JP5722092B2 - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5722092B2
JP5722092B2 JP2011061157A JP2011061157A JP5722092B2 JP 5722092 B2 JP5722092 B2 JP 5722092B2 JP 2011061157 A JP2011061157 A JP 2011061157A JP 2011061157 A JP2011061157 A JP 2011061157A JP 5722092 B2 JP5722092 B2 JP 5722092B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
container
substrate processing
storage
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011061157A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012199304A (ja
Inventor
一郎 光吉
一郎 光吉
英樹 柴田
英樹 柴田
智靖 古田
智靖 古田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2011061157A priority Critical patent/JP5722092B2/ja
Priority to KR1020110102929A priority patent/KR101343690B1/ko
Priority to TW100138218A priority patent/TWI453810B/zh
Priority to CN201110416096.6A priority patent/CN102683251B/zh
Priority to US13/368,986 priority patent/US9570333B2/en
Publication of JP2012199304A publication Critical patent/JP2012199304A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5722092B2 publication Critical patent/JP5722092B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769Storage means

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機EL用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板(以下、単に基板と称する)を収納器ごと内部に取り込み、収納器から基板を取り出して基板に対して洗浄処理、エッチング処理等の各種処理を行い、基板を収納器に収容して払い出す基板処理装置に関する。
従来、この種の第1の装置として、基板処理ユニットと、収納器収容・搬送ユニットと、ロードポートとを備え、収納器収容・搬送ユニットが、複数個の棚と、内部載置部と、第1搬送部と、第2搬送部と、を備えたものがある(例えば、特許文献1参照)。
基板処理ユニットは、基板に対して各種処理を行うためのものである。収納器収容・搬送ユニットは、基板処理ユニットに並設され、基板を収容するFOUP(Front Opening Unified Pod)を収容したり、搬送したりする。ロードポートは、収納器収容・搬送ユニットに並設され、FOUPを載置する。ロードポートには、キャリア搬送システム(Automated Material Handling System)である無人搬送車(AGV: Automatic Guided Vehicles)や、天井走行式無人搬送車(Overhead Hoist Transfer)でFOUPが受け渡される。収納器収容・搬送ユニットに設けられた棚は、FOUPを保持するために複数個(例えば、16個)配置されている。内部載置部は、収納器収容・搬送ユニットと複数個の棚との間に配置されており、FOUPが載置される。第1搬送部は、ロードポートと複数個の棚との間でFOUPを搬送する。第2搬送部は、複数個の棚と内部載置部との間でFOUPを搬送する。
このように構成された第1の装置では、第1搬送部によってロードポートと複数個の棚との間で搬送を行い、第2搬送部によって内部載置部と複数個の棚との間で搬送を行う。したがって、これらの搬送をほぼ並行して行うことができ、FOUPの搬送効率を向上して、基板処理装置のスループットを向上できるようになっている。
なお、キャリア搬送システムは、その搬送時間にバラツキがあって安定していないのが一般的である。これが基板処理装置におけるスループットの向上を妨げる原因となる。そこで、そのバラツキを吸収するために、ロードポートを増やした第2の装置(例えば、特許文献2参照)や、天井走行式無人搬送車を2レーンにした第3の装置などが提案されている(例えば、特許文献3参照)。
特開2006−237559号公報 特許第3521330号公報 特開2010−192855号公報
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、一般的に、基板処理ユニットでは化学反応による処理を行うので、基板処理ユニットにおける処理時間を短縮することはできない。そのためスループット向上のためには、基板処理ユニット内に配置する処理槽の数を増やして並行して処理できる数を増やすことになる。すると、処理中の基板が収納されていた空のFOUPが増加し、FOUPの収納場所が増えることになる。従来の第1の装置では、第1搬送部と第2搬送部の両搬送部からアクセス可能なまま棚数を増やすには装置の幅を広くするか、装置の高さを高くすることになる。しかしながら、装置の幅を広くすると、クリーンルーム内に配置できる装置台数が減り、装置の高さを高くすると、クリーンルームの天井高さとの関係で配置に制限が生じる。そのため高スループットの性能を最大限に生かせないという問題がある。
また、第2の装置では、ロードポートを増やすので装置の間口が広くなって、クリーンルーム内に配置できる台数の点において不利になるという問題がある。
また、第3の装置では、天井走行式無人搬送車が高価であるので、コスト面で不利となる。さらに、2レーンとすることにより、ロードポート間が広くなって装置が長くなり、やはり設置台数の点において不利になるという問題がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、装置寸法の増加を抑制しつつも、収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に対して処理を行う基板処理装置において、基板に対して処理を行うための基板処理ユニットと、前記基板処理ユニットに並設され、基板を収納する収納器を収容する収納器収容ユニットと、前記収納器収容ユニットに並設され、基板を収納する前記収納器を収容及び搬送する収納器収容・搬送ユニットと、前記収納器収容・搬送ユニットに並設され、前記収納器が載置される第1載置部とを備え、前記収納器収容ユニットは、前記収納器を保持する複数個の第1棚を備え、前記収納器収容・搬送ユニットは、前記収納器を保持する複数個の第2棚と、前記基板処理ユニットと前記複数個の第2棚との間に配置され、前記収納器が載置される第2載置部と、前記第1載置部と前記複数個の第2棚との間で前記収納器を搬送する第1搬送部と、前記複数個の第1棚と、前記複数個の第2棚と、前記第2載置部との間で前記収納器を搬送するとともに、前記第2載置部で収納器から基板を取り出して前記基板処理ユニットに搬送した後の、空になった当該収納器を前記複数個の第1棚のいずれかに搬送する第2搬送部と、を備えていることを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、基板処理ユニットと収納器収容・搬送ユニットとの間に収納器収容ユニットを備え、第1搬送部により第1載置部と第2棚との間の搬送を行う。また、第2搬送部により、第1棚と、第2棚と、第2載置部との間における搬送とを行う。したがって、第1載置部と第2棚との間の搬送と、第1棚と、第2棚と、第2載置部との間の搬送とをほぼ並行して行うことができる。その結果、収納器の搬送効率を向上させて、スループットを向上させることができる。その上、収納器収容・搬送ユニットと基板処理ユニットとの間に収納器収容ユニットを配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制することができる。したがって、収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。また、第2搬送部は、基板を取り出して空になった収納器を複数個の第1棚のいずれかに搬送するので、処理を終えた基板を収納器に短時間で収納することができる。
本発明において、前記第1搬送部と前記第2搬送部による搬送を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記複数個の第2棚のうち、少なくとも1個の空きを有するように前記収納器の搬送を行わせることが好ましい(請求項2)。複数個の第2棚に少なくとも1個の空きを有するように制御部が搬送を制御するので、第2棚の空きを利用して、第1棚から第1載置部に優先的に収納器を払い出させることができる。
本発明において、前記第1搬送部と前記第2搬送部による搬送を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記複数個の第1棚のうち、少なくとも1個の空きを有するように前記収納器の搬送を行わせることが好ましい(請求項3)。複数個の第1棚に少なくとも1個の空きを有するように制御部が搬送を制御するので、第2棚が収納器で満杯になった状態であっても、処理済の基板が収納された収納器を一時的に第1棚の空きを利用して収容することができる。したがって、基板処理ユニットからの処理済の基板の搬出が滞るのを防止できる。
本発明において、前記第1搬送部と前記第2搬送部との搬送を制御する制御部を備えているとともに、前記収納器収容・搬送ユニットは、前記第1搬送部側から前記第2搬送部側への一方向にのみ前記収納器を搬送するための仮置棚を備え、前記制御部は、前記仮置棚を前記収納器の払い出しに優先的に用いることが好ましい(請求項4)。仮置棚を経由することにより、第1棚から第1載置部へ収納器を優先的に払い出させることができる。
本発明において、前記複数個の第1棚は、前記基板処理ユニットによって処理中の基板を収納していた前記収納器を優先的に保持することが好ましい(請求項5)。第2載置部に近い位置に空の収納器を保持するので、処理を終えた基板を収納器に短時間で収納することができる。
本発明において、前記複数個の第2棚は、前記基板処理ユニットに投入される前の基板を収納した収納器と、前記基板処理ユニットで処理された基板を収納した前記収納器とを優先的に保持することが好ましい(請求項6)。第1載置部に近い位置に収納器を保持するので、処理済の基板を収納した収納器を短時間で第1載置部に搬送できる。
本発明において、前記制御部は、前記複数個の第1棚または前記複数個の第2棚のいずれかに空きがある場合には、前記第1載置部との間で前記収納器の受け渡しを行うキャリア搬送システムに対して前記第1載置部に載置可能な収納器の個数より多くの搬送要求を行うことが好ましい(請求項7)。収納器収容ユニットにより、収納器の収容数を増加させているので、第1載置部に載置可能な収納器の個数より多くの搬送要求を行う、キャリア搬送システムによる収納器の多重搬送を行うことができる。したがって、第1載置部との間で前記収納器の受け渡しを行うキャリア搬送システムの搬送間隔を長く設定できるので、キャリア搬送システムの負荷を軽減できる。
本発明に係る基板処理装置によれば、基板処理ユニットと収納器収容・搬送ユニットとの間に収納器収容ユニットを備え、第1載置部と第2棚との間の搬送を第1搬送部により行う。また、第2搬送部により、第1棚と第2棚との間における搬送と、第1棚と第2載置部との間における搬送とを行う。したがって、第1載置部と第2棚との間の搬送と、第1棚と第2棚との間の搬送及び第1棚と第2載置部との間の搬送とをほぼ並行して行うことができる。その結果、収納器の搬送効率を向上させて、スループットを向上させることができる。その上、収納器収容・搬送ユニットと基板処理ユニットとの間に収納器収容ユニットを配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制することができる。したがって、装置寸法の増加を抑制しつつ収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。また、第2搬送部は、基板を取り出して空になった収納器を複数個の第1棚のいずれかに搬送するので、処理を終えた基板を収納器に短時間で収納することができる。
実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す外観斜視図である。 収納器収容・搬送ユニット及び収納器収容ユニットの平面図である。 収納器収容・搬送ユニットの正面図である。 収納器収容ユニットの正面図である。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す外観斜視図であり、図2は、収納器収容・搬送ユニット及び収納器収容ユニットの平面図であり、図3は、収納器収容・搬送ユニットの正面図である。
本実施例に係る基板処理装置1は、FOUP(Front Opening Unified Pod)3に収納された複数枚の基板WをFOUP3ごと内部に搬入し、基板WをFOUP3から取り出して、基板Wに対して処理液による処理等を順次に行った後、基板WをFOUP3に収納して払い出す装置である。処理液による処理には、例えば、フッ化水素酸によるエッチング処理や、純水によるリンス処理、硫酸・過酸化水素水の混合液による被膜除去などが挙げられる。
基板処理装置1は、主として、ロードポート5と、収納器収容・搬送ユニット7と、収納器収容ユニット9と、基板処理ユニット11とを備えている。また、この基板処理装置1を統括的に制御する制御部13を備えている。この制御部13は、図示しないCPUやメモリを内蔵している。なお、図中には、方向関係を明確にするため、必要に応じて鉛直方向をz方向とし、xy平面を水平面とするxyz直交座標系を付している。
FOUP3は、図3に示すように、筐体の上面にフランジ15が形成されている。また、筐体の底面には、穴部(不図示)が形成されている。後述する搬送系は、フランジ15を把持したり、底面の穴部にアームの突起部を係合させたりしてFOUP3の搬送を行う。また、FOUP3は、筐体の開口部に着脱自在の蓋(不図示)を備えている。蓋が装着されると、FOUP3内が密閉空間にされるので、基板処理装置1が配置されるクリーンルームの清浄度にかかわらず、基板Wが収納されるFOUP3内を高い清浄度に維持することができる。また、FOUP3は、例えば、25枚の基板Wを水平姿勢で収納することができる。
ロードポート5は、キャリア搬送システム(Automated Material Handling System)である無人搬送車(AGV: Automatic Guided Vehicles)や天井走行式無人搬送車(Overhead Hoist Transfer)、または基板処理装置1のオペレータによって受け渡されるFOUP3が載置される。ロードポート5は、収納器収容・搬送ユニット7に並設されており、その載置面5aには複数個(本実施例では4個)のFOUP3が載置される。
なお、上述したロードポート5が本発明における「第1載置部」に相当する。
収納器収容・搬送ユニット7は、図1及び図3に示すように、ロードポート5側の側面に複数(本実施例では4個)のシャッター17が設けられている。シャッター17が開放されると、基板処理装置1の外部と、収納器収容・搬送ユニット7の内部とが連通する開口部が形成される。
このような構成により、収納器収容・搬送ユニット7は、搬送ロボット19の動作により、シャッター17が開放された開口部を介して、ロードポート5の載置面5aと収納部収容・搬送ユニット7の内側空間との間で、FOUP3の搬送を行うことができる。つまり、ロードポート5から収納部収容・搬送ユニット7には、未処理の基板Wを収納したFOUP3が搬入される。また、収納部収容・搬送ユニット7からロードポート5には、基板処理ユニット11で処理された基板Wを収納したFOUP3が払い出される。
収納器収納・搬送ユニット7は、ロードポート5に載置されたFOUP3をその内部に一時的に収容するとともに、基板Wを収納したFOUP3を基板処理ユニット11側に搬送する。
基板処理ユニット11は、収納器収容・搬送ユニット7及び収納器収容ユニット9との間で基板Wの受け渡しを行うために使用される開閉機構21及び搬送機構23を収納器収容・搬送ユニット7側に備えている。これらの開閉機構21及び搬送機構23は、収納器収容・搬送ユニット7のシャッター25に隣接して配置されている。
開閉機構21は、FOUP3の蓋を保持してFOUP3から取り外したり、FOUP3に蓋を取り付けたりする。また、シャッター25の収納器収容・搬送ユニット7側には、載置部27が設けられている。搬送機構23は、シャッター25が開放されると、載置部27に載置されたFOUP3の蓋が取り外された場合に、このFOUP3との間で基板Wの搬送を行う。
なお、上述した載置部27が本発明における「第2載置部」に相当する。
搬送機構23により基板処理ユニット11側へ搬入された基板Wは、基板処理ユニット11によって各種の処理が施される。その後、処理を終えた基板Wは、搬送機構23によって、収納器収容・搬送ユニット7側へシャッター25を介してFOUP3に収納される。
収納器収容・搬送ユニット7は、図2に示すように、主として二つの搬送ロボット19,31と、棚配列33と、二つの載置部27,35とを備えている。
また、収納器収容・搬送ユニット7が備える各構成は、それぞれ水平方向(ほぼx方向)に沿って配置されており、3つの列を構成している。つまり、ロードポート5側から第1列目には、搬送ロボット19と、載置部35とが設けられている。また、ロードポート5側から第2列目には、棚配列33が設けられている。さらに、ロードポート5側から第3列目には、搬送ロボット31と、載置部27とが設けられている。
棚配列33は、FOUP3を複数個(本実施例では16個)収容する収容部である。つまり、棚配列33には、例えば、未処理の基板Wを収納したFOUP3が収容される。図2及び図3に示すように、棚配列33は、複数の棚を鉛直方向(z方向)と水平方向(x方向)に沿って二次元的に配列させたものである。
複数の棚のそれぞれは、一対の棚部材37を備えている。図2及び図3に示すように、各棚部材37は、縦断面がほぼL字状を呈する。各棚部材37の長尺方向がy方向とほぼ平行になるようにフレーム39に取り付けられている。図示省略しているが、棚部材37の上面には、FOUP3の底面に設けられた穴部に対応する突起部が形成されている。したがって、一対の棚部材37は、FOUP3を安定して保持できるようになっている。
このように、一対の棚部材37は、FOUP3を収容する収容棚として利用される。また、一対の棚部材37に挟まれる領域は、FOUP3を収容する収容空間41として利用される。
なお、上述した棚配列33が本発明における「複数個の第2棚」に相当する
また、収容棚を構成する一対の棚部材37は、それらの間に開口部43が形成されている。この開口部43は、搬送ロボット19の先端部45の大きさよりも大きく形成されている。そして、図3に示すように、各開口部43は、鉛直方向(z方向)に沿って配置されている。したがって、搬送ロボット19の先端部45は、これらの開口部45を通過しつつ、棚配列33の内部を昇降することができる。つまり、棚配列33に含まれる複数の収容棚のそれぞれの開口部43は、先端部45を鉛直方向に通過可能にする。
図2に示すように、搬送ロボット19は、棚配列33から見てロードポート5側に配置され、搬送ロボット31は、基板処理ユニット11側に配置されている。換言すると、搬送ロボット19は、棚配列33を挟んで搬送ロボット31と反対側に設けられている。
なお、搬送ロボット31は、搬送ロボット19とほぼ同一の構成を備えている。したがって、以下においては、搬送ロボット19の構成のみについて詳細に説明する。
搬送ロボット19の先端部45は、平面視ほぼ三角形状を呈し、FOUP3を下側から保持する。先端部45の上面における各頂点付近には、突起部47が形成されている。FOUP3の底面には、この突起部47に対応する3個の穴部(不図示)が設けられている。また、先端部45は、z軸周りに回転可能にアーム49の先端側に取り付けられている。したがって、搬送ロボット19は、先端部45をz軸周りに回転させつつ、突起部47をFOUP3の穴部に嵌め合わせることにより、FOUP3を安定して保持できる。
さらに、アーム49は、その基端部がアーム51の先端部に取り付けられている。アーム49は、先端部をz軸周りに回転可能である。アーム51は、基端部が固定台53に取り付けられている。アーム51は、先端部をz軸周りに回転可能である。固定台53は、z方向に立設された支柱55に昇降可能に取り付けられている。さらに、支柱55は、水平方向(x方向)に配置されたガイドレール57に沿って移動可能に構成されている。
これにより搬送ロボット19は、先端部45に保持されたFOUP3を棚配列33に沿って水平方向(x方向)に移動させるとともに、鉛直方向(z方向)に昇降させる。したがって、搬送ロボット19は、棚配列33の収容空間41、ロードポート5、及び載置部35の間でFOUP3を搬送することができる。また、搬送ロボット31は、詳細後述する収納器収容ユニット9の棚配列69の収容空間79と、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33の収容空間41と、載置部27との間でFOUP3を搬送する。
なお、上述した搬送ロボット19が本発明における「第1搬送部」に相当し、搬送ロボット31が本発明における「第2搬送部」に相当する。
載置部35は、マッピング処理を実行するために使用される。マッピング処理は、ロードポート5から搬入されたFOUP3に収納されている基板Wの枚数及び収納位置を確認する処理をいう。載置部35は、棚配列33から見てロードポート5側に配置されている。載置部35は、FOUP3の蓋を開閉する開閉機構59を備えている。一対の棚部材61は、棚部材37と同様に、縦断面がほぼL字状を呈し、突起部を有する。また、一対の棚部材61は、その長尺方向がx方向とほぼ平行となるように取り付けられている。さらに、載置部35は、内部に収納されている基板Wの枚数を計数する計数機構63を備えている。
したがって、一対の棚部材61にFOUP3が載置されると、開閉機構59がFOUP3の蓋を取り外す。そして、計数機構63がFOUP3内に収納されている基板Wの枚数を計数する。そして、開閉機構59がFOUP3に蓋を取り付ける。
また、載置部35は、リフター65を一対の棚部材61の上方に設けている。リフター65は、リフターアーム67を備えている。リフターアーム67は、図3に実線で示した「載置位置」と、二点鎖線で示した「待避位置」とにわたって、鉛直方向(z方向)に昇降可能である。リフターアーム67は、FOUP3のフランジ15を把持するとともに、その把持状態を解除する。これにより、載置部35は、リフターアーム67によってフランジ15を把持しつつ、マッピング処理が完了したFOUP3を待避位置まで上昇させることができる。
そのため、搬送ロボット19は、マッピング処理が行われていないFOUP3を載置部35に載置したのに続いて、マッピング処理が行われて待避位置に上昇されたFOUP3を載置部35から受け取ることができる。つまり、搬送ロボット19を棚配列33と載置部35との間で1往復させるだけで、マッピング処理を終えたFOUP3と、マッピング処理が行われていないFOUP3との入れ替え作業を実行できる。その結果、収納部収容・搬送ユニット7で実行されるスループットをさらに向上できる。
ここで、図4を参照する。なお、図4は、収納器収容ユニットの正面図である。但し、位置関係の把握を容易にするため、図4には収納器収容・搬送ユニット7の一部も記載してある。
基板処理ユニット11と収納器収容・搬送ユニット7との間には、収納器収容ユニット9が設けられている。つまり、収納器収容ユニット9は、基板処理ユニット11に並設されている。この収納器収容ユニット9は、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33と同様の構成を備えた棚配列69を有する。但し、基板処理ユニット11側には、基板処理ユニット11と、収納器収容ユニット9及び収納器収容・搬送ユニット7との間で雰囲気を分離するための隔壁71が設けられている。隔壁71は、基板処理ユニット11の開閉機構21及び搬送機構23を配置した開口部73が形成されている。
棚配列69は、上述した収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33と同様の構成である。つまり、棚配列69は、FOUP3を複数個(本実施例では16個)収容する収納部である。図2及び図4に示すように、棚配列69は、複数の棚を鉛直方向(z方向)と水平方向(x方向)に沿って二次元的に配列されている。
なお、上述した棚配列69が本発明における「複数個の第1棚」に相当する。
複数の棚のそれぞれは、一対の棚部材75を備え、各棚部材75は、縦断面がほぼL字状を呈する。各棚部材75は、フレーム77に取り付けられ、棚部材75の上面には、FOUP3を係止する突起部(不図示)によって、一対の棚部材75がFOUP3を安定して保持できるようになっている。一対の棚部材75に挟まれた領域は、収容空間79であり、FOUP3を収容する。
また、一対の棚部材75は、それらの間に開口部81が形成されている。開口部81は、搬送ロボット31の先端部45よりも大きく開口されている。したがって、搬送ロボット31の先端部45は、これらの開口部81を通過しつつ、棚配列69の内部を昇降することができる。
載置部27は、FOUP3に収納された基板Wを基板処理ユニット11に受け渡すために使用される。載置部27は、棚配列33から見て基板処理ユニット11側であって、棚配列33と棚配列69との間に配置されている。
載置部27を構成する一対の棚部材83は、一対の棚部材75と同様に、縦断面がほぼL字状を呈し、FOUP3の底面に係合する突起部が形成されている。図2及び図4に示すように、一対の棚部材83は、その長尺方向がx方向とほぼ平行となるように取り付けられている。
載置部27のリフター85は、一対の棚部材83の上方に配置されている。リフター85は、上述した載置部35のリフター65と同様に、リフターアーム67を備えている。リフターアーム67は、図4に実線で示した「載置位置」と、二点鎖線で示した「待避位置」とにわたって、鉛直方向(z方向)に昇降可能である。リフターアーム67は、FOUP3のフランジ15を把持するとともに、把持状態を解除する。これにより、載置部27は、リフターアーム67によってフランジ15を把持しつつ、基板処理ユニット11に基板Wが供給されて空になったFOUP3を待避位置まで上昇させる。
これにより、搬送ロボット31は、未処理の基板Wが収納されたFOUP3を載置部27の載置位置に受け渡す処理に続き、待避位置に上昇された空のFOUP3を載置部27から受け取ることができる。つまり、搬送ロボット31は、マッピング処理を終えたFOUP3を棚配列33の基板処理ユニット11側から取り出し、載置部27にそのFOUP3を載置するとともに、待避位置の空のFOUP3を受け取って棚配列69に搬送するだけで、基板Wが収納されたFOUP3と、空のFOUP3とを入れ替えることができる。
制御部13は、上述したような構成の基板処理装置1において次のようにしてFOUP3を搬送して基板Wに対して処理を行う。
<基本設定>
制御部13は、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33を、未処理の基板Wを収納した処理待ちのFOUP3と、処理済の基板Wを収納した払い出し待ちFOUP3との収容に優先的に利用する。また、制御部13は、収納器収容ユニット9の棚配列69を、基板処理ユニット11で処理中の基板Wを収納していた空のFOUP3を収容するために優先的に利用する。但し、基板処理ユニット11のスループットがキャリア搬送システムのスループットよりも高い場合等の理由により、処理済の基板Wを収納し、払い出し待ちのFOUP3が収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33に収容しきれなくなる事態が生じ得る。そのような場合には、処理済の基板Wを収納し、払い出し待ちのFOUP3を、収納器収容ユニット9の棚配列69にも収容するようにしてもよい。
本実施例装置によると、上述した構成を備えており、基板処理ユニット11と収納器収容・搬送ユニット7との間に収納器収容ユニット9を備え、搬送ロボット19によりロードポート5と棚配列33との間の搬送を行う。また、搬送ロボット31により、棚配列33と、棚配列69と、載置部27との間における搬送とを行う。したがって、ロードポート5と棚配列33との間の搬送と、棚配列69と、棚配列33と、載置部27との間の搬送とをほぼ並行して行うことができる。その結果、FOUP3の搬送効率を向上させて、スループットを向上させることができる。その上、収納器収容・搬送ユニット7と基板処理ユニット11との間に収納器収容ユニット9を配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制することができる。したがって、装置寸法の増加を抑制しつつFOUP3の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。
また、載置部27に近い位置の棚配列69に空のFOUPを優先的に収容するので、処理を終えた基板WをFOUP3に短時間で収納することができる。さらに、載置部35に近い位置の棚配列33に、処理済の基板Wを収容したFOUP3を優先的に収容するので、処理済の基板Wを収納したFOUP3を短時間でロードポート5に搬送できる。
<空き設定1>
制御部13は、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33の複数個の収容空間41のうち、少なくとも一つの収容空間41を空けておくように搬送を制御することが好ましい。例えば、上述した理由により、収納器収容ユニット9の棚配列69に処理済の基板Wを収納したFOUP3を収容している状態において、そのFOUP3を、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33に収容されている、処理済の基板Wを収納したFOUP3よりも先に払い出す必要が生じることがある。そのような場合には、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33のうちの空けておいた一つの収容空間41を介して、優先的にFOUP3をロードポート5に払い出すことができる。
上記のように空けておく収容空間41は、棚配列33の特定の収容空間41である必要はなく、収容状況に応じていずれか一つの収容空間41を空けておくようにすれよい。換言すると、制御部13は、複数個の収容空間41のうちの少なくとも一つを動的に空にしておくように制御する。このような制御を行う場合、棚配列33の収容空間41の残りが一つになった場合には、ロードポート5に新たなFOUP3が搬送されていても、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33にFOUP3を収容せず、ロードポート5に新たなFOUP3を待機させておく。
<空き設定2>
制御部13は、収納器収容ユニット9の棚配列69の複数個の収容空間79のうち、少なくとも一つの収容空間79を空けておくように搬送を制御することが好ましい。例えば、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33が満杯になった状態で、基板処理ユニット11から処理済の基板Wが搬出された場合、この空きにその基板Wを収納したFOUP3を一時的に収容することができる。したがって、基板処理ユニット11からの処理済の基板Wの搬出が滞るのを防止できる。
<仮置棚設定>
制御部13は、棚配列33のうちの特定の収容空間41を仮置棚として設定するのが好ましい。ここでいう仮置棚とは、搬送ロボット31側から搬送ロボット19側への一方向にのみの搬送に使うための収容空間41のことである。例えば、このような仮置棚として、例えば、棚配列33のうちの載置部35の下方に位置する収容空間41を設定する。そして、制御部13は、この仮置棚を、棚配列69からロードポート5へ払い出すためだけに用いるように搬送を制限する。このような仮置棚を設定することにより、常に、棚配列69からロードポート5にFOUP3を優先的に払い出しさせることができる。
<多重搬送>
制御部13は、収納器収容ユニット9の棚配列69または収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33のいずれかに空きがある場合には、キャリア搬送システムに対してロードポート5に載置可能なFOUP3の個数より多くの搬送要求を行うことが好ましい。
キャリア搬送システムは、一度に一つのFOUP3を搬送してくるので、例えば、1個のFOUP3がロードポート5に載置された後、次のFOUP3が搬送されてくる。これが一般的なキャリア搬送システムによる搬送である。しかし、二台の搬送車によって続けてロードポート5に新たなFOUP3を搬送させると、キャリア搬送システムによる搬送間隔を二倍に設定してもよいことになる。したがって、キャリア搬送システムの負荷を軽減することができる。また、ロードポート5に載置可能なFOUP3の個数よりも多くのFOUP3を搬送させることもできる。これは基板処理装置1の収容可能なFOUP3の数を従来よりも大幅に増大させていることによって可能となる。
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)上述した実施例では、収納器収容・搬送ユニット7及び収納器収容ユニット11の棚配列33,69が16個の収容空間41,79を備えていた。しかしならが、本発明このような構成に限定されるものではなく、16個未満や16個を超える個数の収容空間41,79を備えるようにしてもよい。
(2)上述した実施例では、搬送ロボット19,31が先端部45及びアーム49,51等を備えた構成を採用している。しかしながら、搬送ロボット19は、ロードポート5と棚配列33との間でFOUP3を搬送できれば、このような構成に限定されるものではない。同様に、搬送ロボット31は、棚配列33、棚配列69、載置部27の間でFOUP3を搬送することができればこのような構成に限定されるものではない。
(3)上述した実施例では、<空き設定1>のように棚配列33に空きを設定するようにしているが、棚配列33の全ての収容空間41にFOUP3を収容するようにしてもよい。また、同様に、<空き設定2>のように棚配列69に空きを設定することなく、棚配列69の全ての収容空間79にFOUP3を収容するようにしてもよい。
(4)上述した実施例では、<基本設定>のように、収納器収容・搬送ユニット7の棚配列33を、未処理の基板Wを収納した処理待ちのFOUP3と、処理済の基板Wを収納した払い出し待ちFOUP3との収容に優先的に利用するように設定した。しかし、本発明は、このような設定に限定されるものではなく、FOUP3の搬送状況等に応じて適宜に設定することができる。
W … 基板
1 … 基板処理装置
3 … FOUP
5 … ロードポート
7 … 収納器収容・搬送ユニット
9 … 収納器収容ユニット
11 … 基板処理ユニット
13 … 制御部
37,61 … 棚部材
41,79 … 収容空間
65,85 … リフター

Claims (7)

  1. 基板に対して処理を行う基板処理装置において、
    基板に対して処理を行うための基板処理ユニットと、
    前記基板処理ユニットに並設され、基板を収納する収納器を収容する収納器収容ユニットと、
    前記収納器収容ユニットに並設され、基板を収納する前記収納器を収容及び搬送する収納器収容・搬送ユニットと、
    前記収納器収容・搬送ユニットに並設され、前記収納器が載置される第1載置部とを備え、
    前記収納器収容ユニットは、
    前記収納器を保持する複数個の第1棚を備え、
    前記収納器収容・搬送ユニットは、
    前記収納器を保持する複数個の第2棚と、
    前記基板処理ユニットと前記複数個の第2棚との間に配置され、前記収納器が載置される第2載置部と、
    前記第1載置部と前記複数個の第2棚との間で前記収納器を搬送する第1搬送部と、
    前記複数個の第1棚と、前記複数個の第2棚と、前記第2載置部との間で前記収納器を搬送するとともに、前記第2載置部で収納器から基板を取り出して前記基板処理ユニットに搬送した後の、空になった当該収納器を前記複数個の第1棚のいずれかに搬送する第2搬送部と、
    を備えていることを特徴とする基板処理装置。
  2. 請求項1に記載の基板処理装置において、
    前記第1搬送部と前記第2搬送部による搬送を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、前記複数個の第2棚のうち、少なくとも1個の空きを有するように前記収納器の搬送を行わせることを特徴とする基板処理装置。
  3. 請求項1に記載の基板処理装置において、
    前記第1搬送部と前記第2搬送部による搬送を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、前記複数個の第1棚のうち、少なくとも1個の空きを有するように前記収納器の搬送を行わせることを特徴とする基板処理装置。
  4. 請求項1に記載の基板処理装置において、
    前記第1搬送部と前記第2搬送部との搬送を制御する制御部を備えているとともに、
    前記収納器収容・搬送ユニットは、前記第1搬送部側から前記第2搬送部側への一方向にのみ前記収納器を搬送するための仮置棚を備え、
    前記制御部は、前記仮置棚を前記収納器の払い出しに優先的に用いることを特徴とする基板処理装置。
  5. 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記複数個の第1棚は、前記基板処理ユニットによって処理中の基板を収納していた前記収納器を優先的に保持することを特徴とする基板処理装置。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記複数個の第2棚は、前記基板処理ユニットに投入される前の基板を収納した前記収納器と、前記基板処理ユニットで処理された基板を収納した収納器とを優先的に保持することを特徴とする基板処理装置。
  7. 請求項2から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記制御部は、前記複数個の第1棚または前記複数個の第2棚のいずれかに空きがある場合には、前記第1載置部との間で前記収納器の受け渡しを行うキャリア搬送システムに対して前記第1載置部に載置可能な前記収納器の個数より多くの搬送要求を行うことを特徴とする基板処理装置。
JP2011061157A 2011-03-18 2011-03-18 基板処理装置 Active JP5722092B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011061157A JP5722092B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 基板処理装置
KR1020110102929A KR101343690B1 (ko) 2011-03-18 2011-10-10 기판처리장치
TW100138218A TWI453810B (zh) 2011-03-18 2011-10-21 基板處理裝置
CN201110416096.6A CN102683251B (zh) 2011-03-18 2011-12-09 基板处理装置
US13/368,986 US9570333B2 (en) 2011-03-18 2012-02-08 Substrate treating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011061157A JP5722092B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 基板処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012199304A JP2012199304A (ja) 2012-10-18
JP5722092B2 true JP5722092B2 (ja) 2015-05-20

Family

ID=46814974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011061157A Active JP5722092B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 基板処理装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9570333B2 (ja)
JP (1) JP5722092B2 (ja)
KR (1) KR101343690B1 (ja)
CN (1) CN102683251B (ja)
TW (1) TWI453810B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5722092B2 (ja) * 2011-03-18 2015-05-20 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
US8888434B2 (en) 2011-09-05 2014-11-18 Dynamic Micro System Container storage add-on for bare workpiece stocker
SG10201609568YA (en) * 2016-11-15 2018-06-28 Hybrid Innovative Tech Pte Ltd Smif pods handling system and the method thereof
KR102648735B1 (ko) * 2017-04-20 2024-04-03 다이후쿠 클린룸 아메리카 코퍼레이션 고밀도 스토커
JP7352667B2 (ja) 2022-01-12 2023-09-28 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100220817B1 (ko) 1996-05-22 1999-10-01 윤종용 화학기상증착장치
US5964561A (en) * 1996-12-11 1999-10-12 Applied Materials, Inc. Compact apparatus and method for storing and loading semiconductor wafer carriers
JP3521330B2 (ja) * 1997-01-21 2004-04-19 東京エレクトロン株式会社 基板搬送処理装置
US6579052B1 (en) 1997-07-11 2003-06-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF pod storage, delivery and retrieval system
US6832863B2 (en) * 2002-06-11 2004-12-21 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate treating apparatus and method
JP3966167B2 (ja) * 2002-11-19 2007-08-29 村田機械株式会社 搬送システム
KR100761576B1 (ko) * 2004-12-24 2007-09-27 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 기판 처리장치
CN100413047C (zh) * 2005-01-28 2008-08-20 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置
JP2006237559A (ja) * 2005-01-28 2006-09-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP5256810B2 (ja) * 2008-03-24 2013-08-07 村田機械株式会社 保管庫装置及び保管庫付き搬送システム
KR100978857B1 (ko) 2008-07-16 2010-08-31 세메스 주식회사 기판 처리 설비 및 방법
JP5126615B2 (ja) * 2008-09-12 2013-01-23 株式会社ダイフク 基板搬送設備
KR101110621B1 (ko) * 2008-09-12 2012-02-28 가부시키가이샤 다이후쿠 기판용 수납 용기와 기판용 수납 용기를 위한 기판 반송 설비
JP5284808B2 (ja) * 2009-01-26 2013-09-11 株式会社Sokudo ストッカー装置及び基板処理装置
JP5212165B2 (ja) 2009-02-20 2013-06-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP4973675B2 (ja) * 2009-02-26 2012-07-11 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP5463758B2 (ja) * 2009-06-26 2014-04-09 村田機械株式会社 保管庫
JP5722092B2 (ja) * 2011-03-18 2015-05-20 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102683251A (zh) 2012-09-19
TWI453810B (zh) 2014-09-21
US9570333B2 (en) 2017-02-14
KR20120106533A (ko) 2012-09-26
CN102683251B (zh) 2015-06-03
JP2012199304A (ja) 2012-10-18
TW201239968A (en) 2012-10-01
US20120237320A1 (en) 2012-09-20
KR101343690B1 (ko) 2013-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11587816B2 (en) Container storage add-on for bare workpiece stocker
JP5212165B2 (ja) 基板処理装置
CN101625963B (zh) 衬底处理设备以及用于为该设备转移衬底的方法
JP5284808B2 (ja) ストッカー装置及び基板処理装置
JP5054218B2 (ja) 基板処理装置
JP4893425B2 (ja) 枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体
JP2008078616A (ja) カセット蓄積量を増加させた処理装置
JP5722092B2 (ja) 基板処理装置
JP5610009B2 (ja) 基板処理装置
US7704031B2 (en) Substrate processing apparatus
JP2009081362A (ja) 基板処理装置
JP6747136B2 (ja) 基板処理装置
JP2013074183A (ja) サイド用ロードポート、efem
JP5526988B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理システム
TW202015160A (zh) 裝卸裝置、基板處理裝置、裝卸裝置之控制方法及基板處理裝置之控制方法
KR101768519B1 (ko) 기판 처리 설비
JP2010206042A (ja) 基板搬送装置
JP5330031B2 (ja) 基板処理装置
JP2008100802A (ja) 基板保管庫
WO2022201887A1 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
WO2023182115A1 (ja) 基板処理装置
JP5090291B2 (ja) 基板処理装置
TW201724330A (zh) 基板處理系統

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140303

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150310

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150325

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5722092

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250