TWI454348B - 吸取裝置 - Google Patents

Description

吸取裝置

本發明涉及一種吸取裝置，尤其涉及一種用於吸取承載待處理元件的托盤並可消除待處理元件上的靜電的吸取裝置。

一般地，製作待處理元件，比如光學鏡片時，除了射出成型鏡片外還需要進行複數工序，比如鍍膜、霧化等，為了保證生產效率，每個工序的操作都係批量進行，因此射出成型之後的光學鏡片需放置在複數鏡片承載盤內，而這些鏡片承載盤又係放置在同一個大托盤上。上一個工序執行完畢後再利用一個吸取裝置吸取該托盤並將其移動至下一個工序對應的位置以進行下一個工序的操作。然而，由於空氣、水氣、灰塵等微粒無可避免地與光學鏡片接觸，因此光學鏡片難免會產生靜電，尤其當承載盤放滿鏡片後產生的靜電就更加強，若不消除，會對下一個工序產生影響，最終會影響光學鏡片的品質。

有鑒於此，有必要提供一種能夠吸取承載待處理元件的托盤並可消除待處理元件上的靜電的吸取裝置。

一種吸取裝置，其用於吸取承載有複數待處理元件的托盤。該吸取裝置包括一個能夠自轉的真空吸取器、一個具有至少兩個吸嘴的吸盤、以及至少一個離子風扇。該吸盤能夠移動地連接於該真 空吸取器上。該真空吸取器用於產生真空以使該吸嘴吸附該托盤。該真空吸取器包括一個能夠自轉的支撐臂、一個懸臂、一個真空臂以及與該至少兩個吸嘴對應的至少兩根真空吸管。該懸臂的一端能夠移動地連接於該支撐臂上，該真空臂固定於該懸臂的另一端。所述真空吸管為硬質管，所述真空吸管能夠承受該托盤及該吸盤的重量。所述真空吸管的一端藉由開設在該真空臂上的開孔而連接到該真空臂的內部，另一端與該吸嘴連接。該至少一個離子風扇安裝於該吸盤上且用於產生正負離子並吹向該複數待處理元件以減少靜電。

與先前技術相比，本發明的吸取裝置在利用吸盤吸取承載有複數待處理元件的托盤，並利用真空吸取器自轉使該托盤移動至目的地的同時，使用離子風扇將產生的正負離子吹向待處理元件以中和待處理元件上的靜電，保證製作待處理元件下一步工序的順利進行，從而保證了待處理元件的最終品質。

100‧‧‧吸取裝置

10‧‧‧鏡片承載盤

102‧‧‧光學鏡片

20‧‧‧托盤

30‧‧‧真空吸取器

32‧‧‧工作台

34‧‧‧支撐臂

342‧‧‧導槽

36‧‧‧懸臂

362‧‧‧第一端

364‧‧‧第二端

37‧‧‧真空臂

38‧‧‧真空吸管

40‧‧‧吸盤

42‧‧‧本體

422‧‧‧安裝孔

424‧‧‧第一面

426‧‧‧第二面

44‧‧‧吸嘴

442‧‧‧連接端

444‧‧‧吸附端

428‧‧‧側面

50‧‧‧離子風扇

60‧‧‧控制器

圖1係本發明的吸取裝置的立體示意圖。

圖2係本發明的吸取裝置的另一視角的立體示意圖。

下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。

請一併參閱圖1及圖2，為本發明提供的一種吸取裝置100。該吸取裝置100用於吸取承載有複數待處理元件的托盤20。本實施方式中，所述複數待處理元件為光學鏡片102。所述複數光學鏡片102承載於複數鏡片承載盤10內。該吸取裝置100包括一個真空吸取器30、一個吸盤40、兩個離子風扇50、以及一個控制器60。

該真空吸取器30包括一個工作台32、一個支撐臂34、一個懸臂36、一個真空臂37、以及四根真空吸管38。該工作台32用來放置該托盤20。該支撐臂34能夠自轉地垂直設置在該工作台32上。該支撐臂34沿其長度方向開設有一導槽342。該懸臂36包括相對的第一端362及第二端364。該第一端362連接於該支撐臂34上，該第二端364為自由端。該懸臂36能夠沿著該導槽342滑動以調整該懸臂36與該工作台32之間的距離。該真空臂37固定於該懸臂36的第二端364。所述真空吸管38藉由開設在該真空臂37上的開孔(圖未示)而連接到該真空臂37的內部。本實施方式中，所述真空吸管38為硬質管，其能承受該鏡片承載盤10、該托盤20及該吸盤40的重量。

該吸盤40包括一個本體42以及四個與所述真空吸管38對應的吸嘴44。該本體42的形狀與該托盤20的形狀對應，本實施方式中，該本體42與該托盤20大致呈長方形。該本體42的四個角落分別開設有一個安裝孔422。該本體42包括相對的第一面424及第二面426。第一面424與該懸臂36相對，該第二面426與該工作台32相對。每個吸嘴44均包括一個連接端442及一個吸附端444。所述吸嘴44固定於所述安裝孔422內，且該連接端442相對於該第一面424朝該懸臂36突出，該吸附端444相對於該第二面426朝該工作台32突出。所述真空吸管38的一端連接於該真空臂37，另一端連接於所述連接端442，以使該吸盤40連接於該真空吸取器30上。該真空臂37抽真空時，空氣依次從該吸附端444、該連接端442、所述真空吸管38被抽出。

所述離子風扇50安裝於該第二面426與光學鏡片102相對，該離子 風扇50包括正負離子發生器(圖未示)及風扇(圖未示)。正負離子發生器用於產生正負離子，風扇用於將產生的正負離子吹向光學鏡片102以中和光學鏡片102上的靜電。

可以理解，離子風扇50的個數並不局限於本實施方式中的兩個，還可以為一個、三個等。

該控制器60裝設於該本體42的一個側面428上。該控制器60與該支撐臂34、該懸臂36、該真空臂37以及所述離子風扇50分別電性連接。該控制器60控制該支撐臂34進行自轉、控制該懸臂36沿著該導槽342滑動，控制該真空臂37抽真空，以及控制所述離子風扇50的開啟、關閉以及正負離子產生的強度。

工作時，比如光學鏡片102成型後，需要將光學鏡片102移動至鍍膜工序的場地時，該支撐臂34自轉及該懸臂36沿著該導槽342朝接近托盤20的方向移動以使吸附端444恰好吸附托盤20的四個角落，然後該真空臂37抽真空使吸附端444完全貼緊托盤20，同時所述離子風扇50將產生的正負離子吹向光學鏡片102以中和靜電，該懸臂36沿著該導槽342朝遠離托盤20的方向移動使所述真空吸管38抬起該托盤20及該吸盤40，最後該支撐臂34自轉使該托盤20移動至目的地。

本發明的吸取裝置100在利用吸盤40吸取承載有複數鏡片承載盤10的托盤20，並利用支撐臂34自轉使該托盤20移動至目的地的同時，使用離子風扇50將產生的正負離子吹向光學鏡片102以中和光學鏡片102上的靜電，保證製作光學鏡片102下一步工序的順利進行，從而保證了光學鏡片102的最終品質。

可以理解，待處理元件並不局限於本實施方式中為光學鏡片102，可以係其他需要移動位置、或者進行靜電中和、再或者係在改變位置的同時進行靜電中和的元件。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上該者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

100‧‧‧吸取裝置

10‧‧‧鏡片承載盤

102‧‧‧光學鏡片

20‧‧‧托盤

30‧‧‧真空吸取器

32‧‧‧工作台

34‧‧‧支撐臂

342‧‧‧導槽

36‧‧‧懸臂

362‧‧‧第一端

364‧‧‧第二端

37‧‧‧真空臂

38‧‧‧真空吸管

40‧‧‧吸盤

42‧‧‧本體

422‧‧‧安裝孔

424‧‧‧第一面

426‧‧‧第二面

44‧‧‧吸嘴

442‧‧‧連接端

444‧‧‧吸附端

60‧‧‧控制器

Claims (7)

1. 一種吸取裝置，其用於吸取承載有複數待處理元件的托盤，該吸取裝置包括一個能夠自轉的真空吸取器、一個具有至少兩個吸嘴的吸盤、以及至少一個離子風扇，該吸盤能夠移動地連接於該真空吸取器上，該真空吸取器用於產生真空以使該吸嘴吸附該托盤，該至少一個離子風扇安裝於該吸盤上且用於產生正負離子並吹向該複數待處理元件以減少靜電，該真空吸取器包括一個能夠自轉的支撐臂、一個懸臂、一個真空臂以及與該至少兩個吸嘴對應的至少兩根真空吸管，該懸臂的一端能夠移動地連接於該支撐臂上，該真空臂固定於該懸臂的另一端，所述真空吸管為硬質管，所述真空吸管能夠承受該托盤及該吸盤的重量，所述真空吸管的一端藉由開設在該真空臂上的開孔而連接到該真空臂的內部，另一端與該吸嘴連接。
2. 如申請專利範圍第1項所述之吸取裝置，其中，該真空吸取器還包括一個用於放置該托盤的工作台，該支撐臂能夠自轉地設置在該工作台上。
3. 如申請專利範圍第2項所述之吸取裝置，其中，該支撐臂沿其長度方向開設有一導槽，該懸臂連接於該導槽內並能沿著該導槽滑動以調整該懸臂與該工作台之間的距離。
4. 如申請專利範圍第1項所述之吸取裝置，其中，該吸盤還包括一個本體，該本體開設有至少兩個與該至少兩個吸嘴相對應的安裝孔，該至少兩個吸嘴裝設於該安裝孔內。
5. 如申請專利範圍第4項所述之吸取裝置，其中，該本體包括相對的第一面及第二面，該第一面與該懸臂相對，該第二面與該工作台相對，每個吸嘴均包括一個連接端及一個吸附端，所述吸嘴固定於所述安裝孔內，且 該連接端相對於該第一面朝該懸臂突出，該吸附端相對於該第二面朝該工作台突出，所述真空吸管的另一端分別連接於所述連接端。
6. 如申請專利範圍第5項所述之吸取裝置，其中，該吸取裝置還包括一個裝設於該本體上的控制器，該控制器與該支撐臂、該懸臂、該真空臂以及所述至少一個離子風扇分別電性連接。
7. 如申請專利範圍第1項所述之吸取裝置，其中，該待處理元件為光學鏡片。