TWI452443B - 微影裝置及元件製造方法 - Google Patents

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TWI452443B
TWI452443B TW101100072A TW101100072A TWI452443B TW I452443 B TWI452443 B TW I452443B TW 101100072 A TW101100072 A TW 101100072A TW 101100072 A TW101100072 A TW 101100072A TW I452443 B TWI452443 B TW I452443B
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Marcus Joseph Elisabeth Godfried Breukers
Marcel Francois Heertjes
Niels Johannes Maria Bosch
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Asml Netherlands Bv
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Description

微影裝置及元件製造方法
本發明係關於一種微影裝置及一種用於製造元件之方法。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)的機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在此狀況下，圖案化元件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上的電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分的網路。習知微影裝置包括：所謂步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化元件轉印至基板。
微影裝置包含用於收納物件之物件台。該裝置具備用於移動物件台之致動器及用於將物件移動至物件台或自物件台移動物件之處置器。在物件台與處置器之間的振動可令人不悅地影響該裝置。
需要最小化在物件台與處置器之間的振動效應。
根據本發明之一實施例，提供一種微影裝置，該微影裝置包含：一物件台，其用於收納一物件；一致動器，其用於移動該物件台；一處置器，其用於將該物件轉移至該物件台或自該物件台轉移該物件；及一控制器，其係與該致動器及/或該處置器進行可操作連接。該控制器經程式化及/或配置以驅動該致動器及該處置器，以便規定該物件台及該處置器在該物件於一轉移方向上至或自該物件台之轉移期間在垂直於該轉移方向之一方向上彼此實質上跟隨。
根據本發明之一另外實施例，提供一種元件製造方法，該元件製造方法包含：在一轉移方向上將一物件自一處置器轉移至一物件台，或在一轉移方向上將一物件自一物件台轉移至一處置器；及在轉移期間在垂直於該轉移方向之一方向上控制該處置器及/或該物件台之位置。該物件台及該處置器在垂直於該轉移方向之該方向上彼此跟隨。
下文參看隨附圖式詳細地描述本發明之另外特徵及優點，以及本發明之各種實施例之結構及操作。應注意，本發明不限於本文所描述之特定實施例。本文僅出於說明性目的而呈現此等實施例。基於本文所含有之教示，額外實施例對於熟習相關技術者將係顯而易見的。
根據下文在結合該等圖式時所闡述之[實施方式]，本發明之特徵及優點已變得更顯而易見，在該等圖式中，類似元件符號始終識別對應器件。在該等圖式中，類似元件符號通常指示相同、功能上相似及/或結構上相似之器件。一器件第一次出現時之圖式係藉由對應元件符號中之最左邊數位指示。
併入本文中且形成本說明書之部分的隨附圖式說明本發明，且連同[實施方式]進一步用來解釋本發明之原理且使熟習相關技術者能夠製造及使用本發明。
本說明書揭示併入本發明之特徵的一或多個實施例。所揭示實施例僅僅例示本發明。本發明之範疇不限於所揭示實施例。本發明係藉由附加於此處之申請專利範圍界定。
所描述實施例及在本說明書中對「一實施例」、「一實例實施例」等等之參考指示所描述實施例可能包括一特定特徵、結構或特性，但每一實施例可能未必包括該特定特徵、結構或特性。此外，此等片語未必指代同一實施例。另外，當結合一實施例來描述一特定特徵、結構或特性時，應理解，無論是否予以明確地描述，結合其他實施例來實現此特徵、結構或特性皆係在熟習此項技術者之認識範圍內。
本發明之實施例可以硬體、韌體、軟體或其任何組合予以實施。本發明之實施例亦可實施為儲存於機器可讀媒體上之指令，該等指令可藉由一或多個處理器讀取及執行。機器可讀媒體可包括用於儲存或傳輸呈可藉由機器(例如，計算元件)讀取之形式之資訊的任何機構。舉例而言，機器可讀媒體可包括：唯讀記憶體(ROM)；隨機存取記憶體(RAM)；磁碟儲存媒體；光學儲存媒體；快閃記憶體元件；電學、光學、聲學或其他形式之傳播信號(例如，載波、紅外線信號、數位信號，等等)；及其他者。另外，韌體、軟體、常式、指令可在本文中被描述為執行某些動作。然而，應瞭解，此等描述僅僅係出於方便起見，且此等動作事實上係由計算元件、處理器、控制器或執行韌體、軟體、常式、指令等等之其他元件引起。
然而，在更詳細地描述此等實施例之前，有指導性的是呈現可供實施本發明之實施例的實例環境。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他合適輻射)；光罩支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化元件(例如，光罩)MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化元件之第一定位元件PM。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板之第二定位元件PW。該裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將藉由圖案化元件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
光罩支撐結構支撐(亦即，承載)圖案化元件。光罩支撐結構以取決於圖案化元件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化元件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化元件。光罩支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化元件。光罩支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而係固定的或可移動的。光罩支撐結構可確保圖案化元件(例如)相對於投影系統處於所要位置。可認為本文對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用皆與更通用之術語「圖案化元件」同義。
本文所使用之術語「圖案化元件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何元件。應注意，例如，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂輔助特徵，則圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中的所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所創製之元件(諸如，積體電路)中的特定功能層。
圖案化元件可為透射的或反射的。圖案化元件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面將圖案賦予於藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中。
本文所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸沒液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文對術語「投影透鏡」之任何使用皆與更通用之術語「投影系統」同義。
如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用如上文所提及之類型的可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。
微影裝置可為具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台或「基板支撐件」(及/或兩個或兩個以上光罩台或「光罩支撐件」)的類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。
微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可藉由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充在投影系統與基板之間的空間。亦可將浸沒液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，在光罩與投影系統之間的空間。浸沒技術可用以增加投影系統之數值孔徑。如本文所使用之術語「浸沒」不意謂諸如基板之結構必須浸漬於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。
參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源與微影裝置可為分離實體。在此等狀況下，不認為輻射源形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包括(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，舉例而言，當輻射源為水銀燈時，輻射源可為微影裝置之整體部件。輻射源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。
照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分佈的調整器AD。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。此外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
輻射光束B入射於被固持於光罩支撐結構(例如，光罩台MT)上之圖案化元件(例如，光罩MA)上，且係藉由圖案化元件而圖案化。在已橫穿光罩MA的情況下，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位元件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測元件、線性編碼器或電容性感測器)，基板台WT可準確地移動，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位元件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑準確地定位光罩MA。一般而言，可憑藉形成第一定位元件PM之部件的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現光罩台MT之移動。相似地，可使用藉由長衝程致動器可移動之長衝程框架LoS(見圖2)及藉由短衝程致動器而相對於該長衝程框架可移動之短衝程框架SS來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動，長衝程框架LoS及短衝程框架SS形成圖1之第二定位器PW之部件。在步進器(相對於掃描器)之狀況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可為固定的。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準光罩MA及基板W。儘管所說明之基板對準標記佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。相似地，在一個以上晶粒提供於光罩MA上之情形中，光罩對準標記可位於該等晶粒之間。
所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使光罩台MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C的大小。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描光罩台MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於光罩台MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分的寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使光罩台MT或「光罩支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化元件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化元件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化元件(諸如，上文所提及之類型的可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同的使用模式。
圖2描繪根據本發明之一實施例的微影裝置之細節。微影裝置可具備用於將物件(例如，基板W)轉移至物件台(例如，基板台WT)或自物件台(例如，基板台WT)轉移物件(例如，基板W)之處置器HW。處置器HW可經建構及配置以將基板W向上及向下移動至基板台WT之表面。處置器HW及基板台WT可具備真空或靜電夾具以將基板W夾持至處置器HW或基板台WT。處置器HW可包含可移動通過基板台WT中之孔之數個銷釘。圖2中描繪此等銷釘中之兩者，但可能有利的是使用該等銷釘中之三者，以便使基板保持平衡。處置器安裝於長衝程框架Los上，且基板台WT係藉由短衝程致動器而相對於長衝程框架Los可移動。在轉移期間，存在基板W之位置係藉由處置器HW且藉由基板台WT判定的瞬時。在此瞬時期間於處置器HW與基板台WT之間的任何移動可導致在基板W內之張力及/或對基板台表面及/或處置器HW之磨損。在藉由靜電或真空夾持將基板W夾持至基板台WT之後，可自基板W釋放處置器WH。然而，在至基板台WT之夾持期間所造成之張力在基板W中及在該基板之曝光期間仍可留存。該張力可造成疊對誤差，此係因為基板之經曝光部分可能不位於其可被期望存在的部位中及/或經曝光部分可能會變形。
圖3揭示用於與致動器及/或處置器進行可操作連接之控制器之控制方案。設定點產生器SPG產生用於長衝程框架LoS(圖2)之所需位置。使用此設定點以經由前饋短衝程控制器FFss而判定針對短衝程致動器之前饋且經由前饋長衝程控制器FFlos而判定針對長衝程致動器之前饋。另外，在比較器comp1中比較設定點與長衝程框架之經量測位置以計算位置誤差信號Elos。將位置誤差信號Elos用作針對短衝程控制器FFlos2ss及長衝程控制器Clos之輸入，其在兩個子系統係使用耦接式量測系統而同步之此狀況下受到特定關注。短衝程控制器FFlos2ss包含一計算器，該計算器經建構以依據表示在X、Y及Rz上長衝程之位置誤差Elos之輸入信號來計算在垂直於物件之轉移方向之X及Y方向以及圍繞轉移方向之旋轉方向(RZ)上的輸出信號以控制短衝程致動器。組合輸出信號與來自前饋短衝程控制器FFss之前饋信號及短衝程誤差信號Ess。憑藉用於量測物件台相對於長衝程框架之位置之差異位置感測器SS-Diff來計算短衝程誤差信號Ess。藉由第二比較器comp 2來比較此量測與在此狀況下為0之所需值，以判定在短衝程控制器Css中經處理以判定所需力輸出Uss之短衝程位置誤差Ess。將所需力輸出、短衝程控制器FFlos2ss之輸出信號及FFss之前饋相加以作為針對短衝程致動器之輸入。在圖3中將短衝程致動器、物件台WT及短衝程感測器描繪為短衝程系統Pss。將物件台WT SS-DIFF之位置用於至第二比較器comp2之回饋迴路中。
長衝程控制器Clos將使用位置誤差Elos以計算力Ulos，力Ulos將被加至藉由前饋FFlos針對長衝程致動器所計算之力以移動長衝程框架。在圖3中將長衝程致動器、長衝程框架及短衝程位置感測器描繪為長衝程系統Plos。將長衝程框架LoS2BF之位置回饋至第一比較器comp 1。
藉由短衝程控制器FFlos2ss具有自長衝程致動器至短衝程致動器之前饋，長衝程框架之移動不會導致如藉由差異位置感測器SS-DIFF量測的基板台之位置之大誤差。可以此方式最小化在安裝於長衝程框架上之處置器HW與基板台WT之間的移動。
圖4揭示關於短衝程控制器FFlos2ss之示意圖。分別在二階濾波器2FX、2FY及2FRz中濾波相對於經預程式化位置在長衝程框架之X、Y及Rz上之位置誤差(EX、EY及ERz)。隨後，分別在計算器4DX、4DY及4DRz中針對X、Y及Rz方向來計算此經濾波誤差之一階、二階、三階及四階導數。可用手校準二階濾波器，且計算器4DX、4DY及4DRz亦可具備可用手校準之額外濾波器。將在X、Y及Rz上之經濾波位置誤差饋送至位置增益矩陣PMa。將在X、Y及Rz上之一階導數饋送至速度增益矩陣VMa。將在X、Y及Rz上之二階導數饋送至加速度增益矩陣AMa。將在X、Y及Rz上之三階導數饋送至急衝度(jerk)增益矩陣JMa。將在X、Y及Rz上之四階導數饋送至瞬動度(snap)增益矩陣SMa。可使用最小平方(LSQ)擬合來校準該等增益矩陣。將在X、Y及Rz上每一增益矩陣之輸出相加，以便針對短衝程致動器來分別計算所需力OFX、OFY及OFRz。當基板處置器將基板轉移至基板台WT或自基板台WT轉移基板時，僅接通短衝程控制器FFlos2ss。在正常曝光期間，切斷短衝程控制器FFlso2ss。可藉由有限脈衝回應形式或無限脈衝回應形式來替換增益矩陣PMa、VMa、AMa、JMa及SMa以在控制器之最終階中具有更多自由度。在測試期間，據估計，相比於未接通短衝程控制器FFlos2ss的情形，若接通短衝程控制器FFlos2ss，則伺服誤差ess可縮減達50%。
儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，(例如)以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例的使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化元件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化元件之構形壓入至被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化元件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
本文所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在5奈米至20奈米之範圍內之波長)，以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。
術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，該電腦程式含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，該資料儲存媒體具有儲存於其中之此電腦程式。
以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
應瞭解，[實施方式]章節而非[發明內容]及[中文發明摘要]章節意欲用以解釋申請專利範圍。[發明內容]及[中文發明摘要]章節可闡述如由本發明之發明人所預期的本發明之一或多個而非所有例示性實施例，且因此，不意欲以任何方式來限制本發明及附加申請專利範圍。
上文已憑藉說明指定功能及其關係之實施之功能建置區塊來描述本發明。為了便於描述，本文任意地界定此等功能建置區塊之邊界。只要適當地執行指定功能及其關係，便可界定替代邊界。
特定實施例之前述描述將充分地揭露本發明之一般性質以使得：在不脫離本發明之一般概念的情況下，其他人可藉由應用熟習此項技術者之知識針對各種應用而容易地修改及/或調適此等特定實施例，而無不當實驗。因此，基於本文所呈現之教示及指導，此等調適及修改意欲係在所揭示實施例之等效物之意義及範圍內。應理解，本文之措辭或術語係出於描述而非限制之目的，使得本說明書之術語或措辭待由熟習此項技術者按照該等教示及該指導進行解釋。
本發明之廣度及範疇不應受到上述例示性實施例中任一者限制，而應僅根據以下申請專利範圍及其等效物進行界定。
2FRz．．．二階濾波器
2FX．．．二階濾波器
2FY．．．二階濾波器
4DRz．．．計算器
4DX．．．計算器
4DY．．．計算器
AD．．．調整器
AMa．．．加速度增益矩陣
B．．．輻射光束
BD．．．光束遞送系統
C．．．目標部分
CLoS ．．．長衝程控制器
CO．．．聚光器
comp1．．．第一比較器
comp2．．．第二比較器
CSS ．．．短衝程控制器
eSS ．．．短衝程誤差信號/短衝程位置誤差/伺服誤差
EX．．．位置誤差
EY．．．位置誤差
ERz．．．位置誤差
FFLoS ．．．前饋長衝程控制器
FFLoS2SS ．．．短衝程控制器
FFSS ．．．前饋短衝程控制器
HW．．．處置器
IF．．．位置感測器
IL．．．照明系統/照明器
IN．．．積光器
JMa．．．急衝度增益矩陣
LoS．．．長衝程框架
LoS2BF．．．長衝程框架
M1．．．光罩對準標記
M2．．．光罩對準標記
MA．．．圖案化元件/光罩
MT．．．光罩支撐結構/光罩台
OFRz．．．力
OFX．．．力
OFY．．．力
P1．．．基板對準標記
P2．．．基板對準標記
PLoS ．．．長衝程系統
PM．．．第一定位元件
PMa．．．位置增益矩陣
PS．．．投影系統
PSS ．．．短衝程系統
PW．．．第二定位元件/第二定位器
SMa．．．瞬動度增益矩陣
SO．．．輻射源
SPG．．．設定點產生器
SS．．．短衝程框架
SS-DIFF．．．差異位置感測器
uSS ．．．力輸出
uLoS ．．．力
VMa．．．速度增益矩陣
W．．．基板/物件
WT．．．基板台/物件台
圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。
圖2描繪根據本發明之一實施例的微影裝置之細節。
圖3揭示根據本發明之一實施例的用於控制器之控制方案。及
圖4揭示根據本發明之一實施例的關於控制器之示意圖。
HW．．．處置器
LoS．．．長衝程框架
SS．．．短衝程框架
W．．．基板/物件
WT．．．基板台/物件台

Claims (17)

  1. 一種微影裝置，其包含：(a)一物件台，其用於收納一物件；(b)一致動器，其用於移動該物件台；(c)一處置器，其用於在一轉移方向上將該物件轉移至該物件台或自該物件台轉移該物件；(d)一控制器，其經組態以在垂直該轉移方向之方向上控制該物件台之移動及該處置器之移動，以在將該物件轉移至該物件台或自該物件台轉移該物件的期間內將該物件台及該處置器之間的相對移動最小化。
  2. 如請求項1之微影裝置，其中該處置器經建構及配置以在該轉移方向上移動該物件，且該控制器耦接至該致動器且經組態以在垂直於該轉移方向之方向上致動該致動器以跟隨在該垂直方向上該處置器之移動。
  3. 如請求項1之微影裝置，其中該處置器經組態以：在該轉移方向上移動該物件，且在垂直於該轉移方向之方向上跟隨該物件台。
  4. 如請求項1或2之微影裝置，其中該致動器包含一短衝程致動器及一長衝程致動器。
  5. 如請求項4之微影裝置，其中該處置器安裝於一長衝程框架上，該長衝程框架可藉由長衝程致動器移動。
  6. 如請求項5之微影裝置，其進一步包含一差異位置感測器，該差異位置感測器經組態以量測該物件台相對於該長衝程框架之位置。
  7. 如請求項4之微影裝置，其中該控制器包含一短衝程控制器，該短衝程控制器經組態以控制該短衝程致動器，經控制之短衝程致動器係經組態以移動該物件台使得該物件台在垂直該轉移方向之方向上跟隨該處置器。
  8. 如請求項7之微影裝置，其中該短衝程控制器進一步經組態以接收表示該長衝程框架相對於一經預程式化位置之一位置誤差之一輸入信號。
  9. 如請求項8之微影裝置，其中長衝程框架之該位置誤差係在垂直於該轉移方向之方向上以及圍繞該轉移方向之一旋轉方向上。
  10. 如請求項8之微影裝置，其中該短衝程控制器包含一計算器，該計算器經組態以依據表示該長衝程框架之該位置誤差之該輸入信號來計算一輸出信號以控制該短衝程致動器。
  11. 如請求項10之微影裝置，其中該短衝程控制器之該計算器經組態以依據表示該長衝程框架之該位置誤差之該輸入信號來計算在垂直於該轉移方向之方向以及圍繞該轉移方向之一旋轉方向上的一輸出信號以控制該短衝程致動器。
  12. 如請求項10之微影裝置，其中該計算器經組態以計算表示該長衝程框架之該位置誤差之該輸入信號的一階、二 階、三階及四階導數，以計算該輸出信號來控制該短衝程致動器。
  13. 如請求項12之微影裝置，其中該短衝程控制器進一步包含針對該一階、二階、三階及四階導數之一增益矩陣，以計算該輸出信號來控制該短衝程致動器。
  14. 如請求項7之微影裝置，其中該短衝程控制器包含耦接至該差異位置感測器之一輸入。
  15. 一種元件製造方法，其包含：在一轉移方向上使用一處置器將一物件轉移至一物件台，或自該物件台轉移該物件；及使用一控制器以在垂直該轉移方向之方向上控制該處置器之移動及該物件台之移動，以在轉移期間內將該物件台及該處置器之間的相對移動最小化。
  16. 如請求項15之方法，其中該控制之步驟包含在垂直於該轉移方向之方向上致動耦接至該物件台之一長衝程致動器，以在將該物件轉移至該物件台或自該物件台轉移該物件的期間內跟隨在該垂直方向上該處置器之移動。
  17. 如請求項15之方法，其中該控制之步驟包含在垂直於該轉移方向之方向上致動耦接至該處置器之一短衝程致動器，以在將該物件轉移至該物件台或自該物件台轉移該物件的期間內跟隨在該垂直方向上該物件台之移動。
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