TWI477470B - 光學玻璃 - Google Patents

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TWI477470B
TWI477470B TW099104966A TW99104966A TWI477470B TW I477470 B TWI477470 B TW I477470B TW 099104966 A TW099104966 A TW 099104966A TW 99104966 A TW99104966 A TW 99104966A TW I477470 B TWI477470 B TW I477470B
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Description

光學玻璃
本發明係關於一種光學玻璃，該玻璃之用途，光學元件或該等光學元件之預製件，製造該等光學元件之方法及包含該等光學元件之光學零件或光學組件。
習知之用於成像、感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、微影術、雷射技術、晶圓/晶片技術，及用於通訊、光學通訊工程及汽車業中之光學元件/照明之應用領域之具有此處主張之光學位置的光學玻璃(具有低阿貝(Abb)值之鑭硬燧石範圍)一般包含PbO，以獲致期望的光學性質，即1.83≦nd ≦1.95之折射率nd 及/或24≦vd ≦35之阿貝值vd ，但尤其係高色散，即低阿貝值。此使得此等玻璃之化學性較不安定。此外，通常使用As2 O3 作為澄清劑。由於玻璃成份PbO及As2 O3 近年來被視為對環境不友善，故大部分的光學儀器及產品製造商傾向於偏好使用無鉛及無砷玻璃。對於使用在高價範圍產品中，具有增加化學安定性之玻璃亦不斷地提高重要性。
已知之具高折射率及低阿貝值之鑭硬燧石位置之無鉛玻璃一般含有存於矽酸鹽基質中之大量TiO2 ，其導致極易結晶，因此通常無法於二次熱成形步驟中加工的玻璃，且由於高硬度而極難機械加工。此外，此等玻璃在「藍限(blue edge)」處具有退化的透射。替代迄今為止慣用之自玻璃塊或玻璃錠機器加工光學組件，可於玻璃熔融結束時直接獲得儘可能接近於最終輪廓之直接壓製物(即毛胚壓製光學組件及/或供再壓製用之預製件)的製造方法(所謂的「精密熔糰(precision gobs)」)近來已提高重要性。「精密熔糰」一般係意指較佳經完全火焰拋光(fire-polished)、半自由或自由成形之玻璃部分，其可經由各種製造方法獲得。
因此，近來在熔融及熱成形製程技術之背景中，對「短性」玻璃(即黏度隨溫度之變化相當強烈的玻璃)的需求有愈來愈多的報告。此行為有在加工中可降低熱成形時間，因此在精密熱成形中之閉模時間接近最終幾何形體的優點。以此方式，一方面可提高產量，且另一方面可藉此節省模具材料，其對總體製造成本具有非常正面的效果。此外，由於因此獲得之較快速的固化，亦可較在相應較長性玻璃之情況中強的結晶敏感性加工玻璃，且可避免或至少大大地降低在稍後之二次熱成形步驟中會成為問題的預晶核生成。
在此光學位置之玻璃近來通常係利用Bi2 O3 製造。然而，此等玻璃展現對熔融裝置中之氧化還原條件相當敏感的顯著製程工程缺點，且在不利的氧化還原條件下，會有由於形成BiO所引起之透射降低的風險，且其因此需要增加的製程工程熟悉度。
與本發明相關之先前技術概述於以下文件中：
‧DE 3 343 418 C2 Schott Glaswerke(現為SCHOTT AG)
‧DE 2 265 703　Hoya Corp.
‧DE 2 756 161 A　Ohara Optical Glas
‧DE 2 652 747 B　Nippon Kogaku
‧JP 2003-238 198A　Minolta Camera
‧US 2004/0220041　Hikari Glass Ltd.
‧EP 1 433 757　Hoya Corp.
‧JP 2005-047 732　Minolta Camera
‧JP 2004-175 632　Hikari Glass Ltd.
‧US 2006/0189473　Hoya Corp.
‧DE 10 2006 039 287　Hoya Corp.
根據此等文件，可製造具有相似光學位置及/或相當化學組成物之玻璃，但此等玻璃相較於根據本發明之玻璃展現顯著缺點：DE 3 343 418 C2描述僅具有至多13重量%之氧化硼含量的硼酸鑭玻璃。此外，該等玻璃始終含有氧化釔(至多10重量%)。除了同樣強制性的氧化鉭及氧化鐿之總含量(Ta2 O5 +Yb2 O3 )>9重量%外，使用此點來調整期望的光學位置。然而，使用成份Y2 O3 及Yb2 O3 之缺點在於其之於文件中以純透射描述為70至81%之吸收在500至2400奈米之範圍內維持恆定(25毫米樣品厚度)。此一不良的透射對於當前的玻璃而言不再可接受，且總成本亦因此等成份而顯著地增加。
DE 2 265 703描述具有至少24重量%硼含量之玻璃。此外，在此同樣由於Gd2 O3 (至多50重量%)而相應地產生不足透射的問題。於此先前技術中描述之玻璃僅邊緣地達成根據本發明之玻璃的高折射率。
DE 2 756 161 A同樣描述強制地含有Gd2 O3 之玻璃，及DE 2 652 747 B描述在純透射及總成本方面具有相應缺點之含有Y2 O3 的玻璃。此外，於此等文件中描述之玻璃具有過低的TiO2 含量，且未滿足在ZnO含量(DE 2 756 161 A)或GeO2 含量(DE 2 652 747 B)方面的比例。
JP 2003 238 198 A描述具有更適度光學位置(nd <1.8；νd >35)之含氟化物的硼酸鑭玻璃，其具有9至15重量%之氟含量。根據本發明之玻璃的更極端光學位置無法藉由含有氟化物之硼酸鑭玻璃組成物達成。此外，使用含氟化物之原料伴隨顯著的製程工程缺點：含氟化物之原料及其成份之高揮發性除了使得熔體分佈/槽運輸之再現及安定性更困難的霧化及蒸發問題外，亦導致與饋料製備及熔融製程之職業安全相關的增加花費及成本。基於此等理由，在根據本發明之玻璃中實質上地避免使用氟化物，僅除了使用少量(至多5重量%)來微調折射率位置。
US 2004/0220041主張具有13至30重量%之氧化鋇含量的玻璃。因此，儘管此等玻璃在取決於製程之黏度-溫度曲線的調整上提供極大彈性，但其並未展現良好的結晶安定性。描述於JP 2004-175 632(BaO大於或等於13重量%)及US 2006/0189473(BaO大於或等於6重量%)中之玻璃亦具有此缺點。
於EP 1 433 757中主張之玻璃具有低於0.5重量%之氧化鎢含量。此外，此文件描述WO3 對光譜之UV邊緣(「藍限」)處之純發射具有顯著不利的影響。
JP 2005-047 732中所述之玻璃具有18至23重量%之過高的ZnO含量，及僅1至6重量%之過低的TiO2 含量。DE 10 2006 039 287中提及之玻璃描述其中玻璃強制性地包含至少7重量%，儘管通常甚高於10重量%且至多23重量%Gd2 O3 的組成物範圍。其中同樣地描述具有大於或等於7重量%之最小WO3 含量的玻璃。在根據本發明之玻璃中，由於期望的光學位置顯著地不同，因此可免除此等非常昂貴且在WO3 之情況中在透射方面亦高度不利的原料：Hoya主張具有甚低色散之位置(阿貝值35-40)，而根據本發明之玻璃主張對於物鏡系統中之色差校正具有高色散(阿貝值低於24)之高折射率。另一傑出特徵係不同的氧化硼含量，其在Hoya文件之實例中僅例外地達到15或16重量%一次，但在所描述的大多數玻璃中甚低。
DE 10 2006 024 805描述僅具有0.1至6重量%之ZnO含量及13至22重量%之BaO比例的玻璃。DE 102 27 494同樣描述僅具有至多9重量%之ZnO含量的玻璃。此外，此等文件提及相當大的La2 O3 :B2 O3 比。
因此，本發明之一目的為提供可避免上述先前技藝之該等缺點且可獲得期望光學性質的光學玻璃。特定而言，要尋求短性光學玻璃之組成物範圍，其儘可能地不使用PbO、Bi2 O3 及As2 O3 及利用降低的TiO2 含量而獲得期望的光學性質(nd /νd )。該等玻璃應具有高透射、良好的化學安定性及可加工性、低製造成本及良好的環境相容性。此等玻璃較佳應可藉由毛胚壓製方法加工，且因此具有低轉變溫度。此外，其應可輕易地熔融及加工，且具有用於二次熱成形步驟及/或於連續操作裝置中製造之足夠的結晶安定性。此外，需要在107.6 至1013 dPas黏度範圍內儘可能短性的玻璃。
上述目的藉由在申請專利範圍中描述之具體例實現。
特定言之，提供一種包含以下組成(重量%，基於氧化物)之光學玻璃：
SiO2 　2-8
B2 O3 　15-22
La2 O3 　35-42
ZnO　10-18
TiO2 　9-15
ZrO2 3-10
Nb2 O5 4-10
WO3 0.5-5
根據本發明之玻璃較佳具有至少1.83之折射率nd ；至少1.85之折射率及/或至多1.95之折射率nd 為更佳。根據本發明之玻璃的阿貝值ν d 較佳為至少24，及/或至多35。
根據一具體例，根據本發明之玻璃在107.6 至1013 dPas黏度範圍內係儘可能的「短性」。「短性玻璃」係意指在一特定黏度範圍內黏度隨相當小的溫度變化極大地改變的玻璃。此玻璃之黏度自107.6 減至1013 dPas之溫度間隔△T較佳至多為100K。
以下之表述語「無X」、「不含X成份」或「不含X」意指玻璃基本上不含此成份X，即此一成份至多係以雜質存在於玻璃中，而未作為個別成份添加至玻璃組成物。X代表任何成份，例如Li2 O。
基礎玻璃系統係硼酸鑭玻璃，硼酸鹽負責氧化鑭之溶解度。在先前技藝中，認為對於此等玻璃，在此玻璃系統中低於5.0以下之La2 O3 ：B2 O3 比可形成相當安定的玻璃，約3.6以下之La2 O3 ：B2 O3 比存在安定區域，且因此一般需要自2.4至3.4之La2 O3 ：B2 O3 比。大體而言，將需要有再更低的La2 O3 ：B2 O3 比，以獲得結晶安定的玻璃，儘管為此將需要相當大的硼酸鹽比例，以致在先前技藝中認為無法同時將足夠高度折射性的組份引入至玻璃中，以達成高折射率及足夠的網絡改質劑，而獲得短性玻璃。
驚人地，根據本發明，已發現即使係利用較佳至多2.5，更佳至多2.4之La2 O3 :B2 O3 比，亦可製得具有期望位置的安定且足夠短性之玻璃。
根據本發明之玻璃含有15至22重量%比例之B2 O3 。B2 O3 比例較佳限制於至多20重量%，更佳至多19重量%。根據本發明之玻璃較佳含有至少16重量%之B2 O3 。
根據本發明之玻璃含有35至32重量%比例之La2 O3 。該玻璃較佳含有至少35重量% La2 O3 ，更佳至少36重量%。La2 O3 之比例較佳限於20重量%，更佳19重量%。
作為除B2 O3 外之另一玻璃形成物質，根據本發明之玻璃含有2至8重量%比例之SiO2 。SiO2 可藉由提高玻璃之機械強度而改良可加工性，其較佳含3重量%之比例，更佳4重量%之比例。因此，可達成良好的磨蝕硬度及良好的化學安定性，較佳係根據ISO 8424低於等級5，更佳低於等級4的耐酸性及/或較佳係根據ISO 10629低於2，更佳低於或等於1的耐鹼性。SiO2 比例較佳限於7重量%，更佳6重量%。藉由較高的SiO2 比例，氧化鑭於玻璃基質中之溶解度大大地降低，以致利用一貫高比例的La2 O3 ，玻璃將更易於結晶，或利用降低的La2 O3 比例，其將不再具有足夠高的折射率，且光學位置將整體改變。
較佳地，SiO2 及B2 O3 之總和係至多29重量%，較佳至多27重量%。
較佳地，根據本發明之玻璃具有0.12至0.38，更佳0.25至0.35之SiO2 : B2 O3 比。利用較低的SiO2 : B2 O3 比，前述SiO2 的正面效果，即抑制結晶和形成玻璃，將不再有效，而利用較大的比，La2 O3 之溶解度由於不足的硼酸鹽含量而降低且玻璃變得對結晶更敏感。
根據本發明之一較佳具體例，根據本發明之玻璃同時具有如上述的SiO2 +B2 O3 之總含量及SiO2 : B2 O3 比。
(La2 O3 +SiO2 )總和對B2 O3 含量之比代表結晶風險之量度，且其較佳為2.0至2.9，更佳為2.3至2.7。
關於另一玻璃形成物質，根據本發明之玻璃可包含較佳至多5重量%，更佳至多2重量%比例的GeO2 。添加此另外的玻璃形成物質可使得根據本發明之玻璃更結晶安定，而無如在SiO2 之情況中所將發生之在氧化鑭方面的溶解度降低效果。同時，GeO2 亦會藉由進一步提高玻璃之折射率而影響光學位置，且在上述比例中，其僅對色散產生微小影響。超過5重量%之比例將會提高光學玻璃的色散，即使阿貝值提高至超過35之值。
玻璃形成物質B2 O3 、SiO2 及GeO2 之總和較佳係至多32重量%，更佳30重量%，及最佳27重量%。
除La2 O3 外，根據本發明之玻璃包含9至15重量%比例之TiO2 作為其最重要的光學成份(即對玻璃之光學位置產生實質影響的成份)，藉此以低阿貝值達成高折射率。TiO2 比例較佳為至少10重量%。利用低於9重量%之TiO2 比例，期望的光學位置及期望的玻璃脆性(shortness)皆無法被調整。根據本發明之玻璃較佳包含至多14重量%，更佳至多13重量%比例的TiO2 。TiO2 比例之進一步增加會將玻璃之結晶極限提高至不再可能(進一步)加工玻璃之製程範圍的程度。由於TiO2 與鹼土金屬氧化物組合進一步使得玻璃更短性，故較高比例的TiO2 將由於極端的脆性而使得玻璃不再可加工。
除TiO2 外，根據本發明之玻璃亦包含至少4重量%，更佳至少5重量%之比例及/或至多10重量%，更佳至多9重量%之比例的Nb2 O5 來調整光學位置。然而，此成份之比例較佳受限於上述的最大極限，否則根據本發明之玻璃的原料成本將會過度地提高。
作為提高玻璃折射率之另一光學成份，根據本發明之玻璃包含至多10重量%，較佳至多8重量%比例的ZrO2 。較高的ZrO2 含量將會提高玻璃的結晶傾向。該玻璃包含至少3重量%，較佳至少4重量%比例的ZrO2 。
該玻璃較佳包含至少兩種，更佳至少三種除其對玻璃之正面效果外亦可充作結晶成核劑的成份，尤其係ZrO2 、Nb2 O5 及/或TiO2 ，因較大數量的此等成份可降低結晶風險。
為調整光學位置，根據本發明之玻璃進一步包含至少0.5重量%，較佳至少多於1重量%，更佳至少1.2重量%比例的WO3 。然而，WO3 之比例係限於至多5重量%，較佳至多3重量%，因利用較高的比例，尤其在「藍限」處(即在低於420奈米之波長λ處)的透射將會退化。然而，與先前技藝中的認定相反，此由於WO3 所引起的透射退化驚人地要直至WO3 含量超過3重量%時才會開始。至多3重量%之WO3 比例驚人地改良透射。
根據本發明之玻璃亦可包含Ta2 O5 及/或F作為用於微調光學位置之另外的光學成份，儘管此等成份之總和受限於5重量%。
除玻璃形成物質及光學成份外，根據本發明之玻璃進一步包含尤其影響玻璃之黏度-溫度曲線的網絡改質劑。
除TiO2 外，尤其可使用鹼土金屬氧化物作為此等網絡改質劑。
然而，由於BaO含量係限於至多5重量%，較佳至多4重量%，更佳至多2重量%之相當低比例，因此根據本發明之玻璃不同於先前技藝之玻璃。事實上，高度折射性玻璃中常使用高比例之BaO，以除了網絡改質功能外再同時提高玻璃之折射率。
鹼土金屬MgO、CaO、BaO、SrO之總和較佳限於至多7重量%之比例，更佳5重量%之比例。
驚人地，經發現高BaO比例根據本發明可以至少10重量%，更佳至少12重量%之相當高的ZnO比例取代。ZnO比例係限於至多18重量%，較佳至多16重量%。根據本發明之玻璃中之該比例的ZnO同時導致高折射率及足夠的玻璃脆性。此外，此成份亦可抑制結晶，且懷疑根據本發明之低La2 O3 ：B2 O3 比係由於存在該比例之ZnO而成為可能。
除了上述的網絡改質劑外，根據本發明之玻璃可進一步包含充作玻璃形成物質之成份Al2 O3 及/或P2 O5 ，在此情況，Al2 O3 、MgO、CaO、SrO及P2 O5 之總和較佳係限於至多5重量%。
根據本發明之玻璃較佳不包含鹼金屬氧化物，即Li、Na、K、Rb、Cs之氧化物，因除了折射率降低效果外，此等成份亦充作助熔劑，且因此可使玻璃更易於結晶。
然而，根據其他具體例，根據本發明之玻璃可含有總計至多5重量%之比例的鹼金屬氧化物。此等低比例之鹼金屬氧化物可用於微調溫度-黏度曲線，以使玻璃有利於接近最終幾何形體的可撓性熱成形。
當玻璃係要用於離子交換時，添加鹼金屬氧化物為更佳。在此一變型中，玻璃實際上可包含多於3重量%之鹼金屬氧化物。
為將玻璃使用作為離子交換玻璃，添加至多5重量% Ag2 O為更佳。關於此應用，玻璃較佳亦包含Al2 O3 及/或P2 O5 ，例如至少0.5重量%之比例，因此等成份可促進有利於玻璃中離子交換之結構的形成。然而，根據此一具體例，亦不應超過上述上限。
根據本發明之玻璃較佳不含Y2 O3 、Yb2 O5 及/或Bi2 O3 ，因此等成份會使玻璃尤其在「藍限」(λ<420奈米)處的透射退化。玻璃尤佳不含任何該等成份。Y2 O3 及Yb2 O5 進一步具有高原料成本的缺點。此外，Bi2 O3 可於玻璃熔體中還原成Bi(0)，及因此使玻璃之透射退化。然而，避免此等熔體中之氧化還原過程在熔融技術上需要極大花費。
關於光學玻璃，根據本發明之玻璃較佳不含著色及/或光學活性(例如，雷射活性)成份。
根據本發明之另一具體例，作為濾光器或固態雷射之基礎玻璃，根據本發明之玻璃可含有含量高達至多5重量%的著色及/或光學活性(例如，雷射活性)成份，在此情況，此等量係在添加達到100重量%之玻璃組成物的其他成份之外提供。
根據本發明之一具體例，至少90重量%，更佳至少95重量%之根據本發明之玻璃係由上述成份組成。
根據本發明之另一具體例，根據本發明之玻璃亦不含其他以上未提及之成份，即根據此一具體例，玻璃基本上係由上述成份組成。表述語「基本上由...組成」意指其他成份至多係以雜質存在，而非故意作為個別成份添加至玻璃組成物。
根據本發明之玻璃可包含少量的習知澄清劑。澄清劑之添加總和較佳係至多2.0重量%，更佳至多1.0重量%，在此情況，此等量係在添加達到100重量%之玻璃組成物的其他成份之外提供。根據本發明之玻璃可包含至少一種下列成份作為澄清劑(重量%，除其餘的玻璃組成物外)：
Sb2 O3 　0-1及/或
SnO　0-1及/或
SO4 2- 　0-1及/或
NaCl　0-1及/或
As2 O3 　0-1及/或
F- 　0-1
然而，根據本發明之一較佳具體例，As2 O3 含量係至多0.1重量%，或玻璃係無As2 O3 ，因此成份基於生態原因而被視為有問題。
此外，根據本發明之所有玻璃具有良好的耐化學劑性及抵抗結晶之安定性，或結晶安定性。此外，其具有以下優點：良好的可熔融性及接近最終幾何形體的可撓加工性、由於降低製程成本所導致的低製造成本、良好的離子交換性質、良好的太陽能化安定性、及良好的環境相容性。
根據本發明之玻璃具有低於或等於640℃之Tg，結晶安定且可良好地加工。
根據本發明之玻璃當利用約20 K/h之冷卻速率自冷卻測量樣品時具有自15至105×10-4 之負不規則相對部分色散ΔPg,F 。
根據本發明之玻璃具有至多8*10-6 /K之熱膨脹係數α20-300 。因此可避免在進一步加工及組裝技術中的熱應力問題。
根據本發明之玻璃具有低於或等於5.0克/立方公分之比密度。由於其之相對於含鉛掛件考慮的低負載質量，因此，光學元件及/或由其製成之光學組件尤其適用於行動/可攜式單元。
藉由根據本發明之玻璃，已達成光學位置、黏度-溫度曲線及加工溫度之調整，以致即使係利用敏感性精密機器仍可確保接近最終幾何形體之高度明確的熱成形。此外，已獲致結晶安定性與黏度-溫度曲線的關聯，以致可輕易地實現玻璃之進一步熱加工，例如壓製或再壓製，或離子交換製程。
此外，本發明係關於根據本發明之玻璃用於成像、感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、通訊、光學通訊工程/資訊傳輸、汽車業中之光學元件/照明、微影術、步進器、準分子雷射、晶圓、電腦晶片及/或積體電路及含有此等電路及晶片之電子裝置之應用領域的用途。
本發明進一步關於包含根據本發明之玻璃的光學元件。該等光學元件尤其可為透鏡、稜鏡、光導桿、陣列、光學纖維、梯度組件、光學窗及精簡組件。根據本發明之術語「光學元件」亦涵蓋此一光學元件之半成品零件或預製件，例如熔糰、精密熔糰及其類似物。
本發明進一步關於一種製造光學元件之方法，其包括以下步驟：
- 毛胚壓製根據本發明之光學玻璃。
本發明進一步關於此一光學元件用於製造光學零件或光學組件之用途，該等光學零件或光學組件例如係用於感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、通訊、光學通訊工程/資訊傳輸、汽車業中之光學元件/照明、微影術、步進器、準分子雷射、晶圓、電腦晶片及積體電路及含有此等電路及晶片之電子裝置。
本發明進一步關於光學零件或光學組件，其等例如用於成像、感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、通訊、光學通訊工程/資訊傳輸、汽車業中之光學元件/照明、微影術、步進器、準分子雷射、晶圓、電腦晶片及/或積體電路及含有此等電路及晶片之電子裝置，其等包含如前所述的光學元件。
[實施例]
表2及3包含於較佳組成物範圍內的範例具體例，及一個比較實施例(例2)。於實施例中描述之玻璃係如下製造：稱重氧化物之原料，較佳係相應的氧化物、氮化物或碳酸鹽，視需要添加一或多種澄清劑，例如Sb2 O3 ，且隨後將此等成份充分混合。將玻璃饋料在批式熔融裝置中於約1250℃下熔融，然後澄清(1300℃)及均質化。利用約1000℃之鑄造溫度，可將玻璃鑄造及加工成期望尺寸。在大型連續裝置中，根據經驗，溫度可降低至少約100 K，且材料可藉由接近最終幾何形體之熱成形(例如精密壓製)之方法加工。
玻璃之熔體實例，計算至100 kg

Claims (11)

  1. 一種光學玻璃，包含以下組成(重量%，基於氧化物)：SiO2 2-8 B2 O3 15-22 La2 O3 35-42 ZnO 10-18 TiO2 9-15 ZrO2 3-10 Nb2 O5 4-9 WO3 0.5-5鹼土金屬氧化物MgO、CaO、BaO、SrO之總和限於至多5重量%；其中，該玻璃不含Gd2 O3 及Ta2 O5 。
  2. 如申請專利範圍第1項之玻璃，其中，該玻璃進一步包含一或多種以下比例的以下成份(重量%，基於氧化物)：GeO2 0-5重量% BaO 0-5重量% F 0-5重量%。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃，其中，該玻璃不含PbO、As2 O3 、Bi2 O3 、Y2 O3 及/或Yb2 O3 作為玻璃成份。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃，其中，該玻璃具有1.83≦nd ≦1.94之折射率nd 及/或24≦ν d ≦35之阿貝(Abbé)值ν d 。
  5. 一種申請專利範圍第1至4項中任一項之玻璃用於包括透鏡、稜鏡、光導桿、陣列、光學纖維、梯度組件及光學窗之光學元件之用途。
  6. 一種經壓製熔糰，其係由申請專利範圍第1至4項中任一項之光學玻璃形成，且可於再加熱後壓製。
  7. 一種光學組件，其包含申請專利範圍第1至4項中任一項之玻璃。
  8. 一種製造光學組件之方法，其包括以下步驟：毛胚壓製一玻璃或此一光學組件之半成品或預製品。
  9. 一種光學元件，包括透鏡、稜鏡、光導桿、陣列、光學纖維、梯度組件及光學窗，其包含申請專利範圍第1至4項中任一項之玻璃。
  10. 一種用於成像、感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、通訊、光學通訊工程/資訊傳輸、汽車業中之光學元件/照明、太陽能技術、微影術、步進器、準分子雷射、晶圓、電腦晶片及/或積體電路及含有此等電路及晶片之電子裝置的光學零件或光學組件，其包含一或多個申請專利範圍第9項之光學元件。
  11. 一種申請專利範圍第10項之光學元件之用途，其係用於製造用於成像、感測器、顯微術、醫療技術、數位投影、通訊、光學通訊工程/資訊傳輸、汽車業中之光學元件/照明、太陽能技術、微影術、步進器、準分子雷射、晶圓、電 腦晶片及/或積體電路及含有此等電路及晶片之電子裝置的光學零件或光學組件。
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