TWI452416B - 可調式光罩 - Google Patents

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TWI452416B
TWI452416B TW102102237A TW102102237A TWI452416B TW I452416 B TWI452416 B TW I452416B TW 102102237 A TW102102237 A TW 102102237A TW 102102237 A TW102102237 A TW 102102237A TW I452416 B TWI452416 B TW I452416B
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TW102102237A
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TW201430483A (zh
Inventor
Chia Chin Chiang
Chien Chia Tseng
Original Assignee
Univ Nat Kaohsiung Applied Sci
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Description

可調式光罩
本發明係關於一種光罩,尤指一種可調整蝕刻效果之可調式光罩。
請參照第1、2圖所示,習知的光罩係於一金屬盒9之一表面上開設數個呈陣列式排列的矩形孔91,該數個矩形孔91貫穿該金屬盒9之表面,使光線可穿透至該金屬盒9內部,以於被蝕刻件W上形成光柵以進行蝕刻。因此,該習知光罩之蝕刻效果在製造該光罩時就已決定,且蝕刻週期及明暗比均為固定而無法任意調整,故使用者需購置多個不同蝕刻效果的光罩,以依據所欲蝕刻的週期或明暗比更換對應之光罩;如此一來,不僅硬體成本難以降低,蝕刻該被蝕刻件W之操作步驟亦相當繁瑣,且操作的過程中仍無法及時調整蝕刻效果,使得該習知光罩的使用便利性亟需獲得改善。
本發明所述之「週期」,係指一開孔處至下一開孔處的距離;本發明所述之「明暗比」,則是指單一週期中,開孔處與未開孔處之寬度比。
本發明之目的係提供一種可調式光罩,係可改變投影至被蝕刻件上的光柵,以適用於各種不同蝕刻週期或明暗比之需求。
為達到前述目的,本發明所運用之技術內容包含有:一種可調式光罩,包括:一殼座,內部具有一容室,該殼座設有數個透光孔,該數個透光孔由該殼座之一表面連通至該容室;及一遮 板,設有數個貫穿狀的通孔,並由該數個通孔的軸向界定出一透光方向,該遮板係可平移地設於該容室,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
其中,該殼座在該容室之內壁面設有至少一定位部,該定位部與該數個透光孔相對。
其中,該定位部之數量為數個,該數個定位部是從該容室之內壁面凹陷的凹槽,各該定位部之二端連通至該殼座外。
其中,該數個透光孔為數個併排設置的長條孔,且各該透光孔之長軸方向係同時通過該數個定位部。
其中,該數個透光孔呈陣列狀地排列並分成數組,各組透光孔係沿各該定位部之延伸方向排列。
其中,該殼座之各組透光孔為寬度不同之型態,該遮板之數個通孔具有相對應之型態。
其中,該殼座之各組透光孔具有不同的蝕刻週期,該遮板之數個通孔具有相對應之型態。
其中,該容室貫穿該殼座之相對二側,該遮板在朝向該數個透光孔之表面設有一刻度。
本發明另提供一種可調式光罩,包括:一殼座,具有一載盤及一掀蓋,該載盤設有一開放狀的容槽及一第一樞接部,該掀蓋設有數個貫穿狀之透光孔,該掀蓋設有一第二樞接部,該第二樞接部與該第一樞接部相互樞接,使該掀蓋可蓋合該載盤之容槽或相對於該載盤樞轉;及一遮板,設有數個貫穿狀的通孔,並由該數個通孔的軸向界定出一透光方向,該遮板係可平移地設於該容槽,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
其中,該載盤在該容槽之底面設有至少一定位部。
本發明另提供一種可調式光罩,包括:一殼座,內部具有一容室,該殼座設有數個透光孔,該數個透光孔分別由該殼座之二相對表面連通至該容室,並由任一透光孔連通至該容室之方向界定出一透光方向;及一遮板,具有二邊件及數個間隔件,該二邊件係平行相對設置,各該邊件分別具有相對之一第一表面及一第二表面,一部分的間隔件連接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件連接於該二邊件之第二表面,以於相對設於該二邊件二側的間隔件之間形成一穿置空間,連接於該二邊件之同一表面的數個間隔件呈間隔地併排設置,相鄰的二間隔件之間形成一通孔,各該通孔與該穿置空間相連通;該遮板係可平移地設於該容室,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
其中,該容室貫穿該殼座之相對二側。
本發明另提供一種可調式光罩,包括:一殼座,具有一載盤及一掀蓋並分別設有數個貫穿狀之透光孔,該載盤之透光孔的軸向界定出一透光方向,該載盤設有一開放狀的容槽及一第一樞接部,該掀蓋設有一第二樞接部,該第二樞接部與該第一樞接部相互樞接,使該掀蓋可蓋合該載盤之容槽或相對於該載盤樞轉;及一遮板,具有二邊件及數個間隔件,該二邊件係平行相對設置,各該邊件分別具有相對之一第一表面及一第二表面,一部分的間隔件連接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件連接於該二邊件之第二表面,以於相對設於該二邊件二側的間隔件之間形成一穿置空間,連接於該二邊件之同一表面的數個間隔件呈間隔地併排設置,相鄰的二間隔件之間形成一通孔,各該通孔與該穿置空間相連通;該遮板係可平移地設於該容槽,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
其中,該容槽貫穿該載盤之相對二側,該第一樞接部位於該容槽之一側,該第二樞接部設於該掀蓋之一端。
其中,該掀蓋設有至少一擋止部,該擋止部抵靠於該載盤之頂部。
其中,該二邊件中至少有一邊件之第一表面及第二表面設有一刻度。
其中,該數個間隔件之二端分別設有一樞接部,其中一部分的間隔件以該樞接部樞接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件以該樞接部樞接於該二邊件之第二表面。
據由前述結構,該可調式光罩可藉由控制該遮板與殼座之相對位置,改變投影至被蝕刻件上的光柵,以適用於各種不同蝕刻週期或明暗比之需求。
〔本發明〕
1‧‧‧殼座
11‧‧‧容室
12‧‧‧透光孔
13‧‧‧定位部
2‧‧‧遮板
21‧‧‧通孔
22‧‧‧刻度
3‧‧‧殼座
31‧‧‧載盤
311‧‧‧容槽
312‧‧‧第一樞接部
313‧‧‧定位部
32‧‧‧掀蓋
321‧‧‧透光孔
322‧‧‧第二樞接部
323‧‧‧擋止部
4‧‧‧殼座
41‧‧‧容室
42‧‧‧透光孔
5‧‧‧遮板
51‧‧‧邊件
51a‧‧‧第一表面
51b‧‧‧第二表面
511‧‧‧刻度
52‧‧‧間隔件
53‧‧‧穿置空間
54‧‧‧通孔
6‧‧‧殼座
61‧‧‧載盤
611‧‧‧容槽
612‧‧‧第一樞接部
613‧‧‧透光孔
62‧‧‧掀蓋
621‧‧‧透光孔
622‧‧‧第二樞接部
623‧‧‧擋止部
7‧‧‧遮板
71‧‧‧邊件
71a‧‧‧第一表面
71b‧‧‧第二表面
711‧‧‧刻度
72‧‧‧間隔件
721‧‧‧樞接部
73‧‧‧穿置空間
74‧‧‧通孔
D‧‧‧透光方向
F‧‧‧光纖
〔習知〕
9‧‧‧金屬盒
91‧‧‧矩形孔
W‧‧‧被蝕刻件
第1圖係習知光罩之結構示意圖。
第2圖係習知光罩之實施示意圖。
第3圖係本發明第一實施例之立體分解圖。
第4a圖係本發明第一實施例第一種使用狀態之俯視實施示意圖。
第4b圖係本發明第一實施例第一種使用狀態之側剖實施示意圖。
第4c圖係本發明第一實施例第一種使用狀態之透光示意圖。
第5a圖係本發明第一實施例第二種使用狀態之俯視實施示意圖。
第5b圖係本發明第一實施例第二種使用狀態之側剖實施示意圖。
第5c圖係本發明第一實施例第二種使用狀態之透光示意圖。
第6a圖係本發明第一實施例之殼座另一實施態樣之立體分解圖。
第6b圖係第6a圖所示之可調式光罩之透光示意圖。
第7a圖係本發明第一實施例之殼座再一實施態樣之立體分解圖。
第7b圖係第7a圖所示之可調式光罩之透光示意圖。
第8圖係本發明第二實施例之立體分解圖。
第9圖係本發明第二實施例掀蓋蓋合於載盤頂部之實施示意圖。
第10a圖係本發明第二實施例掀蓋相對於載盤樞轉之實施示意圖。
第10b圖係本發明第二實施例掀蓋相對於載盤樞轉之側剖實施示意圖。
第10c圖係本發明第二實施例掀蓋相對於載盤樞轉時之透光示意圖。
第11圖係本發明第三實施例之立體分解圖。
第12圖係本發明第三實施例之實施示意圖。
第13圖係本發明第四實施例之立體分解圖。
第14圖係本發明第五實施例之立體分解圖。
第15a圖係本發明第五實施例第一種蝕刻型態之實施示意圖。
第15b圖係第15a圖所示之可調式光罩之透光示意圖。
第16a圖係本發明第五實施例第二種蝕刻型態之實施示意圖。
第16b圖係第16a圖所示之可調式光罩之透光示意圖。
為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂,下文特舉本發明之較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:請參照第3圖,其係本發明之一較佳實施例,本發明之可調式光罩大致上包含一中空狀的殼座1及一遮板2,該殼座1與遮板2係由低膨脹係數之金屬或高分子材料製成,該遮板2係可平移地設於該殼座1中,利用該遮板2與該殼座1之間的相對位移,改變投影至被蝕刻件上的光柵,以適用於各種不同蝕刻週期或明暗比之需求(詳細結構容後說明)。其中,本發明之可調式光罩可適用於蝕刻任何需由光罩遮罩的被蝕刻件,例如:長週期光纖感測器、短週期光纖感測器,其所使用之殼座1及遮板2則可分別依據需求而改變,係本技術領域中具有通常知識者可以理解; 為方便說明,本發明以下茲以光纖作為被蝕刻件進行各實施例之說明,但並不以此為限。
請參照第3圖,在本發明之第一實施例中,該殼座1之內部係呈中空狀而具有一容室11,該容室11可選擇貫穿該殼座1之相對二側,以便控制該遮板2相對於該殼座1之平移。該殼座1設有數個透光孔12,該數個透光孔12由該殼座1之一表面連通至該容室11,使光線可穿透各該透光孔12而照射入該容室11中。
另,該殼座1還可以在該容室11之內壁面設置至少一定位部13以架設光纖F,使該光纖F可穩固定位於該容室11中的預設位置,從而確保該光纖F後續能被準確地蝕刻於預定處。其中,該定位部13之數量較佳選擇為數個,可增加單次作業所蝕刻的光纖F數量,以便提升蝕刻效率;在本實施例中,該數個定位部13可以是從該容室11之內壁面凹陷的凹槽,各該定位部13與該數個透光孔12相對,且各該定位部13之二端連通至該殼座1外,可供數個光纖F同時貫穿該容室11,並將各該光纖F的預設區段嵌置於對應之定位部13中以便進行蝕刻。
此外,當該可調式光罩單次作業可同時蝕刻數個光纖F時,該數個透光孔12可以如第3圖所示,設為數個併排設置的長條孔,且各該透光孔12之長軸方向係同時通過該數個定位部13;如此,該殼座1之數個透光孔12可易於成型,以降低該殼座1之製造成本。或者,該數個透光孔12也可以如第6a圖所示,呈陣列狀地排列並分成數組,且各組透光孔12係沿各該定位部13之延伸方向排列(如圖中所框選的A、B、C、D、E組);如此,即便該殼座1開設有許多的透光孔12,該殼座1仍可維持較佳的結構強度而不易變形,具有延長使用壽命之功效。
請再參照第3圖,該遮板2設有數個貫穿狀的通孔21,並由該數個通孔21的軸向界定出一透光方向D,該遮板2設於該殼座1之容室 11中,並可相對該殼座1產生平移,使該數個通孔21與該數個透光孔12可以在該透光方向D上相對或者部分交疊,令穿透該數個透光孔12而照射入該容室11中的光線,可更進一步地穿透該數個通孔21而照射至光纖F上。另,該遮板2還可以在朝向該數個透光孔12之表面設有一刻度22,以便快速調整該遮板2相對於該殼座1之平移量。
請參照第3、4a至4c圖,當該遮板2設於該殼座1之容室11中,並調整該遮板2使該數個通孔21與該數個透光孔12在該透光方向D上相對時(以下稱「第一種使用狀態」),使用該可調式光罩所得之透光效果將如第4c圖所示,故該可調式光罩可同時對設於該容室11中的各光纖F進行相同的第一種明暗比蝕刻。
請參照第3、5a至5c圖,當該遮板2設於該殼座1之容室11中,並調整該遮板2使該數個通孔21與該數個透光孔12在該透光方向D上呈部分交疊時(以下稱「第二種使用狀態」),使用該可調式光罩所得之透光效果將如第5c圖所示,故該可調式光罩可同時對設於該容室11中的各光纖F進行相同的第二種明暗比蝕刻。其中,由於相對應之透光孔12與通孔21係呈部分交疊之型態,使得光線在該透光方向D上的透光面積減少,因此該第二種使用狀態所形成之光柵將比前述第一種使用狀態所形成之光柵還粗(即,第二種使用狀態之明暗比小於第一種使用狀態之明暗比);據此,本發明可藉由調整相對應之透光孔12與通孔21在該透光方向D上的投影交疊量,以改變光柵的粗細程度,故使用同一組光罩就能獲得不同明暗比之蝕刻效果。
請參照第6a及6b圖,其係本發明第一實施例之殼座1另一實施態樣,該可調式光罩係可以在單次作業中同時蝕刻數個光纖F,且該數個光纖F之蝕刻明暗比不同;舉例而言,該殼座1係可以形成數組透光孔12(圖中所框選的A、B、C、D、E組),該數組透光孔12可以形成不 同尺寸、形狀,例如使A組之各透光孔12的寬度大於B組之各透光孔12的寬度,以及使B組之各透光孔12的寬度大於C組之各透光孔12的寬度...等;同時,該遮板2之數個通孔21亦具有相對應之型態。如此,使用該可調式光罩對數個光纖F進行蝕刻時,可由各組透光孔12與通孔21同時蝕刻出具有不同蝕刻明暗比的數個光纖F。
請參照第7a圖,其係本發明第一實施例之殼座1的再一實施態樣,相較於第6a圖所示之可調式光罩,其係更進一步地將各組透光孔12之蝕刻週期設為不同,以得到第7b圖所示之透光效果;如此,使用該可調式光罩對數個光纖F進行蝕刻時,可由各組透光孔12與通孔21同時蝕刻出具有不同蝕刻週期及明暗比的數個光纖F。
請參照第8至10a圖,其係本發明之第二實施例,該殼座3係包含一載盤31及一掀蓋32,一遮板2則可平移地設於該殼座3中,該遮板2與第一實施例相同。該載盤31設有一開放狀的容槽311及一第一樞接部312,該容槽311可選擇貫穿該載盤31之相對二側,該第一樞接部312位於該容槽311之一側,該第一樞接部312可例如由軸孔與轉軸所構成。另,該載盤31還可以在該容槽311之底面設置至少一定位部313以架設光纖F,使該光纖F可穩固定位於該容槽311中的預設位置,從而確保該光纖F後續能被準確地蝕刻於預定處;其中,該定位部313之數量較佳選擇為數個,可增加單次作業所蝕刻的光纖F數量,以便提升蝕刻效率。
該掀蓋32設有數個透光孔321,該數個透光孔321貫穿該掀蓋32之二相對表面;該掀蓋32可於一端設有一第二樞接部322,該第二樞接部322與該第一樞接部312相互樞接,使該掀蓋32可蓋合該載盤31之容槽311(如第9圖所示),或相對於該載盤31樞轉(如第10a圖所示),以改變該掀蓋32與載盤31之間的夾角。該掀蓋32另可設有至少一擋止部323,該擋止部323可以是由該掀蓋32之端緣向兩側延伸的凸塊,使該掀 蓋32蓋合於該載盤31之頂部時,可藉該擋止部323抵靠於該載盤31之頂部,維持該掀蓋32蓋合於該載盤31之預設位置,使遮板2可順暢地在該容槽311中平移,以調整相對應之透光孔321與通孔21的相對位置。
請參照第9圖,當該掀蓋32蓋合於該載盤31之頂部而未相對於該載盤31樞轉時,該可調式光罩之使用方式可同第一實施例,於此容不贅述。
請參照第10a至10c圖,當蓋合於該載盤31頂部之掀蓋32相對於該載盤31樞轉時,該掀蓋32之數個透光孔321隨著距離該載盤31之垂直高度不同,與對應之遮板2的通孔21將在該透光方向D上形成不同寬度的投影交疊量,以於同一光纖F之不同區段上形成不同粗細的光柵,以獲得具有週期或明暗比變化之蝕刻效果的光纖F。
請參照第11圖,其係本發明之第三實施例,該可調式光罩可提供雙向蝕刻的效果,該可調式光罩包含有一殼座4及一遮板5,該殼座4之內部係呈中空狀而具有一容室41,該容室41係供容置該遮板5,該容室41較佳貫穿該殼座4之相對二側,以便控制該遮板5相對於該殼座4之平移。該殼座4設有數個透光孔42,該數個透光孔42分別由該殼座4之二相對表面連通至該容室41,並由任一透光孔42連通至該容室41之方向界定出一透光方向D,使光線可穿透各該透光孔42而照射入該容室41中。
在本實施例中,該遮板5可包含二邊件51及數個間隔件52,該二邊件51係平行相對設置,各該邊件51分別具有相對之一第一表面51a及一第二表面51b,其中較佳在至少一邊件51之第一表面51a及第二表面51b設有一刻度511,以便快速調整該遮板5相對於該殼座4之平移量。一部分的間隔件52連接於該二邊件51之第一表面51a,另一部分的間隔件52則連接於該二邊件51之第二表面51b,使得相對設於該二邊件51二側的間隔件52之間形成一穿置空間53,可供容置至少一光纖F以便進行蝕 刻;其中,連接於該二邊件51之同一表面的數個間隔件52係呈間隔地併排設置,以於相鄰的二間隔件52之間形成一通孔54,且各通孔54與該穿置空間53相連通。
請參照第12圖,使用時,該遮板5係容置於該殼座4之容室41,待蝕刻之光纖F則容置於該遮板5之穿置空間53;蝕刻時,光線係沿該透光方向D穿過對應之透光孔42及通孔54而照入該穿置空間53。藉由前述結構,該殼座4可同時由設有該數個透光孔42之二相對表面受光,以同時對容置於該穿置空間53中的光纖F進行雙向蝕刻,或是單向蝕刻完後直接將該殼座4翻面,不必翻轉調整已單向蝕刻之光纖F,即可立即進行下一次的蝕刻步驟,具有提升雙向蝕刻效率之功效。
請參照第13圖,其係本發明之第四實施例,該可調式光罩具有一殼座6及一前述之遮板5,該殼座6包含一載盤61及一掀蓋62,該載盤61設有一開放狀的容槽611以容置該遮板5,該容槽611可選擇貫穿該載盤61之相對二側,該載盤61於其中一側設有一第一樞接部612,該第一樞接部612可例如由軸孔與轉軸所構成;該載盤61另設有數個透光孔613,該數個透光孔613分別貫穿該載盤61之二相對表面並連通至該容槽611,使光線可穿透各該透光孔613而照射入該容槽611中,並由該載盤61之透光孔613的軸向界定出一透光方向D。該掀蓋62之結構可參閱前述第二實施例之殼座3的掀蓋32,於此不再贅述。
據此,本發明第四實施例之可調式光罩可藉由調整該遮板5與該殼座6之間的相對位置,改變相對應之透光孔621與通孔54在該透光方向D上的投影交疊量,從而改變光柵的粗細程度;也可以藉由樞轉蓋合於該載盤61頂部之掀蓋62,使該掀蓋62之數個透光孔621隨著距離該載盤61之垂直高度不同,與對應之遮板5的通孔54在該透光方向D上形成不同寬度的投影交疊量,以於同一光纖F之不同區段上形成不同粗細的光 柵;以及,藉由設有該數個透光孔613之載盤61,對容置於該穿置空間53中的光纖F進行雙向蝕刻。
請參照第14圖,其係本發明之第五實施例,該可調式光罩具有一前述之殼座4及一遮板7,本實施例之殼座4同於前述第三實施例之殼座4,故於此不再贅述。該遮板7可包含二邊件71及數個間隔件72,該二邊件71係平行相對設置,各該邊件71分別具有相對之一第一表面71a及一第二表面71b,其中較佳在至少一邊件71之第一表面71a及第二表面71b設有一刻度711,以便快速調整該遮板7相對於該殼座4之平移量。該數個間隔件72之二端分別設有一樞接部721,使得其中一部分的間隔件72能以該樞接部721樞接於該二邊件71之第一表面71a,另一部分的間隔件72則以該樞接部721樞接於該二邊件71之第二表面71b,以於相對設於該二邊件71二側的間隔件72之間形成一穿置空間73,可供容置至少一光纖F以便進行蝕刻;其中,樞接於該二邊件71之同一表面的數個間隔件72係呈間隔地併排設置,以於相鄰的二間隔件72之間形成一通孔74,且各通孔74與該穿置空間73相連通。
請參照第15a、15b圖,使用時,該遮板7係容置於該殼座4之容室41,待蝕刻之光纖F則容置於該遮板7之穿置空間73;在本實施之第一種蝕刻型態中,各該間隔件72與該二邊件71可概呈正交,使光線係沿該透光方向D穿過對應之透光孔42及通孔74而照入該穿置空間73,以獲得如第14b圖所示之透光效果。
請參照第16a、16b圖,在本實施之第二種蝕刻型態中,可使該二邊件71產生相對之位移,藉各該間隔件72之樞接部721,使各該間隔件72呈斜向地樞接於該二邊件71上,從而變化對應之透光孔42與通孔74在該透光方向D上的投影交疊量及型態;如此一來,當光線沿該透光方向D穿過對應之透光孔42及通孔74而照入該穿置空間73時,可獲得如 第15b圖所示之透光效果,故蝕刻出來的光纖F能具有另一種週期或明暗比型態。
同樣地,本發明第五實施例之可調式光罩可藉由調整該遮板7與該殼座4之間的相對位置,改變相對應之透光孔42與通孔74在該透光方向D上的投影交疊量,從而改變光柵的粗細程度;以及,藉由雙面設有該數個透光孔42之殼座4,對容置於該穿置空間73中的光纖F進行雙向蝕刻。另,本實施例之殼座4也可以改成如第四實施例所述之殼座6而包含一載盤61及一掀蓋62(如第13圖所示),從而藉由樞轉蓋合於該載盤61頂部之掀蓋62,使該掀蓋62之數個透光孔621隨著距離該載盤61之垂直高度不同,與對應之遮板7的通孔74在該透光方向D上形成不同寬度的投影交疊量,以於同一光纖F之不同區段上形成不同粗細的光柵。
綜上所述,本發明之可調式光罩,係於殼座中設置一可平移的遮板,並藉由控制該遮板與殼座之相對位置,改變投影至被蝕刻件上的光柵,以適用於各種不同蝕刻週期或明暗比之需求。
雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內,相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧殼座
11‧‧‧容室
12‧‧‧透光孔
13‧‧‧定位部
2‧‧‧遮板
21‧‧‧通孔
22‧‧‧刻度
D‧‧‧透光方向
F‧‧‧光纖

Claims (17)

  1. 一種可調式光罩,包括:一殼座,內部具有一容室,該殼座設有數個透光孔,該數個透光孔由該殼座之一表面連通至該容室;及一遮板,設有數個貫穿狀的通孔,並由該數個通孔的軸向界定出一透光方向,該遮板係可平移地設於該容室,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之可調式光罩,其中,該殼座在該容室之內壁面設有至少一定位部,該定位部與該數個透光孔相對。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之可調式光罩,其中,該定位部之數量為數個,該數個定位部是從該容室之內壁面凹陷的凹槽,各該定位部之二端連通至該殼座外。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之可調式光罩,其中,該數個透光孔為數個併排設置的長條孔,且各該透光孔之長軸方向係同時通過該數個定位部。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之可調式光罩,其中,該數個透光孔呈陣列狀地排列並分成數組,各組透光孔係沿各該定位部之延伸方向排列。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之可調式光罩,其中,該殼座之各組透光孔為寬度不同之型態,該遮板之數個通孔具有相對應之型態。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之可調式光罩,其中,該殼座之各組透光孔具有不同的蝕刻週期,該遮板之數個通孔具有相對應之型態。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之可調式光罩,其中,該容室貫穿該殼座之相對二側,該遮板在朝向該數個透光孔之表面設有一刻度。
  9. 一種可調式光罩,包括: 一殼座,具有一載盤及一掀蓋,該載盤設有一開放狀的容槽及一第一樞接部,該掀蓋設有數個貫穿狀之透光孔,該掀蓋設有一第二樞接部,該第二樞接部與該第一樞接部相互樞接,使該掀蓋可蓋合該載盤之容槽或相對於該載盤樞轉;及一遮板,設有數個貫穿狀的通孔,並由該數個通孔的軸向界定出一透光方向,該遮板係可平移地設於該容槽,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之可調式光罩,其中,該載盤在該容槽之底面設有至少一定位部。
  11. 一種可調式光罩,包括:一殼座,內部具有一容室,該殼座設有數個透光孔,該數個透光孔分別由該殼座之二相對表面連通至該容室,並由任一透光孔連通至該容室之方向界定出一透光方向;及一遮板,具有二邊件及數個間隔件,該二邊件係平行相對設置,各該邊件分別具有相對之一第一表面及一第二表面,一部分的間隔件連接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件連接於該二邊件之第二表面,以於相對設於該二邊件二側的間隔件之間形成一穿置空間,連接於該二邊件之同一表面的數個間隔件呈間隔地併排設置,相鄰的二間隔件之間形成一通孔,各該通孔與該穿置空間相連通;該遮板係可平移地設於該容室,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之可調式光罩,其中,該容室貫穿該殼座之相對二側。
  13. 一種可調式光罩,包括:一殼座,具有一載盤及一掀蓋並分別設有數個貫穿狀之透光孔,該 載盤之透光孔的軸向界定出一透光方向,該載盤設有一開放狀的容槽及一第一樞接部,該掀蓋設有一第二樞接部,該第二樞接部與該第一樞接部相互樞接,使該掀蓋可蓋合該載盤之容槽或相對於該載盤樞轉;及一遮板,具有二邊件及數個間隔件,該二邊件係平行相對設置,各該邊件分別具有相對之一第一表面及一第二表面,一部分的間隔件連接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件連接於該二邊件之第二表面,以於相對設於該二邊件二側的間隔件之間形成一穿置空間,連接於該二邊件之同一表面的數個間隔件呈間隔地併排設置,相鄰的二間隔件之間形成一通孔,各該通孔與該穿置空間相連通;該遮板係可平移地設於該容槽,該數個通孔與該數個透光孔在該透光方向上相對或部分交疊。
  14. 如申請專利範圍第9或13項所述之可調式光罩,其中,該容槽貫穿該載盤之相對二側,該第一樞接部位於該容槽之一側,該第二樞接部設於該掀蓋之一端。
  15. 如申請專利範圍第9或13項所述之可調式光罩,其中,該掀蓋設有至少一擋止部,該擋止部抵靠於該載盤之頂部。
  16. 如申請專利範圍第11或13項所述之可調式光罩,其中,該二邊件中至少有一邊件之第一表面及第二表面設有一刻度。
  17. 如申請專利範圍第11或13項所述之可調式光罩,其中,該數個間隔件之二端分別設有一樞接部,其中一部分的間隔件以該樞接部樞接於該二邊件之第一表面,另一部分的間隔件以該樞接部樞接於該二邊件之第二表面。
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