物和使用其的濾色器 相關申請案
本申請案係主張於2011年12月26日在韓國智慧財產權局提申的韓國專利申請號10-2011-0142408的優先權和權益,藉由參考將其全部內容併入本文中。
發明領域
揭示了一種用於濾色器(color filter)的光敏樹脂組合物(感光樹脂組合物)和使用其的濾色器。
發明背景
濾色器係用於液晶顯示器(LCD)、用於照相機的濾光片等。其藉由將利用三種或以上的顏色著色的微細區域塗布在電荷耦合裝置或透明基板上而製造。彩色薄膜通常可藉由染色、印刷、電泳沉積(EPD)、顏料分散等而製造。
藉由在製造過程期間的許多化學處理來製備濾色器。因此,為了保持在上述條件下形成的圖案,彩色光敏樹脂需要具有顯影裕度但是具有耐化學性,由此提高濾色器的產率。
特別是,當以在TFT陣列面板上形成濾色器的陣列上濾色器(COA)法製造液晶顯示器裝置時,需要在濾色器上形成透明電極。透明電極可以藉由如下製造:在濾色器上依次形成透明導電層和光敏樹脂膜,將所述光敏樹脂膜曝光和顯影,使其圖案化,並使用圖案化的光敏樹脂膜對所述 透明導電層進行蝕刻。在本文中,將濾色器曝露於各種化學溶液如去膜劑(stripper)等,由此,其應具有強的耐化學性。
另外,濾色器需要具有多個熱處理製程,因此應具有強耐熱性。
發明概要
一個實施方式提供具有提高的耐熱性和耐化學性的光敏樹脂組合物。
另一個實施方式提供使用所述光敏樹脂組合物的濾色器。
根據一個實施方式,提供一種用於濾色器的光敏樹脂組合物,其包含:(A)染料-聚合物複合物(dye-polymer composite),包含衍生自下列化學式1表示的化合物的結構單元,(B)丙烯酸類可光聚合單體(acryl-based photopolymerizable monomer),(C)光聚合引發劑,和(D)溶劑。
在化學式1中,X1 和X2 各自獨立地為烷基;環烷基;烷基醇基;羧酸 基;烯基醇基;烷基羧酸基;或烯基羧酸基,或者X1 和X2 相互連接從而形成C3至C15烴環,R1 至R4 各自獨立地為取代或未取代的烷基;烯基;炔基;環烷基;環烯基;環炔基;或芳基,並且R5 至R7 各自獨立地為鹵素,羧酸基;烷基鹵素;磺酸基;烷基磺酸基;烯基磺酸基;碸醯亞胺基;烷基碸醯亞胺基;烷基醇基;烯基醇基;烷基羧酸基;烯基羧酸基;烷氧基烷基磺酸基;烷氧基烯基磺酸基;烷氧基炔基磺酸基;烷氧基烷基羧酸基;烷氧基烯基羧酸基;或者烷氧基炔基羧酸基,條件是R5 和R6 中的至少一者在末端包含由下列化學式2表示的官能基,
R8 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基,R9 是取代或未取代的C1至C30伸烷基,R10 是單鍵或取代或未取代的C1至C30烷基,Z是-N(H)-、-S-,或-O-,n是範圍在0至10的整數,並且Y是N+ 的抗衡離子(反離子,counter ion)。
所述用於濾色器的光敏樹脂組合物可包含0.1至50wt%的所述染料-聚合物複合物(A),其包含衍生自上述化學式1表示的化合物的結構單元;0.5至20wt%的丙烯酸類可光聚 合單體(B);0.1至10wt%的光聚合引發劑(C);和餘量的溶劑(D)。
所述染料-聚合物複合物(A)可以具有1,000至500,000的重量平均分子量(Mw)。
所述染料-聚合物複合物(A)可包含由下列化學式3至5表示的結構單元中的至少一者。
在化學式3至5中,R11 、R12 、R13 、R15 和R16 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C6至C30烷基芳基或其等之組合,R14 是取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的 C6至C30芳基、-CO-R19 -COOH(R19 是取代或未取代的C1至C30伸烷基或者取代或未取代的C1至C30伸烷氧基)或其等之組合,R17 是-COOH或-CONHR20 (其中,R20 是取代或未取代的C1至C30烷基,或者取代或未取代的C6至C30芳基),R18 是-COOH,R17 和R18 相互稠合從而形成環,並且m是0至5的整數。
所述染料-聚合物複合物(A)可分別以o、p和q莫耳的量包含上述化學式3至5,且o、p和q在下列範圍內:0o80,0p80,和0q80。
基於所述染料-聚合物複合物(A)的總量,可以以0.1至50wt%的量包含由上述化學式3至5表示的結構單元中的至少一者。
所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還可以包含顏料,染料,或其等之組合。
所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還可以包含丙烯酸類黏合劑樹脂,並且基於所述用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以1至20wt%的量包含所述丙烯酸類黏合劑樹脂。
所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還可以包含選自如下的至少一種添加劑:分散劑;環氧化合物;丙二酸;3-胺基-1,2-丙二醇;具有乙烯基或(甲基)丙烯醯氧基的矽烷類偶聯劑;均染劑(leveling agent);矽類界面活性劑;氟類界 面活性劑;自由基聚合引發劑,和其等之混合物。
根據另一個實施方式,提供使用所述用於濾色器的光敏樹脂組合物製造的濾色器。
因此,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物具有優異的耐熱性和耐化學性並且可以實現具有高對比度和發光特性的濾色器。
具體實施方式
如本文中所用的,當不另外提供定義時,術語“烷基”可以指C1至C30烷基,術語“烯基”可以指C2至C20烯基,術語“炔基”可以指C2至C20炔基,術語“烷氧基”可以指C1至C30烷氧基,術語“環烷基”可以指C3至C30環烷基,術語“環烯基”可以指C3至C40環烯基,術語“環炔基”可以指C3至C40環炔基,術語“芳基”可以指C6至C30芳基,術語“芳烷基”可以指C7至C30芳烷基,術語“伸烷基”可以指C1至C20伸烷基,並且術語“伸烷氧基”可以指C1至C20伸烷氧基。
如本文中所用的,當不另外提供定義時,術語“取代的”可以指利用選自如下的至少一個取代基代替官能基中的至少一個氫而取代的物質:鹵素(F、Cl、Br或I),羥基、硝基、氰基、亞胺基(=NH、=NR,R是C1至C10烷基),胺基(-NH2 、-NH(R')、-N(R")(R'''),R'至R'''各自獨立地為C1至C10烷基)、脒基、肼基或腙基、羧基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C3至C30環烷基、取代或未取代的C3至C30雜芳基和取代或未 取代的C2至C30雜環烷基。
如本文中所用的,當不提供其他定義時,術語“雜”可以指利用選自N、O、S和P中的至少一種原子取代。
如本文中所用的,當不另外提供定義時,術語“其等之組合”可以指藉由單鍵和/或連接基團相互連接的至少兩個取代基或者相互稠合的至少兩個取代基。
如本文中所用的,“*”表示與相同或不同原子或化學式連接的位置。
根據一個實施方式的用於濾色器的光敏樹脂組合物包含(A)染料-聚合物複合物,其包含衍生自上述化學式1表示的化合物的結構單元,(B)丙烯酸類可光聚合單體,(C)光聚合引發劑和(D)溶劑。
在下文中,對根據一個實施方式的光敏樹脂組合物的各成分進行詳細描述。
然而,下列描述僅是示例性的而不限制本發明。
(A)染料-聚合物複合物
用於濾色器的光敏樹脂組合物中包含的所述染料-聚合物複合物(A)包含衍生自下列化學式1表示的化合物的結構單元。
在化學式1中,X1 和X2 各自獨立地為烷基;環烷基;烷基醇基;羧酸基;烯基醇基;烷基羧酸基;烯基羧酸基,或X1 和X2 相互連接從而形成C3至C15烴環,R1 至R4 各自獨立地為取代或未取代的烷基;烯基;炔基;環烷基;環烯基;環炔基;或芳基,並且R5 至R7 各自獨立地為鹵素、羧酸基;烷基鹵素;磺酸基;烷基磺酸基;烯基磺酸基;碸醯亞胺基;烷基碸醯亞胺基;烷基醇基;烯基醇基;烷基羧酸基;烯基羧酸基;烷氧基烷基磺酸基;烷氧基烯基磺酸基;烷氧基炔基磺酸基;烷氧基烷基羧酸基;烷氧基烯基羧酸基;或者烷氧基炔基羧酸基,條件是R5 和R6 中的至少一者在末端包含由下列化學式2表示的官能基,
R8 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基,R9 是取代或未取代的C1至C30伸烷基,R10 是單鍵或取代或未取代的C1至C30烷基,Z是-N(H)-、-S-或-O-,n是範圍在0至10的整數,並且Y是N+ 的抗衡離子。
在一個實施方式中,Y可以為F- 、Br- 、Cl- 、I- 、過氯酸 根(perchlorate)、六氟磷酸根(hexafluorophosphate)或碸醯亞胺基(sulfoneimide group)。
根據一個實施方式,所述染料-聚合物複合物(A)可以藉由使由上述化學式1表示的化合物與另一種可與其共聚的單體共聚而製備。由於所述染料-聚合物複合物(A)藉由使如由上述化學式1表示的化合物等之染料與另一種可與其共聚的單體共聚而具有高分子量,所以可能不會將如低分子等之染料萃取(提取)在水或有機溶劑中,從而製造具有優異的耐熱性和耐化學性的濾色器。
基於所述用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以0.5至50wt%,特別是1至30wt%的量包含所述染料-聚合物複合物(A)。
當在所述範圍內使用染料-聚合物複合物(A)時,組合物可具有優異的鹼中的顯影性、優異的交聯性且因此表面粗糙度較小、優異的耐化學性而無條紋圖案且在有機溶劑中無顏色變化。
與由上述化學式1表示的化合物衍生的結構單元一起,所述染料-聚合物複合物(A)還可以包含由第一烯屬不飽和單體(ethylenic unsaturated monomer)衍生的結構單元和由可與其共聚的第二烯屬不飽和單體衍生的結構單元。
所述第一烯屬不飽和單體是包含至少一個羧基的烯屬不飽和單體,並且例如,可選自丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸和其等之組合。
基於形成所述染料-聚合物複合物的單體的總量,所述 第一烯屬不飽和單體的用量可以為1至50wt%,特別是3至40wt%且更特別是5至30wt%。
所述第二烯屬不飽和單體可以選自烯基芳族單體、不飽和碳酸酯化合物、不飽和碳酸胺基烷基酯化合物、碳酸乙烯基酯化合物、不飽和碳酸縮水甘油基酯化合物、乙烯基氰化物化合物、不飽和醯胺化合物和其等之組合。
所述烯基芳族單體可包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等;所述不飽和碳酸酯化合物可包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基丁酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯等;所述不飽和碳酸胺基烷基酯化合物可包括丙烯酸-2-胺基乙酯、甲基丙烯酸-2-胺基乙酯、丙烯酸-2-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸-2-二甲基胺基乙酯等;所述碳酸乙烯基酯化合物可包括乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等;所述不飽和碳酸縮水甘油基酯化合物可包括丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等;所述乙烯基氰化物化合物可包括丙烯腈、甲基丙烯腈等;且所述不飽和醯胺化合物可包括丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等,但其等不限於此。所述第二烯屬不飽和單體可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
根據一個實施方式,所述染料-聚合物複合物(A)可包 含由下列化學式3至5表示的結構單元中的至少一者,並提供具有精細圖案以及優異的耐熱性和耐化學性的濾色器。
在化學式3至5中,R11 、R12 、R13 、R15 和R16 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C6至C30烷基芳基或其等之組合,R14 是取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、-CO-R19 -COOH(R19 是取代或未取代的C1至C30伸烷基或者取代或未取代的C1至C30伸烷氧基),或其等之組合,R17 是-COOH或-CONHR20 (其中,R20 是取代或未取代的 C1至C30烷基或取代或未取代的C6至C30芳基),R18 是-COOH,R17 和R18 彼此稠合從而形成環,並且m是0至5的整數。
所述染料-聚合物複合物(A)可分別以o、p和q莫耳的量包含上述化學式3至5,且o、p和q在下列範圍內:0o80,0p80,和0q80。當在所述莫耳比範圍內使用由上述化學式3至5表示的結構單元時,可以確保合適的顯影性以及耐熱性和耐化學性。
基於所述染料-聚合物複合物(A)的總量,可以以0.1至50wt%的量包含由上述化學式3至5表示的結構單元中的至少一者。在一個實施方式中,其可以以20至40wt%的量被包含。當在所述範圍內包含選自由上述化學式3至5組成的組的結構單元中的至少一者時,製造的濾色器可具有顯著提高的耐熱性和耐化學性以及優異的圖案穩定性而沒有光透射劣化。
所述染料-聚合物複合物(A)可以具有1,000至500,000且特別是5,000至30,000的重量平均分子量(Mw)。當所述染料-聚合物複合物(A)的重量平均分子量(Mw)太大時,難以合成光敏樹脂組合物且可能沉積由化學式1表示的化合物。
另外,所述染料-聚合物複合物(A)可具有0至300mgKOH/g且特別是,50至200mgKOH/g的酸值。當所述染料-聚合物複合物(A)具有在所述範圍內的重量平均分子量和酸值時,可以實現優異的顯影性。
另外,包含在染料-聚合物複合物(A)中的由化學式1表示的化合物衍生的結構單元的量可以根據目的適當調節。基於染料-聚合物複合物(A)的總量,可以以0.1至50wt%且特別是,1至40wt%的量包含由上述化學式1表示的化合物衍生的結構單元。當在所述範圍內包含由上述化學式1表示的化合物衍生的結構單元時,染料可能因過量而不僅是沉積,且還可以實現優異的耐化學性和耐熱性。
所述染料-聚合物複合物(A)可具有由下文中所述的丙烯酸類可光聚合單體和光聚合引發劑之間的比率決定的交聯度。因此,交聯度可以藉由調節丙烯酸類可光聚合單體和光聚合引發劑之間的比率來控制。
(B)丙烯酸類可光聚合單體
所述可光聚合單體可以為通常用於光敏樹脂組合物中的可光聚合單體。
所述可光聚合單體可包括例如,選自如下中的一種或多種:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲 基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、酚醛清漆環氧(甲基)丙烯酸酯、包含羧酸基的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯衍生物、環氧乙烷甘油三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷甘油三(甲基)丙烯酸酯等。
由於可光聚合單體可傾向於與環醚發生反應且具有提高的耐溶劑性,因此所述可光聚合單體可具有羧酸基。包含羧酸基的可光聚合單體可包括含羥基的(甲基)丙烯酸酯和多價羧酸的酯;含羥基的(甲基)丙烯酸酯和多價羧酸酐的酯;等等。
含羥基的(甲基)丙烯酸酯可包括三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等。
所述多價羧酸可包括芳族多價羧酸如鄰苯二甲酸、3,4-二甲基鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、苯均四酸、偏苯三甲酸、1,4,5,8-萘四羧酸、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸等;脂族多價羧酸如琥珀酸、戊二酸、癸二酸、1,2,3,4-丁烷四羧酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸等;脂環族多價羧酸如六氫鄰苯二甲酸、3,4-二甲基四氫鄰苯二甲酸、六氫間苯二甲酸、六氫對苯二甲酸、1,2,4-環戊烷三羧酸、1,2,4-環己烷三羧酸、環戊烷四羧酸、1,2,4,5-環己烷、四羧酸等;等等。
所述多價羧酸酐可包括芳族多價羧酸酐如無水鄰苯二甲酸、無水苯均四酸、無水偏苯三甲酸、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐等;脂族多價羧酸酐如衣康酸酐、無水琥珀酸、 無水檸康酸、無水十二碳烯基琥珀酸、無水丙三羧酸、馬來酸酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐等;脂環族多價羧酸酐如無水六氫鄰苯二甲酸、3,4-二甲基四氫鄰苯二甲酸酐、1,2,4-環戊烷三羧酸酐、1,2,4-環己烷三羧酸酐、環戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、降冰片烯二酸酐(himic anhydride)、納迪克酸酐(nadic anhydride)等;含酯基的羧酸酐如乙二醇二偏苯三甲酸、甘油三偏苯三甲酸酐等;等等。
含羧基的可光聚合單體的實例可包括三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯的鄰苯二甲酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯的琥珀酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯的鄰苯二甲酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯的琥珀酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯的鄰苯二甲酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯的琥珀酸酯等。
基於所述用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以0.5至20wt%的量使用丙烯酸類可光聚合單體。當在所述範圍內包含丙烯酸類可光聚合單體時,圖案可具有整齊的邊緣和鹼顯影液中的良好顯影性能。
(C)光聚合引發劑
所述光聚合引發劑可包括選自如下中的至少一者:三嗪類化合物、苯乙酮類化合物、聯咪唑類化合物、苯偶姻類化合物、二苯甲酮類化合物、噻吨酮(thioxanthone)類化合物和肟類化合物,但不限於此。
所述三嗪類化合物可包括,例如2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘 基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基(piperonyl))-1,3,5-三嗪、2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲氧基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、二(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。在一個實施方式中,可以優選2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪或2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪、並且在另一個實施方式中,可優選2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪。
所述苯乙酮類化合物可包括,例如二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉代-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苄基二甲基縮酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基 酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮等,並且在一個實施方式中,可優選2-甲基-2-嗎啉代-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮或2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮,特別是2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮或2-(4-甲基苄基)-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁烷-1-酮。
所述聯咪唑類化合物可包括2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙酯基苯基(4-carboethoxyphenyl))聯咪唑、2,2',-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-溴苯基)聯咪唑、2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(2,4-二氯苯基)聯咪唑、2,2'-二(2-溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-二(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(間甲氧基苯基)聯咪唑、2,2'-二(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-二(2,6-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-二(2-硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑和2,2'-二(2-甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑,並且在一個實施方式中,可優選2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑或2,2'-二(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑。
所述苯偶姻類化合物可包括苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、苄基 二甲基縮酮等。
所述二苯甲酮類化合物可包括二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸酯、鄰苯甲醯基甲基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸酯化的二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、4,4'-二(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-二(二乙基胺基)二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫化物、3,3',4,4'-四(叔丁基過氧化羰基)二苯甲酮和2,4,6-三甲基二苯甲酮。
所述噻吨酮類化合物可包括噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-異丙基噻吨酮、4-異丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二異丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮等。
所述肟類化合物可包括o-醯基肟類化合物、2-(o-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(o-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、o-乙氧基羰基-α-氧基胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。o-醯基肟類化合物的實例包括1-(4-苯基硫烷基苯基(sulfanylphenyl))-丁烷-1,2-二酮2-肟-o-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-o-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛烷-1-酮肟-o-乙酸酯和1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁烷-1-酮肟-o-乙酸酯。
除了上述化合物之外,所述光聚合引發劑還可以包括咔唑類化合物、二酮系列化合物、鋶硼酸鹽類化合物、重氮類化合物等。
光聚合引發劑吸收光並被激發,然後傳輸能量,其可 以與引起化學反應的光敏劑一起使用。
基於用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以0.1至10wt%的量使用光聚合引發劑。當在所述範圍內包含光聚合引發劑時,其可以在圖案化製程中引起充分的光聚合而不因未反應的引發劑殘渣劣化透射率。
基於丙烯酸類可光聚合單體(B)和光聚合引發劑(C)的組成比來確定由染料-聚合物複合物(A)引起的交聯度,因此可以藉由調節丙烯酸類可光聚合單體(B)和光聚合引發劑(C)的組成比來控制交聯度。
(D)溶劑
溶劑需要具有與染料-聚合物複合物(A)和其他成分材料的相容性而不與其發生反應。
溶劑可包括,例如醇如甲醇、乙醇等;醚如二氯乙基醚、正丁基醚、二異戊基醚、甲基苯基醚、四氫呋喃等;二醇醚如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等;溶纖劑乙酸酯如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等;卡必醇如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯等;芳族烴如甲苯、二甲苯等;酮如甲基乙基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、甲基正戊基酮、2-庚酮等;飽和脂族單羧酸烷基酯如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等;乳酸酯如乳酸甲酯、 乳酸乙酯等;氧基乙酸烷基酯如氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯等;烷氧基乙酸烷基酯如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等;3-氧基丙酸烷基酯如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等;3-烷氧基丙酸烷基酯如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等;2-氧基丙酸烷基酯如2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等;2-烷氧基丙酸烷基酯如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等;2-氧基-2-甲基丙酸酯如2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等;單氧基單羧酸烷基酯的2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等;酯如2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯等;酮酸酯如丙酮酸乙酯等;具有高沸點的溶劑如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲基亞碸、苄基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、庚酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。
在一個實施方式中,考慮到相容性和反應性,可以優選二醇醚如乙二醇單乙基醚等;乙二醇烷基醚乙酸酯如乙基溶纖劑乙酸酯等;酯如2-羥基乙基丙酸酯等;二乙二醇 如二乙二醇單甲基醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯等。考慮到染料的溶解度,基於100重量份的溶劑,可以以10至80重量份的量使用環己酮。這些溶劑可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
所述溶劑作為餘量,特別是以20至90wt%使用。當所述溶劑以所述範圍內的量存在時,所述光敏樹脂組合物具有良好的塗布性能,並且可以保持在大於或等於1 μm的厚度下的平坦性。
(E)其他著色劑
除了染料-聚合物複合物(A)之外,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還可以包含顏料(piment)、染料(dye),或其等之組合的著色劑以實現顏色特性。
顏料可具有顏色如紅、綠、藍、黃、紫等。顏料可包括稠合多環顏料如蒽醌類顏料、二萘嵌苯類顏料等、酞菁類顏料、偶氮類顏料等。其等可以單獨使用或以兩種以上的組合使用。可以將兩種以上顏料組合以調節最大吸收波長、交點(cross point)、交擾(crosstalk)等。
可以將顏料分散在溶劑中以製備為顏料分散體的形式並將其包含在用於濾色器的光敏樹脂組合物中。
為了將顏料均勻地分散在顏料分散體中,可以根據需要使用分散劑。為了該目的,可以使用非離子、陰離子或陽離子分散劑,例如聚伸烷基二醇及其酯、聚氧化烯、多元醇酯氧化烯加成產物、醇氧化烯加成產物、磺酸酯、磺 酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺氧化烯加成產物、烷基胺等。這些分散劑可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
可以與分散劑一起,將含羧基的第一丙烯酸類樹脂添加到顏料分散體中以改善分散體的穩定性和像素的圖案形成。
顏料可具有10nm至80nm,特別是,10nm至70nm的初始粒徑(一次粒徑)。當粒徑在所述範圍內時,顏料分散液可具有優異的穩定性而不劣化像素解析度。
染料可包括蒽醌類化合物、花青類化合物、部花青(mesocyanine)類化合物、氮雜卟啉(azaporphyrin)類化合物、酞菁類化合物、吡咯并吡咯類化合物、重氮類化合物、碳鎓類化合物、吖啶類化合物、噻唑類化合物、醌亞胺(quinomine)類化合物、次甲基類化合物、喹啉類化合物等。
當使用包含顏料和染料的分散體時,可以以1:9至9:1的量使用顏料和染料。在上述範圍內,可以實現高亮度和對比度以及期望的顏色特性。
基於用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以0.1至40wt%的量包含顏料或染料。在上述範圍內,著色效果和顯影性能可以是期望的。
(F)丙烯酸類黏合劑樹脂
與染料-聚合物複合物(A)一起,光敏樹脂組合物還可以包含丙烯酸類黏合劑樹脂以提高對基板的黏合性、耐熱性和耐化學性。
丙烯酸類黏合劑樹脂是第一烯屬不飽和單體和第二烯屬不飽和單體與包含至少一種丙烯酸類重複單元的樹脂的共聚物。
所述第一烯屬不飽和單體是包含至少一個羧基的烯屬不飽和單體,並且可選自丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸和其等之組合。
基於丙烯酸類黏合劑樹脂的總量,可以以5至50wt%,特別是10至40wt%的量包含第一烯屬不飽和單體。第二烯屬不飽和單體為不飽和碳酸酯化合物、不飽和碳酸胺基烷基酯化合物、碳酸乙烯基酯化合物、不飽和碳酸縮水甘油基酯化合物、乙烯基氰化物化合物或不飽和醯胺化合物。第二烯屬不飽和單體可以選自烯基芳族單體、不飽和碳酸酯化合物、不飽和碳酸胺基烷基酯化合物、碳酸乙烯基酯化合物、不飽和碳酸縮水甘油基酯化合物、乙烯基氰化物化合物或不飽和醯胺化合物。
烯基芳族單體的實例可包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等;不飽和碳酸酯化合物的實例可包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸-2-羥基丁酯、甲基丙烯酸-2-羥基丁酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯等;不飽和碳酸胺基烷基酯化合物的實例可包括丙烯酸-2-胺基乙酯、甲基丙烯酸-2-胺基乙酯、丙烯酸 -2-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸-2-二甲基胺基乙酯等;碳酸乙烯基酯化合物的實例可包括乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等;不飽和碳酸縮水甘油基酯化合物的實例可包括丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等;乙烯基氰化物化合物的實例可包括丙烯腈、甲基丙烯腈等;並且不飽和醯胺化合物的實例可包括丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等,但其等不限於此。這些第二烯屬不飽和單體可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
包含第一烯屬不飽和單體和第二烯屬不飽和單體的丙烯酸類黏合劑樹脂的實例可包括,例如,甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物等。其等可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
丙烯酸類黏合劑樹脂可以具有3,000至150,000,特別是5,000至50,000的重量平均分子量(Mw)。當丙烯酸類黏合劑樹脂具有在所述範圍內的重量平均分子量時,光敏樹脂組合物可具有優異的與基板的緊密接觸性能,優異的物理和化學性能,以及適當的黏度並由此具有優異的分散性。
光敏樹脂組合物中的丙烯酸類黏合劑樹脂可以對像素解析度產生關鍵影響。例如,甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯共聚物可根據其酸值和重量平均分子量而明顯地改變像素解析度。特別是,當甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯以 25/75(w/w)的比率包含並且具有15至120 mgKOH/g的酸值和3,000至150,000的重量平均分子量時,可以實現優異的像素解析度。
基於光敏樹脂組合物的總重量,可以以1wt%至20wt%的量包含丙烯酸類黏合劑樹脂。當在1wt%至20wt%的範圍內包含丙烯酸類黏合劑樹脂時,可以形成具有均勻厚度和對基板的良好黏合性的膜,且使用所述膜的濾色器可具有優異的強度、耐熱性和耐化學性、餘像等。另外,丙烯酸類黏合劑樹脂具有適當的交聯並產生優異的表面平坦性。
丙烯酸類黏合劑樹脂可以與酚酞基類樹脂(cardo-based resin)一起使用。
(G)其他添加劑
與(A)至(F)成分一起,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還可以包含其他添加劑如分散劑等。
分散劑可包括聚伸烷基二醇及其酯、聚氧化烯、多元醇酯氧化烯加成產物、醇氧化烯加成產物、磺酸酯、磺酸、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺氧化烯加成產物、烷基胺等。其等可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
基於100重量份的顏料,可以以10至20重量份的量包含分散劑。
另外,所述光敏樹脂組合物還可以包含矽類或氟類塗布改善劑以提高塗布性能和泡沫除去性能,或者其還可以包含黏合促進劑以提高對基板的黏合。
基於光敏樹脂組合物的總量,可以以0.01至1wt%的量 包含塗布改善劑和黏合改善劑。
另外,所述光敏樹脂組合物還可以包含添加劑如環氧化合物;丙二酸;3-胺基-1,2-丙二醇;具有乙烯基或(甲基)丙烯醯氧基的矽烷類偶聯劑;均染劑;矽類界面活性劑;氟類界面活性劑;和自由基聚合引發劑以防止塗布期間的汙點或斑點和因未顯影而產生殘渣並控制勻塗(均染)。可以根據期望的性能對這些添加劑的用量進行容易地調節。
所述環氧化合物可包括苯酚酚醛清漆環氧樹脂、四甲基非苯基環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、鄰甲酚酚醛清漆樹脂等。基於光敏樹脂組合物的總量,可以以0.01至5wt%的量包含環氧化合物。當在所述範圍內包含環氧化合物時,其可以產生優異的儲存和加工裕度。
矽烷類偶聯劑的實例可包括乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基矽烷)、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷等。
基於用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,可以以0.01至2wt%的量包含矽烷類偶聯劑。當在上述範圍內包含矽烷類偶聯劑時,可以提高黏合性、儲存穩定性和塗布性能。
矽類界面活性劑可包括包含矽氧烷鍵的界面活性劑等。矽類界面活性劑可包括TORAY SILICONE CO.,LTD.的DC3PA,SH7PA,DC11PA,SH21PA,SH28PA,29SHPA 和SH30PA;TORAY SILICONE CO.,LTD的聚酯改性的矽油,SH8400;SHINETSU SILICONE CO.,LTD.的KP321,KP322,KP323,KP324,KP326,KP340和GF;TOSHIBA SILICONE CO.,LTD.的TSF4445,TSF4446,TSF4452和TSF4460;等等。
氟類界面活性劑可以為具有碳氟化合物骨架的界面活性劑等。氟類界面活性劑可包括SUMITOMO 3M CO.,LTD.的FULORAD FC430和FULORAD FC431;DAINIPPON INK KAGAKU KOGYO CO.,LTD.的MEGAFACE F142D,MEGAFACE F171,MEGAFACE F172,MEGAFACE F173,MEGAFACE F177,MEGAFACE F183,MEGAFACE F470,MEGAFACE F475,MEGAFACE R30;TOCHEM RODUCTS,CO.,LTD.的EFTOP EF301,EFTOP EF303,EFTOP EF351和EFTOP EF352;ASAHI GLASS CO.,LTD.的SURFLON S381,SURFLON S382,SURFLON SC101和SURFLON SC105;DIKIN Finechemical Laboratory的E5844;等等。
矽類界面活性劑和氟類界面活性劑可以單獨使用或以兩種以上的混合物使用。
根據另一個實施方式,提供了使用所述光敏樹脂組合物製造的濾色器。
所述濾色器可以用於電子裝置如液晶顯示器裝置,有機發光二極體,圖像感測器等。
所述濾色器可以藉由將上述光敏樹脂組合物塗布在基 板上並對經塗布的基板進行圖案化而製造。在本文中,圖案化包括曝光和顯影。曝光可以藉由照射例如190 nm至450 nm,特別是,200 nm至400 nm區域內的紫外線,電子束或X射線來進行。
下列實施例更詳細地說明瞭本發明。然而,應理解,本發明不受這些實施例的限制。
合成實施例1至4:染料-聚合物複合物的合成
基於引發劑和單體的總重量100重量份,以6wt%的單體總和將2,2'-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)(引發劑)放入具有冷卻器和攪拌器的燒瓶中,以各自的重量比將由下列化學式6表示的染料和表1中的單體添加到其中,並向其中添加300重量份的丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA,溶劑)。在氮氣氛下將混合物緩慢攪拌。將反應溶液加熱至90℃並攪拌10小時,從而聚合包含脂族烴的染料-聚合物複合物。染料-聚合物複合物(A)溶液具有20wt%的固體濃度和表1中所示的重量平均分子量。在本文中,表1中提供的重量平均分子量是由GPC(凝膠滲透色譜)測量的換算成聚苯乙烯的重量平均分子量。
用於濾色器的光敏染料-聚合物複合物組合物的製備
[實施例1至4]
如下將下列成分用於製備光敏染料-聚合物複合物組合物。首先,將光聚合引發劑溶解在溶劑中,並在室溫下將溶液攪拌2小時。然後,將根據合成實施例1至4的各聚合的染料-聚合物複合物與丙烯酸類可光聚合單體添加到攪拌的反應物中。在室溫下將混合物攪拌2小時。然後,將著色劑添加到攪拌的反應物中。在室溫下將所得的混合物攪拌1小時,從而製備用於濾色器的光敏染料-聚合物複合物組合物。將溶液過濾三次以除去雜質。
[比較例1和2]
使用表3中提供的成分和量根據與實施例1相同的方法來製備用於濾色器的光敏樹脂組合物。
濾色器圖案的形成
使用旋塗機(K-Spin8,KDNS Co.,Ltd.)在透明圓形玻璃基板(裸玻璃)上將根據實施例1至4以及比較例1和2的光敏樹脂組合物分別塗布成3μm厚。將經塗布的基板在加熱板上在80℃下軟烤150秒,使用曝光器(Nikon Corporation I10C)曝露於具有60 mJ功率輸出的光,使用具有1wt%濃度的氫氧化鉀水溶液在25℃下顯影60秒,並將其清洗60秒,且旋轉乾燥25秒,從而形成多個濾色器圖案。
(性能評價) 耐化學性
將藉由使用根據實施例1至4以及比較例1和2的光敏樹脂組合物形成的濾色器圖案在70℃汽提塔(PRS-2000, J.T.Baker Inc.)中浸漬10分鐘,並測量對於汽提塔的耐化學性。
藉由在浸漬在汽提塔中前後,濾色器圖案的顏色變化以及在浸漬在汽提塔中之後濾色器圖案是否剝離來對耐化學性進行評價。
使用分光光度計(MCPD3000,Otsuka Electronics Co.,Ltd.)來測量濾色器圖案的顏色變化並使用光學顯微鏡來評價其剝離。
<顏色變化>
- 在利用汽提塔處理之後的顏色變化弱:優異
- 在利用汽提塔處理之後的顏色變化中等:平均
- 在利用汽提塔處理之後的顏色變化強:差
<剝離狀態>
- 光敏樹脂組合物膜無剝離:優異
- 光敏樹脂組合物膜部分剝離:平均
- 光敏樹脂組合物膜大部分剝離:差
耐熱性
在230℃烘箱中將使用根據實施例1至4與比較例1和2的光敏樹脂組合物形成的濾色器圖案熱處理30分鐘並對耐熱性進行評價。
藉由在熱處理前後濾色器圖案的顏色變化來對耐熱性進行評價並使用分光光度計(MCPD3000,Otsuka Electronics Co.,Ltd.)對其進行測量。
<耐熱性>
- 在230℃烘箱中熱處理2小時後的顏色變化弱:優異
- 在230℃烘箱中熱處理2小時後的顏色變化中等:平均
- 在230℃烘箱中熱處理2小時後的顏色變化強:差
如表4至5中所示,與使用根據比較例1和2的光敏樹脂組合物形成的膜相比,分別使用根據實施例1至4的光敏樹脂組合物形成的膜在利用汽提塔處理後的顏色變化很少, 沒有剝離,具有優異的耐熱性。基於上述結果,根據一個示例性實施方式的光敏樹脂組合物具有優異的耐剝離性和耐熱性。
儘管已經連同目前認為是實踐示例性實施方式的內容對本發明進行了描述,但是應理解,本發明不限於所揭示的實施方式,而是相反,旨在涵蓋在所附申請專利範圍的精神和範圍內包含的各種修改和等價配置。上述實施方式是示例性的而在任何方面都不是限制性的。

Claims (12)

  1. 一種用於濾色器的光敏樹脂組合物,包含:(A)一染料-聚合物複合物,包含衍生自下列化學式1表示的化合物的結構單元;(B)一種丙烯酸類可光聚合單體;(C)一光聚合引發劑;和(D)一溶劑: 其中,在化學式1中,X1 和X2 各自獨立地為烷基;環烷基;烷基醇基;羧酸基;烯基醇基;烷基羧酸基;或烯基羧酸基,或者X1 和X2 彼此連接從而形成C3至C15烴環,R1 至R4 各自獨立地為取代或未取代的烷基;烯基;炔基;環烷基;環烯基;環炔基;或芳基,R5 至R7 各自獨立地為鹵素、羧酸基;烷基鹵素;磺酸基;烷基磺酸基;烯基磺酸基;碸醯亞胺基;烷基碸醯亞胺基;烷基醇基;烯基醇基;烷基羧酸基;烯基羧酸基;烷氧基烷基磺酸基;烷氧基烯基磺酸基;烷氧基炔基磺酸基;烷氧基烷基羧酸基;烷氧基烯基羧酸基;或者烷氧基炔基羧酸基,條件是R5 和R6 中的至少一者在 末端包含由下列化學式2表示的官能基, R8 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基,R9 是取代或未取代的C1至C30伸烷基,R10 是單鍵或取代或未取代的C1至C30烷基,Z是-N(H)-、-S-、或-O-,n是範圍在0至10的整數,並且Y- 是N+ 的抗衡離子。
  2. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,Y- 是F- 、Br- 、Cl- 、I- 、過氯酸根、六氟磷酸根或碸醯亞胺基。
  3. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物包含:0.1至50wt%的所述染料-聚合物複合物(A),所述染料-聚合物複合物(A)包含衍生自上述化學式1表示的化合物的結構單元;0.5至20wt%的所述丙烯酸類可光聚合單體(B);0.1至10wt%的所述光聚合引發劑(C);和餘量的所述溶劑(D)。
  4. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述染料-聚合物複合物(A)具有1,000至 500,000的重量平均分子量(Mw)。
  5. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述染料-聚合物複合物(A)包含由下列化學式3至5表示的結構單元中的至少一者: 其中,在化學式3至5中,R11 、R12 、R13 、R15 和R16 是氫或取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C6至C30烷基芳基,或其等之組合,R14 是取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、-CO-R19 -COOH,或其等之組合,其中R19 是取代或未取代的C1至C30伸烷基或者取代或未取 代的C1至C30伸烷氧基,R17 是-COOH或-CONHR20 ,其中R20 是取代或未取代的C1至C30烷基,或者取代或未取代的C6至C30芳基,R18 是-COOH,R17 和R18 彼此稠合從而形成環,並且m是0至5的整數。
  6. 如申請專利範圍第5項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述染料-聚合物複合物(A)分別以o、p和q莫耳的量包含上述化學式3至5,且o、p和q在下列範圍內:0o80,0p80,和0q80。
  7. 如申請專利範圍第5項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,基於所述染料-聚合物複合物(A)的總量,以0.1至50wt%的量包含由上述化學式3至5表示的結構單元中的至少一者。
  8. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還包含顏料、染料、或其等之組合。
  9. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物還包含丙烯酸類黏合劑樹脂。
  10. 如申請專利範圍第9項之用於濾色器的光敏樹脂組合物,其中,基於所述用於濾色器的光敏樹脂組合物的總量,以1至20wt%的量包含所述丙烯酸類黏合劑樹脂。
  11. 如申請專利範圍第1項之用於濾色器的光敏樹脂組合 物,其中,所述用於濾色器的光敏樹脂組合物更包含有選自分散劑;環氧化合物;丙二酸;3-胺基-1,2-丙二醇;具有乙烯基或(甲基)丙烯醯氧基的矽烷類偶聯劑;均染劑;矽類界面活性劑;氟類界面活性劑;自由基聚合引發劑,和其等之混合物中的至少一種添加劑。
  12. 一種使用如申請專利範圍第1至11項中任一項之用於濾色器的光敏樹脂組合物製造的濾色器。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101768255B1 (ko) * 2013-08-21 2017-08-14 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
CN104503205A (zh) * 2014-11-04 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 光刻胶组合物及其制备方法
JP6686657B2 (ja) * 2015-04-22 2020-04-22 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び固体撮像素子
JP6517767B2 (ja) * 2015-12-29 2019-05-22 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター及びこれを具備した画像表示装置
US9862682B2 (en) 2016-01-08 2018-01-09 BroadPharm Functionalized pegylated cyanine compounds, pharmaceutical compositions, and methods of use thereof
JP6717644B2 (ja) * 2016-04-08 2020-07-01 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
KR102384288B1 (ko) * 2019-07-02 2022-04-06 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
US20020051926A1 (en) * 2000-02-14 2002-05-02 Masanobu Takashima Cyanine-based organic dyes, photopolymerizable compositions, and recording materials

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8333901D0 (en) * 1983-12-20 1984-02-01 Minnesota Mining & Mfg Radiationsensitive compositions
DE3826670C2 (de) 1988-08-05 1994-11-17 Framatome Connectors Int Flachkontaktsteckhülse
JP3501425B2 (ja) 1995-04-07 2004-03-02 富士写真フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP3736221B2 (ja) * 1998-08-28 2006-01-18 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびこれを備えた液晶表示装置
JP3918369B2 (ja) 1999-03-05 2007-05-23 コニカミノルタホールディングス株式会社 ハロゲン化銀乳剤、ハロゲン化銀感光材料、熱現像感光材料及びこれを用いた画像記録方法及び画像形成方法、並びに熱現像感光材料の製造方法
US7160933B2 (en) * 2003-03-20 2007-01-09 Eastman Kodak Company Stable ink jet ink composition and printing method
KR20100098882A (ko) 2009-03-02 2010-09-10 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP5377595B2 (ja) * 2011-03-25 2013-12-25 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、着色パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
US20020051926A1 (en) * 2000-02-14 2002-05-02 Masanobu Takashima Cyanine-based organic dyes, photopolymerizable compositions, and recording materials

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