TWI421739B - Touch panel and touch panel display device - Google Patents

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TWI421739B
TWI421739B TW097111082A TW97111082A TWI421739B TW I421739 B TWI421739 B TW I421739B TW 097111082 A TW097111082 A TW 097111082A TW 97111082 A TW97111082 A TW 97111082A TW I421739 B TWI421739 B TW I421739B
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Junichi Nozawa
Katsumi Tsuchida
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Kyocera Corp
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    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact

Description

觸控面板及觸控面板型顯示裝置
本發明係關於一種配置於例如液晶顯示器等之顯示畫面上的觸控面板。本發明進而係關於一種將觸控面板配置於顯示裝置上而成之觸控面板型顯示裝置。
作為觸控面板型顯示裝置，例如有將根據由按壓操作所產生之阻抗變化而檢測出輸入座標之觸控面板配置於液晶顯示裝置而成者(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1中所揭示之觸控面板型顯示裝置之觸控面板，係於含有聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜(polybutylene terephthalate film)之第一基板上相向配置含有玻璃之第二基板而構成。第一基板上，於第二基板之相向面設置含有ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)之第一阻抗膜、以及電性連接於該第一阻抗膜之配線電極。第二基板上，於第一基板之相向面設置含有ITO之第二阻抗膜、以及電性連接於該第二阻抗膜之基體間連接配線電極。而且，第一基板之配線電極與第二基板之基體間連接配線電極係經由導電性黏著部件而電性連接。該導電性黏著部件包括黏著材、以及埋設於該黏著材中之導電性粒子。該導電性粒子係對塑膠粒子之表面鍍敷金屬(金或鎳等)而成者。
[專利文獻1]日本專利特開2002-41231號公報
然而，上述之觸控面板型顯示裝置之觸控面板上，為了使導電性粒子之接觸阻抗更加均勻，而以欲使第一基板與第二基板之間形成間隙時所作用的施力壓碎導電性粒子，增大該導電性粒子與配線電極或基板間連接配線電極間之接觸面積。因此，根據導電性粒子之壓碎情況，有時亦會導致第一基板與第二基板之間的間隙產生參差不齊。
本發明之課題在於，對於觸控面板，一方面充分確保導電性粒子與配線電極之接觸面積，另一方面減少基板間之間隙產生參差不齊之狀況。
根據本發明之一觀點，觸控面板包括：第一基體，具有第一阻抗膜；第二基體，具有第二阻抗膜及基體間連接配線電極；以及導電性接著部件，用於將上述第一阻抗膜與上述基體間連接配線電極電性連接。上述第一基體與上述第二基體係以上述第一阻抗膜與上述第二阻抗膜相向之方式而貼合。
上述導電性接著部件包含：具有導電性之第一粒子，以及粒子徑小於上述第一粒子之第二粒子。
上述第二粒子之變形率(壓縮率)或縱橫比小於上述第一粒子，或者壓縮彈性係數大於上述第一粒子。
變形率(壓縮率)係指，力作用前後之變形(壓縮)的比例。縱橫比係指，粒子之長軸除以該粒子之短軸所得之值。壓縮彈性係數係指所謂10% K值。
根據本發明之其他觀點，觸控面板型顯示裝置具有顯示 面板以及上述觸控面板。上述觸控面板係以上述第一基體或上述第二基體之主面與上述顯示面板之主面相向之方式而配置。
本發明之觸控面板中，例如於導電性接著部件中含有：具有導電性之第一粒子與變形率(壓縮率)以及粒子徑小於該第一粒子之第二粒子。因此，本觸控面板上，應將第一基體與第二基體之間的間隙設定為特定範圍，當使按壓力作用於第一基體與第二基體之間時，第一粒子之變形會受到第二粒子之限制。亦即，本觸控面板上，因存在變形率(壓縮率)較第一粒子更小之第二粒子，故而，第一基體與第二基體之間的間隙不容易產生參差不齊。而且，本觸控面板上，因第一粒子之粒子徑大於第二粒子之粒子徑，故而，即便第一粒子之變形受到第二粒子之限制，亦可於受到該限制之前使第一粒子充分地變形。因第一粒子具有導電性，故只要能使第一粒子充分地變形，即可充分地確保第一阻抗膜或者基體間連接配線電極與第一粒子之間的接觸面積。如此之作用以及效果，同樣可於第二粒子之縱橫比小於第一粒子、或者第二粒子之壓縮彈性係數大於第一粒子時獲得。
本發明之觸控面板型顯示裝置，因具有上述之本發明之觸控面板，故而，可享有上述觸控面板所具有之效果。亦即，本觸控面板型顯示裝置中，就觸控面板而言，一方面可充分確保第一粒子(導電性粒子)與基體間配線電極等之 間的接觸面積，另一方面亦可減少第一基體與第二基體間之間隙產生參差不齊之狀況。
以下，參照附圖對本發明之實施形態中之觸控面板以及觸控型顯示裝置進行說明。
如圖1至圖4所示，觸控面板X包括第一基體10、第二基體20以及導電性接著部件30。
第一基體10整體上具有可撓性，其平面觀察時之形狀大致呈矩形狀。第一基體10之平面觀察時之形狀並不限於大致矩形狀，亦可為其他形狀。第一基體10具有絕緣基板11以及第一阻抗膜12。
絕緣基板11係具有支撐第一阻抗膜12之作用的部件，對於交差於其主面之方向(例如AB方向)具有透光性以及電絕緣性。此處，所謂透光性係指對於可見光具有穿透性。作為絕緣基板11之構成材料，可列舉例如玻璃或者透光性塑膠等。尤其是，自耐熱性之觀點考慮，絕緣基板11之構成材料較好的是玻璃。當絕緣基板11採用玻璃作為其構成材料時，為了充分確保其之形狀穩定性以及可撓性，絕緣基板11之厚度較好的是設為0.1 mm以上0.3 mm以下。
第一阻抗膜12，有助於檢測出後述之第二基體20與第二阻抗膜22之接觸點上的電位，且對於其主面之交差方向(例如AB方向)具有透光性。第一阻抗膜12，係藉由具有規定電阻的導電性材料擴展於絕緣基板11之位於B方向側之主面的大致整個面上而形成。第一阻抗膜12之阻抗值為例 如200 Ω/□以上1500 Ω/　以下。本實施形態中，自高阻抗化之觀點考慮，第一阻抗膜12之厚度設為2.0×10-2 μm以下。第一阻抗膜12至少於圖中之箭頭A方向具有透光性。關於第一阻抗膜12之構成材料，可列舉例如ITO (Indium Tin Oxide，)、ATO(Antimony trioxide，三氧化二銻)、氧化錫、以及氧化鋅等之透光性導電部件。
第二基體20以俯視觀察時之形狀大致呈矩形狀，且係相向於第一基體10而配置。第二基體20以俯視觀察時之形狀並不限於大致矩形狀，亦可為其他形狀。第二基體20具有絕緣基板21、第二阻抗膜22、基板間連接配線電極23及24、配線電極25及26、絕緣層27以及間隔件28。第二基體20上設有外部導通區域20a，該外部導通區域20a係與圖外之FPC(Flexible Printed Circuit，可撓性印刷電路)等連接之區域。基板間連接配線電極23、24以及配線電極25、26之一端部位於該外部導通區域20a上。
絕緣基板21，作用在於支撐第二阻抗膜22、基板間連接配線電極23及24、配線電極25及26、絕緣層27以及複數個間隔件28，且對於與其主面交叉之方向(例如AB方向)具有透光性以及電絕緣性。作為絕緣基板21之構成材料，可列舉例如玻璃或者透光性塑膠等。尤其是自耐熱性之觀點考慮，絕緣基板21之構成材料較好的是玻璃。當絕緣基板21採用玻璃作為其構成材料時，為了確保充分之形狀穩定性，絕緣基板11之厚度較好的是設定為0.7 mm以上。
第二阻抗膜22，有助於檢測出第一基體10與第一阻抗膜 12之接觸點上的電位，且對於與其主面交叉之方向(例如AB方向)具有透光性。第二阻抗膜22，係藉由具有規定之電阻的導電性材料，而形成於絕緣基板21之位於A方向側之主面上的除周緣部以外的區域(平面觀察時之第一阻抗膜12之形成區域內)。第二阻抗膜22所要求之透光性以及電阻值與第一阻抗膜12相同。作為第二阻抗膜22之構成材料，可列舉與第一阻抗膜12相同者。
基板間連接配線電極23、24經由後述之導電性接著部件30而向第一阻抗膜12施加電壓之作用，且形成於第二阻抗膜22之周圍。基板間連接配線電極23之一端部位於外部導通區域20a，另一端部位於絕緣基板21上之後述之導電性接著部件30的接著區域(圖1中兩點鏈線包圍之區域)之箭頭C方向側的端部區域。基板間連接配線電極24之一端部位於外部導通區域20a，另一端部位於導電性接著部件30之接著區域的箭頭D方向側之端部區域。
自觸控面板X之檢測精度之觀點考慮，基板間連接配線電極23、24之兩端間之阻抗值較好的是設為第一阻抗膜12之兩端間之阻抗值的0.01倍以下。自硬質性以及形狀穩定性之觀點考慮，基板間連接配線電極23、24係例如由金屬薄膜(線寬：0.5 mm以上2 mm以下，厚度：0.5 μm以上2 μm以下)而構成。作為金屬薄膜，可列舉鋁膜、鋁合金膜、鉻與鋁之積層膜等。當藉由ITO形成第一阻抗膜12時，自與ITO之密著性之觀點考慮，金屬薄膜較好的是鉻與鋁之積層膜(將鉻配置於ITO與鋁之間)。作為金屬薄膜 之形成法，可列舉例如濺鍍法、蒸鍍法、以及化學氣相成長(CVE，Chemical Vapor Deposition)法。
當藉由金屬薄膜形成基體間連接配線電極23、24時，若藉由通常之薄膜形成法來形成金屬薄膜則可提高硬質性以及使形狀穩定化。因此，可降低觸控面板X上、後述之導電性接著部件30之第一粒子31以及第二粒子32對基體間連接配線電極23、24(凹部之形成)之陷入程度。因此，觸控面板X上，不僅可減小第一基體10與第二基體20間之間隙的不均，亦可防止因基體間連接配線電極23、24上形成有凹部而導致之接觸面積的減小。
而且，若金屬薄膜係藉由鋁膜、鋁合金膜、或者鉻膜與鋁膜之積層膜而形成，則不僅可提高薄膜形成之容易性以及薄膜加工(圖案化等)之容易性，而且亦可相對地降低配線阻抗。
配線電極25、26具有向第二阻抗膜22施加電壓之作用。配線電極25之一端部位於外部導通區域20a，另一端部連接於第二阻抗膜22之箭頭E方向側之端部。配線電極26之一端部位於外部導通區域20a，另一端部連接於第二阻抗膜22之箭頭F方向側之端部。
自觸控面板X之檢測精度之觀點考慮，配線電極25、26之兩端間之阻抗值較好的是設為第二阻抗膜22之兩端間之阻抗值的0.01倍以下。配線電極25、26，與基板間連接配線電極23、24相同，係由金屬薄膜(線寬：0.5 mm以上2 mm以下，厚度：0.5 μm以上2 μm以下)而構成。作為金屬 薄膜，可列舉與構成基板間連接配線電極23、24之金屬薄膜相同者。
絕緣層27具有減少基板間連接配線電極23、24或者配線電極25、26與第一阻抗膜12之間產生多餘之電性接觸的可能性之作用。絕緣層27形成為，覆蓋於基板間連接配線電極23、24上導電性接著部件30之接著區域以及外部導通區域20a所在之區域以外的規定區域。而且，絕緣層27形成為，覆蓋於配線電極25、26上外部導通區域20a所在之區域以外的規定區域。作為絕緣層27之構成材料，可列舉聚酯系樹脂等熱固性樹脂、丙烯酸系樹脂等紫外線固化樹脂等。其中，尤其是自製造過程中之作業效率之觀點考慮，絕緣層27之構成材料較好的是熱固性樹脂。自觸控面板X之平坦性之觀點考慮，絕緣層27之厚度較好的是10 μm以下。再者，圖1中，自圖面之易見性之觀點考慮，省略了絕緣層27。
間隔件28具有以下作用，即，當使第一阻抗膜12與第二阻抗膜22於規定位置接觸(輸入資訊)時，抑制第一阻抗膜12與第二阻抗膜22於該規定位置以外之區域內多餘接觸。間隔件28係藉由複數個點狀間隔件構成。複數個點狀間隔件於第二阻抗膜22上以大致固定之間隔排列於CD方向以及EF方向上，從而配置成行列狀。構成間隔件28之各點狀間隔件較好的是，具有防止第一阻抗膜12與第二阻抗膜22之間形成多餘接觸之功能且難以目測者，例如係直徑40 μm以下、高度1.0 μm以上3.5 μm以下之半球狀。CD方向 或者EF方向上鄰接之點狀間隔件之間隔距離P例如為2 mm以上4 mm以下。如此之間隔件28，可例如藉由使用有丙烯酸樹脂以及環氧樹脂等紫外線固化樹脂或熱固性樹脂之網版印刷、平版(offset)印刷、或者光微影(photolithography)法而形成。
導電性接著部件30可使第一阻抗膜12與基板間連接配線電極23、24之間實現電性導通，具有使第一基體10與第二基體20接合之作用。導電性接著部件30於第一阻抗膜12之周緣部與第一基體10接觸，另一方面，以包圍第二阻抗膜22之方式於基體間連接配線電極23上與第二基體20接觸。導電性接著部件30包括第一粒子31、第二粒子32以及接著材料33。
平面觀察(AB方向觀察)時，若於第一阻抗膜12之形成區域內以包圍第二阻抗膜22之形成區域之方式而配設導電性接著部件30，則僅可對第一阻抗膜12經由導電性接著部件30進行通電，而且可減小第一阻抗膜12之形成區域與第二阻抗膜22之形成區域的相向區域內混入異物等之可能性。而且，導電性接著部件30之配設形狀並不限於包圍第二阻抗膜22之框狀，可變更為多種形狀。
另外，若使導電性接著部件30直接接觸於第一阻抗膜12以及基體間連接配線電極23，則第一阻抗膜12與基體間連接配線電極23間之間隙、甚至是第一基體10與第二基體20間之間隙難以產生不均。
第一粒子31具有使第一阻抗膜12與基板間連接配線電極 23電性連接之作用，且至少有一部分埋設於導電性接著部件30中。自減少對接觸於該第一粒子31之第一阻抗膜12或者基板間連接配線電極23等之損害的觀點考慮，第一粒子31之形狀設為大致球形狀。但是，第一粒子31之形狀並不限於大致球形狀，亦可設為例如多面體形狀。作為第一粒子31，只要至少於表面具有導電性即可，可採用例如將塑膠球等之球狀絕緣體之表面藉由導體材料(例如金或者鎳)覆蓋者。
本實施形態中之第一粒子31，變形(壓縮)前之AB方向上之粒子徑D11 (參照圖5A)大於變形(壓縮)前之AB方向上之第二粒子32的粒子徑D21 (參照圖5A)，處於較第二粒子32得到進一步壓縮之狀態。第一粒子31之壓縮前之粒子徑D11 (參照圖5A)設為例如2 μm以上25 μm以下，第一粒子31之壓縮後之粒子徑D12 (參照圖5B)設為例如1.5 μm以上24 μm以下。第一粒子31之壓縮前之粒子徑D11 並不限於上述之範圍內，只要於能夠充分確保與第一阻抗膜12或者基板間連接配線電極23之接觸面積且不會使第一粒子31自身過度變形之範圍內即可。
如上所述，第一粒子31處於較第二粒子32得到進一步壓縮之狀態。亦即，第一粒子31之由下述數式1所定義之變形率(壓縮率)D1 以及由下述數式2所定義之縱橫比L1 大於後述之第二粒子32之變形率(壓縮率)D2 (參照數式3)以及縱橫比L2 (參照數式4)。第一粒子31之變形率(壓縮率)D1 設為例如0.03以上0.3以下，第一粒子31之縱橫比L1 設為例如1.03 以上3以下。
[數1]D1 =(D11 -D12 )/D11
D1 ：第一粒子之變形率(壓縮率)
D11 ：壓縮前之第一粒子之AB方向上的粒子徑
D12 ：壓縮後之第一粒子之AB方向上的粒子徑
[數2]L1 =L11 /L12
L11 =長軸方向上之尺寸(圖5B中EF方向上之尺寸)
L12 =短軸方向上之尺寸(圖5B中AB方向上之尺寸)
第二粒子32有助於規定第一基體10與第二基體20間之間隔距離，且至少有一部分埋設於導電性接著部件30中。因與第一粒子31相同之理由，第二粒子32之形狀設為大致球形狀。但是，作為第二粒子32之形狀，並不限於大致球形狀，亦可設為例如多面體形狀。作為第二粒子32，自第一基體10與第二基體20間之間隔距離的規定容易性之觀點考慮，採用矽球(主要有二氧化矽構成之球狀粒子)。但是，作為第二粒子32，亦可採用玻璃纖維等其他材料。
本實施形態中，第二粒子32之壓縮前之粒子徑D21 (參照圖5A)小於壓縮前之第一粒子31的粒子徑D11 (參照圖5A)，且處於壓縮程度小於第一粒子31(幾乎未被壓縮)之狀態。第二粒子32之壓縮前後之粒子徑D21 、D22 (參照圖5A)設為例如1.5 μm以上24 μm以下。第二粒子32之壓縮前後之粒子徑D21 、D22 並不限於上述範圍內，而可設於以第一基體 10與第二基體20間之間隔距離為目標之範圍內。
進而，第二粒子32之由下述數式3所定義之變形率(壓縮率)D2 以及下述數式4所定義之縱橫比L2 小於第一粒子31之變形率(壓縮率)D1 (參照上述數式1)以及縱橫比L1 (參照上述數式2)。第二粒子32之變形率(壓縮率)D2 設為例如0以上0.01以下，第二粒子32之縱橫比L2 設為例如1以上1.01以下。
[數3]D2 =(D21 -D22 )/D21
D2 ：第二粒子之壓縮變形率
D21 ：壓縮前之第二粒子之AB方向上的粒子徑
D22 ：壓縮後之第二粒子之AB方向上的粒子徑
[數4]L2 =L21 /L22
L21 =長軸方向上之尺寸(圖5B中EF方向上之尺寸)
L22 =短軸方向上之尺寸(圖5B中AB方向上之尺寸)
接著材料33有助於第一基體10與第二基體20之接合，且其中混入有第一粒子33以及第二粒子32。作為接著材料33，可列舉環氧系樹脂等熱固性樹脂、丙烯酸系樹脂等紫外線硬化樹脂等。作為接著材料33，尤其是自製造過程中之作業效率之觀點考慮，較好的是使用熱固性樹脂。
繼而，對於使用導電性接著部件30使第一基體10與第二基體20接著之方法的一例進行說明。
作為導電性接著部件30，係使用於未固化狀態之接著材 料33中混有第一粒子31以及第二粒子32者。以下之說明中，採用熱固性樹脂作為接著材料33。作為第一粒子31，係採用由導體材料覆蓋於塑膠球等絕緣球之表面且較容易變形者。作為第二粒子，係採用如矽球等較難以變形者。亦即，第一粒子31與第二粒子32相比，第二粒子32之壓縮彈性係數大於第一粒子31。作為第一粒子31，係採用例如壓縮彈性係數為300 kgf/mm2 (約2.9×103 MPa)以上600 kgf/mm2 (約5.9×103 MPa)以下者。作為第二粒子32，係採用例如壓縮彈性係數為1500 kgf/mm2 (約1.5×104 MPa)MPa以上25000 kgf/mm2 (約2.5×105 MPa)MPa以下者。
此處，第一粒子31以及第二粒子32之壓縮彈性係數表示所謂之10% K值，係由下述數式5定義。
[數5]10% K值=(3/21/2 )．F．S-3/2 ．R-1/2
F：微粒於10%壓縮變形時之負載值(Kgf)
S：微粒子於10%壓縮變形時之壓縮變動(mm)
R：微粒子之半徑(mm)
10% K值中之F、S、R係藉由以下方式求得，即，於室溫利用微小壓縮測試機(島津製作所製造之「PCT-200型」)對於相當於第一粒子31以及第二粒子32之微粒子進行壓縮。相當於第一粒子31以及第二粒子32之微粒子之壓縮，係例如於金剛石製造之直徑為50 μm之圓柱的平滑端面上以0.27 gf/秒之壓縮速度、10 gf之最大測試加重而實施。
第一基體10與第二基體20接著時，首先於第二基體20之上表面(基板間連接配線電極23、24之形成面)上之規定區域內印刷(塗佈)導電性接著部件30。本實施形態中，規定區域係圖1所示之以包圍第二阻抗膜22之方式而形成之區域(兩點鏈線所包圍之區域)。
繼而，如圖5A所示，使印刷有導電性接著部件30之第二基體20之位置對準第一基體10，之後，經由導電性接著部件30而使第一基體10與第二基體20貼合，而製成貼合構造體。
繼而，如圖5B所示，於使所製成之構造體之第一基體10與第二基體20相互接近之方向上加壓。本實施形態中之加壓係以如下方式而實施，即，藉由第一基體10以及第二基體20，使第一粒子31以其變形率(壓縮率)D1 (參照數式1)或者縱橫比L1 (參照數式1)變大之方式而變形，直至第二粒子32抵接於第一基體10以及第二基體20該兩者為止。
繼而，維持加壓狀態，將導電性接著部件30加熱至接著材料33之固化溫度為止而使接著材料33固化。藉此，使接著材料33固化，且使第一基體10與第二基體20接著。
觸控面板X上之導電性接著部件30含有：具有導電性之第一粒子31、以及變形率(壓縮率)以及粒子徑小於該第一粒子31之第二粒子32。因此，即便為了將第一基體10與第二基體20之間的間隙設定於規定範圍內，而向第一基體10與第二基體20之間施加按壓力，第一粒子31之變形亦會受到第二粒子32之限制。亦即，觸控面板X上存在較第一粒 子31更難變形之第二粒子32，故而，第一基體10與第二基體20之間的間隙不容易產生參差不齊。而且，觸控面板X上，第一粒子31之粒子徑大於第二粒子32之粒子徑，因此，即便第一粒子31之變形受到第二粒子32之限制，亦可使第一粒子31於受到該限制之前充分變形，且可充分確保第一阻抗膜12或基體間連接配線電極23與第一粒子31之接觸面積。如此之作用以及效果，同樣可於第二粒子32之縱橫比L2 小於第一粒子31之縱橫比L1 、或者第二粒子32之壓縮彈性係數大於第一粒子31之壓縮彈性係數時獲得。
繼而，參照圖6至圖8對本發明之觸控面板型顯示裝置之一例加以說明。
如圖6至圖8所示，觸控面板型顯示裝置Y係積層有觸控面板X及液晶顯示裝置Z者。
參照圖1至圖5說明觸控面板X。因此，於圖6中，對於與圖1至圖5相同之要素使用相同符號。
液晶顯示裝置Z中具有液晶顯示面板40、背光源50以及框體60。
液晶顯示面板40中具有液晶層41、第一基體42、第二基體43以及密封部件44。該液晶顯示面板40上設有用於顯示圖像且含有複數個像素之顯示區域P。該顯示區域P中，於第一基體42與第二基體43之間介有液晶層41，且利用密封部件44將該液晶層41密封。
液晶層41表現出電性、光學、力學、或者磁性方面之各向異性，係含有兼具固體之規則性及液體之流動性的液晶 而成之層。作為如此之液晶，可列舉向列型(Nematic)液晶、膽固醇狀(cholesteric)液晶、以及層列型(smectic)液晶等。液晶層41內，為了保證該液晶層41具有固定之厚度，亦可例如於其中設置多數由粒子狀部件構成之間隔件(未圖示)。
第一基體42具有透明基板421、遮光膜422、彩色濾光片423、平坦化膜424、透明電極425以及配向膜426。
透明基板421具有支撐遮光膜422以及彩色濾光片423、以及密封液晶層41之作用。透明基板421構成為，可使與其主面交叉之方向(例如AB方向)上之光適當地透過。作為透明基板421之構成材料，可列舉例如玻璃以及透光性塑膠。
遮光膜422具有遮蔽光(使光之透過量處於規定值以下)之作用，且係形成於透明基板421之上表面。遮光膜422上，為了使光通過，而具有貫通於膜厚方向(AB方向)上之貫通孔422a。作為遮光膜422之構成材料，可列舉例如遮光性較高之顏色(例如黑色)之染料或者顏料、添加有碳之樹脂(例如丙烯酸系樹脂)、Cr(鉻)。
彩色濾光片423之作用在於：選擇性地吸收入射至該彩色濾光片423上之光中的規定之波長，且僅選擇性地使規定之波長透過。作為彩色濾光片423，可列舉例如：用於選擇性地使紅色可見光之波長透過的紅色彩色濾光片(R)、用於選擇性地使綠色可見光之波長透過的綠色彩色濾光片(G)、用於選擇性地使藍色可見光之波長透過的藍 色彩色濾光片(B)等。彩色濾光片423係例如藉由向丙烯酸系樹脂中添加染料或者顏料而形成。
平坦化膜424之作用在於：使因配置有彩色濾光片423等而產生之凹凸平坦化。作為平坦化膜424之構成材料，可列舉例如丙烯酸系樹脂等透明樹脂。
透明電極425，具有向位於後述之第二基體43之透明電極432之間的液晶層41之液晶施加規定之電壓的作用，且係以使自一側射入之光向另一側透過之方式而構成。透明電極425具有傳送規定之訊號(圖像訊號)之作用，且以主要向箭頭CD方向延伸之方式而排列有複數個。作為透明電極425之構成材料，可列舉ITO以及氧化錫等之透光性導電部件。
配向膜426，具有將宏觀上朝向無規之方向(規則性較弱)之液晶層41的液晶分子配向於規定方向之作用，且係形成於透明電極425上。作為配向膜426之構成材料，可列舉聚醯亞胺樹脂等。
第二基體43具有透明基板431、透明電極432以及配向膜433。
透明基板431係有助於支撐透明電極432以及配向膜433且密封液晶層41之部件。透明基板431之構成為，可使與其主面交叉之方向(箭頭AB方向)上之光適當地透過。作為構成透明基板431之材料，可列舉與構成絕緣基板421之材料相同者。
透明電極432，具有向位於第一基體42之透明電極425之 間的液晶層41之液晶施加規定之電壓的作用，且係以使自一側射入之光向另一側透過之方式而構成。透明電極432，具有以下作用，即，傳送用於控制液晶層41之電壓施加狀態(ON)或者電壓非施加狀態(OFF)之訊號(掃描訊號)，且係以主要沿圖8中之垂直於圖紙之方向延伸之方式而排列有複數個。作為透明電極432之構成材料，可列舉與透明電極425之構成材料相同者。
配向膜433，具有將宏觀上朝向無規之方向(規則性較弱)之液晶層41的液晶分子配向於規定方向之作用，且係形成於透明電極432上。作為配向膜433之構成材料，可列舉與配向膜426相同者。
密封部件44之作用在於：將液晶層41密封於第一基體42與第二基體43之間，且使第一基體42與第二基體43以隔有規定間隔之狀態而接合。作為密封部件44，可列舉例如絕緣性樹脂以及密封樹脂(seal resin)。
背光源50，具有使光自液晶顯示面板X之一方照射至另一方的作用，且係採用邊緣發光(edge light)方式。背光源50具有光源51以及導光板52。光源51，具有將光射向導光板52之作用，且係配置於導光板52之側方。作為光源，可列舉例如CFL(Cathode Fluorescent Lamp，冷陰極螢光燈)、LED(Light Emitting Diode，發光二極管)、鹵素燈(halogen lamp)、疝氣燈(xenon lamp)以及EL(electro luminescence，電致發光器)。導光板52之作用在於：將來自光源51之光大致均勻地導至液晶顯示面板40之整個下表 面。導光板52通常包括反射片、擴散片、稜鏡片。反射片(未圖示)具有反射光之作用，且係設於背面。擴散片(未圖示)之作用在於為了更均勻地進行面狀發光而使光擴散，且係設於表面。稜鏡片(未圖示)具有使光向大致固定之方向彙聚之作用，且係設於表面。作為導光板52之構成材料，可列舉例如丙烯酸樹脂以及聚碳酸酯樹脂等透明樹脂。作為背光源50，並不限於將光源51配置於導光板52之側方之邊緣發光方式，亦可採用將光源51配置於液晶顯示面板40之背面側的直下方式等其他方式。
框體60具有收容液晶顯示面板40以及背光源50之作用，且係含有上側框體61以及下側框體62而構成。作為框體60之構成材料，可列舉例如聚碳酸酯樹脂等樹脂、以及不鏽鋼(SUS，stainless steel)、鋁等金屬。
繼而，對於使用雙面膠T將觸控面板X與液晶顯示裝置Z固定之方法之一例進行說明。再者，作為觸控面板X與液晶顯示裝置Z之固定方法中使用的固定用部件，並不限於雙面膠T，亦可採用例如熱固性樹脂以及紫外線固化樹脂等之接著部件，亦可採用以物理之方式固定觸控面板X與液晶顯示裝置Z之固定構造體。
首先，將雙面膠T之一面黏附於液晶顯示裝置Z之上側框體61之上表面的規定區域。本實施形態，規定區域如圖7明確所示，係以包圍液晶顯示裝置Z之顯示區域P之方式而形成的區域R。
繼而，將觸控面板X之位置對準黏附有雙面膠T之液晶 顯示裝置Z，之後，藉由雙面膠T而使觸控面板X之絕緣基板21與液晶顯示裝置Z之上側框體61貼合。藉此，實現了觸控面板X與液晶顯示裝置Z之固定。
觸控面板型顯示裝置Y，因具有觸控面板X，故可具有與上述觸控面板X之效果相同的效果。亦即，觸控面板型顯示裝置Y中，不僅可充分地確保第一粒子31與基體間配線電極23等之接觸面積，亦可減少第一基體10與第二基體20之間的間隙產生參差不齊的狀況。
以上，表示了本發明之具體實施形態，但本發明並不限於此，而可於不脫離發明之思想之範圍內進行多種變更。
關於觸控面板X，並不限於第一粒子31直接接觸於第一阻抗膜12之構成，亦可例如經由與形成於絕緣基板11上之基板間連接配線電極23相同的配線而使第一粒子31與第一阻抗膜12電性連接。
觸控面板X上，亦可於第一基體10以及第二基體20中之至少一方進而配置相位差薄膜。相位差薄膜，係一種將因液晶之雙折射性(相位之偏差)等而轉變為橢圓偏光狀態之直線偏光，自橢圓偏光狀態轉變為近似於直線偏光之狀態的光學補償用部件。作為相位差薄膜之構成材料，可列舉例如：聚碳酸酯(PC，polycarbonate)、聚乙烯醇(PVA，polyvinyl alcohol)、聚醯胺(PA，polyalylate)、聚碸(Psu，polysulfone)以及聚烯烴(PO，polyolefin)。作為相位差薄膜之構成材料，尤其是自與液晶之波長分散的整合性之觀點考慮，較好的是PC；而自對於圓偏光板之適應性之觀點 考慮，較好的是光彈性係數小於PC之PO。如此之構成，可提高顯示圖像之對比度，故而較佳。
觸控面板X上，亦可於第一基體10以及第二基體20中之至少一方進而配置偏光薄膜。偏光薄膜之作用在於，選擇性地使規定之振動方向上的光透過。作為偏光薄膜之構成材料，可列舉鹵素系材料等。如此之構成，對於透過偏光薄膜之光具有光閘(shutter)功能，故而較佳。
觸控面板X上，亦可於第一基體10以及第二基體20中之至少一方進而配置經過防眩處理或者防反射塗佈處理之薄膜。藉由如此之構成，可減少對於外部光之反射。
觸控面板X之絕緣基板11、21，亦可更換為相位差薄膜、偏光薄膜、經過防眩處理或者防反射塗佈處理之薄膜中的任一種。
觸控面板X中，導電性接著部件30係以包圍第二阻抗膜22之整體之方式藉由一次塗佈作業而形成，但並不限於此。例如，導電性接著部件30亦可具有使較導電性接著部件30位於更內方之內部、與較導電性接著部件30位於更外方之外部連通的連通孔。此時，塗佈導電性接著部件30而使第一基體10與第二基體20接著之後，可經由連通孔而向較導電性接著部件30位於更內方之內部注入空氣等。於注入空氣等之後，可利用與導電性接著部件30相同之材料或者非導電性接著部件(例如紫外線固化樹脂)對連通孔進行密封。
於如本實施形態所示而設有絕緣層27之構成中，連通孔 之形成位置並無特別限制。另一方面，於未設置絕緣層27之構成中，為了抑制產生多餘之電性導通，較好的是採用以下構成，即，於導電性接著部件與各配線之抽出部之交差區域形成連通孔，且利用非導電性接著部件(紫外線固化樹脂等)來密封連通孔。
X‧‧‧觸控面板
Y‧‧‧觸控面板型顯示裝置
10‧‧‧第一基體
12‧‧‧第一阻抗膜
20‧‧‧第二基體
22‧‧‧第二阻抗膜
23、24‧‧‧基板間連接配線電極
30‧‧‧導電性接著部件
31‧‧‧第一粒子
32‧‧‧第二粒子
圖1係表示本發明之實施形態中之觸控面板之一例的概略構成的分解立體圖。
圖2係觸控面板之組裝狀態下，相當於沿圖1之Ⅱ-Ⅱ線的剖面之剖面圖。
圖3係觸控面板之組裝狀態下，相當於沿圖1之Ⅲ-Ⅲ線的剖面之剖面圖。
圖4係觸控面板之組裝狀態下，相當於沿圖1之Ⅳ-Ⅳ線的部面之部面圖。
圖5A及圖5B係用於說明圖1所示之觸控面板之第一基體與第二基體接著時的一系列步驟的剖面圖。
圖6係表示具有圖1所示之觸控面板之觸控面板型顯示裝置的概略構成之剖面圖。
圖7係表示圖6所示之觸控面板型顯示裝置中之液晶顯示裝置的液晶顯示面板之概略構成的立體圖。
圖8係放大表示圖7所示之液晶顯示面板之主要部分的剖面圖。
10‧‧‧第一基體
11‧‧‧絕緣基板
12‧‧‧第一阻抗膜
21‧‧‧絕緣基板
22‧‧‧第二阻抗膜
23‧‧‧基板間連接配線電極
26‧‧‧配線電極
27‧‧‧絕緣層
28‧‧‧間隔件
30‧‧‧導電性接著部件
31‧‧‧第一粒子
32‧‧‧第二粒子
33‧‧‧接著材料
P‧‧‧間隔距離
X‧‧‧觸控面板

Claims (10)

  1. 一種觸控面板，其包括：第一基體，具有第一阻抗膜；第二基體，具有第二阻抗膜及互相獨立之2個基體間連接配線電極；及導電性接著部件，用於將上述第一阻抗膜分別與2個上述基體間連接配線電極電性連接；並以上述第一阻抗膜與上述第二阻抗膜相向之方式，藉由上述導電性接著部件將上述第一基體與上述第二基體貼合而成；上述導電性接著部件包含具有導電性之複數個第一粒子以及變形率小於該第一粒子之複數個第二粒子，並設置於由一方之上述基體間連接配線電極與上述第一阻抗膜之間之第一區域，經由不存在上述基體間連接配線電極之上述第二基體與上述第一阻抗膜之間之第二區域，而遍及另一方之上述基體間連接配線電極與上述第一阻抗膜之間之第三區域；上述第一粒子之粒子徑大於上述第二粒子之粒子徑；且複數個上述第一粒子分別配置於上述第一區域、上述第二區域及上述第三區域。
  2. 一種觸控面板，其包括：第一基體，具有第一阻抗膜；第二基體，具有第二阻抗膜及互相獨立之2個基體間連接配線電極；及導電性接著部件，用於將上述第一阻抗膜分別與2個上述基體間連接配線電極電性連接；並以上述第一阻抗膜與上述第二阻抗膜相向之方式，藉由上述導電性接著部件將上述第一基體與上述第二基體貼合 而成；上述導電性接著部件包含具有導電性之複數個第一粒子以及縱橫比小於該第一粒子之複數個第二粒子，並設置於由一方之上述基體間連接配線電極與上述第一阻抗膜之間之第一區域，經由不存在上述基體間連接配線電極之上述第二基體與上述第一阻抗膜之間之第二區域，而遍及另一方之上述基體間連接配線電極與上述第一阻抗膜之間之第三區域；上述第一粒子之粒子徑大於上述第二粒子之粒子徑；且複數個上述第一粒子分別配置於上述第一區域、上述第二區域及上述第三區域。
  3. 一種觸控面板，其包括：第一基體，具有第一阻抗膜；第二基體，具有第二阻抗膜及互相獨立之2個基體間連接配線電極；以及導電性接著部件，用於將上述第一阻抗膜分別與2個上述基體間連接配線電極電性連接；並以上述第一阻抗膜與上述第二阻抗膜相向之方式，藉由上述導電性接著部件將上述第一基體與上述第二基體貼合而成；上述導電性接著部件包含具有導電性之複數個第一粒子以及壓縮彈性係數大於該第一粒子之複數個第二粒子，並設置於由一方之上述基體間連接配線電極與上述第一阻抗膜之間之第一區域，經由不存在上述基體間連接配線電極之上述第二基體與上述第一阻抗膜之間之第二區域，而遍及另一方之上述基體間連接配線電極與上 述第一阻抗膜之間之第三區域；上述第一粒子之粒子徑大於上述第二粒子之粒子徑；且複數個上述第一粒子分別配置於上述第一區域、上述第二區域及上述第三區域。
  4. 如請求項1至3中任一項之觸控面板，其中上述第二粒子具有絕緣性。
  5. 如請求項1至3中任一項之觸控面板，其中上述導電性接著部件直接接觸於上述第一阻抗膜以及上述基體間連接配線電極。
  6. 如請求項1至3中任一項之觸控面板，其中以俯視觀察時，上述導電性接著部件係以圍繞上述第二阻抗膜之形成區域之方式配設於上述第一阻抗膜之形成區域內。
  7. 如請求項1至3中任一項之觸控面板，其中上述導電性接著部件之接著成分係熱固性樹脂。
  8. 如請求項1至3中任一項之觸控面板，其中上述基體間連接配線電極含有金屬薄膜。
  9. 如請求項8之觸控面板，其中上述金屬薄膜係鋁膜、鋁合金膜、或者鉻膜與鋁膜之積層膜。
  10. 一種觸控面板型顯示裝置，具有顯示面板；及如請求項1至3中任一項之觸控面板，其係以上述第一基體或上述第二基體之主面與上述顯示面板之主面相向之方式而配置。
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