JP7481847B2 - 光学ガラスおよび光学素子 - Google Patents
光学ガラスおよび光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7481847B2 JP7481847B2 JP2020002064A JP2020002064A JP7481847B2 JP 7481847 B2 JP7481847 B2 JP 7481847B2 JP 2020002064 A JP2020002064 A JP 2020002064A JP 2020002064 A JP2020002064 A JP 2020002064A JP 7481847 B2 JP7481847 B2 JP 7481847B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- content
- glass
- optical
- optical glass
- tio2
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims description 105
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 48
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 88
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten(VI) oxide Inorganic materials O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 claims description 28
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 28
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 27
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 27
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 26
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N Cs2O Inorganic materials [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M dicesium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+].[Cs+] AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 25
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 147
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 19
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 18
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 11
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910003069 TeO2 Inorganic materials 0.000 description 5
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910003443 lutetium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N ytterbium(III) oxide Inorganic materials O=[Yb]O[Yb]=O FIXNOXLJNSSSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium(III) oxide Inorganic materials O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Inorganic materials [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
(1)P2O5の含有量が25~50質量%であり、
TiO2の含有量が10~50質量%であり、
Nb2O5含有量が5~30質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量[TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5]が35~60質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量に対するTiO2の含有量の質量比[TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5)]が0.25以上であり、
Li2O、Na2O、K2OおよびCs2Oの合計含有量に対するP2O5、B2O3およびSiO2の合計含有量の質量比[(P2O5+B2O3+SiO2)/(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]が1.80以下であり、
下記(A)または(B)を満たす光学ガラス。
(A)WO3の含有量が7質量%以下である。
(B)実質的にFを含まない。
νd=(nd-1)/nF-nC ・・・(1)
本実施形態に係る光学ガラスは、
P2O5の含有量が25~50質量%であり、
TiO2の含有量が10~50質量%であり、
Nb2O5含有量が5~30質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量[TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5]が35~60質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量に対するTiO2の含有量の質量比[TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5)]が0.25以上であり、
Li2O、Na2O、K2OおよびCs2Oの合計含有量に対するP2O5、B2O3およびSiO2の合計含有量の質量比[(P2O5+B2O3+SiO2)/(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]が1.80以下であり、
下記(A)または(B)を満たす。
(A) WO3の含有量が7質量%以下である。
(B) 実質的にFを含まない。
Pb、As、Cd、Tl、Be、Seは、いずれも毒性を有する。そのため、本実施形態に係る光学ガラスがこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
次に、本実施形態に係る光学ガラスの特性について説明する。
本実施形態に係る光学ガラスにおいて、屈折率ndは、好ましくは1.63~1.80である。屈折率ndの下限は1.65、1.67、1.69、1.71または1.73でもよく、屈折率ndの上限は1.79、1.78、または1.77でもよい。
本実施形態に係る光学ガラスにおいて、アッベ数νdは、好ましくは20~30である。アッベ数νdの下限は22、22.5、23、または23.2でもよく、アッベ数νdの上限は28、26、または25でもよい。
本実施形態に係る光学ガラスにおいて、100~300℃における平均線熱膨張係数αの下限は、好ましくは100×10-7℃-1であり、さらには105×10-7℃-1、110×10-7℃-1、115×10-7℃-1、120×10-7℃-1の順により好ましい。また、平均線熱膨張係数αの上限は、より好ましくは200×10-7℃-1であり、さらには190×10-7℃-1、180×10-7℃-1、170×10-7℃-1、160×10-7℃-1、150×10-7℃-1、145×10-7℃-1の順により好ましい。
なお、本明細書では、平均線膨張係数αを[℃-1]の単位で表しているが、単位として[K-1]を用いた場合でも平均線膨張係数αの数値は同じである。
本実施形態に係る光学ガラスにおいて、He-Neレーザの波長(633nm)における相対屈折率の温度係数dn/dTは、20~40℃の範囲で、好ましくは-1.0×10-6~-13.0×10-6℃-1であり、さらには-1.0×10-6~-10.0×10-6℃-1、-1.5×10-6~-9.0×10-6℃-1、-2.0×10-6~-8.0×10-6℃-1、-2.5×10-6~-7.0×10-6℃-1、-3.0×10-6~-6.5×10-6℃-1の順により好ましい。
なお、本明細書では、温度係数dn/dTを[℃-1]の単位で表しているが、単位として[K-1]を用いた場合でも温度係数dn/dTの数値は同じである。
本実施形態に係る光学ガラスのガラス転移温度Tgは、好ましくは600℃以下であり、さらには590℃以下、580℃以下、570℃以下、560℃以下の順により好ましい。
本実施形態に係る光学ガラスにおいて、比重は、好ましくは3.40以下であり、さらには、3.30以下、3.20以下の順により好ましい。ガラスの比重を低減することができれば、レンズの重量を減少できる。その結果、レンズを搭載するカメラレンズのオートフォーカス駆動の消費電力を低減できる。
本実施形態に係る光学ガラスの光線透過性は、着色度λ5により評価できる。
厚さ10.0mm±0.1mmのガラス試料について波長200~700nmの範囲で分光透過率を測定し、外部透過率が5%となる波長をλ5とする。
本発明の実施形態に係る光学ガラスは、上記所定の組成となるようにガラス原料を調合し、調合したガラス原料により公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を石英坩堝や白金坩堝中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを白金坩堝中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷して光学ガラスを得る。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
本発明の実施形態に係る光学ガラスを使用して光学素子を作製するには、公知の方法を適用すればよい。例えば、ガラス原料を熔融して熔融ガラスとし、この熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、本発明に係る光学ガラスからなるガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。
[ガラスサンプルの作製]
表1に示す試料No.1~8の組成を有するガラスとなるように、各成分に対応する化合物原料、すなわち、リン酸塩、炭酸塩、酸化物等の原料を秤量し、十分混合して調合原料とした。該調合原料を白金製坩堝に投入し、大気雰囲気下で900~1350℃に加熱して熔融し、攪拌により均質化、清澄して熔融ガラスを得た。該熔融ガラスを成形型に鋳込んで成形し、徐冷して、ブロック形状のガラスサンプルを得た。
なお、調合原料を石英ガラス製坩堝に投入し、熔融した後、白金製坩堝へ移してさらに加熱して熔融し、攪拌により均質化、清澄して得た熔融ガラスを成形型に鋳込んで成形、徐冷してもよい。
得られたガラスサンプルについて、以下に示す方法にて、ガラス組成、屈折率nd、アッベ数νd、λ5、ガラス転移温度Tg、平均線膨張係数α、相対屈折率の温度係数dn/dT、比重を測定した。結果を、表3に示す。
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定した。なお、表3に示すNo.1~8の全てのガラスサンプルにおいて、Fの含有量は0%であった。
日本光学硝子工業会規格JOGIS-05に基づいて測定した。
日本光学硝子工業会規格JOGIS-01に基づいて測定した。
ガラスサンプルを、厚さ10mmで、互いに平行かつ光学研磨された平面を有するように加工し、波長280nmから700nmまでの波長域における分光透過率を測定した。光学研磨された一方の平面に垂直に入射する光線の強度を強度Aとし、他方の平面から出射する光線の強度を強度Bとして、分光透過率B/Aを算出した。分光透過率が5%になる波長をλ5とした。なお、分光透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。
ガラス転移温度Tgは、NETZSCH JAPAN社製の示差走査熱量分析装置(DSC3300SA)を使用し、昇温速度10℃/分にて測定した。
得られたガラスサンプルについて、JOGIS18―2008の干渉法に基づき測定した。光源は波長633nmのHe-Neレーザを用い、温度-70~150℃の範囲で連続測定した。測定結果のうち、20℃~40℃の範囲のdn/dT値を表3に示す。
100~300℃の平均線膨張係数αは、JOGIS08-2003の規定に基づいて測定した。但し、試料は長さ20mm±0.5mm、直径5mm±0.5mmの丸棒とし、試料に98mNの荷重を印加した状態で、4℃毎分の一定速度で上昇するように加熱し、温度と試料の伸びを測定した。
実施例1で得られたガラスサンプルを、切断、研削してカットピースを作製した。カットピースをリヒートプレスによりプレス成形して、光学素子ブランクを作製した。光学素子ブランクを精密アニールし、所要の屈折率になるよう屈折率を精密に調整した後、公知の方法で研削、研磨することで、両凸レンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ、凹メニスカスレンズ、凸メニスカスレンズ等の各種レンズが得られた。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の2つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。
Claims (8)
- P2O5の含有量が25~40質量%であり、
TiO2の含有量が10~35質量%であり、
Nb2O5含有量が5~30質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量[TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5]が35~60質量%であり、
TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量に対するTiO2の含有量の質量比[TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5)]が0.25以上であり、
Li2O、Na2O、K2OおよびCs2Oの合計含有量に対するP2O5、B2O3およびSiO2の合計含有量の質量比[(P2O5+B2O3+SiO2)/(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]が1.80以下であり、
下記(A)または(B)を満たす光学ガラス。
(A) WO3の含有量が7質量%以下である。
(B) 実質的にFを含まない。 - TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量[TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5]が35~47質量%である、請求項1に記載の光学ガラス。
- P2O5、B2O3、SiO2、Al2O3、Li2O、Na2O、K2OおよびCs2Oの合計含有量に対するTiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3およびTa2O5の合計含有量の質量比[(TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5)/(P2O5+B2O3+SiO2+Al2O3+Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]が0.90以下である、請求項1または2に記載の光学ガラス。
- 屈折率ndが1.80以下である、請求項1~3のいずれかに記載の光学ガラス。
- Li2O、Na2O、K2OおよびCs2Oの合計含有量に対するP2O5、B2O3およびSiO2の合計含有量の質量比[(P2O5+B2O3+SiO2)/(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]が1.75以下である、請求項1~4のいずれかに記載の光学ガラス。
- 100~300℃の平均線熱膨張係数αが100×10-7~200×10-7℃-1である、請求項1~5のいずれかに記載の光学ガラス。
- He-Neレーザの波長(633nm)における相対屈折率の温度係数dn/dTが20~40℃の範囲で-0.1×10-6~-13.0×10-6℃-1である、請求項1~6のいずれかに記載の光学ガラス。
- 請求項1~7のいずれかに記載の光学ガラスからなる光学素子。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020002064A JP7481847B2 (ja) | 2020-01-09 | 2020-01-09 | 光学ガラスおよび光学素子 |
PCT/JP2020/035992 WO2021060362A1 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-24 | 光学ガラスおよび光学素子 |
CN202080002703.1A CN112867699A (zh) | 2019-09-26 | 2020-09-24 | 光学玻璃及光学元件 |
TW109133262A TW202114956A (zh) | 2019-09-26 | 2020-09-25 | 光學玻璃及光學元件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020002064A JP7481847B2 (ja) | 2020-01-09 | 2020-01-09 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021109799A JP2021109799A (ja) | 2021-08-02 |
JP7481847B2 true JP7481847B2 (ja) | 2024-05-13 |
Family
ID=77059050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020002064A Active JP7481847B2 (ja) | 2019-09-26 | 2020-01-09 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7481847B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002293572A (ja) | 2001-01-29 | 2002-10-09 | Hoya Corp | 光学ガラス |
JP2011195358A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP2014185075A (ja) | 2013-02-19 | 2014-10-02 | Hoya Corp | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 |
-
2020
- 2020-01-09 JP JP2020002064A patent/JP7481847B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002293572A (ja) | 2001-01-29 | 2002-10-09 | Hoya Corp | 光学ガラス |
JP2011195358A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP2014185075A (ja) | 2013-02-19 | 2014-10-02 | Hoya Corp | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021109799A (ja) | 2021-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7228023B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7525574B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7226927B2 (ja) | ガラス、光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2009018952A (ja) | 光学ガラス | |
JP2006117502A (ja) | 光学ガラス | |
JP2024019356A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7401236B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP6812147B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子ブランク、および光学素子 | |
JP7383375B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2006117503A (ja) | 光学ガラス | |
JP6812148B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子ブランク、および光学素子 | |
WO2018221678A1 (ja) | ガラス、光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7339781B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
WO2021060362A1 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7481847B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7555747B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2022063221A (ja) | 光学ガラス及び光学ガラスからなる光学素子 | |
TWI850469B (zh) | 光學玻璃及光學元件 | |
JP2019182716A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7488878B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7142118B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7320110B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7089933B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP7305317B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子ブランクおよび光学素子 | |
JP2022021586A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231102 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240123 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240229 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7481847 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |