TWI453810B - 基板處理裝置 - Google Patents

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TWI453810B
TWI453810B TW100138218A TW100138218A TWI453810B TW I453810 B TWI453810 B TW I453810B TW 100138218 A TW100138218 A TW 100138218A TW 100138218 A TW100138218 A TW 100138218A TW I453810 B TWI453810 B TW I453810B
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Ichiro Mitsuyoshi
Hideki Shibata
Tomoyasu Furuta
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Dainippon Screen Mfg
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769Storage means

Description

基板處理裝置
本發明係關於一種基板處理裝置,其將半導體晶圓、液晶顯示器用基板、電漿顯示器用基板、有機EL(Electroluminesence,電致發光)用基板、FED(Field Emission Display,場發射顯示器)用基板、光顯示器用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板、光罩用基板、太陽電池用基板(以下,簡稱為基板)取入至每個收納器之內部,然後自收納器取出基板並對基板進行清洗處理、蝕刻處理等各種處理,並將基板收容於收納器內而送出。
習知,作為此種第1裝置,其包括有基板處理單元、收納器收容搬送單元以及裝載口,而其收納器收容搬送單元具備有複數個料架(棚)、內部載置部、第1搬送部及第2搬送部(例如,參照日本專利特開2006-237559號公報)。
基板處理單元係用以對基板進行各種處理者。收納器收容搬送單元係與基板處理單元並排設置,而對收容基板之FOUP(Front Opening Unified Pod,前開口式通用容器或晶圓傳送盒)進行收容或搬送。裝載口係與收納器收容搬送單元並排設置,而載置FOUP。於裝載口處,利用作為載體搬送系統(Automated Material Handling System,自動化物料搬運系統)之無人搬送車(AGV:Automatic Guided Vehicles,自動導引車)、或高架移動式無人搬送車(Overhead Hoist Transfer,懸吊式昇降搬運車)交接FOUP。設置於收納器收容搬送單元之料架係用以保持FOUP而配置有複數個(例如16個)。內部載置部係配置於收納器收容搬送單元與複數個料架之間,並載置FOUP。第1搬送部係於裝載口與複數個料架之間搬送FOUP。第2搬送部係於複數個料架與內部載置部之間搬送FOUP。
如該構成之第1裝置中,藉由第1搬送部而於裝載口與複數個料架之間進行搬送,且藉由第2搬送部而於內部載置部與複數個料架之間進行搬送。因此,其可大致並行地進行該等搬送,從而可提高FOUP之搬送效率,並提昇基板處理裝置之處理量。
再者,通常載體搬送系統之搬送時間存在偏差而不穩定。其成為妨礙基板處理裝置之處理量提昇的原因。因此,為吸收該偏差,提出有增加裝載口之第2裝置(例如,參照日本專利第3521330號公報)、或使高架移動式無人搬送車設為兩車道之第3裝置等(例如,參照日本專利特開2010-192855號公報)。
然而,具有該構成之習知例的情形,則有如下之問題。
即,通常,於基板處理單元中利用化學反應進行處理,故無法縮短基板處理單元之處理時間。因此,為提昇處理量,增加配置於基板處理單元內之處理槽的數量而增加可並行處理之數量。如此,收納有處理中之基板之空的FOUP增加,而會導致FOUP之收納部位增加。於習知之第1裝置中,為可自第1搬送部與第2搬送部之兩搬送部進行存取之狀態下增加料架數則會擴大裝置之寬度、或者增高裝置之高度。然而,若擴大裝置之寬度,則可配置於無塵室內之裝置台數會減少,若增高裝置之高度,則因與無塵室之頂棚高度的關係而使配置產生限制。因此,其存在有最大限度發揮高處理量之性能之問題。
另外,於第2裝置中,則有如下之問題:因增加裝載口,故其裝置之橫寬變寬,而對可在配置於無塵室內之台數方面則變得不利。
另外,第3裝置中,因高架移動式無人搬送車昂貴,故其於成本方面變得不利。進而,亦有如下問題:因其設為兩車道,故其裝載口間變寬而裝置變長,於設置台數方面仍然不利。
本發明係鑒於如上情況而完成者,其目的在於提供一種可一面抑制裝置尺寸之增加,一面增加收納器之收容數量而發揮裝置之高處理量的基板處理裝置。
為了達成此種目的,本發明採用如下之構成。
一種基板處理裝置,其係對基板進行處理者,上述裝置包含有以下要素:該基板處理裝置包括:基板處理單元,其用以對基板進行處理;收納器收容單元,其與上述基板處理單元並排設置,對收納基板之收納器進行收容;收納器收容搬送單元,其與上述收納器收容單元並排設置,對收納基板之上述收納器進行收容及搬送;第1載置部,其與上述收納器收容搬送單元並排設置,且載置上述收納器;上述收納器收容單元包括保持上述收納器之複數個第1料架(棚架),而上述收納器收容搬送單元包括:複數個第2料架,其保持上述收納器;第2載置部,其配置於上述基板處理單元與上述複數個第2料架之間,且載置上述收納器;第1搬送部,其於上述第1載置部與上述複數個第2料架之間搬送上述收納器;以及第2搬送部,其於上述複數個第1料架、上述複數個第2料架及上述第2載置部之間搬送上述收納器。
根據本發明,於基板處理單元與收納器收容搬送單元之間具備收納器收容單元,藉由第1搬送部來進行第1載置部與第2料架之間的搬送。又,藉由第2搬送部來進行第1料架、第2料架及第2載置部之間的搬送。因此,可使第1載置部與第2料架之間的搬送,以及第1料架、第2料架及第2載置部之間的搬送大致並行地進行。其結果,可提高收納器之搬送效率,且提昇處理量。而且,於收納器收容搬送單元與基板處理單元之間僅配置有收納器收容單元,因此可抑制裝置尺寸之增加。因此,可增加收納器之收容數量且發揮裝置之高處理量。
另外,於本發明中,較佳為包括對利用上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制的控制部,且上述控制部係以上述複數個第2料架中具有至少1個空位之方式,使上述收納器之搬送進行。
由於控制部以複數個第2料架中具有至少1個空位之方式控制搬送,因此可利用第2料架之空位,優先地將收納器自第1料架送出至第1載置部。
另外,於本發明中,較佳為包括對利用上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制的控制部,且上述控制部係以上述複數個第1料架中具有至少1個空位之方式,使上述收納器之搬送進行。
由於控制部以複數個第1料架中具有至少1個空位之方式控制搬送,因此即便於第2料架裝滿收納器之狀態下,亦可暫時利用第1料架之空位收容收納有處理結束之基板的收納器。從而,其可防止來自基板處理單元處理結束之基板的搬出延遲。
另外,於本發明中,較佳為包括對上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制的控制部,並且上述收納器收容搬送單元包括用以僅於自上述第1搬送部側向上述第2搬送部側的一個方向上搬送上述收納器之臨時載置料架,上述控制部將上述臨時載置料架優先用於上述收納器之送出。
藉由經由臨時載置料架,其可優先將收納器自第1料架向第1載置部送出。
另外,於本發明中,較佳為上述複數個第1料架優先保持收納有正利用上述基板處理單元進行處理之基板的上述收納器。
由於將空收納器保持於靠近第2載置部之位置,因此其可在短時間內將結束處理之基板收納於收納器中。
另外,於本發明中,較佳為上述複數個第2料架優先保持收納有投入至上述基板處理單元前之基板的上述收納器、及收納有已利用上述基板處理單元進行處理之基板的收納器。
由於將收納器保持於靠近第1載置部之位置,因此其可在短時間內將收納有處理結束之基板的收納器搬送至第1載置部。
另外,於本發明中,較佳為當於上述複數個第1料架或上述複數個第2料架之任一者中存在有空位時,上述控制部對在與上述第1載置部之間進行上述收納器交接之載體搬送系統,進行較可載置在上述第1載置部之上述收納器之個數更多之搬送要求。
由於藉由收納器收容單元而增加收納器之收容數量,因此其可利用執行較可載置在第1載置部之收納器之個數更多之搬送要求的載體搬送系統進行收納器的多重搬送。因此,其可設定成在與第1載置部之間進行上述收納器交接之載體搬送系統的搬送間隔較長,故其可減輕載體搬送系統之負荷。
為了說明本發明以下圖示為目前視為適合之若干形態,但應理解本發明並不限定於如圖所示之構成及方略。
以下,參照圖式說明本發明之一實施例。
圖1係表示實施例之基板處理裝置之概略構成的外觀斜視圖,圖2係收納器收容搬送單元及收納器收容單元的俯視圖,圖3係收納器收容搬送單元之前視圖。
本實施例之基板處理裝置1係將收納於FOUP(Front Opening Unified Pod)3中之複數片基板W搬入至各個FOUP3之內部,然後自FOUP3取出基板W,對基板W依次進行利用處理液之處理等後,將基板W收納於FOUP3中並送出之裝置。利用處理液之處理例如可列舉:利用氫氟酸之蝕刻處理或利用純水之清洗處理、以及利用硫酸、過氧化氫水之混合液的覆膜去除等。
基板處理裝置1主要包括:裝載口5、收納器收容搬送單元7、收納器收容單元9及基板處理單元11。又,其亦包括總括地控制該基板處理裝置1之控制部13。該控制部13內置有未圖示之CPU(Central Processing Unit,中央處理單元)或記憶體。再者,於圖中,為了使方向關係明確,視需要將鉛直方向標註為z方向,將xy平面標註為水平面之xyz正交座標系統。
如圖3所示,FOUP3於框體之上表面形成有凸緣15。又,於框體之底面形成有孔部(未圖示)。下述搬送系統握持凸緣15、或者使支臂之突起部卡合於底面之孔部來進行FOUP3之搬送。又,FOUP3於框體之開口部具備裝卸自如之蓋(未圖示)。若安裝蓋,則使FOUP3內變成密閉空間,因此可維持配置在基板處理裝置1之無塵室的清潔度,亦可將收納基板W之FOUP3內維持於高清潔度。又,FOUP3例如可將25片基板W以水平姿勢收納。
裝載口5載置藉由載體搬送系統(Automated Material Handling System)之無人搬送車(AGV:Automatic Guided Vehicles)或高架移動式無人搬送車(Overhead Hoist Transfer)、或者基板處理裝置1之操作員而交接之FOUP3。裝載口5係與收納器收容搬送單元7並排設置,於其載置面5a上載置複數個(於本實施例中為4個)FOUP3。
再者,上述裝載口5相當於本發明中之「第1載置部」。
如圖1及圖3所示,收納器收容搬送單元7係於裝載口5側之側面設置有複數個(於本實施例中為4個)擋門17。若開啟擋門17,則形成基板處理裝置1之外部與收納器收容搬送單元7之內部連通的開口部。
藉由此種構成,收納器收容搬送單元7可利用搬送機械手19之動作,介由開啟擋門17的開口部,於裝載口5之載置面5a與收納部收容搬送單元7之內側空間之間進行FOUP3的搬送。換言之,自裝載口5將收納有未處理之基板W的FOUP3搬入至收納部收容搬送單元7中。又,自收納部收容搬送單元7將收納有已利用基板處理單元11進行處理之基板W的FOUP3送出至裝載口5。
收納器收納搬送單元7將載置於裝載口5之FOUP3暫時收容於其內部,並且將收納有基板W之FOUP3搬送至基板處理單元11側。
基板處理單元11於收納器收容搬送單元7側具備用以在收納器收容搬送單元7及收納器收容單元9之間進行基板W交接的開閉機構21及搬送機構23。該等開閉機構21及搬送機構23係鄰接於收納器收容搬送單元7之擋門25而配置。
開閉機構21保持FOUP3之蓋且將其自FOUP3上卸除、或者將蓋安裝於FOUP3上。又,於擋門25之收納器收容搬送單元7側,設有載置部27。若打開擋門25,則在載置於載置部27之FOUP3的蓋已被卸除之情形時,搬送機構23在與該FOUP3之間進行基板W的搬送。
再者,上述載置部27相當於本發明中之「第2載置部」。
利用搬送機構23向基板處理單元11側搬入的基板W係藉由基板處理單元11而實施各種處理。然後,結束處理之基板W係藉由搬送機構23,向收納器收容搬送單元7側介由擋門25而收納於FOUP3中。
如圖2所示,收納器收容搬送單元7主要包括:二個搬送機械手19、31,料架排(rack array)33及二個載置部27、35。
又,收納器收容搬送單元7所具備之各構成分別沿水平方向(大致x方向)配置,且構成3行。即,自裝載口5側起於第1行設置有搬送機械手19與載置部35。又,自裝載口5側起於第2行設置有料架排33。進而,自裝載口5側起於第3行設置有搬送機械手31與載置部27。
料架排33係收容複數個(於本實施例中為16個)FOUP3之收容部。即,於料架排33中收容例如收納有未處理之基板W的FOUP3。如圖2及圖3所示,料架排33係使複數個料架沿鉛直方向(z方向)與水平方向(x方向)以二維地排列而成者。
複數個料架之各個具備一對料架構件37。如圖2及圖3所示,各料架構件37之縱剖面呈大致L字狀。各料架構件37之長度方向被以與y方向大致平行之方式安裝於框架39上。雖省略圖示,但於料架構件37之上表面,形成有與設置於FOUP3底面的孔部相對應的突起部。因此,一對料架構件37可穩定地保持FOUP3。
如此,一對料架構件37係用作收容FOUP3之收容料架。又,被一對料架構件37間所夾持之區域係用作收容FOUP3之收容空間41。
再者,上述料架排33相當於本發明中之「複數個第2料架」。
又,構成收容料架之一對料架構件37於其等之間形成有開口部43。該開口部43係形成大於搬送機械手19之前端部45之大小。而且,如圖2所示,各開口部43係沿鉛直方向(z方向)配置。因此,搬送機械手19之前端部45可通過該等開口部43,並且於料架排33內部進行升降。換言之,料架排33中所含之複數個收容料架各自之開口部43可使前端部45於鉛直方向上通過。
如圖2所示,自料架排33觀察,搬送機械手19係配置於裝載口5側,搬送機械手31係配置於基板處理單元11側。換言之,搬送機械手19係隔著料架排33而設置於與搬送機械手31相反側。
再者,搬送機械手31具備與搬送機械手19大致相同之構成。因此,以下僅針對搬送機械手19之構成進行詳細說明。
搬送機械手19之前端部45於俯視下呈大致三角形狀,而自下側保持FOUP3。於前端部45之上表面的各頂點附近,形成有突起部47。於FOUP3之底面,設有與該突起部47相對應之3個孔部(未圖示)。又,前端部45係以可繞著z軸周邊旋轉之方式安裝於支臂49之前端側。因此,搬送機械手19使前端部45繞著z軸旋轉,並且使突起部47嵌合於FOUP3之孔部,藉此可穩定地保持FOUP3。
進而,支臂49之該基端部被安裝於支臂51之前端部。支臂49可使前端部繞著z軸旋轉。支臂51之該基端部被安裝於固定台53。支臂51可使前端部繞著z軸旋轉。固定台53係可升降地安裝於立設在z方向上的支柱55。進而,支柱55係以可沿著配置於水平方向(x方向)上之導軌57移動之方式所構成。
藉此,搬送機械手19使保持於前端部45之FOUP3沿著料架排33於水平方向(x方向)移動,並且於鉛直方向(z方向)上升降。因此,搬送機械手19可於料架排33之收容空間41、裝載口5及載置部35之間搬送FOUP3。又,搬送機械手31係於以下將詳述之收納器收容單元9之料架排69之收容空間79、收納器收容搬送單元7之料架排33的收容空間41及載置部27之間搬送FOUP3。
再者,上述搬送機械手19相當於本發明中之「第1搬送部」,搬送機械手31相當於本發明中之「第2搬送部」。
載置部35係用於執行映射處理。映射處理係指確認收納於自裝載口5搬入之FOUP3中之基板W的片數及收納位置的處理。自料架排33觀察,載置部35係配置於裝載口5側。載置部35具備開閉FOUP3之蓋的開閉機構59。與料架構件37同樣地,一對料架構件61之縱剖面呈大致L字狀,且具有突起部。又,一對料架構件61係以其長度方向與x方向大致平行之方式安裝。進而,載置部35具備對收 納於內部之基板W之片數進行計數的計數機構63。
因此,若將FOUP3載置於一對料架構件61上,則開閉機構59將FOUP3之蓋卸除。繼而,計數機構63對收納於FOUP3內之基板W之片數進行計數。然後,開閉機構59將蓋安裝於FOUP3上。
又,載置部35將升降器65設置於一對料架構件61之上方。升降器65具備有升降臂67。升降臂67可遍及圖3中由實線所示之「載置位置」與由二點鏈線所示之「避讓位置」,於鉛直方向(z方向)上進行升降。升降臂67握持FOUP3之凸緣15,並且解除上述握持狀態。藉此,載置部35可藉由升降臂67而握持凸緣15,並且使已結束映射處理之FOUP3上升至避讓位置為止。
因此,搬送機械手19可於將未進行映射處理之FOUP3載置於載置部35上後,自載置部35接收已進行映射處理且上升至避讓位置之FOUP3。換言之,只要使搬送機械手19於料架排33與載置部35之間往復1次,則可實施已結束映射處理之FOUP3與未進行映射處理之FOUP3的調換作業。其結果,可進一步提昇以收納部收容搬送單元7所實施之處理量。
此處,請參照圖4。再者,該圖4係收納器收容單元之前視圖。但,為了容易把握位置關係,於該圖4中亦記載收納器收容搬送單元7之一部分。
於基板處理單元11與收納器收容搬送單元7之間,設有收納器收容單元9。換言之,收納器收容單元9係與基板處理單元11並排設置。該收納器收容單元9具有具備與收納器收容搬送單元7之料架排33相同構成的料架排69。但,於基板處理單元11側,設有用以於基板處理單元11與收納器收容單元9及收納器收容搬送單元7之間分離環境之隔離壁71。隔離壁71形成配置有基板處理單元11之開閉機構21及搬送機構23的開口部73。
料架排69之構成與上述收納器收容搬送單元7之料架排33相同。換言之,料架排69係收容複數個(於本實施例中為16個)FOUP3之收納部。如圖2及圖4所示,料架排69係使複數個料架沿鉛直方向(z方向)與水平方向(x方向)以二維地排列。
再者,上述料架排69相當於本發明中之「複數個第1料架」。
複數個料架之各個具備一對料架構件75,各料架構件75之縱剖面呈大致L字狀。各料架構件75係安裝於框架77上,於料架構件75之上表面,藉由卡止FOUP3之突起部(未圖示),一對料架構件75可穩定地保持FOUP3。夾持在一對料架構件75間之區域為收容空間79,其收容FOUP3。
另外,一對料架構件75於該等之間形成有開口部81。開口部81其開口大於搬送機械手31之前端部45。從而,搬送機械手31之前端部45可通過該等開口部81,並且於料架排69之內部進行升降。
載置部27係用於將收納於FOUP3中之基板W交接至基板處理單元11。自料架排33觀察,載置部27為基板處理單元11側,且配置於料架排33與料架排69之間。
與一對料架構件75同樣地,構成載置部27之一對料架構件83之縱剖面呈大致L字狀,且形成有卡合於FOUP3底面之突起部。如圖2及圖4所示,一對料架構件83係以其長度方向與x方向大致平行之方式安裝。
載置部27之升降器85係配置於一對料架構件83之上方。與上述載置部35之升降器65同樣地,升降器85具備升降臂67。升降臂67可遍及圖4中由實線所示之「載置位置」與由二點鏈線所示之「避讓位置」,於鉛直方向(z方向)上進行升降。升降臂67握持FOUP3之凸緣15,並且解除握持狀態。藉此,載置部27藉由升降臂67而握持凸緣15,並且使基板W被供給至基板處理單元11而變空之FOUP3上升至避讓位置為止。
藉此,搬送機械手31可於將收納有未處理之基板W的FOUP3交接至載置部27之載置位置的處理後,自載置部27接收上升至避讓位置之空FOUP3。換言之,搬送機械手31只要自料架排33之基板處理單元11側取出已結束映射處理之FOUP3,將上述FOUP3載置於載置部27,並且接收避讓位置上之空FOUP3並將其搬送至料架排69,即可調換收納有基板W之FOUP3與空FOUP3。
控制部13係於如上所述之構成的基板處理裝置1中以如下方式搬送FOUP3且對基板W進行處理。
<基本設定>
控制部13將收納器收容搬送單元7之料架排33優先用於收納有未處理基板W之等待處理的FOUP3、及收納有處理結束之基板W之等待送出的FOUP3的收容。又,控制部13為了對收納有正利用基板處理單元11進行處理之基板W的空FOUP3進行收容,而優先利用收納器收容單元9之料架排69。然而,因基板處理單元11之處理量高於載體搬送系統的處理量之情形等理由,而可能產生收納處理結束之基板W,且等待送出之FOUP3變得不能完全收容於收納器收容搬送單元7之料架排33中之事態。於上述情形時,亦可收納處理結束之基板W,而將等待送出之FOUP3亦收容於收納器收容單元9之料架排69中。
根據本實施例裝置,具備上述構成,且於基板處理單元11與收納器收容搬送單元7之間具備收納器收容單元9,藉由搬送機械手19而進行裝載口5與料架排33之間的搬送。又,藉由搬送機械手31而進行料架排33、料架排69及載置部27之間的搬送。因此,可使裝載口5與料架排33之間的搬送,以及料架排69、料架排33及載置部27之間的搬 送大致並行地進行。其結果,可提高FOUP3之搬送效率,且提昇處理量。而且,於收納器收容搬送單元7與基板處理單元11之間僅配置收納器收容單元9,即可抑制裝置尺寸之增加。因此,可抑制裝置尺寸之增加並且增加FOUP3之收容數量而發揮裝置之高處理量。
另外,因將空FOUP優先收容於接近載置部27之位置的料架排69中,因此其可於短時間內將已結束處理之基板W收納於FOUP3中。進而,因將收容有處理結束之基板W的FOUP3優先收容於接近載置部35之位置的料架排33中,因此其可於短時間內將收納有處理結束之基板W的FOUP3搬送至裝載口5。
<空位設定1>
控制部13較佳為以收納器收容搬送單元7之料架排33之複數個收容空間41中空出至少一個收容空間41的方式控制搬送。例如,因上述理由,在將收納有處理結束之基板W的FOUP3收容於收納器收容單元9之料架排69中的狀態下,有時必需較收容於收納器收容搬送單元7之料架排33中之收納有處理結束之基板W的FOUP3,先送出上述FOUP3。於此種情形時,可介由收納器收容搬送單元7之料架排33中的空出之一個收容空間41,優先將FOUP3送出至裝載口5。
如上所述,空出之收容空間41無需為料架排33的特定之收容空間41,只要根據收容狀況而使任一個收容空間41空出即可。換言之,控制部13係以使複數個收容空間41中之至少一個動態地空出之方式進行控制。當進行此種控制時,於料架排33之收容空間41僅剩餘一個之情形下,即使將新的FOUP3搬送至裝載口5,於收納器收容搬送單元7之料架排33中亦不收容FOUP3,而使新的FOUP3於裝載口5處待機。
<空位設定2>
控制部13較佳為以收納器收容單元9之料架排69之複數個收容空間79中空出至少一個收容空間79的方式控制搬送。例如,當於收納器收容搬送單元7之料架排33裝滿之狀態下,自基板處理單元11搬出處理結束之基板W時,可將收納有上述基板W之FOUP3暫時收容於該空位。從而,其可防止自基板處理單元11的處理結束之基板W的搬出延遲。
<臨時載置料架設定>
控制部13將料架排33中的特定之收容空間41設定成臨時載置料架為較佳。此處所述之臨時載置料架係用於自搬送機械手31側向搬送機械手19側的僅一個方向上搬送的收容空間41。例如,作為此種臨時載置料架,例如設定料架排33中位於載置部35下方的收容空間41。而且,控制部13係以僅為了自料架排69向裝載口5送出而使用該臨時載置料架之方式限制搬送。藉由設定此種臨時載置料架,可始終優先地將FOUP3自料架排69送出至裝載口5。
<多重搬送>
控制部13較佳為於收納器收容單元9之料架排69或收納器收容搬送單元7之料架排33之任一者存在有空位之情形時,對載體搬送系統進行較可載置在裝載口5之FOUP3之個數更多的搬送要求,如此為佳。
因載體搬送系統一次搬送一個FOUP3,因此例如將1個FOUP3載置於裝載口5之後,搬送下一個FOUP3。其係利用一般載體搬送系統之搬送。然而,若藉由兩台搬送車連續地將新的FOUP3搬送至裝載口5,則亦可將利用載體搬送系統之搬送間隔設定為兩倍。因此,其可減輕載體搬送系統之負荷。又,亦可搬送較可載置在裝載口5之FOUP3之個數更多之FOUP3。此因較習知者大幅度地增加基板處理裝置1收容之FOUP3的數量而使其成為可能。
本發明並不限定於上述實施形態,其可如下述般變形實施。
(1)於上述實施例中,收納器收容搬送單元7及收納器收容單元11之料架排33、69具備16個收容空間41、79。然而,本發明並不限定於此種構成,其亦可具備個數未達16個或超過16個之收容空間41、79。
(2)於上述實施例中,為採用搬送機械手19、31具備前端部45及支臂49、51等構成。然而,搬送機械手19只要其可於裝載口5與料架排33之間可搬送FOUP3,則不限定於此種構成。同樣地,搬送機械手31只要於料架排33、料架排69、載置部27之間可搬送FOUP3,則不限定於此種構成。
(3)於上述實施例中,如<空位設定1>般雖於料架排33中設定空位,但亦可於料架排33之所有收容空間41中收容FOUP3。又,同樣地,亦可不如<空位設定2>般於料架排69中設定空位,而於料架排69之所有收容空間79中收容FOUP3。
(4)於上述實施例中,如<基本設定>般設定為將收納器收容搬送單元7之料架排33優先用於收納有未處理基板W之等待處理的FOUP3、及收納有處理結束之基板W之等待送出之FOUP3的收容。然而,本發明並不限定於此種設定,其可根據FOUP3之搬送狀況等而適當地設定。
本發明可不脫離其思想或本質而以其他具體之形式實施,因此,本發明之範圍並非為上之說明,而係應參照附加之申請專利範圍。
1...基板處理裝置
3...FOUP
5...裝載口
5a...載置面
7...收納器收容搬送單元
9...收納器收容單元
11...基板處理單元
13...控制部
15...凸緣
17、25...擋門
19、31...搬送機械手
21、59...開閉機構
23...搬送機構
27、35...載置部
33、69...料架排
37、61、75、83...料架構件
39、77...框架
41、79...收容空間
43、73、81...開口部
45...前端部
47...突起部
49、51‧‧‧支臂
53‧‧‧固定台
55‧‧‧支柱
57‧‧‧導軌
63‧‧‧計數機構
65、85‧‧‧升降器
67‧‧‧升降臂
71‧‧‧隔離壁
W‧‧‧基板
x、y、z‧‧‧方向
圖1係表示實施例之基板處理裝置之概略構成的外觀斜視圖。
圖2係收納器收容搬送單元及收納器收容單元之俯視圖。
圖3係收納器收容搬送單元之前視圖。
圖4係收納器收容單元之前視圖。
3...FOUP
5...裝載口
5a...載置面
7...收納器收容搬送單元
9...收納器收容單元
11...基板處理單元
17...擋門
19...搬送機械手
21...開閉機構
23...搬送機構
25...擋門
27...載置部
31...搬送機械手
33...料架排
35...載置部
37...料架構件
39...框架
41...收容空間
45...前端部
47...突起部
49...支臂
51...支臂
53...固定台
55...支柱
57...導軌
59...開閉機構
61...料架構件
63...計數機構
65...升降器
67...升降臂
69...料架排
71...隔離壁
73...開口部
75...料架構件
77...框架
79...收容空間
83...料架構件
85...升降器

Claims (12)

  1. 一種基板處理裝置,其係對基板進行處理者,上述裝置包含以下要素:基板處理單元,其用以對基板進行處理;收納器收容單元,其與上述基板處理單元並排設置,對收納基板之收納器進行收容;收納器收容搬送單元,其與上述收納器收容單元並排設置,對收納基板之上述收納器進行收容及搬送;以及第1載置部,其與上述收納器收容搬送單元並排設置,並載置上述收納器;而上述收納器收容單元包括保持上述收納器之複數個第1料架,且上述收納器收容搬送單元包括:複數個第2料架,其保持上述收納器;第2載置部,其配置於上述基板處理單元與上述複數個第2料架之間,並載置上述收納器;第1搬送部,其於上述第1載置部與上述複數個第2料架之間搬送上述收納器;以及第2搬送部,其於上述複數個第1料架、上述複數個第2料架及上述第2載置部之間搬送上述收納器,並且將在上述第2載置部從收納器取出基板並搬送至上述基板處理單元後而變空之該收納器,搬送至上述複數個第1料架中之任一 者。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置,其包括對利用上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制的控制部,且上述控制部係以上述複數個第2料架中具有至少1個空位之方式實施上述收納器之搬送。
  3. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置,其包括對利用上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制之控制部,且上述控制部係以上述複數個第1料架中具有至少1個空位之方式實施上述收納器之搬送。
  4. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置,其包括對上述第1搬送部與上述第2搬送部之搬送進行控制的控制部,並且上述收納器收容搬送單元包括用以僅於自上述第1搬送部側向上述第2搬送部側的一個方向上搬送上述收納器之臨時載置料架,而上述控制部將上述臨時載置料架優先用於上述收納器之送出。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之基板處理裝置,其中,上述複數個第1料架優先保持收納有正利用上述基板處 理單元進行處理之基板的上述收納器。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之基板處理裝置,其中,上述複數個第2料架優先保持收納有投入至上述基板處理單元之前之基板的上述收納器、及收納有已利用上述基板處理單元實施處理之基板的收納器。
  7. 如申請專利範圍第5項之基板處理裝置,其中,上述複數個第2料架優先保持收納有投入至上述基板處理單元之前之基板的上述收納器、及收納有已利用上述基板處理單元所實施處理之基板的收納器。
  8. 如申請專利範圍第2至4項中任一項之基板處理裝置,其中,當於上述複數個第1料架或上述複數個第2料架之任一者中存在有空位時,上述控制部對在與上述第1載置部之間進行上述收納器之交接之載體搬送系統,進行較可載置於上述第1載置部之上述收納器之個數為多之搬送要求。
  9. 如申請專利範圍第4項之基板處理裝置,其中,上述臨時載置料架係上述複數個第2料架中,與上述第2載置部鄰接之第2料架。
  10. 如申請專利範圍第5項之基板處理裝置,其中,上述臨時載置料架係上述複數個第2料架中,與上述第2載置部鄰接之第2料架。
  11. 如申請專利範圍第6項之基板處理裝置,其中,上述臨時載置料架係上述複數個第2料架中,與上述第2載置部鄰接之第2料架。
  12. 如申請專利範圍第8項之基板處理裝置,其中,上述臨時載置料架係上述複數個第2料架中,與上述第2載置部鄰接之第2料架。
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