TWI483078B - 正型光敏性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本申請案主張於2011年12月30日向韓國智慧財產局提申之韓國專利申請案第10-2011-0147877號的優先權與利益,其之整體內容被併入本文中以作為參考資料。
揭示一種正型光敏性樹脂組成物、使用其所製備之光敏性樹脂薄膜,以及包括該光敏性樹脂薄膜之顯示裝置。
用於半導體元件的習用表面保護層與層間絕緣層包括了具有優良的耐熱性、電氣性質、機械性質及類似物之聚醯亞胺樹脂。聚醯亞胺樹脂近來被用作一種容易塗覆之光敏性聚醯亞胺前驅物組成物。光敏性聚醯亞胺前驅物組成物係塗在半導體元件上、以紫外(UV)光圖案化、顯影,以及熱亞胺化,輕易地提供一表面保護層、層間絕緣層及類似物。因此,相較於習用非光敏性聚醯亞胺前驅物組成物,聚醯亞胺樹脂可顯著縮短製程時間。
光敏性聚醯亞胺前驅物組成物可以正型(其中曝光部分被顯影溶解)與負型(其中曝光部分被固化且留下)應用。正型可以以無毒鹼性水溶液來顯影且因而,偏好使用。正型光敏性聚醯亞胺前驅物組成物包括聚醯胺酸類聚醯亞胺前驅物、重氮萘醌類光敏性材料及類似物。然而,正型光
敏性聚醯亞胺前驅物組成物有無法獲得所欲圖案的問題,因為聚醯胺酸(polyamidic acid)的碳酸太高度溶於鹼。為解決此問題,已提議一種藉由以具有至少一羥基的醇化合物來酯化聚醯胺酸而引進含酚系羥基酸代替碳酸的材料(日本專利公開案第10-307393號),但有可顯影性不足的問題且因而,層損耗或樹脂從基材脫層。
近來,一種將聚苯并噁唑前驅物和重氮萘醌化合物混合所製備的材料已引起關注(日本專利公開案第1994-060140號),但當實際使用聚苯并噁唑前驅物組成物時,由於在顯影後未曝光部分的大量層損耗而有幾乎無法得到所欲圖案的問題。然而,當增加聚苯并噁唑前驅物的分子量來改善此問題時,未曝光部分的層損耗降低了,但是產生曝光部分的顯影殘留物(渣垢),且因而解析度可能變差並延長曝光部分的顯影時間。為解決此問題,已報導將某些酚化合物加至聚苯并噁唑前驅物組成物可以抑制層損耗(日本專利公開案第9-302221號與日本專利公開案第2000-292913號)。然而,因未曝光部分之層損耗的抑制效果不足,所以需要關於增加層損耗的抑制效果,並防止生成顯影殘留物(渣垢)的研究。此外,既然控制溶解度之酚造成在熱固化期間的高溫下會造成分解或發生副反應的問題且因而,對於所生成之固化層的機械性質發生巨大的損害,取代酚作為溶解控制劑之研究仍有必要。
包括聚苯并噁唑前驅物之正型光敏性樹脂組成物可應用至一種顯示裝置領域中之有機絕緣體或阻隔肋件材料。
一種液晶顯示裝置,顯示裝置中的一種,具有輕且薄、低成本、以小的耗電運作、與積體電路有優異的接合等等之許多優點以及因而,已經廣泛地使用於膝上型電腦、監視器,及TV影像。此液晶顯示裝置包括一個下基材,其具有黑色矩陣、濾色片及ITO像素電極,以及一個上基材,其具有一液晶層、一薄膜電晶體,及一電容器層構成之有效電路部件及ITO像素電極。濾色片係藉由以預定的圖案來連續地層壓黑色矩陣層於一透明基材上所製造來阻隔像素邊界及數種色彩(一般而言,紅(R)、綠(G),及藍(B)3種原色)構成的像素部件中的光。
此外,一種近代積極發展的有機發光二極體(OLED)被配置為具矩陣格式之像素。此等像素被配置為發出相同的色彩以製造單色顯示器或為紅(R)、綠(G),及藍(B)3種原色以顯示各種各樣的色彩。
另一方面,近來許多的企圖已經要發展一種具有高的對比率和高的亮度之顯示裝置。其中一個企圖是要形成介於色彩圖案之間的黑色濾光片層,但是有幾乎不能實現高的孔徑比的問題以及引起低的耐熱性和絕緣性質。接而,另一個確保高的孔徑比之企圖係藉由使一非發光區成為黑色的以及同時改善對比率和可見度,但是因為大量溶解的著色劑而有使一絕緣層的固有性質劣化之問題。此外,一種使用作為黑色的研磨基料(black mill-base)之如碳黑及類似物之無機色素,一種著色劑,一般而言具有優良的遮光性質但是有使絕緣阻抗性質劣化的問題,其不合適施用至
一種有機發光二極體之絕緣層。另一方面,一種比較而言由色素的混合物構成的有機色素實現了黑色以及因而,具有比無機色素更佳的絕緣阻抗性質,但是需要含括比無機色素更多的量於一種光敏性樹脂組成物內來達到相等的遮光性質以及更可能使圖案可顯影性劣化且產生殘留物。
於是,需要發展一種不具有前述的問題之新的光敏性樹脂組成物。
一具體例提供了一種具有優異的絕緣性質絕緣性質(insulating properties insulating properties)及遮光性質之正型光敏性樹脂組成物。
依據一具體例,提供了一種濾色片光敏性樹脂組成物,其包括:(A)一種鹼溶性樹脂,其係選自於聚苯并噁唑前驅物、聚醯亞胺前驅物,及其等之組合,(B)一種光敏性重氮萘醌類化合物,(C)一種酚化合物,(D)一種有機染料及(E)一種溶劑,其中該有機染料(D)包括具有590至700 nm之吸收波長的至少一種紅色染料、具有550至590 nm之吸收波長的至少一種黃色染料,及具有450至500 nm之吸收波長的至少一種藍色染料。
聚苯并噁唑前驅物可以包括以下化學式1所表示的重複單元,或以下的化學式1和2所表示的重複單元,以及可以包括位於其之至少一末端之熱可聚合官能基。
於化學式1和2中,X1
為芳族有機基團,或四價至六價脂肪族有機基團,Y1
與Y2
係相同或不同的,且分別為芳族有機基團或二價至六價脂肪族有機基團,以及X2
為芳族有機基團、二價至六價脂肪族有機基團、二價至六價脂環有機基團,或以下的化學式3所表示的有機基團,
其中,於化學式3中,R23
至R26
為相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之烷基、經取代或未經取代之芳基、經取代或未經取代之烷氧基,或羥基,R27
與R28
為相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之伸烷基,或經取代或未經取代之伸芳基,以及k為介於1至50之整數。
聚醯亞胺前驅物可以包括以下化學式50和以下的化學
式51所表示的重複單元。
於化學式50和51中,X3
為芳族有機基團,或二價至六價脂環有機基團,Y3
與Y4
係相同或不同的,且分別為芳族有機基團,或四價至六價脂環有機基團,X4
為芳族有機基團、二價至六價脂環有機基團,或以上的化學式3所表示的官能基,以及R100
至R103
為相同或不同的,且分別為氫,或經取代或未經取代之C1至C20烷基。
具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料可包括選自於二苯并哌喃(xanthene)為主的化合物、偶氮為主的化合物、蒽醌為主的化合物、氰基為主的化合物,及其等之組合的化合物。
具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料可包括選自於甲烷為主的化合物、偶氮為主的化合物,或其等之組合的化合物。
具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料可包括選自於三苯甲烷(TPM)為主的化合物、三芳基甲烷(TAM)為主的化
合物、二苯并哌喃為主的化合物,及其等之組合的化合物。
具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料可以為以下的化學式4所表示的一化合物。
於化學式4中,R29
至R30
為相同或不同的,且分別為氫、經取代或未經取代之胺基,或經取代或未經取代之C1至C10烷基。
具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料可以為以下的化學式5所表示的一化合物。
於化學式5中,R43
為經取代或未經取代之C1至C20烷基、C2至C20烷基胺基烷基磺醯基,或是其中至少一個-CH2
-被-SO2
-、-O-,或-NR-(其中R為氫或C1至C6烷基)取代之C1至C20烷基,R44
為經取代或未經取代之C6至C30伸芳基,或是經取代或
未經取代之C2至C30雜伸芳基,R45
及R47
至R50
分別選自於氫、經取代或未經取代之C1至C20烷基、其中至少一個-CH2
-被-SO2
-、-O-,或-NR-(其中R為氫或C1至C10烷基)取代之C1至C20烷基、經取代或未經取代之C3至C20環烷基、經取代或未經取代之C2至C20烯基、經取代或未經取代之C6至C30芳基、經取代或未經取代之C2至C30雜環基團、磺醯基烷基(-SO2
R',其中R'為氫或C1至C10烷基)、磺醯基芳基(-SO2
R”,其中R”為C6至C16芳基)、醯基、羧基、碸基,及胺基甲醯基(cabamoyl),以及R46
係選自於氫、鹵素,及氰基。
具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料可以為以下的化學式6所表示的一化合物。
於化學式6中,X-
為F3
COO-
、CF3
SO3 -
、C4
F9
SO3 -
、(CF3
SO2
)3
C-
,或是(CF3
SO2
)2
N-
,舉例而言CF3
SO3 -
。
該正型光敏性樹脂組成物可進一步包括一種矽烷化合物。
該正型光敏性樹脂組成物可包括,以100重量份之該鹼
溶性樹脂(A)為基準,5至100重量份之該光敏性重氮萘醌類化合物(B),1至30重量份之該酚化合物(C),1至50重量份之該有機染料(D);以及100至400重量份之該溶劑(E)。
依據另一個具體例,提供了一種使用該正型光敏性樹脂組成物製造的光敏性樹脂薄膜。
依據一個另外的具體例,提供了一種包括該光敏性樹脂薄膜之顯示裝置。
該正型光敏性樹脂組成物具有優良的遮光性質,但是不會使一絕緣層的內在性質劣化,其係透過根據使用一種無機色素和有機色素而防止絕緣性質、圖案可顯影性,及殘留物移除率之劣化。
在下文中將詳細地說明例示性具體例。然而,此等具體例僅供舉例說明之用,且不會限制本發明。
當使用於本文中,當除此之外未提供特定定義時,「烷基」一詞係指C1至C30烷基,「環烷基」一詞係指C3至C30環烷基,「雜環烷基」一詞係指C2至C30雜環烷基,「芳基」一詞係指C6至C30芳基,「雜芳基」一詞係指C3至C30雜芳基,「芳烷基」一詞係指C7至C30芳烷基,「伸烷基」一詞係指C1至C20伸烷基,「伸烷氧基」一詞係指C1至C20伸烷氧基,「伸芳基」一詞係指C6至C30伸芳基,「雜伸芳基」一詞係指C2至C30雜伸芳基,以及「烷氧基」一詞係指C1至C30烷氧基。
當使用於本文中,當除此之外未提供特定定義時,「經取代」一詞係指以選自以下所組成的群組之至少一取代基取代代替官能基團之至少一個氫之一者:鹵素(F、Cl、Br,或I)、羥基、硝基、氰基、亞胺基(=NH,=NR,R為C1至C10烷基)、胺基(-NH2
,-NH(R'),-N(R”)(R”'),R'至R”'各自分別為C1至C10烷基)、甲脒基、肼基、腙基、羧基、經取代或未經取代的C1至C30烷基、經取代或未經取代的C6至C30芳基、經取代或未經取代的C3至C30環烷基、經取代或未經取代的C3至C30雜芳基,以及經取代或未經取代的C2至C30雜環烷基。
當使用於本文中,當除此之外未提供定義時,「雜」一詞可指一者,其包括選自於N、O、S,及P的一個至三個雜原子及剩餘的碳於一環內。
並且,「*」係指介於相同或不同的原子,或化學式之間的連接部分。
依據一個具體例,一種光敏性樹脂組成物包括:(A)一種鹼溶性樹脂,其係選自於聚苯并噁唑前驅物、聚醯亞胺前驅物,及其等之組合;(B)一種光敏性重氮萘醌類化合物,(C)一種酚化合物,(D)一種有機染料,及(E)一種溶劑,其中該有機染料(D)包括具有590至700 nm之吸收波長的至少一種紅色染料、具有550至590 nm之吸收波長的至少一種黃色染料,及具有450至500 nm之吸收波長的至少一種藍色染料。
其中該有機染料(D)具有優異的絕緣與溶解度,因該有
機染料存在為有機溶劑內的顆粒。於是,一種包括該有機染料之正型光敏性樹脂組成物具有優良的遮光作用、形成圖案性質,以及殘留物移除率。
鹼溶性樹脂可選自於聚苯并噁唑前驅物、聚醯亞胺前驅物,及其等之組合。
該聚苯并噁唑前驅物可以包括以下化學式1所表示的重複單元,或以下的化學式1和2所表示的重複單元,以及可以包括位於其之至少一末端之熱可聚合官能基。
於化學式1和2中,X1
為芳族有機基團,或四價至六價脂肪族有機基團,Y1
與Y2
係相同或不同的,且分別為芳族有機基團或二價至六價脂肪族有機基團,X2
為芳族有機基團、二價至六價脂肪族有機基團、二價至六價脂環有機基團,或以下的化學式3所表示的有機基團。
於化學式3中,R23
至R26
為相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之烷基、經取代或未經取代之芳基、經取代或未經取代之烷氧基,或羥基,R27
與R28
為相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之伸烷基,或經取代或未經取代之伸芳基,k為介於1至50之整數。
該聚苯并噁唑前驅物不限於特定的形式,可以為隨機共聚物、嵌段共聚物,或交替共聚物。
當該聚苯并噁唑前驅物包括化學式1和2所表示的重複單元二者時,可以包括多於或等於60mol%且低於100mol%的量之化學式1所表示的重複單元。
X1
可以是衍生自以下的殘餘(residual)基團:3,3'-二胺基-4,4'-二羥基聯苯、4,4'-二胺基-3,3'-二羥基聯苯、雙(3-胺基-4-羥基苯基)丙烷、雙(4-胺基-3-羥基苯基)丙烷、雙(3-胺基-4-羥基苯基)碸、雙(4-胺基-3-羥基苯基)碸、2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-雙(4-胺基-3-羥基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2'-雙(3-胺基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(3-胺基-4-羥基-6-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(3-胺基-4-羥基-2-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(4-胺基-3-羥基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(4-胺基-3-羥基-6-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(4-胺基-3-羥基-2-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,2'-雙(3-胺基-4-羥基-5-五氟乙基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-5-
三氟甲基苯基)-2'-(3-胺基-4-羥基-5-五氟乙基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2’-(3-羥基-4-胺基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2’-(3-羥基-4-胺基-6-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2’-(3-羥基-4-胺基-2-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-2-三氟甲基苯基)-2’-(3-羥基-4-胺基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2-(3-胺基-4-羥基-6-三氟甲基苯基)-2’-(3-羥基-4-胺基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2,6-雙[[[5-[1-(胺基-4-羥基苯基)-2,2,2-三氟-1-(三氟甲基)乙基]-2羥基苯基]胺基]甲基]-4-甲苯酚,及彼等之組合,但是不限於該等。
X1
可以包括由以下的化學式7和8所表示的一官能基。
於化學式7和8中,A1
係選自於O、CO、CR8
R9
、SO2
、S,及單鍵,R8
與R9
係相同或不同的,且分別選自於氫與經取代或未經取代之烷基,以及R8
與R9
較佳為氟烷基,
R5
至R7
係相同或不同的,且分別選自於氫、經取代或未經取代之烷基、羥基、羧酸基團,及硫醇基,n1
為1至2之整數,以及n2
與n3
是相同或不同的,及分別為1至3之整數。
X2
可以是衍生自芳族二胺、脂環二胺,或矽二胺之殘餘基團。
芳族二胺之實例可以包括3,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯碸、4,4'-二胺基二苯硫醚、聯苯胺、m-苯二胺、1,5-萘二胺、2,6-萘二胺、雙(4-胺基苯氧基苯基)碸、雙(3-胺基苯氧基苯基)碸、雙(4-胺基苯氧基)聯苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]醚、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯,或其之類似物,但是不限於該等。芳族二胺可以單一地使用或是如其等之混合物來使用。
矽二胺之實例可包括雙(4-胺基苯基)二甲基矽烷、雙(4-胺基苯基)四甲基矽氧烷、雙(對胺基苯基)四甲基二矽氧烷、雙(γ-胺基丙基)四甲基二矽氧烷、1,4-雙(γ-胺基丙基二甲基矽基)苯、雙(4-胺基丁基)四甲基二矽氧烷、雙(γ-胺基丙基)四苯基二矽氧烷、1,3-雙(胺基丙基)四甲基二矽氧烷,但是不限於該等。
脂環二胺之實例可包括環己二胺、亞甲基雙環己胺,及類似物,但是不限於該等。
脂環二胺可以單一地使用或是如其等之混合物來使用,以及芳族二胺、矽二胺,或脂環二胺可以以適當比例混合。
Y1
與Y2
可以是衍生自二羧酸之殘餘基團或是衍生自二羧酸衍生物之殘餘基團。
二羧酸的實例包括Y(COOH)2
(其中Y係如同Y1
與Y2
)。
二羧酸衍生物之實例包括羰基鹵化物衍生物或是藉由令Y(COOH)2
與1-羥基-1,2,3-苯并三唑反應而得到的活性酯衍生物之活性化合物
二羧酸衍生物之特定的實例包括選自於以下之化合物:4,4'-氧基二苯甲醯氯、二苯基氧基二羧酸醯氯、雙(苯基羧酸醯氯)碸、雙(苯基羧酸醯氯)醚、雙(苯基羧酸醯氯)苯酮、鄰苯二甲羧酸醯二氯、對苯二甲羧酸醯二氯、間苯二甲羧酸醯二氯、羧酸醯二氯、二苯基氧基二羧酸苯并三唑以及其等之組合。
Y1
與Y2
可以是以下的化學式9至11所表示的官能基。
於化學式9至11中,R10
至R13
是相同或不同的,且分別選自於氫,或經取代或未經取代之烷基,n6
、n8
和n9
為相同或不同的,且分別為1至4之整數,n7
為1至3之整數,A2
為O、CR14
R15
、CO、CONH、S,或SO2
,其中R14
與R15
是相同或不同的,且分別為氫、經取代或未經取代之烷基,或氟烷基。
該聚苯并噁唑前驅物可包括位於該聚苯并噁唑前驅物之支鏈末端的至少一端之衍生自活性端封端單體(reactive end-capping monomer)的熱可聚合官能基。
活性端封端單體可包括含括雙鍵之單胺類或是含括雙鍵之單酐,或是彼等之組合。
含括雙鍵之單胺類的實例可包括甲苯胺、二甲胺苯、乙胺苯、胺酚、胺苯甲醇、胺氫茚、胺基苯乙酮,或其等之組合,但是不限於該等。
含括雙鍵之單酐之實例可包括以下的化學式12所表示的5-降烯-2,3-二羧基酐、以下的化學式13所表示之3,6-環氧-1,2,3,6-四氫鄰苯二甲酐、或以下的化學式14所表示之異丁烯基琥珀酸酐、順丁烯二酸酐、鳥頭酸酐、3,4,5,6-四
氫鄰苯二甲酐、順-1,2,3,6-四氫鄰苯二甲酐、伊康酸酐(IA)、檸康酐(CA)、2,3-二甲基順丁烯二酸酐(DMMA),或其等之組合,但是不限於該等。
以下的化學式15至19為位於該聚苯并噁唑前驅物之末端的熱可聚合官能基之實例,以及該熱可聚合官能基在該聚苯并噁唑前驅物製備方法之加熱製程期間可以予以交聯。
於化學式15中,R16
是H、CH2
COOH,或CH2
CHCHCH3
。
於化學式16中,R17
與R18
是相同或不同的,且分別選自於H或CH3
。
於化學式18中,R19
是H或CH3
,以及R20
是CH2
或氧。
於化學式19中,R21
與R22
是相同或不同的,且分別為
H、CH3
,或OCOCH3
。
該聚苯并噁唑前驅物具有範圍落在3,000至300,000的重量平均分子量(Mw)。當該聚苯并噁唑前驅物具有在該範圍內的重量平均分子量時,可以提供有機溶劑充分的物理性質與優良的溶解度。
該聚醯亞胺前驅物可進一步包括由以下的化學式50和51所表示之重複單元。由以下的化學式50所表示之重複單元賦予高溫下快速樹脂固化的能力,以及由以下的化學式51所表示之重複單元改善高溫下固化時之熱性質。
於化學式50至51中,X3
為芳族有機基團,或二價至六價脂環有機基團,Y3
與Y4
係相同或不同的,且分別為芳族有機基團,或四價至六價脂環有機基團,X4
為芳族有機基團、二價至六價脂環有機基團,或以上的化學式3所表示的官能基,R100
至R103
為相同或不同的,且分別為氫,或經取代或未經取代之C1至C20烷基。
於該正型光敏性樹脂組成物中,以總和為基準,100 mol%的以上化學式50所表示的重複單元和以上的化學式51所表示的重複單元,可以分別包括5 mol%至50 mol%和50
mol%至95 mol%的量之以上化學式50所表示的重複單元和以上的化學式501所表示的重複單元。
該聚醯亞胺前驅物可具有3,000至300,000的重量平均分子量(Mw)。
光敏性重氮萘醌類化合物可以是包括1,2-重氮苯醌或是1,2-重氮萘醌結構的一化合物。
該光敏性重氮萘醌類化合物可包括以下的化學式22至24所表示的化合物,但是不限於該等。
於化學式20中,R31
至R33
為相同的或不同的,且分別為氫,或經取代或未經取代之烷基,以及較佳為CH3
,D1
至D3
為相同的或不同的且分別為OQ,其中Q為氫,或以下的化學式21a或21b,但有條件是Q不是同時為氫,以及n31
至n33
為相同的或不同的,且分別為介於1至3之整數。
於化學式22中,R34
為氫,或經取代或未經取代之烷基,D4
至D6
係OQ,其中Q係與化學式20中定義的相同,以及n34
至n36
是相同或不同的且分別為介於1至3之整數。
於化學式23中,A3
為CO或CRR',其中R與R'為相同的或不同的且分別為經取代或未經取代之烷基,D7
至D10
是相同或不同的且分別為氫、經取代或未經取代之烷基、OQ,或NHQ,其中Q係與化學式20中定義的相同,n37
、n38
、n39
和n40
是相同或不同的,且分別為介於1至4之整數,n37
+n38
與n39
+n40
分別為低於5或等於5之整數,但有條件是D7
至D8
的至少一者為OQ,以及一芳環包括一至三個OQs且其他的芳環包括一至四個OQs。
於化學式24中,R35
至R42
是相同或不同的且分別為氫,或經取代或未經取代之烷基,n41
與n42
是相同或不同的且分別為1至5之整數,以及較佳為2至4之整數,
其中Q係與化學式20中定義的相同。
以100份該聚苯并噁唑前驅物的重量為基準,可以含括以5至100重量份的量之該光敏性重氮萘醌類化合物。當該光敏性重氮萘醌類化合物的量在該範圍內時,良好的形成圖案而無曝光之殘留物,以及可防止在顯影期間之薄膜厚度損耗且藉此提供良好的圖案。
該酚化合物使用鹼性水溶液而增加在顯影期間之曝光部分的溶解速率與敏感性,以及扮演形成高解析度圖案之角色。
此一酚化合物包括2,6-二甲氧基甲基-4-三級丁基苯酚、2,6-二甲氧基甲基-對甲苯酚、2,6-二乙醯氧甲基-對甲苯酚,及類似物,但是不限於該等。
該酚化合物可以為以下的化學式25至30所表示的一化合物,但是不限於該等。
於化學式25中,R91
至R93
是相同或不同的且分別為氫,或經取代或未經取代之烷基,R94
至R98
是相同或不同的且分別為H、OH,或經取代
或未經取代之烷基,且該烷基可以為CH3
,以及n91
為1至5之整數。
於化學式26中,R99
至R104
是相同或不同的且分別為H、OH,或經取代或未經取代之烷基,A4
為CR'R"或單鍵,其中R'與R"是相同或不同的且分別為氫,或經取代或未經取代之烷基,且該烷基較佳可以為CH3
,以及n92
+n93
+n94
與n95
+n96
+n97
是相同或不同的且分別為低於5或等於5。
於化學式27中,R105
至R107
是相同或不同的且分別為氫,或經取代或未
經取代之烷基,n98
、n99
和n102
是相同或不同的且分別為1至5之整數,以及n100
和n101
是相同或不同的且分別為0至4之整數。
於化學式28中,R108
至R113
是相同或不同的且分別為氫、OH,或經取代或未經取代之烷基,n103
至n106
是相同或不同的且分別為1至4之整數,以及n103
+n105
與n104
+n106
分別為低於5或等於5之整數。
於化學式29中,R114
為經取代或未經取代之烷基,較佳為CH3
,R115
至R117
是相同或不同的且分別為氫,或經取代或未
經取代之烷基,n107
、n109
,和n111
是相同或不同的且分別為1至5之整數,n108
、n110
和n112
是相同或不同的且分別為0至4之整數,以及n107
+n108
、n109
+n110
與n111
+n112
分別為低於5或等於5之整數。
於化學式30中,R118
、R119
與R120
是相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之烷基,且較佳為CH3
,R121
至R124
是相同或不同的,且分別為氫,或經取代或未經取代之烷基,n113
、n115
,和n118
是相同或不同的,且分別為1至5之整數,n114
、n116
,和n117
是相同或不同的,且分別為0至4之整數,n119
為1至4之整數,以及n113
+n114
、n115
+n116
與n117
+n118
分別為低於5或等於5之整
數。
以100份該聚苯并噁唑前驅物的重量為基準,可以含括大約1至大約30重量份的量之該酚化合物。當含括在該範圍內的該酚化合物時,可以改善顯影期間之敏感性,以及可以適當地增加未曝光部分的可溶性來提供好的圖案。此外,不會發生冷凍的期間之沉澱,所以可以實現優異的儲存安定性。
該有機染料(D)含括具有590至700 nm之吸收波長的至少一種紅色染料、具有550至590 nm之吸收波長的至少一種黃色染料,及具有450至500 nm之吸收波長的至少一種藍色染料。
該有機染料由於三種或更多種具有以上的吸收波長之該有機染料而可以實現具有遮光性質的黑色。
於一具體例中,具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料可以為一種具有610至700 nm之吸收波長的紅色染料。特別地,紅色染料可選自於二苯并哌喃為主的化合物、偶氮為主的化合物、蒽醌為主的化合物、氰基為主的化合物,及其等之組合。具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料可以為比色指數內列舉的染料。
於一具體例中,具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料可包括選自於甲烷為主的化合物、偶氮為主的化合物,或其等之組合
具有570至590 nm之吸收波長的黃色染料可以為比色
指數內列舉的染料。
於一具體例中,具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料可為選自於三苯甲烷(TPM)為主的化合物、三芳基甲烷(TAM)為主的化合物、二苯并哌喃為主的化合物,及其等之組合。具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料可以為比色指數內列舉的染料。
該正型光敏性樹脂組成物可包括三種或更多種具有以上的吸收波長之有機染料,舉例而言紅色染料、黃色染料,及藍色染料之組合,或是紅色染料、藍色染料,及綠色染料之組合。
以此方式,因該正型光敏性樹脂組成物包括彼此不同之三種或更多種的有機染料,該有機染料可以以比一種有機色素更小的量達到優良的遮光性質。此外,該正型光敏性樹脂組成物具有良好的絕緣性質以及因而,可以適當地使用於需要高的絕緣性質之半導體裝置,例如一發射元件及類似物之絕緣層。於是,包括該有機染料之該正型光敏性樹脂組成物可以同時解決一種無機色素的絕緣性質和圖案可顯影性以及一種有機色素之殘留物移除率劣化二者的問題。
該有機染料與一種有機色素比較係以顆粒相存在於溶劑內而不是分散相於溶劑內,且因而不會損傷一薄膜的表面形態。
於一具體例中,具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料可以為以下的化學式4所表示的一化合物。
於化學式4中,R29
與R30
係相同或不同的,且分別為氫、經取代或未經取代之胺基或經取代或未經取代之C1至C10烷基,舉例而言,甲基、丙基或-NEt2
。
以上的化學式4可以由以下的化學式4a來表示。
於一具體例中,具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料可以為以下的化學式5所表示的一化合物。
於化學式5中,
R43
為經取代或未經取代之C1至C20烷基、C2至C20烷基胺基烷基磺醯基,或是其中至少一個-CH2
-被-SO2
-、-O-,或-NR-(其中R為氫或C1至C6烷基)取代之C1至C20烷基,R44
為經取代或未經取代之C6至C30伸芳基,或是經取代或未經取代之C2至C30雜伸芳基,R45
及R47
至R50
分別選自於氫、經取代或未經取代之C1至C20烷基、其中至少一個-CH2
-係被-SO2
-、-O-,或-NR-(其中R為氫或C1至C10烷基)取代之C1至C20烷基、經取代或未經取代之C3至C20環烷基、經取代或未經取代之C2至C20烯基、經取代或未經取代之C6至C30芳基、經取代或未經取代之C2至C30雜環基團、磺醯基烷基(-SO2
R',其中R'為氫或C1至C10烷基)、磺醯基芳基(-SO2
R”,其中R”為C6至C16芳基)、醯基、羧基、碸基,及胺基甲醯基,以及R46
係選自於氫、鹵素,及氰基。
以上的化學式5可以由以下的化學式5a來表示。
於一具體例中,具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料可以為以下的化學式6所表示的一化合物。
於化學式6中,X-
為F3
COO-
、CF3
SO3 -
、C4
F9
SO3 -
、(CF3
SO2
)3
C-
,或是(CF3
SO2
)2
N-
,舉例而言CF3
SO3 -
。
以100份該鹼溶性樹脂的重量為基準,可以含括以1至50重量份,以及較佳為10至20重量份的量之該有機染料。當使用以上數字範圍內的該有機染料時,該光敏性樹脂組成物可防止薄膜的殘留比、敏感性,及類似物劣化以及因而,改善薄膜的亮度。
該有機染料對於一溶劑能有1至10 wt%之溶解度。當在以上數字範圍內時,可防止該光敏性樹脂組成物內之染料沉澱。該有機染料對於選自於以下的溶劑有1至10 wt%之溶解度:N-甲基-2-吡咯烷酮、γ
-丁內酯、N,N-二甲基乙醯胺、二甲亞碸、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丁醚、丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基-1,3-丁二醇乙酸酯、1,3-丁二醇-3-單甲醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、環己酮,及類似物。既然這樣,
可以防止該有機染料之沉澱,以及可以獲得良好的形成圖案性質。
該光敏性樹脂組成物除該有機染料以外可以含括一種或更多種高度耐用的染料。高度耐用的可以為一種染料,其具有小的顆粒尺寸且以顆粒相而不是分散相存在,以及因而不會損傷一薄膜的表面形態。高度耐用的染料可以為選自於以下的一者或更多者:直接染料、酸性染料、鹼性染料、酸性媒染染料、硫染料、還原染料、偶氮(azoic)染料、分散性染料、反應性染料、氧化染料、酒精可溶性染料、偶氮(azo)染料、蒽醌染料、靛類染料、碳陽離子染料、酞花青染料、硝基染料、喹啉染料、花青染料,以及聚二苯并哌喃(polyxanthene))染料。以100份該鹼溶性樹脂的重量為基準,可以含括以1至50重量份的量之此一高度耐用的染料。
溶劑可以為一種有機溶劑,舉例而言N-甲基-2-吡咯烷酮、γ
-丁內酯、N,N-二甲基乙醯胺、二甲亞碸、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丁醚、丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基-1,3-丁二醇乙酸酯、1,3-丁二醇-3-單甲醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯,及類似物,但是不限於該等。溶劑可以單一地使用或是如其等之混合物來使用。
以100份該鹼溶性樹脂的重量為基準,可以含括以100
至400重量份的量之溶劑。當含括以上量的該溶劑時,能塗覆充分厚度的薄膜,以及能改善溶解度與塗覆性質。
光敏性樹脂組成物除(A)至(D)以外可進一步(E)矽烷化合物來改良與一基材之間的黏著性。
矽烷化合物可以由以下的化學式31所表示。
於化學式31中,R61
為乙烯基、經取代或未經取代之烷基,或經取代或未經取代之芳基,以及較佳為3-(甲基丙烯醯氧基)丙基、p-苯乙烯基、或3-(苯基胺基)丙基。
R62
至R64
是相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之烷氧基、經取代或未經取代之烷基,或鹵素,其中R62
至R64
的至少一者為烷氧基或鹵素,以及該烷氧基較佳可以為C1至C8烷氧基,該烷基可以是C1至C20烷基。
矽烷化合物可以包括以下的化學式32或33所表示的化合物;包括芳基的矽烷化合物,例如,三甲氧基[3-(苯基胺基)丙基]矽烷及類似物;包括碳-碳未飽和的矽烷化合物,例如:乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三氯矽烷、乙烯基參(β-甲氧基乙氧基)矽烷;或3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基
矽烷、p-苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷,以及類似物。於一具體例中,乙烯基三甲氧基矽烷,或乙烯基三乙氧基矽烷可能為較佳的。
於化學式32中,R65
為NH2
或CH3
CONH,R66
至R68
是相同或不同的且分別為經取代或未經取代之烷氧基,以及該烷氧基較佳可以為OCH3
或是OCH2
CH3
,以及n61
為1至5之整數。
於化學式33中,R69
至R72
是相同或不同的且分別為經取代或未經取代之烷基,或經取代或未經取代之烷氧基,以及較佳為CH3
或OCH3
,R73
與R74
是相同或不同的,且分別為經取代或未經取代之胺基,且特別為NH2
或CH3
CONH,以及
n62
與n63
是相同或不同的,且分別為1至5之整數。
以100份該鹼溶性樹脂的重量為基準,可以使用0.1至30重量份的量之矽烷化合物。當含括在該範圍內的矽烷化合物時,一薄膜會具有對上層與下層之優良的黏著性且在顯影之後無殘留物,以及改善的機械性質例如光學特性(透射率)和抗拉強度、伸長速率、楊氏模數,和類似物。
該正型光敏性樹脂組成物除以上說明的(A)至(D)組份以外可進一步包括其他的添加劑(G)。
其他的添加劑包括潛熱酸生成劑。潛熱酸生成劑包括芳基磺酸,例如p-甲苯磺酸或苯磺酸,和類似物;全氟烷基磺酸,例如三氟甲磺酸、三氟丁磺酸,和類似物;烷基磺酸,例如甲磺酸、乙磺酸、丁磺酸,和類似物;或彼等之組合,但是不限於該等。
潛熱酸生成劑係用於聚苯并噁唑前驅物的脫水反應與成環反應之催化劑,聚苯并噁唑前驅物為含括酚羥基之聚醯胺,以及因而即使固化溫度降低,仍可順利地執行成環反應。
此外,該正型光敏性樹脂組成物可進一步包括諸如適宜的表面活性劑或平整劑之添加劑,以防止膜之沾污或是增進顯影。
可以進一步利用黑色有機色素和黑色無機色素來改善遮光性能。黑色有機色素可以包括苝黑(perylene black)(K0084,K0086,由BASF製造)、花青黑,及類似物。黑色
有機色素可以單一地使用或是如其等之混合物來使用。無機色素可以包括碳黑(PRIN TEX-U,由Degussa製造)、氧化鉻、氧化鐵、鈦黑(titan black),及類似物。
使用依據一具體例之正型光敏性樹脂組成物來形成圖案的方法包括:於一支撐基材上塗覆正型光敏性樹脂組成物;使塗覆的正型光敏性樹脂組成物乾燥,以提供正型光敏性聚苯并噁唑前驅物層;使聚苯并噁唑前驅物層曝光;在鹼性水溶液中使經曝光的聚苯并噁唑前驅物層顯影,以提供光敏性樹脂薄膜;以及烘焙光敏性樹脂薄膜。含括塗覆、曝光及顯影製程之提供圖案的方法在此技藝係眾所周知,故本說明書省略其之詳細說明。
依據再一個具體例,提供一種使用該正型光敏性樹脂組成物製造的光敏性樹脂薄膜。該光敏性樹脂薄膜可以應用至絕緣層、緩衝層,或保護層。
依據另外再一個具體例,提供一種包括該光敏性樹脂薄膜之顯示裝置。該顯示裝置可以為()有機發光二極體(OLED)或液晶顯示器(LCD)。
下列實施例更詳細地例示本發明。然而,可理解到本發明不受限於此等實施例。
在氮通過配有攪拌器、溫控器、氮氣注入器,與冷凝器的4-頸燒瓶的同時,使41.1g的2,6-雙[[[5-[1-(胺基-4-羥基苯基)-2,2,2-三氟-1-(三氟甲基)乙基]-2羥基苯基]胺基]甲基]-4-甲苯酚溶解於280g的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中。當
固體完全溶解時,將9.9g吡啶加入溶液。混合物維持在0至5℃範圍的溫度下,以及將藉由13.3g的4,4'-氧基二苯甲醯氯溶解於142g的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)之內所製備的溶液以逐滴的方式緩慢地添加至此溶液歷時30分鐘。生成的混合物在0℃至5℃下反應歷時1小時且由0至5℃增加其之溫度至室溫以及接而,攪拌歷時1小時,完成該反應。
於此,1.6g的5-降烯-2,3-二羧基酐添加至反應物中。混合物在70℃下攪拌歷時24小時,完成該反應。反應混合物添加至以10/1體積比例混合的水/甲醇所製備的溶液內以產生沉澱。將沉澱物過濾、以水充份沖洗,以及在80℃真空中乾燥歷時24小時,製備具有9,500之重量平均分子量的聚苯并噁唑前驅物(PBO-A)。
將依據合成實施例1之100重量份的聚苯并噁唑前驅物(PBO-A)添加至350重量份的γ
-丁內酯(GBL)內,以及將具有以下的化學式34的結構之10重量份之光敏性重氮萘醌類、由以下的化學式35所表示的0.2重量份之三甲氧基[3-(苯基胺基)丙基]矽烷,及由以下的化學式36所表示之7.5重量份的酚化合物添加至此且溶解於其中,獲得一種樹脂混合物。
接而,將由以下的化學式4a所表示的5重量份的二苯并哌喃為主的紅色染料(溶劑紅49,Chemblink)、由以下的化學式5a所表示的3重量份的三苯甲烷(TPM)為主的藍色染料(SB11001,Cheil Industries Inc.),以及由以下的化學式6a所表示的2重量份的二胺基吡啶偶氮為主的黃色染料(CF
Yellow 100108,Kyung-In Synthetic Corporation)溶解於環己酮中。將該溶液添加至該樹脂混合物。攪拌生成的混合物且於室溫下安定歷時3小時以及接而,以0.45 μm氟樹脂來過濾,製備一種正型光敏性樹脂組成物。
於化學式34中,Q1
、Q2
和Q3
中的二者係以及剩餘的基團是氫。
各個正型光敏性樹脂組成物係依據實施例1相同的方法分別製備,除了使用前述的1中說明的組份之外。
一種正型光敏性樹脂組成物除了使用由以上的化學式
4a所表示的二苯并哌喃為主的紅色染料(溶劑紅49,Chemblink)、由以上的化學式5a所表示的三苯甲烷(TPM)為主的藍色染料(SB11001,Cheil Industries Inc.),以及由以上的化學式6a所表示的二胺基吡啶偶氮為主的黃色染料(CF Yellow 100108,Kyung-In Synthetic Corporation)之外,係依據實施例1相同的方法予以製備。
一種正型光敏性樹脂組成物係依據實施例1相同的方法予以製備,其係藉由使用10重量份的黑色有機色素K00847(BASF)代替由以上的化學式4a所表示的二苯并哌喃為主的紅色染料(溶劑紅49,Chemblink)、由以上的化學式5a所表示的三苯甲烷(TPM)為主的藍色染料(SB11001,Cheil Industries Inc.),以及由以上的化學式6a所表示的二胺基吡啶偶氮為主的黃色染料(CF Yellow 100108,Kyung-In Synthetic Corporation)。
一種正型光敏性樹脂組成物係依據實施例1相同的方法予以製備,其係藉由使用10重量份的無機色素PRIN TEX-U(由Degussa製造)代替由以上的化學式4a所表示的二苯并哌喃為主的紅色染料(溶劑紅49,Chemblink)、由以上的化學式5a所表示的三苯甲烷(TPM)為主的藍色染料(SB11001,Cheil Industries Inc.),以及由以上的化學式6a所表示的二胺基吡啶偶氮為主的黃色染料(CF Yellow 100108,Kyung-In Synthetic Corporation)。
依據實施例1至4以及比較實施例1至3之正型光敏性樹脂組成物係使用旋轉塗佈機予以塗覆在ITO玻璃上以及以130℃/2分鐘於加熱板上加熱,形成光敏性聚醯亞胺前驅物薄膜。
聚醯亞胺前驅物薄膜係使用具有各種尺寸圖案的光罩及I-線步進機(NSR i10C,Nikon Co.)曝露至光線、於室溫下浸泡於2.38%四甲基氫氧化銨水溶液中經由2個槽歷時40秒以溶解且移除曝光部分,以及以純水沖洗歷時30秒。然後,使用電烘箱在低於或等於1000ppm的氧濃度中以250℃/60
分鐘來固化圖案。
預焙的薄膜係以23℃/60秒於2.38%四甲基氫氧化銨(TMAH)水溶液中顯影以及接而,以純水沖洗歷時60秒以及乾燥並測量厚度的變化,厚度的變化係依據以下的方程式來計算。
[方程式1]薄膜殘留比=(顯影後的厚度/顯影前的起始厚度)*100
○:大於或等於95%的薄膜殘留比
△:薄膜殘留比範圍落在80至95%
×:小於或等於80%的薄膜殘留比
聚醯亞胺前驅物薄膜之敏感性係藉由測定曝光與顯影之後當10 μm L/S圖案具有1:1之線寬的曝光時間為最佳的曝光時間來評估。於此,將最佳的曝光時間之最小圖案尺寸視為解析度參考。
○:優異的敏感性(小於或等於50mJ/cm2
)
△:普通敏感性(50至200mJ/cm2
)
×:低敏感性(大於或等於200mJ/cm2
)
使用該正型光敏性樹脂組成物所形成的圖案係使用光學顯微鏡參照下列參考來確認殘留物位準。
○:許多殘留物
△:中等的殘留物
×:無殘留物
使用該光敏性樹脂組成物所製造的模組係使用Minolta亮度計(顯示器色彩分析儀CA-210)來測量亮度(白色亮度)。亮度係在供應該模組穩定電力之後10分鐘測量。於8位元數位系統中,當R/G/B全部具有0的值時,顯示為黑色,而R/G/B全部具有255的值時,顯示為白色。當R/G/B具有(255,0,0)的值時,顯示為單一的紅色,當R/G/B具有(0,255,0)的值時,顯示為綠色,以及當R/G/B具有(0,0,255)的值時,顯示為藍色,藉由提供信號至3種原色中之一者。於是,當測量各R、G,和B亮度並加起來時,總數理論上應該等於白色亮度。然而,取決於各顯示器的特性,可能不會依據W=(R+G+B)/3而獲得白色亮度。原因是各R、G,和B通道不具有完全獨立的特徵而是特定色彩之漏光。為了評估防止漏光的效率,設計綠色的像素為有漏光的,以及其之白色亮度係使用Minolta亮度計來測量。
○:優異的亮度(大於250之白色亮度)
△:中等的亮度(245至250)
×:低亮度(小於245)
光敏性樹脂組成物係塗覆於ITO玻璃上以及於加熱板上以130℃/2分鐘處理以提供2.0至2.5μm厚的薄膜。然後,具300μm直徑之金屬電極(Au)係沉積於薄膜,製備樣本上。樣本係使用HP 4294A精密阻抗分析儀就電容予以測量,以
及使用測量來計算依據下列方程式2之介電常數。
[方程式2]C=ε0
* ε * A/d
於方程式中,C代表電容,ε 0
代表在真空中的介電常數,ε
代表非介電常數,A代表電極面積,以及d代表薄膜的厚度。
○:小於或等於5.5之介電常數
×:大於5.5之介電常數
依據實施例1至4及比較實施例1至3之薄膜的性質係提供於下列的表2中。
依據比較實施例1之不包括染料或色素的光敏性樹脂薄膜不具有遮光作用,以及依據比較實施例2之包括一種黑色有機色素的光敏性樹脂薄膜具有比依據實施例為更差的殘留率與敏感性。此外,依據比較實施例3之包括碳黑(PRIN TEX-U),一種黑色無機色素,的光敏性樹脂薄膜特別具有高的介電常數以及因而,低的絕緣性質。再者,依據比較
實施例3之光敏性樹脂薄膜具有差的薄膜殘留比、敏感性,和殘留物。
相反地,依據實施例1至4之光敏性樹脂薄膜具有低介電常數以及優良的遮光性質。原因在於包括依據本發明之有機染料的光敏性樹脂組成物全部具有改善的絕緣性質與遮光性質。
儘管已以目前視為實際可行的例示性具體例來說明本揭示,但要理解到本發明不限於所揭示的具體例,而是,相反地,欲涵蓋包括在隨附的申請專利範圍之精神與範疇內的各種修飾與等效配置。因而,應了解前述的具體例為例示性的但無論如何不限制本發明。
Claims (13)
- 一種正型光敏性樹脂組成物,其包含:(A)一鹼溶性樹脂,其係選自於聚苯并噁唑前驅物、聚醯亞胺前驅物,及其等之組合;(B)一光敏性重氮萘醌類化合物;(C)一酚化合物;(D)一有機染料;以及(E)一溶劑,其中該有機染料(D)包含具有590至700 nm之吸收波長的至少一紅色染料、具有550至590 nm之吸收波長的至少一黃色染料,及具有450至500 nm之吸收波長的至少一藍色染料。
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該聚苯并噁唑前驅物包含以下化學式1所表示的重複單元,或以下的化學式1和2所表示的重複單元,以及包含位於其之至少一末端之熱可聚合官能基:
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該聚醯亞胺前驅物包含以下化學式50和以下的化學式51所表示的重複單元:
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料包含選自於二苯并哌喃(xanthene)為主的化合物、偶氮為主的化合物、蒽醌為主的化合物、氰基為主的化合物,及其等之組合的化合物。
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料包含選自於甲烷為主的化合物、偶氮為主的化合物,或其等之組合的化合物。
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料包含選自於三苯甲烷(TPM)為主的化合物、三芳基甲烷(TAM)為主的化合物、二苯并哌喃為主的化合物,及其等之組合的 化合物。
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有590至700 nm之吸收波長的紅色染料為以下的化學式4所表示的一化合物:
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有550至590 nm之吸收波長的黃色染料為以下的化學式5所表示的一化合物:
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該具有450至500 nm之吸收波長的藍色染料為以下的化學式6所表示的一化合物:
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中該正型光敏性樹脂組成物進一步包含矽烷化合物。
- 如申請專利範圍第1項之正型光敏性樹脂組成物,其中以100重量份之該鹼溶性樹脂(A)為基準,該正型光敏性樹脂組成物包含5至100重量份之該光敏性重氮萘醌類化合物(B),1至30重量份之該酚化合物(C),1至50重量份之該有機染料(D);以及100至400重量份之該溶劑(E)。
- 一種光敏性樹脂薄膜,其係使用如申請專利範圍第1至11項中任一項之正型光敏性樹脂組成物製造的。
- 一種顯示裝置,其包含如申請專利範圍第12項之光敏性樹脂薄膜。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110147877A KR101354640B1 (ko) | 2011-12-30 | 2011-12-30 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201327048A TW201327048A (zh) | 2013-07-01 |
TWI483078B true TWI483078B (zh) | 2015-05-01 |
Family
ID=48697736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101127262A TWI483078B (zh) | 2011-12-30 | 2012-07-27 | 正型光敏性樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9256118B2 (zh) |
KR (1) | KR101354640B1 (zh) |
CN (1) | CN104040430B (zh) |
TW (1) | TWI483078B (zh) |
WO (1) | WO2013100298A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101354640B1 (ko) | 2011-12-30 | 2014-01-27 | 제일모직주식회사 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
KR101636861B1 (ko) * | 2012-12-28 | 2016-07-06 | 제일모직 주식회사 | 표시장치 절연막용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 표시장치 절연막 및 표시장치 |
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KR101354640B1 (ko) | 2011-12-30 | 2014-01-27 | 제일모직주식회사 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
-
2011
- 2011-12-30 KR KR1020110147877A patent/KR101354640B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-07-17 US US14/236,971 patent/US9256118B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-17 CN CN201280065652.2A patent/CN104040430B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-17 WO PCT/KR2012/005691 patent/WO2013100298A1/en active Application Filing
- 2012-07-27 TW TW101127262A patent/TWI483078B/zh not_active IP Right Cessation
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US9256118B2 (en) | 2016-02-09 |
CN104040430A (zh) | 2014-09-10 |
KR20130078760A (ko) | 2013-07-10 |
TW201327048A (zh) | 2013-07-01 |
US20140170562A1 (en) | 2014-06-19 |
CN104040430B (zh) | 2017-11-24 |
KR101354640B1 (ko) | 2014-01-27 |
WO2013100298A1 (en) | 2013-07-04 |
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