TWI484880B - 印刷電路板之製作方法 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種電子構件之製作方法,特別係有關於一種印刷電路板之製作方法。
印刷電路板(Printed circuit board,PCB)係廣泛的使用於各種電子設備當中,例如行動電話、個人數位助理、薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD),隨著技術的演進,印刷電路板之結構和製程需持續的改善,使其製作成本能降低,且佈線面積可增加。
第1A~8A圖顯示習知技術印刷電路板製作方法之中間步驟的剖面圖。第1B~8B圖顯示習知技術印刷電路板製作方法之中間步驟的平面圖。請參照第1A圖和第1B圖,第1A圖顯示第1B圖I-I’剖面線之剖面圖,提供一基板102,包括一第一表面104和一第二表面106,分別於基板102之第一表面104和第二表面106上形成一金屬層108,分別於基板102之第一表面104和第二表面106上之部分金屬層108上方形成一金屬墊110。如第1B圖所示,在此習知技術中,金屬墊110除了包括一主體結構101外,尚包括尾端結構103,以連接外部線路。請參照第2A圖和第2B圖,第2A圖顯示第2B圖I-I’剖面線之剖面圖,進行一蝕刻製程,移除金屬墊110以外,未被金屬墊110遮蓋的金屬層108。請參照第3A圖和第3B
圖,第3A圖顯示第3B圖I-I’剖面線之剖面圖,以濺鍍之方法形成一銅組成之導電層114於基板102之第一表面104、第二表面106和其上方之金屬墊110上。請參照第4A圖和第4B圖,第4A圖顯示第4B圖I-I’剖面線之剖面圖,進行一微影製程,形成一第一圖案化罩幕層116於基板102第一表面104和第二表面106上方之導電層114上,其中第一圖案化罩幕層116包括暴露部分導電層114之第一開口118。後續,進行一蝕刻製程,移除第一開口118中的導電層114,形成一電鍍連接結構120。請參照第5A圖和第5B圖,第5A圖顯示第5B圖I-I’剖面線之剖面圖,移除第一圖案化罩幕層116。請參照第6A圖和第6B圖,第6A圖顯示第6B圖I-I’剖面線之剖面圖,進行一微影製程,形成一第二圖案化罩幕層122於基板102第一表面104和第二表面106上方,其中第二圖案化罩幕層122包括暴露部分金屬墊110之第二開口124。後續,利用上述步驟形成之電鍍連接結構120,使電流經電鍍連接結構120,導通至金屬墊110之尾端結構103,電鍍一包含鎳、金之表面處理層126於開口中之部分之金屬墊110上。請參照第7A圖和第7B圖,第7A圖顯示第7B圖I-I’剖面線之剖面圖,移除第二圖案化罩幕層122,並進行一蝕刻製程,移除電鍍連接結構120。請參照第8A圖和第8B圖,第8A圖顯示第8B圖I-I’剖面線之剖面圖,形成一防焊層128於基板102和金屬墊110上,其中防焊層128包括一第三開口130,以供後續步驟進行例如打線之連接製程。
然而,上述習知技術除了製作線路結構外,尚包括形成進行電鍍之電鍍線路結構,流程較長且成本較高,因此,業界需要一種印刷電路板和其製作方法,以改善上述缺點。
根據上述,本發明提供一種印刷電路板之製作方法,包括:提供一基板;形成一金屬層於基板上;形成一金屬墊於部分金屬層上;形成一圖案化罩幕層於基板上方,其中圖案化罩幕層包括一第一開口,暴露金屬墊;及進行一電鍍製程,使電流經金屬層導通至金屬墊,電鍍一表面處理層於第一開口中之金屬墊上。
本發明提供一種印刷電路板,包括:一基板;一金屬墊,位於基板上;一表面處理層,位於金屬墊上,且覆蓋金屬墊之周圍的側壁;及一防焊層,位於基板上。
101‧‧‧主體結構
102‧‧‧基板
103‧‧‧尾端結構
104‧‧‧第一表面
106‧‧‧第二表面
108‧‧‧金屬層
110‧‧‧金屬墊
114‧‧‧導電層
116‧‧‧第一圖案化罩幕層
118‧‧‧第一開口
120‧‧‧電鍍連接結構
122‧‧‧第二圖案化罩幕層
124‧‧‧第二開口
126‧‧‧表面處理層
128‧‧‧防焊層
130‧‧‧第三開口
202‧‧‧基板
203‧‧‧第一表面
204‧‧‧金屬層
205‧‧‧第二表面
206‧‧‧金屬墊
208‧‧‧光阻材料
210‧‧‧第一圖案化罩幕層
212‧‧‧第一開口
214‧‧‧表面處理層
216‧‧‧防焊層
218‧‧‧第二開口
220‧‧‧第二開口
第1A~8A圖顯示習知技術印刷電路板製作方法之中間步驟的剖面圖。
第1B~8B圖顯示習知技術印刷電路板製作方法之中間步驟的平面圖。
第9A~16A圖顯示本發明一實施例印刷電路板製作方法之中間步驟的剖面圖。
第9B~16B圖顯示本發明一實施例印刷電路板製作方法之中間步驟的平面圖。
以下以各實施例詳細說明並伴隨著圖式說明之範例,做為本發明之參考依據。在圖式或說明書描述中,相似或相同之部分皆使用相同之圖號,且在圖式中,實施例之形狀或是厚
度可擴大,並以方便、簡化的方式予以標示。再者,圖式中各元件之部分將以分別描述說明之,值得注意的是,圖中未繪示或描述之元件,為所屬技術領域中具有通常知識者所知的形式,另外,特定之實施例僅為揭示本發明使用之特定方式,並非用以限定本發明。
第9A~16A圖顯示本發明一實施例印刷電路板製作方法之中間步驟的剖面圖。第9B~16B圖顯示本發明一實施例印刷電路板製作方法之中間步驟的平面圖。請參照第9A圖和第9B圖,第9A圖顯示第9B圖I-I’剖面線之剖面圖,提供一基板202,包括一第一表面203和一第二表面205,基板202之核心材質可包括紙質酚醛樹脂(paper phenolic resin)、複合環氧樹脂(composite epoxy)、聚亞醯胺樹脂(polyimide resin)或玻璃纖維(glass fiber)。分別於基板202之第一表面203和第二表面205上形成一金屬層204,且分別於基板202之第一表面203和第二表面205上之部分金屬層204上方形成一金屬墊206。金屬層204和金屬墊206的材質可包括錫、鉛、銅、鋁、銀、鉻、鎢、矽或其組合及上述之合金。金屬層204的形成方式包括利用常用之沉積、壓合或塗佈製程分別於基板202的第一表面203和第二表面205上全面性形成一金屬層,金屬層可以例如為銅箔。金屬墊206之形成方法可以為先製作一包括開口之圖案化光阻層(圖未顯示),後續於開口中電鍍形成金屬墊206。在本實施例中,金屬層204之厚度小於金屬墊206之厚度,例如金屬層204之厚度可以為5μm~40μm,金屬墊206之厚度可以為5μm~40μm。
請參照第10A圖和第10B圖,第10A圖顯示第10B圖
I-I’剖面線之剖面圖,形成一光阻材料208於基板202之第一表面203和第二表面205上方,光阻材料208可以為具備感光性之乾膜,且其可以採用貼附的方式形成於基板202上。請參照第11A圖和第11B圖,第11A圖顯示第11B圖I-I’剖面線之剖面圖,對光阻材料208進行例如曝光和顯影之微影製程,形成包括第一開口212之第一圖案化罩幕層210,其中開口212係暴露金屬墊206。
後續,請參照第12A圖和第12B圖,第12A圖顯示第12B圖I-I’剖面線之剖面圖,電鍍形成一表面處理214於金屬墊206及部分金屬層204上,值得注意的是,本實施例電鍍形成表面處理層214前並沒有將金屬層204移除,本實施例係藉由電性連接金屬墊206的金屬層204,使電流經金屬層204導通至金屬墊206,電鍍一表面處理層214於開口212中之金屬墊206及部分金屬層204上,而不需再形成供電鍍形成表面處理層214之電鍍連接結構,因此,本實施例印刷電路板之製作方法可簡化製程,且成本較低。再者,本實施例係藉由電性連接金屬墊206的金屬層204,使電流經金屬層204導通至金屬墊206,電鍍一表面處理層214於開口中之金屬墊上,因此,金屬墊206可不包括尾端結構(金屬墊206大體上為一圓柱形結構),相較於先前技術需提供尾端結構之區域,本發明之實施方式不需空出尾端結構之區域,此區域可用來供佈線使用,而提高佈線之使用面積。
在本實施例中,表面處理層214可以包括鎳與金之堆疊層、銅、銀或錫。且如第12A圖所示,表面處理層214係位於金屬墊206及部分金屬層204上,且覆蓋金屬墊206之周圍的側壁。之後,請參照第13A圖和第13B圖,第13A圖顯示第13B圖I-I’剖面
線之剖面圖,移除第一圖案化罩幕層210。在本實施例中,第一圖案化罩幕層210可以為乾膜,且其可使用剝除之方法移除之。請參照第14A圖和第14B圖,第14A圖顯示第14B圖I-I’剖面線之剖面圖,進行一蝕刻製程,移除未被表面處理層214遮蓋的金屬層204。
請參照第15A圖和第15B圖,第15A圖顯示第15B圖I-I’剖面線之剖面圖,形成一防焊層216於基板202和金屬墊206上,圖案化防焊層216,形成一第二開口218,暴露至少部分之金屬墊206上的表面處理層214,以供後續步驟進行例如打線之連接製程。在第15A圖和第15B圖之實施例中,第二開口218之尺寸小於金屬墊206之頂部表面的尺寸,且如第15A圖所示,本實施例之表面處理層214可延伸至防焊層216之第二開口218外之基板202上方。但本發明不限於此,請參照第16A圖和第16B圖,第16A圖顯示本發明另一實施例接續第14A圖後續步驟的剖面圖,和第16B圖顯示接續第14B圖後續步驟的平面圖。在第16A圖和第16B圖之實施例中,第二開口220之尺寸大於金屬墊206之頂部表面的尺寸。
雖然本發明已揭露較佳實施例如上,然其並非用以限定本發明,任何熟悉此項技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可做些許更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定為準。
202‧‧‧基板
203‧‧‧第一表面
204‧‧‧金屬層
205‧‧‧第二表面
206‧‧‧金屬墊
210‧‧‧第一圖案化罩幕層
212‧‧‧第一開口
214‧‧‧表面處理層
Claims (10)
- 一種印刷電路板之製作方法,包括:提供一基板;形成一金屬層於該基板上;形成一金屬墊於該金屬層上,其中該金屬層電性連接該金屬墊;形成一圖案化罩幕層於該基板上方,其中該圖案化罩幕層包括一第一開口,暴露該金屬墊;及進行一電鍍製程,使電流經該金屬層導通至該金屬墊,電鍍一表面處理層於該第一開口中之金屬墊上。
- 如申請專利範圍第1項所述之印刷電路板之製作方法,尚包括:移除該圖案化罩幕層;及進行一蝕刻製程,移除未被該表面處理層覆蓋之該金屬層。
- 如申請專利範圍第2項所述之印刷電路板之製作方法,尚包括:形成一防焊層於該基板上方;及圖案化該防焊層,形成一第二開口,暴露至少部分該金屬墊上之該表面處理層。
- 如申請專利範圍第3項所述之印刷電路板之製作方法,其中該第二開口之尺寸大於該金屬墊之頂部表面的尺寸。
- 如申請專利範圍第3項所述之印刷電路板之製作方法,其中該第二開口之尺寸小於該金屬墊之頂部表面的尺寸。
- 如申請專利範圍第1項所述之印刷電路板之製作方法,其中 該圖案化罩幕層是感光材料。
- 如申請專利範圍第6項所述之印刷電路板之製作方法,其中該感光材料是具備感光性之乾膜。
- 如申請專利範圍第1項所述之印刷電路板之製作方法,其中該表面處理層是鎳與金之堆疊層、銅、銀或錫。
- 如申請專利範圍第1項所述之印刷電路板之製作方法,其中該金屬層之厚度小於該金屬墊之厚度。
- 如申請專利範圍第1項所述之印刷電路板之製作方法,其中該金屬層之厚度為5μm~40μm,該金屬墊之厚度為5μm~40μm。
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TW201431451A TW201431451A (zh) | 2014-08-01 |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TW200633609A (en) * | 2005-03-09 | 2006-09-16 | Phoenix Prec Technology Corp | Electrical connector structure of circuit board and method for fabricating the same |
TW201026188A (en) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Unimicron Technology Corp | Surface plating process for circuit substrate |
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- 2013-01-24 TW TW102102599A patent/TWI484880B/zh active
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