TWI462761B - 粒子束治療裝置 - Google Patents

Description

粒子束治療裝置

本發明係關於一種應用照射粒子束以進行癌治療等粒子束的粒子束治療裝置。

在粒子束治療裝置之照射方法中，大致區分有：對作為照射對象之患者的患部全體一齊照射射束(beam)的寬束(broad beam)照射法；以及掃描射束而照射的掃描式照射法。為了實現寬束照射法、掃描式照射法，有需要適於該照射方法的機器與控制法。

在用於習知掃描式照射法之照射裝置中，為了提高對患者之患部的照射位置精確度，有提出一種藉由確保真空區域或比空氣還輕的氦等氣體區域，而抑制射束之散射，且減小射束尺寸(beam size)的構成。確保真空區域或氣體區域之部分，係可表現為腔室(chamber)(射束傳輸腔室、氣體腔室等)、或導管(duct)(真空導管(vacuum duct)等)等。用於掃描式照射法之照射裝置，由於是照射點尺寸(spot size)較小的射束，所以有需要抑制因到達照射對象(照射基準點(isocenter))之空氣所引起的射束之散射的構成。因此，成為以下的構成：將到達照射位置之前的區域設為真空區域或氣體區域，且將此等區域之隔離窗(射束取出窗)等使射束散射的物質，配置於接近照射對象之最下游側。

又，在寬束照射法中，在照射裝置內需要設置形成擴 展布勒格尖峰(Bragg Peak)濾波器、射線調準器(collimator)、射束照射限制模(bolus)等機器。使用此等機器以成形射束之能量分佈及射束形狀，且形成適於患部形狀之粒子束照射區域(irradiation field)。在寬束照射法中，由於是使粒子束散射而形成照射區域，所以沒有必要將點尺寸抑制得較小，且如用於掃描式照射法之照射裝置，沒有必要為了抑制照射裝置內之空氣所造成的散射而在至照射對象之正前面配置真空導管的構成。

如以上所述，在掃描式照射法與寬束照射法中，由於照射裝置之構成不同，所以很難在一個照射部實現複數個照射方式。各自的照射方法有其不同的特徵，所適用的照射方法會因照射部位、患部形狀等而有所不同。作為實現掃描式照射法與寬束照射法之構成，在專利文獻1中有揭示以下的構成：設置複數個治療室，且在一部分之治療室設置掃描式照射法之照射裝置，而在其他治療室設置寬束照射法之照射裝置。但是，在此方法中，依每一照射方法皆需要照射部，會有增大全體系統之成本的問題。作為解決此問題的構成，在專利文獻2中有揭示以下的構成：將用以抑制粒子束之散射的氣體腔室(gas chamber)形成可在射束行進方向伸縮自如，且在藉由氣體腔室收縮而出現的空間插入寬束照射所需的機器，藉此能夠在同一照射部進行寬束照射。

(專利文獻1)日本特開2007-268031號公報

(專利文獻2)日本特開2010-17365號公報

(非專利文獻1)“Design and construction of a ripple filter for a smoothed depth dose distribution in conformal particle therapy”, Uli Weber and Gerhard Kraft, Phys. Med. Biol. 44(1999) 2765-2775

在此，就實施寬束照射法時所需的形成擴展布勒格尖峰之濾波器(以下稱為脊波導濾波器)加以說明。脊波導濾波器一般係藉由以下方式所構成：將由鋁或黃銅等所製作成之具有山型剖面形狀的長條脊波導(bar ridge)配合必要之照射場尺寸的條數予以並排所得。該脊波導濾波器係為了獲得平坦的擴展布勒格尖峰區域，而要求長條脊波導之斜面進行數百微米至數十微米級之精度加工，且為了製作縱深較長、高度較高的長條脊波導而在加工上需要花時間(=費用)。因而，脊波導濾波器之尺寸(長度：L、高度：h)以較小為宜，又長條脊波導之間距：λ以較大為宜。為了減小脊波導濾波器之尺寸，需要將脊波導濾波器本身儘量離開照射對象而設置，又為了要加大長條脊波導之間距：λ，脊波導濾波器亦被要求離開到達照射對象之距離而配置。如此到達照射對象之距離與長條脊波導之間距的關係在非專利文獻1中已有詳細敘述。

在此敘述專利文獻2中所述的構成之問題點。專利文獻2中所述的構成，係成為在藉由氣體腔室之伸縮而製作的空間插入用於寬束照射法之機器的構成。但是，在使用 伸縮式之氣體腔室時，在氣體腔室之構成上，即便是在收縮最大限的狀態下氣體腔室所佔有的區域亦不會變成0，氣體腔室係位在射束線(beam line)上。在專利文獻2中，為了減小該尺寸，有提出一種：以幾個節來分割氣體腔室，並隨著成為下游而外形會變大的圓筒狀之氣體腔室的伸縮機構。然而，有以下的缺點：為了要減小氣體腔室收縮時的射束方向之長度，有必要增加所分割的節之數目，且隨著增加分割數，氣體腔室之外形會比起為了使射束通過而所需的尺寸還大幅地變大。因此，用以插入用於寬束照射之機器的機構由於有必要配置在沒有與氣體腔室干涉之位置，所以切換機器而所需的距離會變長。此問題，即便在使用真空伸縮囊(bellows)等來取代氣體腔室的情況亦為相同。在真空伸縮囊的情況可推測狀況比氣體腔室的情況還遭(真空伸縮囊的情況，即便伸縮囊收縮最大為全長的一半左右)。

基於上述理由，在專利文獻2之寬束照射時的機器配置中，氣體腔室之配置空間量、脊波導濾波器之位置係比掃描電磁鐵還大幅地離開。如上所述，脊波導濾波器與照射對象由於有必要取得距離，所以結果就需要較多的用以配置照射所需之機器的空間。

本發明係一種在癌治療等所使用的粒子束治療裝置，其關於以一個照射噴嘴(nozzle)實現複數個照射法的粒子束治療裝置者，且為了消除如以上之習知裝置的問題點而開發完成者，其目的係在於獲得一種即便從掃描電磁鐵至 照射對象之空間少，亦可使用製作容易之脊波導濾波器的粒子束治療裝置。

本發明之粒子束治療裝置係具有照射部，該照射部具備：掃描電磁鐵，用以掃描行進於真空導管內之粒子束並照射於照射對象；以及射束取出窗，從真空導管取出粒子束至大氣中，照射部係構成為，真空導管以能夠在比掃描電磁鐵還靠近照射對象側之凸緣面進行分割的方式設置，且在比凸緣面還靠近照射對象側設置有掃描式照射法用真空導管時，在比掃描式照射法用真空導管還靠近照射對象側設置有掃描式照射法用之脊波導濾波器，而在使掃描式照射法用真空導管以不重疊於粒子束之射束線上的方式移動時，卸下掃描式照射法用之脊波導濾波器，並且能夠將寬束照射法用之脊波導濾波器設置在粒子束之射束線上並於移動前設置有掃描式照射法用真空導管之空間。

本發明之粒子束治療裝置，係在從掃描式照射法之機器構成，切換成寬束照射法之機器構成時，由於能夠將在寬束照射法中不可或缺的脊波導濾波器設置於掃描電磁鐵附近，所以即便從掃描電磁鐵至照射對象之空間少亦可使用製作容易的脊波導濾波器。

實施形態1

第1圖係顯示本發明實施形態1之作為粒子束治療裝 置之主要部分的照射部之構成圖。第2圖係顯示適用本發明的粒子束治療裝置之全體構成之一例的概略鳥瞰圖。在第2圖中，在前級加速器16產生且經前級加速後的粒子束，係入射於加速器(同步加速器(synchrotron))14，且加速至所需要的射束能量(beam energy)，並從射出偏轉器(deflector)射出至射束傳輸部17，進而到達照射部18並照射於作為照射對象之患者的患部。射束傳輸部17係由偏向電磁鐵12、13、真空導管15等所構成。在第1圖中，射束傳輸系統係在偏向電磁鐵13之位置分歧，且其中一方之射束傳輸系統係連接於旋轉支架(gantry)19。射束傳輸部17之一部分與照射部18a係搭載於旋轉支架19，且可利用旋轉支架19之旋轉來改變照射部18a之照射方向。連接於經分歧後的另一方之射束傳輸系統的照射部18b雖然未搭載於旋轉支架，但是照射部18a、18b之構成基本上相同。在此，將照射部18a、18b彙總稱為照射部18。

第1圖係顯示實施掃描式照射法的情況之構成。在第1圖中，從加速器14射出的粒子束，係在真空導管15內傳輸，而在照射部18係通過確保真空區域之連通後的真空導管4及掃描式照射法用真空導管6，從取出粒子束的射束取出窗7a取出至大氣中，並照射於作為照射對象之患部。在第1圖中，係僅顯示作為患部之基準位置的照射基準點11。粒子束係藉由掃描電磁鐵5a、5b(亦併稱為掃描電磁鐵5)來掃描照射對象。照射部18係為了切換成寬束照射法之機器配置的構成，又具備：真空導管移動機構60， 使掃描式照射法用真空導管6從射束線1(以符號1之一點鏈線顯示射束線之中心)退避開；真空導管4之連接凸緣面47；閘閥48，為真空導管4之閘閥，用以將真空區域在掃描電磁鐵5之正前面分割；以及散射體41，用以使粒子束對準照射場而散射。亦復具備：用以將粒子束之布勒格尖峰擴展至深度方向的脊波導濾波器42、用以調整粒子束之射程的範圍移動器(range shifter)43等。在此，脊波導濾波器42、範圍移動器43係以能夠朝向與射束線1呈平行之方向移動的方式，安裝於脊波導濾波器移動機構61。

其次就動作加以說明。在實施形態1之粒子束治療裝置中，藉由掃描式照射法來照射的情況，粒子束係為了儘可能地抑制射束之散射，並減小射束照射位置之射束點尺寸，而設為在射束照射位置前方配置真空導管的構成。此時，由於不需要散射體41，所以會在真空導管4內事先退避至射束線1旁邊。在粒子束為質子(proton)束之照射的情況，在掃描式照射法中，雖然不需要脊波導濾波器42，但是，在其他的粒子束中，有為了將能量寬度擴展若干而使用脊波導濾波器的情況。例如，在碳等之重粒子束的情況，由於布勒格尖峰寬度比起質子還十分尖銳，所以為了削減照射時間，且為了形成照射1次掃描程度之深度寬度的某程度(數mm)之擴展布勒格尖峰(SOBP)而有時會使用脊波導濾波器。但是，此時的脊波導濾波器係將SOBP寬度擴展為數mm的脊波導濾波器，長條脊波導之高度較佳為SOBP寬度以下，例如即便配置位置並未離開照射對象，亦可使 用製作遠比寬束用之脊波導濾波器還容易的脊波導濾波器。又，由於粒子束之到達深度(射程距離)係由粒子束之能量所決定，所以為了使粒子束之射程距離產生變化而有必要使粒子束之能量產生變化。僅利用加速器之能量調整來實施能量之變化，會有在能量之切換上需要時間的問題。因此，為了使粒子束之能量產生變化，有使用使粒子束之能量減低的範圍移動器之情況。當考慮利用範圍移動器來使粒子束散射時，範圍移動器係儘可能地配置在下游側、換句話說配置在儘可能接近照射對象的位置。因而，在掃描式照射法中使用脊波導濾波器43或範圍移動器43之情況，較佳為如第1圖的配置。

其次，說明從掃描式照射法切換成寬束照射法的情況。第3圖係顯示在第1圖所示之照射部中，從掃描式照射法切換成寬束照射法的照射部之狀態。在掃描式照射法中係設為以射束點尺寸不擴展的方式，在照射位置附近配置掃描式照射法用真空導管6的構成。另一方面，在寬束照射法中，有必要將粒子束之能量寬度擴展較大，為此的脊波導濾波器42，係有必要配置在從照射對象離開的位置。在本實施形態1之粒子束治療裝置中，係將掃描電磁鐵5之下游的掃描式照射法用真空導管6全部卸下，並從射束線1上退避開，藉此可確保較大的空間。

在第1圖中，掃描式照射法用真空導管6，係成為能夠在掃描電磁鐵5之下游的凸緣面47從真空導管4切離的構成。又，成為以下的構成：在將掃描式照射法用真空導 管6從凸緣卸下時，可藉由具備承受掃描式照射法用真空導管6之驅動基座與驅動軌條的真空導管移動機構60，使掃描式照射法用真空導管6滑動，且容易從射束線1上退避至不重疊於射束線1的位置。

在卸下掃描式照射法用真空導管6之後，由於真空導管連接凸緣面47係成為真空之最終面，所以如第3圖所示，在該凸緣面47安裝射束取出窗7b。在藉由真空導管移動機構60使掃描式照射法用真空導管6滑動而形成的空間，將脊波導濾波器42藉由脊波導濾波器移動機構61移動至接近凸緣面47的方向並使之上升至射束取出窗7b之正下方而設置。此時，脊波導濾波器42係從掃描式照射法用更換成寬束照射法用。又，範圍移動器43亦按照需要而上下移動，且按照需要而裝設射束照射限制模44、患者射線調準器45。又，在實施掃描式照射法時係使從射束線1退避開的散射體41移動至射束線1上。藉由此等，能夠進行寬束照射。射束照射限制模44、患者射線調準器45係事先設為在範圍移動器43之下面利用軌條等來安裝插入用之夾持具(holder)的構成，藉此能夠容易設置。又，脊波導濾波器42、範圍移動器43之插入，係能夠藉由使用空氣或馬達之直進驅動機構或旋轉驅動機構來實現。又，在上述中雖然掃描式照射法用真空導管6之退避係設為由滑動式作成之構成，但是即便是設置旋轉式之支撐機構，亦能夠藉由支撐機構之旋轉來切換凸緣與插入空間的方法來實現。

在從掃描式照射法用真空導管6至粒子束之上游側沒有真空之分離面，且掃描式照射法用真空導管6從上游連通的情況，會因卸下掃描式照射法用真空導管6，而使射束傳輸系統之全部的真空被破壞。在此情況下，由於要花費提高真空度之作業時間，所以較佳是在掃描電磁鐵5之正上游側配置閘閥48。閘閥48之位置，亦可為掃描電磁鐵5之正下游側。在卸下掃描式照射法用真空導管6時，藉由關閉閘閥48，對真空度之影響就可僅抑制在比閘閥48還下游側。此時，若形成閘閥48兼作最終之射束取出窗的任務之構成的話，則沒有必要重新安裝射束取出窗7b，且能夠在更短時間內實施切換。

如以上，依據本實施形態1，則在實施寬束照射法時，有以下的功效：由於使在實施掃描式照射法時所使用的掃描式照射法用真空導管6，以不重疊於射束通過的射束線1之方式退避，且在空出的空間使脊波導濾波器42朝向射束線方向移動而配置，所以可將脊波導濾波器42配置於從照射對象離開之位置，且可將照射部整體小型化，並且可使用製作容易的脊波導濾波器。

實施形態2

第4圖及第5圖係顯示本發明實施形態2之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之部分的構成圖。第4圖係顯示在實施形態2之粒子束治療裝置中實施掃描式照射法時的構成。實施形態1，係在掃描式照射法中亦使用脊波導濾波器的構成。在藉由掃描式照射法進行照射的情 況，粒子束係為了儘可能地抑制射束之散射，並減小射束照射位置之射束點尺寸，而多有如第4圖般地設為在射束照射位置前方配置真空導管的構成之情況。此時，由於不需要散射體41、脊波導濾波器42、範圍移動器43等，所以會以不重疊於射束線1之方式退避開。

其次，在本實施形態2中，係就從掃描式照射法之機器構成切換成寬束照射法之機器構成時的方法加以記載。在掃描式照射法中雖然為了減小射束點尺寸，而設為在照射位置正前面配置真空導管的構成，但是在該構成的情況，並沒有用以配置在寬束照射法中使用的脊波導濾波器等之空間。在保持第4圖所示的掃描式照射法用真空導管6之配置的狀態下配置脊波導濾波器等的情況，會變成掃描式照射法用真空導管6之下游(照射位置前方)的空間，且到達照射對象之距離會變短，而在該距離可使用的脊波導濾波器之製作就變得困難。在專利文獻2中雖然藉由使氣體腔室收縮而設置有裝置之配置空間，但是在本實施形態2中，係設為：將掃描電磁鐵5之下游的掃描式照射法用真空導管6卸下，並使從射束線1上退避開，藉此確保遠大於專利文獻2的空間之構成。

在第4圖中，掃描式照射法用真空導管6係成為能夠在掃描電磁鐵5之下游的凸緣面47從真空導管4分離的構成。又，成為以下的構成：在將掃描式照射法用真空導管6從凸緣卸下時，藉由具備有承受真空導管6之驅動基座與驅動軌條的真空導管移動機構60，使掃描式照射法用真 空導管6藉由滑動而從射束線1上容易地退避至不重疊於射束線1的位置。

第5圖係顯示在本實施形態2中切換成寬束照射法後的構成。在將掃描式照射法用真空導管6卸下後，由於真空導管連接凸緣面47係成為真空之最終面，所以在該凸緣面安裝射束取出窗7b。使脊波導濾波器42、範圍移動器43插入於藉由使掃描式照射法用真空導管6滑動而形成的空間。又，在實施掃描式照射法時使從射束線1退避開的散射體41移動至射束線1上。更且，藉由在噴嘴前面按照需要而裝設射束照射限制模44、患者射線調準器45，就能夠進行寬束照射。射束照射限制模44、患者射線調準器45係事先設為：在範圍移動器43之下面利用軌條等安裝插入用之夾持具的構成，藉此能夠容易地設置。又，脊波導濾波器42、範圍移動器43之插入，係能夠藉由使用空氣或馬達之直進驅動機構或旋轉驅動機構來實現。又，雖然在上述中係將掃描式照射法用真空導管6之退避方法設為滑動式，但是即便是設置旋轉式之支撐機構，亦能夠藉由支撐機構之旋轉來切換凸緣與插入空間的方法來實現。

如以上，依據本實施形態2，則在實施寬束照射法時，有以下的功效：使在實施掃描式照射法時所使用的掃描式照射法用真空導管6，從射束通過的射束線1退避開，且在空下來的空間插入脊波導濾波器42而配置。因此，可將脊波導濾波器42配置於從照射對象離開之位置，且可將照射部整體小型化，並且可使用製作容易的脊波導濾波器。

實施形態3

第6圖及第7圖係顯示本發明實施形態3之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之構成圖。第7圖係顯示第6圖之A-A位置的剖視圖。在實施形態1或實施形態2之構成中，在實施掃描式照射法的情況，由於最終之射束取出窗位置係由掃描式照射法用真空導管6之長度來決定，所以無法將射束取出窗位置配合照射對象之大小來調整。但是，在實施掃描式照射法的情況，為了儘可能地減小點尺寸，射束取出窗位置較佳是儘可能地靠近照射對象。實施形態3係實現能夠變更射束取出窗之高度的構成者。

使用第6圖及第7圖說明實施形態3的粒子束治療裝置之照射部。實施形態3之特徵係具備：旋轉圓盤型真空導管支撐機構62，用以保持不同長度之複數個掃描式照射法用真空導管6a、6b、6c。首先，在第6圖及第7圖中將安裝於射束線1上的掃描式照射法用真空導管6a卸下，且藉由真空導管移動機構63使其滑動移動，並在不重疊於射束線1之位置使其退避至作為支撐掃描式照射法用真空導管6a之支撐機構的旋轉圓盤型真空導管支撐機構62之空出空間。之後，使旋轉圓盤型真空導管支撐機構62旋轉，且設定在能夠設置長度與掃描式照射法用真空導管6a不同之例如掃描式照射法用真空導管6b的角度。以此設定且藉由真空導管移動機構63可使長度不同之掃描式照射法用真空導管6b移動至射束線1上。藉由將掃描式照射法用 真空導管6b安裝於真空導管連接凸緣面47，則能夠變更射束取出窗7a之高度。在第7圖中雖然已記載配置3種類之真空導管的情況，但是能夠藉由增大旋轉圓盤之尺寸來增加能夠變更的長度之種類。又，藉由具備在實施形態1中所說明的脊波導濾波器移動機構61，就能夠在變更射束取出窗之高度後，將脊波導濾波器、範圍移動器配合射束取出窗之高度而變更位置。

在本實施形態3中，已記載旋轉圓盤方式作為在不重疊於射束線1之位置支撐複數個掃描式照射法用真空導管的支撐機構。其他作為在不重疊於射束線1之位置支撐複數個掃描式照射法用真空導管的支撐機構，即便是藉由設為：在真空導管移動機構之退避側設置複數個分歧點的構成、或形成可在射束線1方向分割真空導管的構造，並使每一分割單位具有真空導管移動機構的構成，亦能夠如同上述地進行真空導管之長度變更。

實施形態4

作為搭載於第1圖所示之旋轉支架19的照射部18a，可適用上述實施形態1至3所說明的照射部18。粒子束之照射，一般係在旋轉支架停止之狀態下進行。在旋轉支架搭載有實施形態1至3所說明的照射部18之情況，從作業性之觀點來看真空導管之移動作業較佳是以支架角度0度(照射部呈垂直配置的角度)來實施。

1‧‧‧射束線

4、15‧‧‧真空導管

5、5a、5b‧‧‧掃描電磁鐵

6、6a、6b、6c‧‧‧掃描式照射法用真空導管

7a、7b‧‧‧射束取出窗

11‧‧‧照射基準點

12、13‧‧‧偏向電磁鐵

14‧‧‧加速器

15‧‧‧真空導管

16‧‧‧前級加速器

17‧‧‧射束傳輸部

18、18a、18b‧‧‧照射部

19‧‧‧旋轉支架

41‧‧‧散射體

42‧‧‧脊波導濾波器

43‧‧‧範圍移動器

44‧‧‧射束照射限制模

45‧‧‧患者射線調準器

47‧‧‧凸緣面

48‧‧‧閘閥

60、63‧‧‧真空導管移動機構

61‧‧‧脊波導濾波器移動機構

62‧‧‧旋轉圓盤型真空導管支撐機構

第1圖係顯示本發明實施形態1之作為粒子束治療裝 置之主要部分的照射部之掃描式照射法時的構成之前視圖。

第2圖係顯示適用本發明的粒子束治療裝置之全體構成之一例的概略鳥瞰圖。

第3圖係顯示本發明實施形態1之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之寬束照射法時的構成之前視圖。

第4圖係顯示本發明實施形態2之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之掃描式照射法時的構成之前視圖。

第5圖係顯示本發明實施形態2之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之寬束照射法時的構成之前視圖。

第6圖係顯示本發明實施形態3之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之掃描式照射法時的構成之前視圖。

第7圖係顯示本發明實施形態3之作為粒子束治療裝置之主要部分的照射部之掃描式照射法時的構成之第6圖的A-A位置之剖視圖。

1‧‧‧射束線

4、15‧‧‧真空導管

5、5a、5b‧‧‧掃描電磁鐵

6‧‧‧掃描式照射法用真空導管

7a‧‧‧射束取出窗

11‧‧‧照射基準點

12‧‧‧偏向電磁鐵

18‧‧‧照射部

41‧‧‧散射體

42‧‧‧脊波導濾波器

43‧‧‧範圍移動器

47‧‧‧凸緣面

48‧‧‧閘閥

60‧‧‧真空導管移動機構

61‧‧‧脊波導濾波器移動機構

Claims (6)

1. 一種粒子束治療裝置，係具有照射部，該照射部具備：掃描電磁鐵，用以掃描行進於真空導管內之粒子束並照射於照射對象；以及射束取出窗，從上述真空導管取出上述粒子束至大氣中，上述照射部係構成為，上述真空導管以能夠在比上述掃描電磁鐵還靠近上述照射對象側之凸緣面進行分割的方式設置，且在比上述凸緣面還靠近上述照射對象側設置有掃描式照射法用真空導管時，在比掃描式照射法用真空導管還靠近上述照射對象側設置有掃描式照射法用之脊波導濾波器，而在使上述掃描式照射法用真空導管以不重疊於上述粒子束之射束線上的方式移動時，卸下上述掃描式照射法用之脊波導濾波器，並且能夠將寬束照射法用之脊波導濾波器設置在上述粒子束之射束線上並於移動前設置有上述掃描式照射法用真空導管之空間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之粒子束治療裝置，其中，上述照射部係具備使脊波導濾波器移動至上述粒子束之射束線方向的脊波導濾波器移動機構，且以在使上述掃描式照射法用真空導管以不重疊於上述粒子束之射束線上的方式移動時，更換成安裝於上述脊波導濾波器移動機構的上述掃描式照射法用之脊波導濾波器，並將上述寬束照射法用之脊波導濾波器安裝於上述脊波導濾波器移動機構，且將上述寬束照射法用之脊波導濾波 器移動至靠近上述凸緣面之方向而設置的方式所構成。
3. 如申請專利範圍第1項所述之粒子束治療裝置，其中，在比上述真空導管之上述凸緣面還靠近上述粒子束之上游側設置有閘閥。
4. 如申請專利範圍第1項所述之粒子束治療裝置，其中，在使上述掃描式照射法用真空導管以不重疊於上述粒子束之射束線上的方式移動時，在上述凸緣面設置有上述射束取出窗。
5. 如申請專利範圍第1項所述之粒子束治療裝置，其中，具備複數個長度不同的上述掃描式照射法用真空導管，且具備：支撐機構，在不重疊於上述射束線之位置支撐該等複數個掃描式照射法用真空導管；以及真空導管移動機構，能夠將上述複數個掃描式照射法用真空導管中之一個掃描式照射法用真空導管從上述支撐機構移動至上述射束線上。
6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之粒子束治療裝置，其中，將上述照射部搭載於旋轉支架。