TWI436356B - A resin film forming method and a resin film forming apparatus - Google Patents

Description

樹脂膜形成方法及樹脂膜形成裝置

本發明係關於適合在光碟等之基板與基板之間形成均勻膜厚的接著劑層，或於該基板上形成均勻膜厚的樹脂膜之樹脂膜形成方法及樹脂膜形成裝置。

一般而言，光碟(次世代光碟)基本上為：例如於1.1 mm程度之厚度的透明樹脂基板形成1層或2層的記錄層，將其以透明樹脂膜予以保護之構造，或0.6 mm程度之厚度的2片透明樹脂基板藉由透明的接著性樹脂膜而被貼合之構造。在此情形時，彼等透明的樹脂基板係有止於一方的基板形成訊號記錄層者，或於雙方之基板形成訊號記錄層者，而且，也有雙方的基板厚度相等者，或將薄的透明薄板當成光透過保護層者。進而，也有將此種貼合構造者之2片介由接著劑層予以貼合而將4片基板予以層積之構造的光碟等。此等構造係被採用於補記錄型的高記錄密度之光碟或補記錄型之DVD，或再生專用的高記錄密度的光碟或再生專用的DVD，或改寫型之光碟等種種的光碟。另外，作為別者，也有將透明的玻璃或透鏡之類的基板介由複數片接著劑予以貼合之情形等。

在此種情形時，一般係進行：於光碟中介由接著劑而將2片基板予以重疊後，藉由旋轉塗佈法使高速旋轉，讓接著記載基板間均勻地展延，且甩掉多餘的接著劑，藉由其後的硬化工程，由基板的一側或雙方照射紫外線光，於短時間內使接著劑硬化之工程。該紫外線光的照射，係使用UV燈，只於特定時間連續地照射紫外線光，或使用氙燈，脈衝性地照射紫外線光。作為此紫外線光的其他照射方法，有藉由高速旋轉於基板的全面形成塗膜後，一面使基板低速旋轉，一面從內側朝外周方向依序照射小的照射面積之紫外線波點光，使形成於基板的全面之塗膜從內側依序硬化之方法被提出(例如參照專利文獻1)。

另外，作為與此方法相同之別的照射方法，相對於專利文獻1所記載之方法為波點光，有藉由旋轉塗佈法使液狀的樹脂一面在基板上展延，一面利用機械性照射範圍調整機構使圓狀的光之面積依序擴大而移動，使塗膜從內側依序硬化者(例如參照專利文獻2)。進而，藉由旋轉塗佈方法，塗膜被展延時，於成為特定膜厚之該塗佈處依序照射紫外線，使膜厚確定，不使塗膜移動至其以上之外側，來高精度地形成均勻的塗膜之技術也已經被提出(例如參照專利文獻3)。

另一方面，藉由旋轉塗佈法來形成透明的樹脂膜之情形時，要均勻地製作從內周至外周的厚度，有其困難，一般知道外周側比內周側還厚(例如，參照專利文獻4、5)。在專利文獻4中，為了解決此問題，係將放射線硬化性樹脂塗佈於基板整體後，將基板的旋轉數加速，於加速中照射放射線，使放射線硬化性樹脂硬化等。另外，為了使在其外周端附近的厚度均勻化，如使基板維持旋轉而使放射線硬化性樹脂硬化時，外周端部會產生毛邊，因此不對其外周部的放射線硬化性樹脂照射放射線。另外，在前述之專利文獻5中，係揭示：於藉由旋轉塗佈法來形成透明的樹脂膜之情形時，藉由以遮罩覆蓋膜厚比內周還厚之樹脂膜的外周部份，不使照射放射線，使膜厚變厚之樹脂膜的外周部份成為未硬化的狀態，以重力使其平坦化之製造方法。另外，膜厚變厚的樹脂膜之外周部份，如有從訊號記錄區域內橫跨訊號記錄區域外之情形時，也有形成於對應訊號記錄區域外之樹脂膜的外周區域的情形。

[專利文獻1]日本專利特開平9－161333號公報[專利文獻2]日本專利特開2003－91888號公報[專利文獻3]日本專利特開2004－280927號公報[專利文獻4]專利第3742813號公報[專利文獻5]日本專利特開2006－351103號公報

專利文獻1所記載之方法，結果為使波點光螺旋狀地照射基板上的塗膜，且使依序螺旋狀地硬化之方法，每次波點光螺旋狀地被照射時，波點光的端點部分會再度照射1旋轉前被以波點光所硬化之塗膜的內側端部，換言之，產生被雙重照射的部分，塗膜順著螺旋而呈波狀起伏，塗膜的平滑性差，另外，也有外觀上描繪有螺旋狀的線之外觀上的問題。進而，也有使塗膜硬化為止之時間長的缺點。專利文獻2所記載之方法，係隨著照射時間的經過，圓狀的光之外徑變大，光的照射範圍擴大而去之機械式擋門方式，與基板的外周側相比，內周側的光照射時間變長，在內周與外周產生溫度差，成為使基板產生彎曲之原因。另外，裝置整體大型化，不單變重，存在有也需要用以冷卻機械式擋門之冷卻裝置等缺點。特別是在次世代的光碟，被要求高精度的平坦性，無法忽視此種彎曲的產生。另外專利文獻3所記載之方法，於謀求基板整面中之液狀物質的膜厚之均勻化而言，雖然理想，但是有產生與專利文獻1、2所記載的方法相同的缺點之情形。

前述之專利文獻4中，雖沒有記載作成不對外周部的放射線硬化性樹脂照射放射線之具體的方法等，於前述之專利文獻5中，係作成藉由以遮罩構件來覆蓋外周部，使得外周端部的放射線硬化性樹脂不硬化。但是，在此方法中，於藉由旋轉塗佈法來展延放射線硬化性樹脂之過程中，如照射放射線時，則被甩掉之放射線硬化性樹脂附著於遮罩構件而硬化，難於在展延的過程中照射放射線。進而，專利文獻4、5所揭示之放射線的照射方法中，如以旋轉裝置來進行放射線照射時，則被甩掉之放射線硬化性樹脂附著於旋轉裝置的內壁而硬化，有放射線照射工程必須在有別於旋轉裝置之別的地點來進行之問題。另外，以遮罩構件來遮光的方法，無法使遮罩構件接觸放射線硬化性樹脂膜，洩漏的放射線會照射於該樹脂膜，該樹脂膜的軟化與硬化之境界區域成為半硬化狀態，之後即使進行高速旋轉工程，要使樹脂膜的厚度均勻化也很困難。另外，基於具備遮罩機構，裝置大型化，不單複雜化，也有成本提高的問題。

因此，本發明係提供：解決前述問題點，能夠形成均勻厚度，平滑性優異的樹脂膜，且可獲得不產生彎曲之平坦性優異的基板之樹脂膜形成方法及形成裝置。另外，藉由作成朝外方向移動的環狀光，照射效率提升，能使光源小型化、低成本化。進而，藉由控制光的強度分布，於基板的整面形成無凹凸之均勻膜厚的樹脂膜。

關於本發明之樹脂膜形成方法，係提供一種藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成方法，其特徵為：前述光係環狀光，且此環狀光係藉由伴隨其照射時間的經過，其內徑及外徑對於前述基板的旋轉中心呈同心狀地變大，於前述基板上從中央側朝外周側移動。

另外，關於本發明之樹脂膜之其他形成方法，係提供一種藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成方法，其特徵為：直到停止前述光的照射之設定位置跟前，前述光的強度分布之傾斜為緩和，於前述設定位置之跟前，以前述光的強度分布之傾斜成為急遽傾斜之方式來開始控制前述光，於前述設定位置，以成為事先設定的急遽傾斜的強度分布之方式來控制前述光，使在前述設定位置之前述光的照射與非照射的境界變得鮮明。

關於本發明之樹脂膜形成裝置，係提供一種具備：使於基板上或基板間被供給有用以形成樹脂膜之液狀物質的前述基板旋轉之基板旋轉機構；及利用藉由旋轉使前述液狀物質展延之過程，或展延後照射環狀光，使前述展延的液狀物質硬化之光照射機構之樹脂膜形成裝置，其特徵為：前述光照射機構，係由：使產生照射於前述樹脂膜的光照射面之光的光源；及控制前述光的照射開始、照射停止之控制裝置；及具有將來自前述光源的光改變為環狀光的環狀光照射部之光照射頭所形成，且照射：伴隨前述環狀光之照射時間的經過，其內徑及外徑與前述旋轉中心為同心狀地在前述基板上變大而移動之前述環狀光。

另外，關於本發明之別的樹脂膜形成裝置，係提供一種具備：使於基板上或基板間被供給有用以形成樹脂膜之液狀物質的前述基板旋轉之基板旋轉機構；及利用藉由旋轉使前述液狀物質展延之過程，或展延後照射環狀光，使前述展延的液狀物質硬化之光照射機構之樹脂膜形成裝置，其特徵為：前述光照射機構，係具備：使產生照射於前述樹脂膜的光照射面之光的光源；及控制前述光的照射開始、照射停止之控制裝置；及改變前述光的強度分布之傾斜的光強度分布變更機構，該光強度分布變更機構，係直到停止前述光的照射之前述設定位置的跟前，照射前述光之強度分布的傾斜在光照射與非照射之境界不使前述樹脂膜產生凹凸之緩和的傾斜之光的方式，使前述光從前述基板的中心側朝外周側移動，於前述設定位置的跟前，控制使前述光的強度分布的傾斜變大，前述光之強度分布在前述設定位置成為事先設定的急遽之傾斜，使在前述設定位置之前述光的照射與非照射之境界變得鮮明。

如依據本發明，藉由使照射基板的光成為環狀，無對於不需要部分之照射，照射效率提升。另外，使用環狀光，伴隨其照射時間之經過，與基板的旋轉中心呈同心狀地使環狀光的內徑及外徑在基板上從內周側朝外周側擴大，可以配合基板的旋轉形式，進行環狀光的移動速度或光度的調整，可以適合的方法來形成均勻厚度的樹脂膜，能夠獲得不使基板產生彎曲之平坦性優異的基板。

另外，依據本發明，可以於包含基板的中央面域之全面，或於除了中央面域之全面形成樹脂膜。特別是，本發明適合於採用前述專利文獻3所記載之技術，例如在被供給至基板之液狀樹脂被展延而成為特定膜厚之時間點，依序照射紫外線光，使樹脂膜硬化之方法，在此情形，不會使基板產生彎曲，可以獲得膜厚均勻，平滑性優異之樹脂膜。

進而依據本發明，為了使前述樹脂膜一樣地硬化，作為照射光照射面之光，從內周側或旋轉中心至中止或中斷前述環狀光之照射的設定位置之跟前為止，為了使前述樹脂膜的硬化收縮率變得緩和，照射半徑方向之強度分布的傾斜緩和之環狀光，從前述設定位置的跟前起控制使前述環狀光的強度分布之傾斜變得急遽，藉此，能夠使在前述設定位置的光之照射與非照射的境界變得鮮明。因此，可以提升前述設定位置之內側的樹脂膜之平坦性，另外，不對前述設定位置的外周側之樹脂膜照射前述光，進行別的處理，可以提升前述設定位置之外周側的樹脂膜之平坦性。

本發明適用的對象物，並不限定於被稱為藍光光碟(Blu－ray Disc)或HD－DVD(High Definition DVD)之次世代大容量光碟，特別是在此等次世代大容量光碟中，成為覆蓋層之光透過保護層及接著劑層的厚度不均勻性，會成為大的問題。在藍光光碟中，由接著層與薄板所形成的光透過保護層，或只由透明樹脂層所形成之光透過保護層的厚度非常薄至0.1 mm，接著劑層或透明樹脂層之厚度的不均勻性及基板的彎曲，會對光碟的品質帶來大的影響，而左右次世代大容量光碟的品質。另外，於HD－DVD中，所貼合之雙方的基板為0.6 mm的厚度，雖與通常的DVD相同，但是將彼等予以貼合之接著劑層的膜厚需要充分高精度而均勻，總之，接著劑層或塗膜的厚度之均勻性及彎曲的降低，會大為左右次世代大容量光碟的品質。另外，期望使形成於通常的DVD、緻密光碟等之其他種種的基板的樹脂膜之膜厚進一步均勻化，並且能降低基板的彎曲。

首先，說明本發明之基本想法。本發明係在被供給至藍光光碟等之基板上或DVD等之基板間的液狀物質藉由高速旋轉而被展延之過程中，於幾乎變成特定厚度的樹脂膜處照射圓環狀的光線。以被照射圓環狀的光線的面整體中之各面域的光能量之時間積分值幾乎成為均勻的方式，依序使圓環狀的光線之內徑與外徑變大。藉由對於前述樹脂膜之光照射面的任何面域照射幾乎均勻的光能量，不使基板產生彎曲。另外，於前述樹脂膜成為特定厚度之時間點，依序從內周側使其硬化，使確定為幾乎一定的厚度，藉由防止幾乎成為特定厚度處之液狀物質基於之後的高速旋轉而朝放射外方向移動，來謀求基板整面中之液狀物質的膜厚之均勻化及樹脂膜的平滑化。另外，此光照射即使是液狀物質被展延於基板整面後才進行，也可以使被展延的樹脂膜硬化。另外，以與基板上或基板間的液狀物質藉由高速旋轉之離心力而朝基板的外周方向展延之過程中，樹脂膜R成為特定厚度之時間同步，使環狀光OP的內徑放大為佳。另外，所謂硬化，係指樹脂固化至基於高速旋轉之離心力，樹脂膜R即使一部份都沒有朝外方向移動之程度為止。

[實施形態1]

藉由第1圖至第4圖說明關於本發明之實施形態1之樹脂膜形成方法及樹脂膜形成裝置。第1圖係說明關於本發明之實施形態1之樹脂膜形成裝置圖，第2圖係表示光照射部分之下面圖。第3圖係說明被照射於基板之環狀光的圖，第4圖係表示基板的旋轉形式與光照射頭的上昇速度形式之一例。首先，藉由第1圖來說明此樹脂膜形成裝置概略，此樹脂膜形成裝置係具備：依據所選擇的旋轉形式，將次世代大容量光碟等之基板1以旋轉中心X為中心旋轉之基板旋轉機構3；及對基板1照射圓環狀的紫外線光之光照射機構5；及控制基板旋轉機構3與光照射機構5之控制機構7。

基板旋轉機構3係被稱為旋轉器者，由：依據從控制機構7的記憶體部(未圖示出)被選擇的旋轉形式使旋轉軸9旋轉之旋轉驅動部11；及被固定於旋轉軸9的前端之基板承受台13；及防止液狀物質飛散於周圍之蓋構件15所形成，也可以是一般的旋轉器。雖未圖示出，作為其一例，係於別的位置具備：一般構成的旋轉機構與液狀物質供給機構，該液狀物質供給裝置的吐出噴嘴係將紫外線硬化型樹脂之類的液狀物質圓環狀地供給至基板1。圓環狀地被供給液狀物質之基板1，係藉由未圖示出之搬運機構而被移載至基板承受台13上。或作為別的例子，也可以在未圖示出的圖面表背方向旋轉之吐出噴嘴對被載置於基板承受台13上的基板1圓環狀地供給液狀物質。在此情形時，於光照射機構5動作之前，未圖示出的前述吐出噴嘴先旋轉退避。

光照射機構5係由：輸出紫外線光之紫外線光源17；及捆紮多數的光纖所形成的光纖纜線19；及照射環狀的紫外線光(以下，稱為環狀光)之光照射頭21；及使光照射頭21上下移動之頭昇降裝置23所形成。光照射頭21係由：位於光纖纜線19的前端部份，將從光纖纜線19的前端面所照射的剖面為小圓狀的波點狀紫外線光改變為環狀光，而照射環狀光之環狀光照射部25；及使來自環狀光照射部25之環狀光對於旋轉中心X成為特定的角度φ之方式，賦予朝外周側之方向的透鏡構件27；及光纖纜線19的前端部份所形成。此處，紫外線光源17與光纖纜線19係構成紫外線照射手段。頭昇降裝置23係由：未圖示出的電動機或將該電動機的旋轉力轉換為直線驅動力之直線驅動構件等所形成之構造，藉由使連結光照射頭21與頭昇降裝置23之該連結部份23A上下移動，來使光照射頭21昇降。光照射頭21的上昇速度，係決定從光照射頭21所照射之圓環狀的紫外線光之內徑與外徑的擴展速度，極為重要，以後再加以說明。光照射頭21的上昇速度係藉由控制機構7所控制。另外，透鏡構件27可以使用種種形狀者，及組合複數的透鏡者，例如一般的光學式相機所使用的變焦透鏡等種種之透鏡。

控制機構7係進行：將對於用以形成樹脂膜之液狀物質的種類、黏度等種種條件可以獲得所期望膜厚之旋轉程式(舉其一例，以第4圖的旋轉形式SP所示)複數儲存於該未圖示出之記憶體，來控制旋轉驅動部11的旋轉驅動之旋轉控制功能；及控制紫外線光源17的開關等之光控制功能；及依據對於樹脂膜之硬化特性或紫外線光源17輸出之光的照射強度等之諸條件，對基板1之整面照射幾乎均勻之光能量的上昇速度程式(舉其一例，以第4圖的上昇速度形式VP所表示)，來控制光照射頭21的上昇速度之上昇控制功能等。而且，此等旋轉程式及上昇速度程式係被儲存於個別之前述控制部中之記憶體，藉由選擇指令予以讀出，以所選擇的旋轉形式SP來控制旋轉驅動部11，另外，以所選擇的上昇速度形式VP，頭昇降裝置23係介由連結部份23A而使光照射頭21上昇。另外，此等旋轉程式及上昇速度程式，當然也可以是分別被儲存於旋轉驅動部11、頭昇降裝置23之構成。

環狀光照射部25係如第2(A)圖所示般，於光放射面側具備圓環狀部25a，光纖19A係呈圓環狀地被配置於圓環狀部25a。光纖纜線19係其前端部份在環狀光照射部25中被分開為圓錐狀或紡錘狀，光纖19A一條一條的前端於圓環狀部25a中，之呼位於同一平面地被配置呈圓環狀。

透鏡構件27，舉其一例，係抑制從B中之光纖19A的圓環狀前端面所被放射之環狀的紫外線光之散射，將環狀光OP的寬度盡可能保持為一定來進行對基板1照射的動作。透鏡構件27係以組合一般所使用之複數個透鏡之透鏡機構為佳，以能同時進行前述動作之方式，可以調整透鏡間距離等之透鏡構造者即可。在基板1為光碟基板之情形時，從環狀光的效率等之面而言，透鏡構件27與基板1之間的距離，以在10 mm~500 mm之範圍內為佳。環狀光OP係對於旋轉中心X以特定的角度(例如5~30度)朝外側傾斜。光照射頭21位於設定最下限位置，即透鏡構件27位於設定最下限位置(例如透鏡構件27的下面從基板1起10 mm上方的位置)時，環狀光OP可以照射被展延於基板1上之樹脂膜R的內周部之方式來決定環狀光OP的內徑。例如如第2(B)圖所示般，如將樹脂膜R的內徑設為D，環狀光OP的內徑必須比樹脂膜R的內徑D還小某種程度。因此，藉由頭昇降裝置23使光照射頭21從最下限位置朝上方移動，照射樹脂膜R的內周部分之環狀光OP朝基板1的外周方向移動。另外，如第2(B)圖所示之29，係位於基板承受台13之中央的中心瀟，進行基板1的位置定位等。

另外，在其他例子中，不使光纖纜線19及環狀光照射部25上昇，保持於一定位置，藉由具有由複數個透鏡所構成的變焦功能之透鏡構件27，來改變環狀光OP對於旋轉中心X之角度。例如透鏡構件27係具備與具有光學式相機中之便交功能的透鏡機構同樣的構造，藉由調整複數個透鏡的透鏡間距離，來改變環狀光OP對於旋轉中心X之角度，來將環狀光OP的內徑及外徑擴大。在此情形時，以在60度以下之範圍內來改變環狀光OP對於旋轉中心之角度為佳。舉其一例，基板上或基板間之液狀物質介由高速旋轉之離心力而朝基板的外周方向展延之過程中，於樹脂膜R成為特定厚度之時間點，藉由紫外線光使樹脂膜R依序硬化來依序確定其膜厚，與樹脂膜R成為特定厚度之時間同步來將環狀光OP的內徑擴大，透鏡構件27的前述變焦功能如此產生作用。

接著，說明實施形態1之樹脂膜形成裝置的動作。首先，圓環狀地被供給液狀物質之光碟基板般之基板1被載置於基板承受台13，一被吸附保持於基板承受台13時，藉由旋轉驅動部11，伴隨基板承受台13以所選擇之旋轉形式，例如第4圖所示之旋轉形式SP來旋轉，前述液狀物質在基板1上被展延。基板承受台13旋轉速度從零至高速幾乎直線地上昇過程之時刻t1，即由紫外線硬化型樹脂所形成的樹脂膜R的內周部成為特定膜厚之時刻t1，紫外線光源17開啟輸出紫外線光，該紫外線光通過光纖纜線19而藉由環狀光照射部25成為環狀的紫外線光，從位於設定最下限位置之光照射頭21的透鏡構件27來之環狀光OP被照射於樹脂膜R的內周部分。與此同時，控制機構7係以對應所選擇之旋轉形式SP之上昇速度形式VP來控制頭昇降裝置23，依據上昇速度形式VP來使光照射頭21上昇。

伴隨此，光照射頭21係依據上昇速度形式VP而沿著旋轉中心X上昇，即從基板1的上面離開而去，環狀光OP的內徑及外徑隨之變大。此處舉其一例，旋轉形式SP係如第4圖所示般，直到時刻t2為止，基板1的旋轉速度係直線地上昇，進而直到時刻t3為止，保持該旋轉速度。此旋轉速度例如為1000rpm。在此期間，進行被供給至基板1之液狀物質的主要展延，係成為在時刻t3~t4之區間，使基板1的旋轉速度降低，從時刻t4至時刻t6為止，保持其旋轉速度，於時刻t6使旋轉速度朝零降低之形式。在時刻t6之前的時刻T5中，停止環狀光OP之照射，光照射頭21的上昇也使停止。另外，使用之前述樹脂，並無特別限制，一般所使用之紫外線硬化型樹脂的吸收波長為200~400nm之範圍，在實施形態1中，係使用此種紫外線硬化型樹脂。

此處，所謂環狀光OP的內徑，係如第3圖所示般，環狀光OP之基板1的上面中之最內側的光OP1所形成的直徑W1係為內徑，以後稱為內徑W1。另外，所謂環狀光OP的外徑，係環狀光OP的基板1之上面中之最外側的光OP2所形成之直徑W2為外徑，以後稱為外徑W2。然後，將(W2－W1)/2稱為環狀光OP的寬度W。因此，如前述般，透鏡構件27位於設定最下限位置時，環狀光OP的內徑W1至少比樹脂膜R的內徑D稍微小，基板1為光碟基板之情形時，環狀光OP的最小的內徑W1例如為10~15 mm程度。在此狀態下，藉由環狀光OP，樹脂膜R的最內周部硬化，伴隨光照射頭21沿著旋轉中心X上昇，環狀光OP的內徑W1及外徑W2變大，以對應光照射頭21的上昇速度之速度，使基板1的上面從內周側朝外周側移動，樹脂膜R依序從內周側朝外周側硬化。此處，上昇速度形式VP係如第4圖所示般，環狀光OP照射光碟等之基板1的半徑比較小的面域，即內周側時，光照射頭21係以比較快的上昇速度上昇，隨著環狀光OP朝向外周側移動，光照射頭21的上昇速度降低之速度形式。詳細而言，光照射頭21的速度，係與環狀光OP的半徑成反比例。

實施形態1係藉由使光照射頭21上昇，伴隨環狀光OP的內徑W1及外徑W2變大，照射面積變大，每單位面積照射的環狀光OP的能量隨著朝外周側而去而變小。因此，在此實施形態1中，係使用：以前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量的量成為一樣之方式，伴隨環狀光OP的照射面積增加，光照射頭21的上昇速度降低之上昇速度形式VP。另外，也可以組合伴隨環狀光OP的照射面積增加，基板1的旋轉速度降低之旋轉形式SP來使用。

如依據此旋轉形式SP，於環狀光OP照射後，基板1的旋轉速度隨著時間經過而降低，從內周側朝外周側而去時，前述液狀物質的展延速度，即擴展速度變慢，並且環狀光OP的照射時間變長。另外，依據此上昇速度形式VP，伴隨環狀光OP朝上外周側而移動，光照射頭21的上昇速度降低，所以環狀光OP的內徑及外徑的擴展變慢，即環狀光OP的照射時間變長。因此，藉由選擇旋轉形式SP與上昇速度形式VP而予以組合，能夠一面使環狀光OP的內徑與外徑的擴展幾乎與樹脂膜R成為特定膜厚處從內周側朝外周側移動之速度相等，一面使在基板1的照射整面每單位面積的環狀光OP的照射能量幾乎均勻。因此如依據實施形態1，不單可以在基板1上形成均勻膜厚的樹脂膜R，且由於基板1的熱分布幾乎均勻，不會使發生彎曲，能夠獲得可以形成高品質的樹脂膜之光碟等。

在實施形態1的變形例中，控制機構7係具有前述的控制功能之外，且也具有：不單控制紫外線光源17的開關，依據由照射時間及照射強度所形成的光控制形式資料來控制紫外線光源17的控制功能。依據前述光控制形式資料，與在基板1面上的環狀光OP的照射面積之增加率，即環狀光OP的半徑的增加成比歷史環狀光OP的光度的增加率提高，來控制紫外線光源17之輸入電力。如此為之，也可以使前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量之量幾乎成為均勻，能夠獲得與實施形態1同樣高品質的基板。隨著基板1之間的距離的增加，環狀光OP朝基板的外周側移動，基板1的每單位面積的照射能量變小，為了補償該照射能量的降低，也可以組合旋轉速度慢的旋轉程式、上昇速度慢的上昇速度程式來進行。另外，在使環狀光OP的光度增加之情形時，當然也可以組合如前述之旋轉程式及上昇速度程式的一方或雙方來進行。另外，液狀物質對於基板1之供給，也可以在將基板1載置於基板承受台13之狀態下，使基板承受台13低速旋轉來進行。

[實施形態2]

依據第5圖及第6圖來說明本發明之實施形態2。第5圖表示關於實施形態2之樹脂膜的形成裝置所使用的光照射機構的一例圖，第6圖係表示光照射機構5A的環狀光照射部25A的一部份剖面圖。於第5圖及第6圖中，與第1圖至第4圖所使用的符號相同之符號，係表示相同名稱的構件。以虛線所示之光照射頭21A係藉由：將多數的光纖予以捆紮所形成之光纖纜線19的前端部份；及由具有使光纖纜線19的前端部份的中心位於旋轉中心X而予以保持，使從光纖纜線19的前端部份所放射的紫外線光導引為圓錐狀之圓錐狀內面31A之第1環狀光形成部31、及具有與第1環狀光形成部31協同動作來將紫外線光導引為圓錐狀之圓錐狀外面33A之第2環狀光形成部33所形成的環狀光照射部25A所構成。

第1環狀光形成部31與第2環狀光形成部33的各剖面部分(對於紙面為垂直的剖面)係被配置為以旋轉中心X為中心的同心圓狀，第2環狀光形成部33的頂點33B係位於旋轉中心X上。第1環狀光形成部31的圓錐狀內面31A與第2環狀光形成部33的圓錐狀外面33A之間，係具有特定距離，例如0.5~3.0 mm之均勻的間隙S，且形成圓錐狀的光路。間隙S係形成圓環狀的光照射口SE。第1環狀光形成部31的圓錐狀內面31A及第2環狀光形成部33的圓錐狀外面33A，係成為鏡面，成為不易吸收由光纖纜線19的前端部份所放射之紫外線光的面。

從光纖纜線19的前端部份所放射的紫外線光的中心點，係位於旋轉中心X上之第2環狀光形成部33的頂點33B，幾乎均勻地被分散，且幾乎不使第1環狀光形成部31的圓錐狀內面31A與第2環狀光形成部33的圓錐狀外面33A之間的間隙S衰減來導光。從光纖纜線19的前端部份所放射的紫外線光，係以幾乎一樣的光度於間隙S整體直直前進，從圓環狀的光照射口SE成為環狀光OP而被放射。此環狀光OP對於旋轉中心X係以角度φ被照射於基板1，如於實施形態1所說明般，環狀光照射部25隨著光照射頭21A的上昇而上昇時，從基板1的內周側朝外周側移動，使樹脂膜R從內側朝向外側而依序硬化。

關於光照射頭21之上昇速度等，係與實施形態1相同，省略其說明。另外，第1圖所示之控制機構7、及可以使旋轉軸9旋轉之旋轉驅動部11、及固定於旋轉軸9的前端之基板承受台13、及基板1等，係與實施形態1相同，於第5圖中予以省略。另外，雖未圖示出，但是在實施形態2中，也於環狀光照射部25A的下側安裝透鏡部，將通過該透鏡部所形成的環狀光照射於基板1當然亦可。當然也可以使光纖纜線19的前端部份之光纖一樣地分散，而引進至第1環狀光形成部31的圓錐狀內面31A與第2環狀光形成部33的圓錐狀外面33A之間的間隙S的中途為止。第1環狀光形成部31的圓錐狀內面31A與第2環狀光形成部33的圓錐狀外面33A，不一定要是圓錐狀，也可以是拋物線狀或圓弧狀、或半球狀者，只要是形成一定間隔之間隙S，且環狀光OP對於旋轉中心X以角度照射於基板1之構造，彼等之形狀並無特別限定。

[實施形態3]

依據第7圖說明關於本發明之實施形態3的樹脂膜形成裝置。第7圖中，與第1圖至第6圖所使用的符號相同符號者，設為表示相同名稱之構件。實施形態3的特徵，係在於以光照射機構5B中之以虛線所表示的光照射頭21B，特別是從光照射頭21B所輸出之環狀光OP交差後被照射於基板1上，藉由使光照射頭21B大型化，可以獲得光度大的環狀光OP。此光照射頭21B係由：光纖纜線19的前端部份；及配置於與該前端面附近相向之透鏡構件27；及第1反射構件35；及包圍第1反射構件35之四周而配置的第2反射構件37所形成。透鏡構件27例如係被稱為平行光管透鏡的透鏡構件，使從光纖纜線19的前端面所輸出的紫外線光成為不擴展之平行光，通過第2反射構件37的中央孔37B而照射於第1反射構件35。

第1反射構件35例如係被稱為圓錐反射鏡者，具有頂點35A與圓錐狀的反射外面35B，圓錐狀的反射外面35B接受來自透鏡構件27的前述平行光，並將該平行光反射於第2反射構件37。第2反射構件37係於半球狀或橢圓狀的反射內面37A的中央部具有中央孔37B者，其反射內面37A係反射來自第1反射構件35之圓環狀的紫外線光。此時，來自第1反射構件35之平行光係以某種寬幅環狀地照射於反射內面37A，來自反射內面37A的紫外線係成為環狀光OP。此處，第1反射構件35的圓錐狀之反射外面35B與第2反射構件37的半球狀的反射內面37A，係設定有傾斜角度，使得紫外線光從反射內面37A係對於旋轉中心X以特定角度φ被反射。來自第2反射構件37之反射內面37A的環狀光OP，係在旋轉中心X上的交點Xa交差後，以角度φ直直前進而被照射於基板1。因此，係於旋轉中心X上的交點Xa一度成為光點狀的紫外線光。

主要說明此實施形態3的動作與前述實施形態1、2的動作之不同點。在基板1係想以樹脂膜R來覆蓋上面整面之玻璃板等之情形時，光照射頭21B的設定最下限位置係設定在前述交點Xa附近。液狀樹脂被供給至基板1的中央面域後，藉由使基板1如前述般高速旋轉，基板1上的樹脂膜之厚度成為特定厚度之時間點時，位於設定最下限位置之光照射頭21B對基板1的中央面域中之特定厚度的樹脂膜R照射光點狀的紫外線光。之後，光照射頭21B依據所被選擇之上昇速度形式VP而上昇，光點狀的紫外線光成為環狀光OP，進而，使其內徑與外徑配合前述液狀物質的展延而擴展，於樹脂膜R成為特定厚度之時間點，使其依序硬化來依序使膜厚確定。因此，如依據此實施形態3，能使包含樹脂膜R的中心面域之整面以幾乎均勻之時間積分值的照射能量硬化，可以與實施形態1同樣地獲得高品質的基板。另外，如使光照射頭21B的設定下限位置與前述實施形態1、2相同地設定於從光照射頭21B所輸出之紫外線光在基板1上呈現特定內徑之環狀光OP的位置時，即使基板1為光碟基板，也與實施形態1、2完全相同地予以對應。

[實施形態4]

依據第8圖及第9圖來說明本發明之實施形態4。第8圖係表示關於實施形態4之樹脂膜形成裝置所使用的光照射機構的一例，第9圖係用以說明光照射頭之圖。第8、9圖中，與第1至第7圖所使用的符號相同之符號，係設為表示相同名稱的構件者。實施形態4也與實施形態3相同，特徵在於：能夠對應於包含基板1之中央面域之整面形成樹脂膜之情形時，或除了光碟等之基板1的中央面域而形成樹脂膜之情形的雙方。另外，在此實施例中，係具備輸出紫外線雷射光之雷射源38，來自雷射源38的紫外線雷射光係通過光纖纜線19而給予光照射機構5C之光照射頭21C。光照射頭21C主要係由：光纖纜線19的前端部份；及固定於其上之終端部39；及圓錐透鏡41所形成。終端部39係由紫外線的光透過性良好的材料所形成，使光纖纜線19的前端面位於同一平面狀地以支撐，終端部39的下端面係與圓錐透鏡41的上面接觸。圓錐透鏡41係由：承受來自終端部39的剖面圓形狀的光點光之短圓柱部41A；及延伸於其下側之圓錐狀部41B所形成，從圓錐狀部41B輸出傾斜於該傾斜面方向，即對旋轉中心X以特定角度交差之環狀光OP。

從光纖纜線19的前端面所輸出的紫外線雷射光，係通過終端部39而射入圓錐透鏡41的短圓柱部41A，從圓錐狀部41B的圓錐狀面41C輸出環狀光OP。此紫外線雷射光於圓錐狀面41C中，雖係以圓錐狀部41B的頂點41D為中心的小圓形狀者，但是係成為對應圓錐狀部41B的圓錐狀面41C的傾斜面之角度而垂傾斜的光線，在旋轉中心X上交差後，以角度φ擴展之環狀光OP。此處，圓錐狀部41B的頂點41D之緊鄰下側處，係為以旋轉中心X為中心之剖面圓形狀的光點光，與實施形態3相同，在基板為玻璃板等，想要在包含其上面之中心面的整面形成樹脂膜R之情形時，此實施形態4也可以予以對應。

於基板1想要以樹脂膜R覆蓋上面整面之玻璃板的情形時，係如第9圖所示般，1匙設定最下限位置係設定成：從圓錐透鏡41的圓錐狀面41C所輸出的環狀光在樹脂膜R的上面成為剖面圓形狀的紫外線雷射光之位置。液狀樹脂被供給至基板1的上面之中央面域，該基板1被載置於基板承受台13而被吸附保持時，控制機構7以所選擇之旋轉形式SP來使旋轉驅動部11動作。於高速旋轉中，基板1中之中央面域之樹脂膜R的厚度成為特定厚度之時間點，位於設定最下限位置的光照射頭21C係將剖面圓形狀的光點光之紫外線雷射光照射於樹脂膜R的中央面域。之後，光照射頭21C依據所選擇的上昇速度形式VP而上昇，照射於樹脂膜R的中央面域之光點光成為基於紫外線雷射光之環狀光OP，進而，使其內徑與外徑配合前述液狀物質的展延而擴展，於樹脂膜R成為特定厚度之時間點使其依序硬化，來使樹脂膜R的膜厚依序確定。

因此，如依據此實施形態4，能以幾乎均勻之時間積分值的照射能量使包含樹脂膜R的中心面域之整面硬化，與實施形態1相同，可以獲得具備均勻膜厚且平滑性優異的樹脂膜之高品質的基板。另外，在基板1為光碟基板的情形時，將光照射頭21C的設定最下限位置和實施形態1、2相同地設定於從光照射頭21C所輸出的環狀光OP在基板1上呈現特定的內徑之環狀光OP之位置。另外，不使用光纖纜線19或終端部39，使用以紫外線照射燈等來輸出紫外線光之紫外線照射手段，將來自該紫外線照射手段的紫外線光直接照射於圓錐透鏡41當然也可以。

[實施形態5]

接著，依據第10圖說明本發明之實施形態5。第10圖係表示關於實施形態5之樹脂膜形成裝置所使用的光照射機構之一例，第10(A)圖係說明光照射機構5D之圖，第10(B)圖係說明光照射機構5D之雷射光照射手段之配置圖。第10圖，與第1圖至第9圖所使用的符號相同的符號，係設為表示相同名稱的構件。此光照射機構5D係由：雷射用電源43；及光照射頭21D；及使光照射頭21D上下移動之頭昇降裝置23所形成。光照射頭21D主要由產生紫外線區域的雷射光之個別的雷射二極體或小型的雷射管等所形成之雷射光照射手段45A~45L之點係與實施形態1~4不同。雷射光照射手段45A~45L係以能進行對於旋轉中心X之角度調整的方式而被圓環構件47所支撐。對於旋轉中心X之角度即使被固定為特定角度φ亦可。雷射用電源43雖具有對於雷射光照射手段45A~45L供給幾乎一定的電力之定電力控制功能，但是也可以是伴隨藉由頭昇降裝置23而使光照射頭21D上昇，使供給電力增加之電力控制功能者。各雷射光照射手段45A~45L係藉由配線49而與雷射用電源43連接。

在此實施形態5中，係使從作為紫外線發光源之雷射光照射手段45A~45L所輸出的雷射光交差來形成環狀光OP，例如在基板1為光碟基板時，也可以在與該光碟基板的外徑相同程度，或其以上之直徑的假想圓上多數配置雷射光照射手段45A~45L。因此，也可以照射功率大的環狀雷射光，具有能將每單位時間大的照射能量照射於基板1上之效果。另外，在第10(B)圖中，個別之雷射光照射手段45A~45L之間雖有間隙，但是藉由無間隙地密接配置，或相互錯開位置而雙重地配置雷射光照射手段，可以獲得照射能量密度更高的環狀光OP。

如第10(A)圖所示般，位於相互相向位置之雷射光照射手段45A與45G所輸出的雷射光，係於旋轉中心X上之交點Xa交差而直直前進。來自其他的雷射光照射手段之雷射光也相同，由全部的雷射光照射手段45A~45L之各個所輸出的雷射光，係朝向旋轉中心X上的交點Xa而直直前進，於交差後，在基板1的上面形成環狀光OP。因此，如決定光照射頭21D之設定最下限位置，使得雷射光交差之點Xa能位於基板1的上面，則與實施形態3、4之情形相同，可以使形成於包含基板的中央面域之整面之樹脂膜均勻地硬化。另外，在基板1為光碟基板之情形時，在雷射光於點Xa交差後，成為具有特定內徑的環狀光，決定光照射頭21D之設定最下限位置，使得該環狀光OP能照射於基板1的上面即可。藉由頭昇降裝置23，以所選擇之上昇速度形式VP來使光照射頭21D從設定最下限位置上昇，能使雷射光不照射於光碟基板的特定之中央面域而一樣地照射其他的面域。

[實施形態6]

接著，依據第11圖說明本發明之實施形態6。第11圖係表示關於實施形態6之樹脂膜形成裝置所使用的光照射機構之一例，第11(A)圖係說明光照射機構5E之圖，第11(B)圖係說明光照射機構5E之雷射光照射手段的配置圖。第11圖中，與第1圖至第10圖所使用的符號相同之符號，係設為表示相同名稱的構件者。在此實施形態6中，作為紫外線發光源，使用被配置為圓環狀的雷射光照射手段45A~45L之點，雖與實施形態5相同，但是並無將此等由雷射光照射手段45A~45L所形成之光照射頭21E上昇使從基板1分離之必要。此點，也與前述之任何一個實施形態1~5不同。

雷射光照射手段45A~45L係以對於旋轉中心X之角度可以容易變更之方式而以一定間隔被軸支於圓環構件47。代替實施形態5中之頭昇降裝置23而具備角度調整裝置51。例如，角度調整裝置51係由：圓板狀的上下動構件53；及以特定的下降速度將上下動構件53朝下方向驅動之上下驅動構件55；及機械性地將雷射光照射手段45A~45L各個之一端與上下動構件53結合之各個臂片57所形成，使得全部的雷射光照射手段45A~45L能以同一角度同時變更。各個之臂片57係全部為相同長度，其一端與上下動構件53結合，另一端與雷射光照射手段45A~45L結合。即以各個之臂片57的兩端對於上下動構件53與雷射光照射手段45A~45L可以自由地改變角度之方式，軸支地與上下動構件53及雷射光照射手段45A~45L結合。

在此實施形態6中，也與實施形態4、5相同，不對基板1的特定之中央面域照射雷射光，以其他之光照射面的每單位面積之光照射能量成為一樣之方式來照射，另外，也可以使形成於包含基板1的中央面域之整面之樹脂膜均勻地硬化。因此，此樹脂膜形成裝置可以對應基板1不於中央面域形成樹脂膜之各種的光碟基板，或整面被覆蓋之玻璃板等之雙方。上下驅動構件55如壓下上下動構件53時，通過各個之臂片57，有壓下雷射光照射手段45A~45L之力量作用。此壓下力係對各雷射光照射手段45A~45L產生以圓環構件47為支點之慣性矩，使各雷射光照射手段45A~45L朝箭頭所示方向旋轉。伴隨此，各雷射光照射手段45A~45L所輸出之雷射光對於旋轉中心X之角度變大，各雷射光照射手段45A~45L所輸出之雷射光交差之交點Xa朝旋轉中心X的上方移動。

而且，通過交點Xa直直前進之雷射光所形成之基板1上的環狀光OP的內徑及外徑變大。因此，依據從儲存於如第1圖等所示之控制機構7的角度變更程式所選擇的角度變更形式，將雷射光照射手段45A~45L對旋轉中心X之角度予以改變，能使樹脂膜R在成為特定厚度之時間點依序硬化。另外，也可以使角度調整裝置51對被配置於假想圓上之各雷射光照射手段45A~45L施加放射方向的力量，藉由將雷射光照射手段45A~45L朝外側拉動，來變更對於旋轉中心X之角度。另外，也可以是以未圖示出之各個驅動構件來驅動雷射光照射手段45A~45L之各個之構成。另外，於以上說明之實施形態5、6中，雖就藉由雷射光來形成環狀光OP之合適的例子來做說明，但是不一定要為雷射光，也可以是通常之紫外線光。在此情形時，雷射光照射手段45A~45L可以是發光二極體(LED)或組合小電燈泡與透鏡之個別的光照射手段。

於以上說明之實施形態1~4中，係將紫外線光源17配置於與光照射頭21、21A~21C不同之別的位置，將紫外線光源17所產生之紫外線光藉由光纖纜線19而引導至光照射頭21、21A~21C，並無特別冷卻光照射頭21、21A~21C之必要。因此，光照射頭21、21A~21C的小型輕量化係屬可能，此可導致光照射頭21、21A~21C之驅動電力的降低化、動作響應的高速化，非常理想。但是，也可以雖需要強制冷卻手段，但是作為紫外線光源17，例如使用未圖示出之紫外線照射燈，藉由使用具有使該光以特定寬度通過之圓環狀的縫隙之未圖示出的圓環狀透光構件，以圓環狀的縫隙來形成環狀光之構造者亦可。另外，於實施形態1~4中，雖未圖示出，將捆紮複數的光纖之光纖構件予以複數捆紮來構成光纖纜線19，使該複數的光纖構件之前端部分分散於位於同一圓狀來形成環狀光亦可。在此情形時，不需要強制冷卻小型輕量的光照射頭21、21A~21C，可以獲得更大光度的環狀光。

另外，為了使環狀光OP所照射之前述基板的各面域中之光能量的照射時間積分值成為均勻，以使環狀光OP的內徑之擴展速度和基板1的中央側相比，使外周側變慢之方式，在實施形態1~5中，控制光照射頭21、21A~21D的上昇速度，於實施形態6中，控制藉由角度調整裝置51之雷射光照射手段45A~45L的角度調整控制亦可。本發明也可以適用於如以往般，使液狀物質展延於基板上之後，才照射紫外線光之情形。另外，除了實施形態6，於實施形態1~5中，依據與上昇速度形式VP相反的下降速度形式，使旋轉器下降，使基板1與光照射頭21、21A~21D之間隔變寬，來使基板1上之環狀光OP的內徑及外徑擴展開亦可。

本發明如前述般，於對次世代光碟中之光碟基板形成均勻且薄之膜厚的覆蓋層時特別有用，但是，在於各種之DVD中之光碟基板或玻璃等種種之基板間形成藉由接著劑之膜厚的均勻樹脂膜，且將基板彼此予以貼合之情形時，或對於種種之基板形成膜厚均勻之樹脂膜時也有用。另外，在將基板彼此予以貼合之情形時，於一方之基板上以環狀或點狀供給接著劑，於其上重疊另一基板之狀態下，使高速旋轉，於基板間使接著劑展延來形成樹脂膜R，於該樹脂膜R成為特定膜厚之階段，通過前述另一方基板如前述般照射環狀光，使樹脂膜R依序硬化，於該膜厚成為一定之階段使膜厚確定為佳。

[實施形態7]

接著，藉由第12、13圖來說明關於本發明之實施形態7的樹脂膜形成方法。第12、13圖中，與在第1~11圖所使用的符號相同符號，係設為表示相同名稱之構件者。本發明係直到如藍光光碟等基板1之外周端的前緣之第1位置Y為止照射光，於第1位置Y中止或中斷光的照射(以下，稱為停止)。一般以直到設定位置為止照射在光照射與非照射之境界處不產生凹凸之具有緩和的強度分布的光(光的照射範圍廣)為佳。但是，如此在基板1的外周端之前緣的第1位置Y停止光的照射之情形時，樹脂膜R的硬化收縮率小，且具有緩和的傾斜之強度分布的光要不超越第1位置Y來照射有其困難。

另外，如盡可能地使光不超越樹脂膜R的第1位置Y來照射時，第1位置Y之前緣的光之照射與非照射之中間的區域，即硬化之進行方式不同之區域變得很寬，基於之後的工程，此中間的區域有導致樹脂膜R之平坦性降低的問題。因此，本發明之實施形態7，係在使光移動至藉由高速旋轉所形成的樹脂膜R之設定位置之第1位置Y為止的過程中，直到第1位置Y的前緣之第2位置Z為止，照射於光照射與非照射之境界處，基於硬化收縮率之不同，不於樹脂膜R產生凹凸之具有傾斜緩和的強度分布之光。並且，光到達第2位置Z時，開始控制該光的強度分布，於光到達第1位置Y時，控制光使至少具有事先決定的急遽之傾斜的強度分布。

如依據此實施形態7，在樹脂膜R之第1位置Y的光照射與非照射之境界變得鮮明，樹脂膜R的硬化與非硬化的中間之區域變窄，可以不使比第1位置Y更外周側的樹脂膜R硬化，可以提升比第1位置Y更內側之樹脂膜R的平坦性。即第1位置Y附近之光的照射與非照射之境界的不鮮明之中間區域，一部分的樹脂呈現硬化傾向的狀態，即處於硬化不充分的狀態。此硬化不充分的樹脂膜R之區域，在下一高速旋轉處理時，基於離心力，會朝外周側移動而變薄，使得樹脂膜R的平坦性降低，光的照射與非照射之境界(第1位置Y)的不鮮明區域愈窄，對於樹脂膜R之平坦性的提升愈好。或前述不鮮明區域如延伸至第1位置Y的外周側，基於之後的高速旋轉處理，該區域不會變得平坦，總之，平坦性降低。

作為前述液狀物質，於使用紫外線硬化型樹脂之情形時，此處所使用的光係紫外線。第1光U1係例如第13圖所示般，具有光能量(強度)緩和地上昇至峰值，營峰值起比較緩和地下降之照射範圍寬的山型之強度分布(傾斜緩和)的光，光的照射與非照射之境界的強度緩和地變化。即第1光U1為環狀光或圓形的光點狀光時，圓形狀的基板1之半徑方向的光寬度的強度分布之傾斜，係在光照射與非照射之境界不使樹脂膜R產生凹凸之緩和地變化之光。因此，在光照射面Rb之第1光U1中之基板1的半徑方向之光寬度，係比後述之第2光U2的光寬度還大。另外，在此實施形態7中，係使用圓形狀的基板1之半徑方向的光寬度的強度分布之傾斜於該光的移動過程中，在光照射與非照射之境界不使樹脂膜R產生凹凸之緩和地變化之光，光不單是環狀光，也可以使用圓形或橢圓形的光點狀光。

此處，第1光U1為具有緩和山型的強度分布之光的表現，係指後述的第2光U2的陡峭山型的強度分布之上昇傾斜、或與上昇與下降傾斜對比，第1光U1的強度分布之上昇傾斜、或上昇與下降傾斜緩和。因此，第1光U1可以是來自未圖示出之光源的光本身者，或擴張該光之光，或縮小來自光源之光，例如縮小焦點之光，在光照射與非照射之境界不使樹脂膜R產生凹凸之緩和地變化之光。此處，光的強度分布之上昇及下降傾斜，即使相互幾乎相同、不同皆可，光的強度分布之上昇會影響樹脂膜之硬化收縮的變化率。即光的強度分布之下降通過時，樹脂膜已經硬化，光的強度分布之下降不會影響樹脂膜之硬化收縮率，所以光的強度分布之下降傾斜實質上不會成為問題。另外，光的強度分布之上昇係指照射於基板1之光的強度分布之外周側(光的進行方向)的傾斜，下降係指基板1之中心軸線X側之傾斜。

接著，具體地說明實施形態7之樹脂膜形成方法時，樹脂藉由高速旋轉而被展延，樹脂膜R形成於基板1上之期間或形成後，如第12(A)圖所示般，第1光U1被照射於樹脂膜R的內周端Rb。第1光U1的照射時間係如第12(C)圖所示般，從樹脂膜R的內周端Rb成為特定膜厚之時刻t1(以下，稱為光照射開始時刻t1)至經過第1設定時間T1之時刻t2為止之間，第1光U1於第1設定時間T1之間，從內周端Rb將光照射面Rb移動至第1位置Y的前緣之第2位置Z。即第1光U1於時刻t2係到達第2位置Z。在此第1光U1移動的過程中，任何照射處所都是依據第1光U1的強度分布而使光的強度變化，以使光的強度成為一樣之方式，使前述第1光所照射之照射面的每單位面積的光照射能量成為一樣為佳。

如前述般，藉由旋轉塗佈法來形成樹脂膜R時，在外周部處，產生膜厚變厚之較厚部分Rc，第1位置Y係較厚部分Rc的內周側稍前之設定位置。第1光U1的移動速度為一定，或以事先決定的速度程式變化之速度，第1光U1從樹脂膜R的內周側Rb至第1位置之前緣的第2位置Z為止移動之所需要時間，可以事先正確地求得，該所需要時間係第1設定時間T1(時刻t1~t2)。此第1設定時間T1係受到後述之第2設定時間T2的長度所左右。此處，第1光U1係其半徑方向的強度分布之傾斜緩和地變化之光，光的照射與非照射之境界呈現比較不鮮明的狀態，不會產生如以往般塗膜的平坦性降低、彎曲或外觀上之問題。

第2光U2係如第13圖所示般，與第1光U1相比，強度分布急遽之傾斜的光。第2光U2係設定成具有在第1位置Y之光的照射與非照射之境界變得鮮明之程度的傾斜之強度分布。即第2光U2係使第1光U1的強度分布於第2設定時間T2(t2~t3)以內變化至設定強度分布，於第2設定時間T2內，強度分布的傾斜成為急遽傾斜之光。因此，光的強度分布之變更速度如變快，則第2設定時間T2短，就該量可以使第1設定時間T1變長。另一方面，強度分布的變更速度如變慢，則第2設定時間T2變長，就該量可以使第1設定時間T1變短。第2光U2係照射直到樹脂膜R為較厚部分Rc之稍前的第1位置Y為止，實質上不照射於較厚部分Rc而消滅。

第2位置Z至第1位置Y之少許距離的面域，係被照射傾斜比第1光U1更急遽之第2光U2，所以可以與至第2位置之第1光U1的每單位面積之光能量幾乎相等，能夠使基板1的照面面整面之光能量幾乎成為一樣。另外，在第1位置Y，第2光U2的照射與非照射之境界鮮明，樹脂膜R被硬化至較厚部分Rc之稍前緣為止，較厚部分Rc殘留為未硬化之狀態。此時，不用如以往般具備遮住光的照射之遮罩構建，不會對不需要光的照射之區域照射光，能夠選擇性地照射所期望的強度分布之光。樹脂膜Rc之未硬化的較厚部分Rc，係原樣地被放置而變得平坦，或於進行用以對未硬化狀態的較厚部分Rc施以離心力使其平坦化之附加的旋轉處理後，予以照射光使其硬化。

[實施形態8]

藉由第12至16圖來說明關於本發明之實施形態8的樹脂膜形成方法及樹脂膜形成裝置。第14圖係用以說明關於本發明之實施形態8之樹脂膜形成裝置之圖，第15圖係用以說明光的照射之圖。第16圖係表示基板之旋轉程式之一例的旋轉形式SP之圖。於第14及15圖中，與第1及第2圖所使用的參照符號相同的符號，係設為表示相同名稱之構件者。在此實施形態8中，以於光照射與非照射之境界處，不使樹脂膜R產生凹凸之具有緩和的傾斜之強度分布的圓環狀之第1光線U1，其照射面域之光能量的時間積分值(總光量)成為幾乎均勻之方式，對應樹脂膜之展延速度依序使圓環狀的光線U1的內徑及外徑變大。藉由對基板1的光照射面之整面照射幾乎均勻之光能量，使從樹脂膜的內周側依序硬化，確定為幾乎一定的厚度而去。而且，藉由防止已成為幾乎特定厚度處之液狀物質基於之後的高速旋轉而朝放射外方向移動，不使基板產生彎曲，來謀求基板整面中之液狀物質的膜厚之均勻化及樹脂膜的平坦化。另外，基板1雖係具有1層以上的訊號記錄層之光碟基板，或玻璃基板等，但是，此處係以高記錄密度的光碟等之光碟基板作為基板1。

在實施形態8中，光照射機構5F具備焦點變更部28之點，係與實施形態1所示之第1圖的樹脂膜形成裝置不同。焦點變更部28係改變環狀光照射部25與透鏡構件27的間隔來控制環狀光的焦點。透鏡構件27作為其之一例，係控制從環狀光照射部25中之光纖19的圓環狀前端面所放射之圓環狀的紫外線之散射，進行將環狀光保持為特定寬度而照射於基板1之作用。此實施形態8之透鏡構件27雖可以是組合一般所使用之複數個透鏡之透鏡構件，以同時進行前述作用之方式，藉由調整透鏡間距離等可以變更焦點之透鏡構造者，但是可以使用組合各種形狀的透鏡者，例如一般光學式相機所使用之變焦透鏡構造等種種之透鏡構造。在此實施形態中，基板1係光碟基板，透鏡構件27與基板1之間的距離，從環狀光的效率等方面而言，以在10~500 mm之範圍內者為佳。此處，環狀光照射部25與透鏡構件27與焦點變更部28係構成光強度分布變更機構的一例。

環狀光係對於旋轉中心X以特定角度(例如5~30度)保有傾斜成為圓錐狀。光照射頭21在設定最下限位置，即透鏡構件27位於設定最下限位置(例如，透鏡構件27的下面從基板1起10 mm上方的位置)時，以環狀光之第1光U1可以照射展延於基板1上之樹脂膜R的內周部之方式，來決定圓環狀的第1光U1的內徑。例如，如第15(B)圖所示般，如設樹脂膜R的內徑為D，則第1光U1的內徑必須比樹脂膜R的內徑D小某種程度。因此，藉由頭升降裝置23使光照射頭21從最下限位置朝上方移動，照射樹脂膜R的內周部分之第1光U1朝向基板1的外周方向來移動。

此實施形態8的控制機構7係將對於用以形成樹脂膜R之液狀物質的種類、黏度等之種種條件，可以獲得所期望膜厚之旋轉形式(舉其一例，第16圖的曲線SP所示)複數儲存於該未圖示出的記憶體。控制機構7係具備：控制旋轉驅動部11之旋轉驅動的旋轉控制功能；及控制紫外線光源17之開關等的光控制功能；及依據對於樹脂膜之硬化特性或紫外線光源17所輸出之光的照射強度等之諸條件，能於基板1的整面照射幾乎均勻的光能量之上升速度程式(舉其一例，第16圖之速度形式VP所示)，來控制光照射頭21的上升速度之上升速度控制功能；及於第12(C)圖所示之時刻t2，將訊號送至焦點變更部28，使透鏡構件28的焦點切換之焦點調整功能等。

接著，說明實施形態8之樹脂膜形成裝置之動作。針對與實施形態1同樣的部分之動作，省略其說明。藉由基板承受台13的旋轉，在由紫外線硬化型樹脂所形成的樹脂膜R之內周部成為特定膜厚之光照射開始時刻t1，控制機構7使光照射機構5F的紫外線光源17開啟來輸出紫外線。該紫外線係通過光纖纜線19而藉由環狀光照射部25成為圓環狀的紫外線，圓環狀的第1光U1從位於設定最下限位置之光照射頭21的透鏡構件27照射於樹脂膜R的內周端Rb(第12圖)。

此時，透鏡構件27係藉由焦點變更部28被調整為呈現特定的緩和焦點。來自透鏡構件27的圓環狀的第1光U1，係具有如第13圖說明之光能量的傾斜緩和的高斯分布(正常化分布)的強度分布之光。而且，與第1光U1的照射幾乎同時，控制機構7以對應所被選擇之旋轉形式SP之速度形式VP(第16圖之曲線VP)來控制頭升降裝置23，使光照射頭21依據速度形式VP上升。

伴隨此，光照射頭21依據速度形式VP而沿著旋轉中心軸線X上昇，即從基板1的上面分開而去，第1光U1的內徑及外徑變大，第1光U1從內周側往外周側移動。此移動速度係依據樹脂膜R被展延，從內側往外側而成為特定厚度之時間所決定。即使圓環狀的第1光幾乎配合前述液狀物質的展延而朝外周側移動，於樹脂膜R成為特定厚度之時間點，依序使其硬化，並依序確定該膜厚。然後，於從光照射時刻t1至經過第1設定時間T1之時刻t2作為，第1光U1到達第1圖說明之第1位置Y之前緣的第2位置Z者，在從光照射開始時刻t1經過第1設定時間T1之同時(時刻t2)，控制機構7對焦點變更部28送出訊號，焦點變更部28改變透鏡構件27與環狀光照射部25之間隔，將透鏡構件27的焦點開始縮小至事先設定的焦點。

藉由此一連串的動作，第1光U1於對應樹脂膜R的第1位置Y之前緣的第2位置Z之時刻t2，交點被開始縮小而成為第2光U2。第2光U2在相當於從時刻t2經過第2設定時間T2之時刻t3之位置的第1位置Y，成為至少具有如第13圖之曲線U2所示的急遽傾斜之設定強度分布的圓環狀之第2光U2。在此狀態下，當然第2光U2的光寬度比第1光U1還窄，另外，光能量的峰值變成比第1光U1更大。第2光U2其移動速度係以照射面所接受的每單位面積之總光量，幾乎與在特定位置Z之第1光U1的每單位面積的總光量成為相等之方式而被決定。依據情形，第2光U2的照度受到控制。因此，第2光U2係在第2設定時間T2內焦點的光圈變強之光，焦點變更部28的焦點變更速度如快速，則第2設定時間T2變短，焦點變更部28的焦點變更速度如慢，則第2設定時間T2變長。由此，第2設定時間T2如短，就該縮短量可使第1設定時間T1變長，較為理想。另外，在第2光U2的焦點的光圈變強之過程中，可以藉由後述的電力控制，來控制紫外線光源17所發出之光的光度，例如控制峰值，使得每單位面積的總光量成為幾乎一定。

而且，第2光U2在第1位置Y成為最終的強度分布，在該設定強度分布的第2光U2到達第1位置Y之時刻t3，控制機構7對紫外線光源17送出關閉訊號而其消滅。在實施形態8中，第1光U1與第2光U2並不照射於樹脂膜R以外，所以即使以同一基板旋轉機構3來進行光的照射，幾乎不照射於基板旋轉機構3的蓋構件15等。使樹脂膜R硬化至第1位置Y的內側為止，如有必要，進行旋轉處理，使前述未硬化的較厚部分Rc平坦化，且照射第3光U3使其硬化。

實施形態8係藉由使光照射頭21上昇，圓環狀的第1光U1的基板1之半徑方向的光寬度擴展開，隨之當然照射面積變大，所以每單位面積之照射的第1光U1的能量，係隨著朝向外周側而變小。因此，在此實施形態8中，係利用：以照射於樹脂膜R之紫外線的照射能量幾乎成為均勻之方式，伴隨第1光U1之照射面積增加，光照射頭21的上昇速度降低之速度形式VP。另外，也可以組合：伴隨第1光U1的照射面積增加，基板1的旋轉速度降低之旋轉形式來使用。

如依據此速度形式VP，伴隨第1光U1朝向外周側移動，光照射頭21的上昇速度降低，所以，第1光U1的內徑與外徑的擴展變慢，即移動速度變慢，第1光U1的照射時間變長。因此，藉由選擇旋轉形式SP與速度形式VP而予以組合，可以一面使第1光U1的內徑與外徑的擴展與樹脂膜R成為特定膜厚之處從內周側朝外周側移動而去之速度幾乎相等，一面在基板1的照射整面使第1光U1的照射能量之時間積分值成為幾乎均勻。因此，如依據實施形態8，不單可以在基板1上形成均勻膜厚的樹脂膜R，也可以使基板1的熱分布幾乎變得均勻，所以能夠獲得不會產生彎曲，且形成高品質的樹脂膜之光碟等。

在實施形態8之別的例子中，控制機構7係具有前述的控制功能之同時，不單是紫外線光源17的開關，也具有：依據由照射時間及照射強度所形成之光控制程式，來控制供給至紫外線光源17之電力的控制功能。如依據前述光控制程式，係控制紫外線光源17的輸入電力，使得與基板1面上之第1光U1的照射面積的增加率，即第1光U1的半徑的增加成比例，來提高第1光U1的照度的增加率。即使如此為之，在基板1的整面也可以使第1光U1的照射能量的時間積分值，即每單位面積的總光量成為幾乎均勻，可以獲得與前述實施形態8同樣高品質的基板。隨著與基板1之間的距離增加，第1光U1朝基板的外周側移動，基板1之每單位面積的照射能量變小，為了補償該照射能量的降低，也可以組合旋轉速度慢的旋轉形式、上昇速度慢的上昇速度形式來進行。

另外，在增加第1光U1的光度之情形時，當然也可以與前述的旋轉形式及上昇速度形式之一方或雙方組合來進行。另外，液狀物質對基板1的供給，係在將基板1已載置於基板承受台13之狀態下，一面使基板承受台13低速旋轉一面進行。在以上之實施形態7、8之說明中，雖針對基板1上的樹脂膜R來說明，但是與貼合了基板彼此之情形的基板間的液狀物質藉由高速旋轉之離心力，而朝外周方向展延的過程中，樹脂膜成為特定厚度之時間同步，使第1光U1朝外周側移動，也有同樣的效果。另外，在最外周的前緣，藉由從第1光U1切換為第2光U2，可以使從未圖示出的基板間之外周端面溢出的樹脂不硬化，其之除去能夠容易地進行。進而，在從基板的外周端面溢出的樹脂不硬化之狀態下，如進行未圖示出之一方的剝離用之基板的剝離，剝離時不會發生粉塵，可以獲得高品質的多層構造之光碟。另外，此光照射即使在液狀物質被展延於基板整面後進行，也可以使被展延之樹脂膜硬化。

藉由第17圖來說明實施形態8中之光照射機構5F的別的例子。第17圖中，與第14圖及第15圖所使用的符號相同符號者，係設為表示相同名稱之構件者。第17圖所示之光照射機構5G的例子，係代替實施形態1之紫外線光源17，使用發出紫外線之發光二極體LED。複數個發光二極體LED係密接於外殼的圓環狀之外壁部41與圓環狀的內壁部42之間，或以少許之間隙而配置，此等係構成環狀光照射部25。此例子之環狀光照射部25，係環狀光照射部25本身在透鏡構件27的附近產生圓環狀的紫外線。環狀光照射部25的圓環狀之光，係藉由在實施形態8說明者同樣的透鏡構件27及焦點變更部28，而被作成具有如第13圖所示之正常化分布之照度的第1光U1，進而第2光U2。

進而，第18圖所示之光照射機構5H的環狀光照射部25之別的例子，係使用適當直徑的圓環狀之紫外線照射燈LP。第18圖中，與第14至第17圖所使用的符號相同符號者，係設為相同名稱之構件者。圓環狀的紫外線照射燈LP係設置於外殼的圓環狀之外壁部41與圓環狀的內壁部42之間，紫外線照射燈LP所發出之紫外線，係成為幾乎朝向透鏡構件27。此例子之環狀光照射部25，也是本身在透鏡構件27的附近發出圓環狀的光。於此等例子中，只要不進行藉由特別的電力控制之光度控制，第2光U2和第1光U1相比，該光能量的峰值比較大。

因此，在此等例子中，與實施形態8不同，複數個發光二極體LED或圓環狀的紫外線照射燈LP係光源，不單可以省略捆紮多數光纖之光纖纜線，代替光纖纜線，可以將可撓性優異之堅固的金屬配線連接於環狀光照射部25，能夠容易地使具備環狀光照射部25之光照射頭21於上下方向昇降，可以提高裝置的可靠性。另外，第1光U1、第2光U2的照射，也可以在形成樹脂膜R後，藉由不同於基板旋轉機構3之別的光照射位置來進行。另外，關於環狀光照射部25，也可以另外考慮種種的構成，本發明並不受到環狀光照射部25之構成所限制。

[實施形態9]

依據第19及20圖來說明本發明之實施形態9。第19圖係用已說明實施形態9之樹脂膜形成裝置的圖，第20圖係用已說明實施形態9的樹脂膜形成方法圖。第19及第20圖中，與第14至第18圖所使用的符號相同之符號，係設為表示相同名稱的構件者。此實施形態9與實施形態8不同處，在於代替環狀光而將光點狀的光照射於樹脂膜。光點狀的光係與照射面之樹脂膜平行，從內周側朝外周側移動的圓形狀或於移動方向比較長之長圓狀(橢圓狀)的光。在實施形態9中，光點狀的光之照射工程中，基板1一定以所選擇的旋轉形式或一定速度來旋轉。

第19圖中，此光照射機構51係由：紫外線光源17、透鏡構件27、焦點變更部28、及平行移動機構60等所形成。紫外線光源17雖未圖示出，但是由：發出紫外線之發光構件與調整其照度之構件與開關機構等所形成，藉由來自控制機構7之訊號，進行照度調整及發光的開、關。紫外線光源17的前述發光構件係由：發出所期望波長之紫外線的雷射二極體、小型雷射管、發光二極體、或紫外線燈等所形成。在由前述發光構件雷射二極體或發光二極體所形成之情形時，因應需要，將複數個雷射二極體或發光二極體予以密接來配置為圓狀或長圓狀，來獲得圓狀或長圓狀的光點光亦可。平行移動機構60係由：如導軌之導引構件60A；及使導引構件60A於第19圖中左右移動的移動構件60B；及將該移動構件60B與由光照射機構51等所形成的光照射頭21結合之結合構件60C所形成。另外，E係從未圖示出的電源對紫外線光源17供給電力之供電線，可撓性優異。此處，透鏡構件27、焦點變更部28、及平行移動機構60係構成光強度分布變更機構的一例。

接著，進行動作說明。以從控制機構7藉由訊號S1所選擇的旋轉形式，旋轉驅動部11使基板1驅動。如前述般，藉由以基板1之高速旋轉的離心力的作用，在由紫外線硬化型樹脂所形成的樹脂膜R之內周部成為特定膜厚之時刻t1，控制機構7對紫外線光源17送出開啟訊號S4，紫外線光源17開啟而發出紫外線。透鏡構件27藉由焦點變更部28而被調整為已經事先決定的焦點，將光點狀的第1光U1照射於樹脂膜R的內周部分。第1光U1的焦點為一定，如前述般，為焦點的光圈緩和之光，使得第1光U1在朝外周側移動之過程中，不會讓塗膜的平坦性及外觀性降低之程度，於樹脂膜R的光照射面Rb中，具有第13圖說明之緩和的傾斜之正常化分布的強度分布之光。

而且，控制機構7對移動構件60B送出訊號S3，移動構件60B以事先所選擇的速度形式，與基板1平行地朝外周方向移動。伴隨此，光點狀的第1光U1於樹脂膜R的表面移動至外周側。其速度形式主要係考慮：紫外線硬化型樹脂被展延，從內側朝外側形成特定厚度的樹脂膜之時間；及伴隨第1光U1朝外周方向移動而變化的周速度來決定。藉此，使光點狀的第1光U1配合前述液狀物質的展延而朝外周側移動，在樹脂膜R成為特定厚度之時間點，依序使其硬化，依序確定膜厚而去。如第20圖所示般，第1光U1係從光照射開始時刻t1至第1設定時間T1之經過時刻t2為止被照射。而且，在成為時刻t2之同時，控制機構7對焦點變更部28送出訊號S2，焦點變更部28進行將透鏡構件27與樹脂膜1之距離變更為設定值之動作。此變更動作係以機械性動作為主，需要焦點的變更上必要最低限度的時間以上之時間，即第2設定時間T2。

光點狀的第1光U1一經過時刻t2時，成為第2光U2。第2光U2係於焦點變更部28從透鏡構件27的焦點之變更開始至變更結束為止之第2設定時間T2之間，藉由強力地縮小第1光U1的焦點所形成。第2光U2係具有具如第13圖之急遽傾斜的正常化分布的強度分布。因此，只要不進行藉由特別的電力控制之光度控制，第2光U2和第1光U1相比，其光能量的峰值比較大。而且，第2光U2在從時刻t2至經過第2設定時間T2之時刻t3到達樹脂膜R的第1位置Y，在第1位置Y中，第2光U2的焦點至少被縮小至設定值為止。第1光U1及第2光U2被照射於樹脂膜R之期間，基板1例如係以第16圖所示之旋轉形式SP來旋轉第1光U1係如前述般，呈現光的照射與非照射之境界比較不鮮明之狀況的光。因此，藉由第1光U1，樹脂膜R硬化時之硬化收縮率小，可以抑制如以往般，塗膜的平坦性之降低，不會產生外觀上的問題。

接著，說明色像差的補正。在以上之實施形態中，作為光雖使用紫外線，但是來自未圖示出之紫外線光源的紫外線，例如具有200~400nm的波長之光，係佔有大部分。一般透鏡對於波長之折射率不同，即使光射入透鏡的同一面域，波長不同的光會藉由透鏡而個別以不同折射率被折射，來自透鏡的光線會稍微偏離而照射於光照射面。藉由此色像差的影響，如前述般，即使控制光的強度分布成為急遽傾斜般，由於色像差的影響，光的照射與非照射的境界不會變得充分的鮮明，寬度於境界變寬，此會有使樹脂膜的不充分硬化區域之寬度變寬的傾向。

為了界低此種色像差的影響，使基於光的波長之光的照射與非照射的境界變得鮮明，於透鏡構件27與基板1之間設置不使特定以下的波長之光通過的截斷濾波器(未圖示出)。舉其一例，藉由使用除去300nm以下波長之紫外線的截斷濾波器，照射於基板1的樹脂膜R之光稱為幾乎都是300~400nm之波長的紫外線，基於波長的差異之光的偏離變小，當然在樹脂膜R之第1位置Y的光的照射與非照射之境界變得鮮明。另外，此截斷濾波器以不進行照射至特定位置Z之紫外線的色像差的補正者為佳。

[實施形態10]

藉由第19圖及第21圖來說明本發明之實施形態10。第21圖中，與第19圖、第20圖所使用符號相同的符號，係設為表示相同名稱的構件者。此實施例雖也將光點狀的紫外線照射於樹脂膜R，但是，不在中途藉由透鏡機構使光(紫外線)的焦點改變，使發出紫外線的紫外線光源17在中途下降，將光點狀的光(紫外線)的寬度縮小，使正常化分布的強度分布成為急遽傾斜，此為特徵所在。裝置構成與第19圖所示的裝置類似之部分很多，利用第19圖來說明。在此裝置中，如由第19圖所示之移動機構60的結合構件60C之至少一部份伸縮之氣缸構件等所形成的伸縮構件(未圖示出)來構成時，即很恰當。另外，在此實施形態10中，不需要變更第1光U1的焦點之光圈來形成第2光U2之焦點的切換，所以可以省略透鏡構件。

實現此方法之樹脂膜形成裝置，與實施形態9相比，為對應平行移動機構60的未圖示出之多方向移動裝置從樹脂膜R離開而位於上方。此多方向移動裝置的動作於後頭敘述，此多方向移動裝置係構成光強度分布變更機構的一例，具有使紫外線光源17朝水平方向與下方向移動的周知之機構。與實施形態9相比，紫外線光源17係從樹脂膜R離開而位於上方，由紫外線光源17所照射的紫外線擴展開，在樹脂膜R的光照射面Rb中，成為具有具緩和傾斜的正常化分布的強度分布之第1光U1。第1光U1的強度分布幾乎為一定，如前述般，為緩和之強度分布的光，使得在第1光U1朝外周側移動之過程中，不會使塗膜的平坦性及外觀性降低之程度。即第1光U1係光的照射與非照射的境界比較不鮮明的照射範圍寬的光，樹脂膜R的硬化收縮率小，基於從內側朝外側移動，幾乎不會對樹脂膜R的平坦性造成不好影響。

光點狀的第1光U1係配合前述液狀物質的展延而與樹脂膜R平行地朝外周側移動，在以所選擇的旋轉形式旋轉之樹脂膜R成為特定厚度之時間點，使樹脂膜R依序硬化而依序確定膜厚而去。光點狀的第1光U1在對應相當於樹脂膜R的第1位置之設定位置Y的前緣之第2位置的時刻t2時，開始被變更為第2光U2。一成為時刻t2時，控制機構7對未圖示出的多方向移動裝置的氣缸構件之伸縮構件(未圖示出)送出訊號，藉由該伸縮構件伸長，紫外線光源17朝下方向下降。即紫外線光源17於從時刻t2經過第2設定時間T2之時刻t3時，一面朝水平方向移動一面下降至設定下限位置，此時，第2光U2到達樹脂膜R的第1位置Y。在第1位置Y之光點狀的第2光U2，當然與光點狀的第1光U1相比，擴展量少，且紫外線光源17與樹脂膜R之間的距離短，衰減小，在光照射面Rb之照射範圍變窄，且光照度的峰值變大，且正常化分布之強度分布的傾斜變得急遽傾斜，紫外線的照射與非照射之境界變得鮮明。

因此，樹脂膜R的第1位置Y係藉由此種第2光U2而產生效果，能夠使硬化與未硬化之中間的區域的寬度成為最小，有助於在外周部變厚部分Rc的平坦化。另外，關於此實施形態3，紫外線光源17從最初的高度下降至設定下限位置所需要的時間為最低限度，伴隨該時間之經過，第2光U2的強度分布之傾斜變得急遽傾斜而去。該時間雖可以調整，以短者能使第1光U1的照射時間變長為佳。另外，在此實施形態10中，不需要改變第1光U1的焦點之光圈來形成第2光U2之焦點的切換，可以省略透鏡構件27。例如一種產生紫外線的紫外線源從適當直徑的圓筒狀的鏡筒照射該紫外線之構造等，可以省略透鏡構件27，經濟性優異。另外，可使裝置小型、輕量化。

[實施形態11]

藉由第22圖來說明本發明之實施形態11中之光點狀的光之照射方法。第22圖中，與第14至第21圖所使用的符號相同的符號，係設為表示相同名稱的構件者。實施形態11也基本上與實施形態9、10相同，第1光及第2光的形成方法不同，說明該部分。如第22圖所示般，將發出紫外線之紫外線光源17從圓板狀的基板1之旋轉中心軸線X朝外周方向，或從外周方向以位於旋轉中心軸線之角度使產生傾斜，且藉由使紫外線對於樹脂膜R之照射面的照射角度以特定角度傾斜，使比紫外線光源17的發光面擴展更大的面積之光點狀的第1光U1形成於樹脂膜R的照射面，此為第1特徵，藉由使紫外線光源17對於樹脂膜R的照射面幾乎垂質地站立，可以獲得照度比第1光U1更大的光點狀之第2光U2，此為第2特徵。

此光照射機構5J係在紫外線光源17之外，具備移動、角度變更機構70。移動、角度變更機構70係構成光強度分布變更機構的一例，由：如導軌之導引構件70A；及沿著導引構件70A，於第22圖之左右移動的移動構件70B；及一端結合於移動構件70B之結合構件70C；及結合於結合構件70C之另一端的角度變更構件70D所形成。角度變更構件70D係具有使紫外線光源17以使支點軸70E位於中心之角度來旋轉的功能。基板旋轉機構係與前述實施形態的基板旋轉機構3相同。角度變更構件70D係事先接受來自控制機構7之指令訊號C1而使紫外線光源17傾斜成特定角度。該傾斜角度θ雖係任意，但是例如在20~60度之範圍所選擇的角度。

如前述般，藉由基板旋轉機構3之高速旋轉，在基板2上之樹脂膜R的內周成為所期望厚度之光照射時刻t1，控制機構7首先對紫外線光源17送出指令訊號C2，使其開啟，使產生成為第1光U1之紫外線。紫外線光源17對於光照射面為傾斜特定角度，第1光U1係傾斜照射於光照射面。因此，其強度分布為與第13圖的曲線U1所示之分布類似之緩和的山型，特別是與上昇(外周側)相比，下降(旋轉中心側)緩和之傾斜的山型，其強度分布的峰值偏向一側。控制機構7與指令訊號C2之幾乎同時，或稍微延遲而將指令訊號C3送出至移動構件70B。移動構件70B係與實施形態9說明的移動構件60B相同，以特定的速度形式朝外周方向移動。伴隨此，第1光U1也朝外周方向以前述特定的速度形式移動。

而且，在對應基板1之設定位置的第1位置Y之前緣的第2位置之時刻t2，控制機構7將指令訊號C1送出至角度變更構件70D。角度變更構件70D一接受指令訊號C1，以支點軸70E為中心朝順時鐘方向旋轉特定角度，使紫外線光源17朝向光照射面，即與樹脂膜R幾乎垂直之方向。因此，從時刻t1至時刻t2，強度分布幾乎一定之第1光U1從時刻t2起，成為照射面積變窄之第2光U2。第2光U2幾乎到達第1位置Y時(時刻t3)，至少紫外線光源17朝向與樹脂膜R幾乎成為垂直之方向。

因此，第2光U2變成在樹脂膜R的第1位置Y之強度分布為急遽傾斜之正常化分布，且為紫外線的照射與非照射之境界變得鮮明之光的上昇，樹脂膜R硬化至外周部的較厚部分Rc的稍前處，較厚部分Rc殘留為未硬化之狀態。即在第1位置Y之最終的第2光U2的強度分布之上昇為急遽傾斜，可以使硬化與未硬化的中間之區域成為最小，有助於在外周部變厚部分Rc的平坦化。另外，在此實施形態11中，紫外線光源17從最初的傾斜角度成為幾乎垂直之方向所需要的時間係最低限度之必要時間，該時間之經過的同時，第2光U2的強度分布變得銳利。該時間雖可以調整，從可以使第1光U1的照射時間變長之觀點而言，以短者為佳。在此情形時，第2光U2的強度分布之峰值係比第1光U1大。另外，紫外線光源17的傾斜角度也可以與圖示相反，在此情形時，和下降(旋轉中心側)相比，上昇(外周側)成為緩和傾斜之山型。

在此實施形態11中，以光點狀的第1光U1也配合前述液狀物質的展延而與樹脂膜R平行地朝外周側移動，於以所選擇的旋轉形式旋轉之樹脂膜R成為特定厚度之時間點，使樹脂膜R依序硬化，藉此使膜厚依序確定而去為佳。但是，於幾乎形成特定膜厚的樹脂膜R後，將基板1移載至別的基板旋轉裝置(未圖示出)，一面使基板1旋轉，一面如前述般照射第1光U1與第2光U2亦可。

在以上說明之實施形態9~11中，為圓形狀或長圓(橢圓)狀的光點光，對於基板為玻璃板等，想要於包含其上面的旋轉中心點之整面形成樹脂膜R之情形，也可以予以對應。如實施形態8般，於圓環狀的光之情形時，藉由使透鏡構件27靠近樹脂膜R之附近，想要於包含旋轉中心之整面形成樹脂膜R之情形時，也可以予以對應。可以幾乎均勻之時間積分值的照射能量來使包含基板1的樹脂膜R之中心面域之整面硬化，可以獲得具備均勻膜厚、平坦性優異之樹脂膜的高品質之基板。另外，在實施形態9~11中，雖從同一光源產生第1光U1與第2光U2，但是也可以從個別的光源產生第1光U1與第2光U2。

在此情形時，例如於基板1的前述第1位置Y之前緣的第2位置具備發出第2光U2之第2光源，在第1光U1到達第1位置Y的稍前前緣時，使前述第2光源開啟，將第2光U2照射於基板1的第1位置Y即可。另外，也可以將實施形態8所敘述之圓環狀的第1光U1與實施形態9~11說明之光點狀的第2光U2予以組合。另外，與實施形態1相同，伴隨光點狀的光朝外周側移動，使光的強度變大亦可。

另外，本發明雖如前述，於高記錄密度之光碟的光碟基板形成均勻且薄膜厚的覆蓋層時特別有用，但是於各種的光碟中之光碟基板或玻璃等種種之基板間形成藉由接著劑之膜厚均勻的樹脂膜來貼合基板彼此之情形時，或於種種的基板形成膜厚均勻之樹脂膜時有用。另外，在接合基板彼此之情形時，於一方基板之上環狀或點狀地供給接著劑，於其上重疊另一方的基板之狀態下，使高速旋轉，於基板間展延接著劑來形成樹脂膜R，且於該樹脂膜R成為特定膜厚之階段，通過前述另一方之基板如前述般照射環狀光，使樹脂膜R依序確定而去亦可。另外，第1光的照射直到樹脂膜的設定值Y為止成為幾乎一定的厚度之階段，於使基板的旋轉停止或旋轉數降低之狀態下，如前述般來進行亦可。此時，第2光的照射係與前述相同。

1．．．基板

R．．．樹脂膜

Ra．．．光照射面

Rb．．．樹脂膜之內周端

Rc．．．樹脂膜之較厚部分

3．．．基板旋轉機構

5、5A~5E．．．光照射機構

7．．．控制機構

9．．．旋轉軸

11．．．旋轉驅動部

13．．．基板承受台

15．．．蓋構件

17．．．紫外線光源

19．．．光纖纜線

19A．．．光纖之圓環狀前端面

21、21A~21E．．．光照射頭

23．．．頭昇降裝置

23A．．．頭昇降裝置之連結構件

25、25A．．．環狀光照射部

25a．．．環狀光照射部之圓環狀部

27．．．透鏡構件

28．．．焦點變更部

29．．．中心瀟

31．．．第1環狀光形成部

31A．．．圓錐狀內面

33．．．第2環狀光形成部

33A．．．圓錐狀外面

33B．．．第2環狀光形成部33的頂點

35．．．第1反射構件

35A．．．第1反射構件的頂點

35B．．．反射外面

37．．．第2反射構件

37A．．．反射內面

37B．．．第2反射構件的中央孔

38．．．雷射源

39．．．終端部

41．．．圓錐透鏡

41A．．．圓錐透鏡的短圓柱部

41B．．．圓錐透鏡的圓錐狀部

41C．．．圓錐狀部41B的圓錐狀面

41D．．．圓錐狀部41B的頂點

43．．．雷射用電源

45A~45L．．．雷射光照射手段

47．．．圓環構件

49．．．配線

51．．．角度調整裝置

53．．．上下動構件

55．．．上下驅動構件

57．．．臂片

60．．．平行移動機構

60A．．．導引構件

60B．．．移動構件

60C．．．結合構件

70．．．移動、角度變更機構

70A．．．導引構件

70B．．．移動構件

70C．．．結合構件

70D．．．角度變更構件

70E．．．支點軸

E．．．供電線

X．．．旋轉中心

Xa．．．交點

OP．．．環狀光

OP1．．．環狀光之最內側光

OP2．．．環狀光之最外側光

W．．．環狀光OP之寬度

W1．．．環狀光OP的內徑

W2．．．環狀光OP的外徑

D．．．樹脂膜R的內徑

SP．．．旋轉形式

VP．．．上昇速度形式

S．．．圓錐狀內面31A與圓錐狀外面33A之間的間隙

SE．．．光照射口

LED．．．發光二極體

Y．．．樹脂膜R之第1(設定)位置

U1．．．第1光

U2．．．第2光

D．．．樹脂膜R的內徑

第1圖係用以說明關於本發明之實施形態1之樹脂膜的形成裝置之圖。

第2圖係表示關於實施形態1之樹脂膜的形成裝置之光照射部分的平面圖。

第3圖係用以說明照射於基板之環狀光的圖。

第4圖係表示本發明中之基板的旋轉形式與光照射頭的上昇速度之一例圖。

第5圖係用以說明關於本發明之實施形態2之樹脂膜的形成裝置所使用之光照射機構的一例圖。

第6圖係用以說明前述光照射機構的環狀光照射部之一例圖。

第7圖係用以說明關於本發明之實施形態3之樹脂膜的形成裝置所使用之光照射頭的一例圖。

第8圖係用以說明關於本發明之實施形態4之樹脂膜的形成裝置圖。

第9圖係用以說明該樹脂膜之形成裝置所使用之光照射頭之圖。

第10圖係用以說明關於本發明之實施形態5之樹脂膜的形成裝置所使用之光照射機構的一例圖。

第11圖係用以說明關於本發明之實施形態6之樹脂膜的形成裝置所使用之光照射機構的一例圖。

第12圖係用以說明關於本發明之實施形態7之樹脂膜形成方法圖。

第13圖係用以說明關於本發明之實施形態7之樹脂膜形成方法所使用之光的圖。

第14圖係用以說明關於本發明之實施形態8之樹脂膜的形成方法及實現該方法之裝置的一例圖。

第15圖係用以說明實施形態8所使用之圓環狀光形成部的一例圖。

第16圖係表示實施形態8中之基板的旋轉形式與光照射頭的上昇速度之一例圖。

第17圖係用以說明實施形態8所使用之圓環狀光形成部的別的一例圖。

第18圖係用以說明實施形態8所使用之圓環狀光形成部的別的一例圖。

第19圖係用以說明關於本發明之實施形態9之樹脂膜的形成方法及實現該方法之裝置的一例圖。

第20圖係用以說明本發明之實施形態9之樹脂膜的形成方法圖。

第21圖係用以說明關於本發明之實施形態10之樹脂膜的形成方法圖。

第22圖係用以說明關於本發明之實施形態11之樹脂膜的形成方法及實現該方法之裝置的一例圖。

1．．．基板

3．．．基板旋轉機構

5．．．光照射機構

7．．．控制機構

9．．．旋轉軸

11．．．旋轉驅動部

13．．．基板承受台

15．．．蓋構件

17．．．紫外線光源

19．．．光纖纜線

21．．．光照射頭

23．．．頭昇降裝置

23A．．．頭昇降裝置之連結構件

25．．．環狀光照射部

27．．．透鏡構件

OP．．．環狀光

R．．．樹脂膜

X．．．旋轉中心

Claims (15)

1. 一種樹脂膜形成方法，係藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成方法，其特徵為：前述光係環狀光，且該環狀光係藉由伴隨其照射時間的經過，其內徑及外徑對於前述基板的旋轉中心呈同心狀地變大，以前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量成為一樣之方式，於前述基板上從中央側朝外周側移動。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之樹脂膜形成方法，其中，前述環狀光的內徑之擴大速度係被控制為：和前述基板的旋轉中心側相比，隨著朝外周側移動而變慢。
3. 如申請專利範圍第1項所記載之樹脂膜形成方法，其中，前述環狀光的照射時間係被控制為：和前述基板的旋轉中心側相比，隨著朝外周側移動而變長。
4. 如申請專利範圍第1項所記載之樹脂膜形成方法，其中，前述環狀光的光度係被控制為：和前述基板的旋轉中心側相比，隨著朝外周側移動而變大。
5. 一種樹脂膜形成方法，係藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成方法，其特徵為：直到比停止前述光的照射之外周側的第1位置更內側 的第2位置為止，照射具有緩和傾斜之強度分布的光，並且從前述基板的旋轉中心側朝向外周側使前述光移動，於前述第2位置，朝使前述光的強度分布之傾斜變大的方向控制，於前述第1位置，照射具有急遽傾斜之強度分布的光，使在前述外周位置的前述光之照射區域與非照射區域的境界變得鮮明；直到前述第2位置為止，將前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量設為一樣。
6. 如申請專利範圍第5項所記載之樹脂膜形成方法，其中，控制從前述光的旋轉中心側朝外周側之移動速度，或照射時間。
7. 一種樹脂膜形成裝置，係藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成裝置，其特徵為：具備：使於基板上或基板間被供給有用以形成樹脂膜之液狀物質的前述基板旋轉之基板旋轉機構；及利用藉由旋轉使前述液狀物質展延之過程，或展延後照射光，使前述展延的液狀物質硬化之光照射機構，前述光照射機構，係由：使產生照射於前述樹脂膜的光照射面之光的光源；及控制前述光的照射開始、照射停止之控制裝置；及具有將來自前述光源的光改變為環狀光的環狀光照射 部之光照射頭所形成，且照射：伴隨前述環狀光之照射時間的經過，其內徑及外徑與前述旋轉中心為同心狀地在前述基板上逐漸變大之前述環狀光；依此而以前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量成為一樣之方式照射環狀光。
8. 如申請專利範圍第7項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光照射機構，係具備：使前述光照射頭對於前述旋轉中心為朝上方向移動的頭昇降裝置，依此而照射：伴隨前述環狀光之照射時間的經過，其內徑及外徑與前述旋轉中心為同心狀地在前述基板上逐漸變大之前述環狀光；前述頭昇降裝置，係以前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量成為一樣之方式，使前述光照射頭的上昇速度隨著其上昇時間的經過降低。
9. 如申請專利範圍第7項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光照射頭，係具備透鏡構件，其係以前述環狀光的照射面之每單位面積的光照射能量成為一樣之方式，賦予前述環狀光對於前述旋轉中心成為特定角度之方向。
10. 一種樹脂膜形成裝置，係藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成裝置，其特徵為：具備：使於基板上或基板間被供給有用以形成樹脂膜之液狀物質的前述基板旋轉之基板旋轉機構；及利用藉由旋轉使前述液狀物質展延之過程，或展延後 照射光，使前述展延的液狀物質硬化之光照射機構，前述光照射機構，係由：照射藉由以前述基板的旋轉中心為中心而環狀配置的複數個光照射手段所構成的環狀光之光照射頭；對前述光照射手段供給電力之電源；及使前述光照射手段對於前述旋轉中心的角度改變而移動之角度調整裝置所形成，該角度調整裝置，係以來自前述光照射手段對於前述旋轉中心之光的角度伴隨前述環狀光的照射時間之經過而變大之方式，來控制前述光照射手段的角度。
11. 一種樹脂膜形成裝置，係藉由使基板旋轉來使前述基板上或前述基板間的液狀物質展延之過程，或於展延後，使光的照射從前述基板的中央側朝外周側移動，使前述液狀物質硬化之樹脂膜形成裝置，其特徵為：具備：使於基板上或基板間被供給有用以形成樹脂膜之液狀物質的前述基板旋轉之基板旋轉機構；及利用藉由旋轉使前述液狀物質展延之過程，或展延後照射光，使前述展延的液狀物質硬化之光照射機構，前述光照射機構，係由：使產生照射於前述樹脂膜的光照射面之光的光源；及控制前述光的照射開始、照射停止之控制裝置；及改變前述光的強度分布之傾斜的光強度分布變更機構所形成，該光強度分布變更機構，係直到比停止前述光的照射 之外周側的第1位置更內側的第2位置為止，照射具有緩和傾斜之強度分布的光，並且從前述基板的旋轉中心側朝向外周側使前述光移動，於前述第2位置，朝使前述光的強度分布之傾斜變大的方向控制，於前述第1位置，照射具有急遽傾斜之強度分布的光，使在前述外周位置的前述光之照射區域與非照射區域的境界變得鮮明。
12. 如申請專利範圍第11項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光強度分布變更機構，係具有：對於前述樹脂膜於垂直方向移動，且改變來自前述光源之光的強度分布之傾斜的透鏡機構，於該透鏡機構朝向從前述光照射面離開之方向移動時，前述光係使前述光照射面從旋轉中心側朝外周側移動，於前述第2位置，前述透鏡機構縮小前述光的焦點，來控制使前述光的強度分布之傾斜變大。
13. 如申請專利範圍第11項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光強度分布變更機構，係由：改變來自前述光源的光的強度分布之傾斜的透鏡機構；及使前述光源與前述透鏡機構對於前述光照射面平行地移動之平行移動裝置所形成，在前述基板旋轉中之狀態下，藉由前述平行移動裝置 使前述光源與前述透鏡機構平行移動在前述樹脂膜上，前述光係使前述光照射面從前述旋轉中心側朝外周側移動，於前述第2位置，前述透鏡機構開始縮小前述光的焦點，控制使前述光的強度分布之傾斜變大。
14. 如申請專利範圍第11項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光強度分布變更機構，係具備：使前述光源對於前述光照射面朝平行方向與上下方向移動之多方向移動裝置，於前述基板旋轉中之狀態下，前述多方向移動裝置係使前述光源對於前述樹脂膜平行地從前述旋轉中心側朝外周方向移動，於前述第2位置，藉由前述多方向移動裝置使前述光源下降來靠近前述樹脂膜，控制使得前述光的強度分布之傾斜變大。
15. 如申請專利範圍第11項所記載之樹脂膜形成裝置，其中前述光強度分布變更機構，係具備：使前述光源對於前述光照射面平行地移動，並且可以變更前述光源對於前述光照射面的傾倒角度之移動/角度變更裝置，於前述基板旋轉中之狀態下，從照射開始至停止前述光的照射之外周側的第1位置之內側的第2位置為止，前述移動/角度變更裝置，係使前述光源對於前述樹脂膜一面傾斜特定的角度，一面與前述樹脂膜平行地從前述旋轉中心側朝外周方向移動，於前述第2位置，藉由前述移動/角度變更裝置將前述光源的傾倒角度對於前述光照射面變更為垂直方向，控制使得前述光的強度分布之傾斜變大。