CN112604923A - 一种改善odf制程中uv固化设备光照均匀性方法和设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法和设备，其包括以下步骤：步骤1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以使得凹面镜可形成平行光；步骤2：提供涂覆有封框胶的玻璃基板并将其设置于平行光的照射处；步骤3：启动所述UV光源对玻璃基板上的封框胶进行照射。由于点状UV光源设于凹面镜的焦点处，点状UV光源发出的光经过凹面镜后形成平行光，平行光可以均匀地照射在玻璃基板的封框胶上，从而使得封框胶均匀固化，提升UV固化设备的光照均匀性，同时提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种液晶显示技术领域，特别涉及一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法和设备。
背景技术
在ODF制程中UV固化设备因点状UV灯发散照射存在光照面而导致照射不均匀问题，其在边缘位置的光照强度较小，中心位置光照强度大，随着点状UV灯寿命衰减会存在边缘位置封框胶固化不足的问题；若增大边缘位置光积量，则会存在生产节拍延长的问题，导致生产效率降低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，由于点状UV光源设于凹面镜的焦点处，点状UV光源发出的光经过凹面镜后形成平行光，平行光可以均匀地照射在玻璃基板的封框胶上，从而使得封框胶均匀固化，提升UV固化设备的光照均匀性，同时提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。
本发明还提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性设备。
本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：
为解决上述技术问题，本发明提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其包括以下步骤：
步骤1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以使得凹面镜可形成平行光；
步骤2：提供涂覆有封框胶的玻璃基板并将其设置于平行光的照射处；
步骤3：启动所述UV光源对玻璃基板上的封框胶进行照射。
进一步地，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一全反射镜。
进一步地，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一被凹面镜包裹的透镜，所述透镜的表面设置有漫反射膜，所述漫反射膜设有镂空部，所述镂空部的形状与封框胶的形状相同；
步骤1.3：在平行光的照射处设置一全反射镜。
进一步地，在所述全反射镜上固定有调节装置。
进一步地，所述调节装置包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接。
本发明还提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性设备，其包括机台、凹面镜和点状UV光源，所述机台用于放置涂覆有封框胶的玻璃基板；所述凹面镜固定于所述机台的上方；所述点状UV光源设于所述凹面镜的焦点处。
进一步地，所述凹面镜的出射方向设有全反射镜，所述全反射镜固定于所述机台上。
进一步地，所述全反射镜上固定有调节装置。
进一步地，所述调节装置包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接。
进一步地，所述凹面镜的出射方向固定有被凹面镜包裹的透镜，所述透镜的表面设置有漫反射膜，所述漫反射膜设有镂空部，所述镂空部的形状与封框胶的形状相同。
本发明具有如下有益效果：
由于点状UV光源设于凹面镜的焦点处，点状UV光源发出的光经过凹面镜后形成平行光，平行光可以均匀地照射在玻璃基板的封框胶上，从而使得封框胶均匀固化，提升UV固化设备的光照均匀性，同时提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。
附图说明
图1为本发明还提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性设备的结构示意图。
图2为图1的部分结构改进示意图。
图3为图1的部分结构的另一种改进示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行详细的说明，实施例仅是本发明的优选实施方式，不是对本发明的限定。
本发明提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其包括以下步骤：
步骤1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以使得凹面镜可形成平行光；
步骤2：提供涂覆有封框胶的玻璃基板并将其设置于平行光的照射处；
步骤3：启动所述UV光源对玻璃基板上的封框胶进行照射。
由于点状UV光源设于凹面镜的焦点处，点状UV光源发出的光经过凹面镜后形成平行光，平行光可以均匀地照射在玻璃基板的封框胶上，从而使得封框胶均匀固化，提升UV固化设备的光照均匀性，同时提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。
进一步地，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一全反射镜。
当机台上的涂覆有封框胶的玻璃基板移动位置时，通过转动全反射镜的角度即可对出射的平行光进行调节，以使得平行光始终对着封框胶。
进一步地，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一被凹面镜包裹的透镜，所述透镜的表面设置有漫反射膜，所述漫反射膜设有镂空部，所述镂空部的形状与封框胶的形状相同；
步骤1.3：在平行光的照射处设置一全反射镜。
凹面镜发出的一部分平行光可以透过镂空部，并照射到玻璃基板上的封框胶上；由于透镜被凹面镜包裹，凹面镜发出的另一部分平行光照射到漫反射膜上并进行漫反射，经过多次反射和漫反射后大部分光线仍会透过镂空部并照射到玻璃基板上的封框胶上，以此进一步提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。进一步地，所述镂空部的形状为框型。
进一步地，在所述全反射镜上固定有调节装置，调节装置连接有视觉跟踪装置，当视觉跟踪装置发现涂覆有封框胶的玻璃基板移动位置时，则发出指令给调节装置，调节装置调整全反射镜的角度，进而保证平行光始终对着封框胶。
进一步地，所述调节装置包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接，所述固定座固定于所述机台上，所述转轴与所述全反射镜连接，电机带动转动转动，进而带动全反射镜转动，以使得出射的平行光可以进行调节。
请参阅图1，本发明还提供了一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性设备，其包括机台1、凹面镜2和点状UV光源3，所述机台1用于放置涂覆有封框胶4的玻璃基板；所述凹面镜2固定于所述机台1的上方；所述点状UV光源3设于所述凹面镜2的焦点处。由于点状UV光源3设于凹面镜2的焦点处，点状UV光源3发出的光经过凹面镜2后形成平行光，平行光可以均匀地照射在玻璃基板的封框胶4上，从而使得封框胶4均匀固化，提升UV固化设备的光照均匀性，同时提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。
请参阅图1和图2，进一步地，所述凹面镜2的出射方向固定有被凹面镜2包裹的透镜5，所述透镜5的表面设置有漫反射膜6，所述漫反射膜6设有镂空部61，所述镂空部61的形状与封框胶4的形状相同。凹面镜2发出的一部分平行光可以透过镂空部61，并照射到玻璃基板上的封框胶4上；由于透镜5被凹面镜2包裹，凹面镜2发出的另一部分平行光照射到漫反射膜6上并进行漫反射，经过多次反射和漫反射后大部分光线仍会透过镂空部61并照射到玻璃基板上的封框胶4上，以此进一步提高光源利用率，进而提高生产效率，降低生产成本。进一步地，所述镂空部61的形状为框型。
请参阅图1和图3，进一步地，所述凹面镜2的出射方向设有全反射镜7，所述全反射镜7固定于所述机台1上。当机台1上的涂覆有封框胶4的玻璃基板移动位置时，通过转动全反射镜7的角度即可对出射的平行光进行调节，以使得平行光始终对着封框胶4。
进一步地，所述全反射镜7上固定有调节装置8，调节装置8连接有视觉跟踪装置，当视觉跟踪装置发现涂覆有封框胶4的玻璃基板移动位置时，则发出指令给调节装置8，调节装置8调整全反射镜7的角度，进而保证平行光始终对着封框胶4。
进一步地，所述调节装置8包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接，所述固定座固定于所述机台1上，所述转轴与所述全反射镜7连接，电机带动转动转动，进而带动全反射镜7转动，以使得出射的平行光可以进行调节。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
Claims (10)
1.一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，其包括以下步骤：
步骤1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以使得凹面镜可形成平行光；
步骤2：提供涂覆有封框胶的玻璃基板并将其设置于平行光的照射处；
步骤3：启动所述UV光源对玻璃基板上的封框胶进行照射。
2.根据权利要求1所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一全反射镜。
3.根据权利要求1所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述步骤1具体包括：
步骤1.1：提供凹面镜和设置于凹面镜的焦点处的点状UV光源以形成平行光；
步骤1.2：在平行光的照射处设置一被凹面镜包裹的透镜，所述透镜的表面设置有漫反射膜，所述漫反射膜设有镂空部，所述镂空部的形状与封框胶的形状相同；
步骤1.3：在平行光的照射处设置一全反射镜。
4.根据权利要求2或3任一项所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，在所述全反射镜上固定有调节装置。
5.根据权利要求1所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述调节装置包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接。
6.一种改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性设备，其特征在于，其包括：
机台，其用于放置涂覆有封框胶的玻璃基板；
凹面镜，其固定于所述机台的上方；
点状UV光源，其设于所述凹面镜的焦点处。
7.根据权利要求6所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述凹面镜的出射方向设有全反射镜，所述全反射镜固定于所述机台上。
8.根据权利要求7所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述全反射镜上固定有调节装置。
9.根据权利要求8所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述调节装置包括固定座、固定于所述固定座上的转轴和电机，所述电机与所述转轴连接。
10.根据权利要求6所述的改善ODF制程中UV固化设备光照均匀性方法，其特征在于，所述凹面镜的出射方向固定有被凹面镜包裹的透镜，所述透镜的表面设置有漫反射膜，所述漫反射膜设有镂空部，所述镂空部的形状与封框胶的形状相同。
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