KR102132208B1

KR102132208B1 - 터치 패널의 제조 방법, 터치 패널 및 전자 장치

Info

Publication number: KR102132208B1
Application number: KR1020130104068A
Authority: KR
Inventors: 최종문
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2013-08-30
Filing date: 2013-08-30
Publication date: 2020-07-10
Also published as: KR20150025904A; CN104423704B; US20150062035A1; CN104423704A; US9477367B2

Abstract

본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널은, 윈도우와; 상기 윈도우의 가시 영역에 형성되며 사용자 입력을 검출하는 센서 패턴들을 구비하는 센서층과; 상기 센서층의 둘레에 위치하는 상기 윈도우의 비가시 영역에 형성된 광차단층과; 상기 광차단층에 형성되며, 상기 센서층을 외부 커넥터와 연결하도록 상기 센서 패턴들 각각과 연결된 배선 전극들과; 상기 배선 전극들 위에 각각 형성된 식각 마스크들을 포함한다.

Description

터치 패널의 제조 방법, 터치 패널 및 전자 장치{METHOD FOR FABRICATING TOUCH PANEL, TOUCH PANEL AND ELECTRONIC DEVICE}

본 발명의 다양한 실시예들은 터치 패널에 관한 것으로서, 예컨대 터치 패널의 제조 방법과 이를 이용하여 제조된 터치 패널 및 전자 장치에 관한 것이다.

터치 패널이란 사람의 손이나 도구가 접촉할 때 그 위치를 감지하는 입력 장치를 말한다. 터치 패널은 구동 원리에 따라 저항막(resistive) 방식, 정전용량(capacitive) 방식, 적외선(InfraRed: IR) 방식, 초음파(Surface Acoustic Wave: SAW) 방식, 전자기(ElectroMagnetic: EM) 방식, 전자기 공명(ElectroMagnetic Resonance: EMR) 등으로 구분된다.

통상적인 터치 패널은 입력 수단(예를 들어, 손가락, 스타일러스 펜 등)의 접촉을 감지하는 센서층을 포함하고, 상기 센서층을 배선 전극들을 통해 제어부와 연결한다. 제어부는 입력 수단의 접촉에 따른 상기 터치 패널의 출력 변화를 감지하고, 상기 터치 패널의 접촉 부분의 위치를 결정한다.

종래의 터치 패널에서는 광차단층 상에 배선 전극을 형성하는 과정에 있어서 상기 광차단층의 결함으로 인해 상기 배선 전극이 부분 또는 전체적으로 미형성되는 현상이 발생할 수 있다. 이로 인해, 상기 배선 전극의 선 저항이 증가되거나 배선 전극이 단선되고, 센서층에 인가되거나 이로부터 출력되는 신호의 전송이 지연 또는 유실되어 터치 감도 및 동작 속도에 악영향을 미칠 수 있다. 또한, 상기 광차단층의 결함으로 인해 상기 광차단층 상에 미세 배선 전극을 형성하기 어려울 수 있다.

광차단부는 BM(black matrix) 공법과 인쇄 공법을 통해 제조될 수 있다. BM 공법으로 제조되는 광차단부는 매우 평탄하고 균일한 표면을 제공하여 배선의 단선 불량이 없는 반면에 구현 가능한 색상이 블랙으로 한정된다. 인쇄 공법은 잉크를 이용하기 때문에 다양한 색상의 구현이 가능한 반면 표면이 거칠고 돌기 결함이 많이 존재하기 때문에 균일한 표면의 배선을 제조하기 어려울 수 있다.

본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널은, 윈도우와; 상기 윈도우의 가시 영역에 형성되며 사용자 입력을 검출하는 센서 패턴들을 구비하는 센서층과; 상기 센서층의 둘레에 위치하는 상기 윈도우의 비가시 영역에 형성된 광차단층과; 상기 광차단층에 형성되며, 상기 센서층을 외부 커넥터와 연결하도록 상기 센서 패턴들 각각과 연결된 배선 전극들과; 상기 배선 전극들에 각각 형성된 식각 마스크들을 포함한다.

본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 윈도우의 비가시 영역에 광차단층을 형성하는 과정과; 상기 광차단층에 도전층을 형성하는 과정과; 배선 전극들의 간극 패턴에 대응되는 패턴을 갖도록 상기 도전층에 포토레지스트 마스크들을 형성하는 과정과; 상기 포토레지스트 마스크들과, 상기 포토레지스트 마스크들 사이의 도전층 부분들에 절연층을 형성하는 과정과; 상기 포토레지스트 마스크들과 상기 포토레지스트 마스크들에 형성된 상기 절연층의 일 부분을 제거함으로써, 상기 포토레지스트 마스크들 사이의 상기 절연층의 나머지 부분에 대응하는 식각 마스크들을 형성하는 과정과; 상기 마스크들을 이용하여 상기 도전층의 일부를 식각함으로써 상기 도전층의 나머지 부분에 대응하는 배선 전극들을 형성하는 과정을 포함한다.

본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 광차단부의 다양한 컬러 구현이 가능하고, 디자인 품질이 우수한 인쇄형 얇은 베젤 제공이 가능하며, 시장 원가 경쟁력 우위를 점할 수 있도록 최소 단계의 공정 시퀀스(sequence)를 제공하며, 광차단층의 인쇄 결함을 커버함으로써 수율 향상 및 안정적 수율 확보가 가능하다.

도 1은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 전자 장치의 외관을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 구성을 나타낸다.
도 3은 본 발명의 비교 예에 따른 터치 패널을 나타낸다.
도 4 내지 도 6은 비교 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 7은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널을 나타낸다.
도 8 내지 도 12는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 13은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 14는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 15 내지 도 23은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 일부 실시 예들을 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.

또한, 전면, 후면, 상면, 하면 등과 같은 도면에 보이는 것을 기준으로 기술된 상대적인 용어들은 제1, 제2 등과 같은 서수들로 대체될 수 있다. 제1, 제2 등의 서수들에 있어서 그 순서는 언급된 순서나 임의로 정해진 것으로서, 그 순서는 필요에 따라 임의로 변경될 수 있다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

본 발명에서 전자 장치는 터치 패널을 구비하는 임의의 장치일 수 있으며, 전자 장치는 단말, 휴대 단말, 이동 단말, 통신 단말, 휴대용 통신 단말, 휴대용 이동 단말, 디스플레이 장치 등으로 칭할 수 있다.

예를 들어, 전자 장치는 스마트폰, 휴대폰, 내비게이션 장치, 게임기, TV, 차량용 헤드 유닛, 노트북 컴퓨터, 랩탑 컴퓨터, 태블릿(Tablet) 컴퓨터, PMP(Personal Media Player), PDA(Personal Digital Assistants) 등일 수 있다. 전자 장치는 무선 통신 기능을 갖는 포켓 사이즈의 휴대용 통신 단말로서 구현될 수도 있다. 또한, 전자 장치는 플렉서블 장치 또는 플렉서블 디스플레이 장치일 수 있다.

전자 장치는 서버 등의 외부 전자 장치와 통신하거나, 외부 전자 장치와의 연동을 통해 작업을 수행할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치는 카메라에 의해 촬영된 영상 및/또는 센서부에 의해 검출된 위치 정보를 네트워크를 통해 서버로 전송할 수 있다. 네트워크는, 이에 한정되지 않지만, 이동 또는 셀룰러 통신망, 근거리 통신망(Local Area Network: LAN), 무선 근거리 통신망(Wireless Local Area Network: WLAN), 광역 통신망(Wide Area Network: WAN), 인터넷, 소지역 통신망(Small Area Network: SAN) 등일 수 있다.

도 1은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 전자 장치의 외관을 나타낸다. 전자 장치(100)는 터치 스크린 패널(120)을 포함하며, 이외에 입/출력 모듈, 저장부, 센서부(150), 카메라(160), 통신부 및 제어부 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.

입/출력 모듈은 사용자 입력을 수신하거나 사용자에게 정보를 알리기 위한 수단으로서, 스피커(141) 및 버튼(142)을 포함할 수 있으며, 이외에 마이크, 진동 모터, 커넥터, 키패드, 마우스, 트랙볼(trackball), 조이스틱, 커서 방향 키들, 또는 커서 컨트롤(cursor control) 등을 더 포함할 수 있다.

저장부는 음성 인식 애플리케이션, 스케줄 관리 애플리케이션, 문서 작성 애플리케이션, 뮤직 애플리케이션, 인터넷 애플리케이션, 지도 애플리케이션, 카메라 애플리케이션, 이메일 애플리케이션, 영상 편집 애플리케이션, 검색 애플리케이션, 파일 탐색 애플리케이션, 비디오 애플리케이션, 게임 애플리케이션, SNS 애플리케이션, 전화 애플리케이션, 메시지 애플리케이션 등의 적어도 하나의 애플리케이션의 구동을 위한 데이터를 저장할 수 있다. 저장부는 적어도 하나의 애플리케이션과 관련된 그래픽 사용자 인터페이스(graphical user interface: GUI)를 제공하기 위한 영상들, 사용자 정보, 문서 등의 데이터 또는 데이터베이스, 상기 전자 장치(100)를 구동하는데 필요한 배경 영상들(메뉴 화면, 대기 화면 등) 또는 운영 프로그램들, 카메라에 의해 촬영된 영상들 등을 저장할 수 있다. 상기 저장부는 기계(예를 들어, 컴퓨터)로 읽을 수 있는 매체이며, 기계로 읽을 수 있는 매체라는 용어는 기계가 특정 기능을 수행할 수 있도록 상기 기계에게 데이터를 제공하는 매체로 정의될 수 있다. 기계로 읽을 수 있는 매체는 저장 매체일 수 있다. 상기 저장부는 비휘발성 매체(non-volatile media), 또는 휘발성 매체 등을 포함할 수 있다. 이러한 모든 매체는 상기 매체에 의해 전달되는 명령들이 상기 명령들을 상기 기계로 읽어 들이는 물리적 기구에 의해 검출될 수 있도록 유형의 것이어야 한다.

상기 기계로 읽을 수 있는 매체는, 이에 한정되지 않지만, 플로피 디스크(floppy disk), 플렉서블 디스크(flexible disk), 하드 디스크, 자기 테이프, 시디롬(compact disc read-only memory: CD-ROM), 광학 디스크, 펀치 카드(punchcard), 페이퍼 테이프(papertape), 램, 피롬(Programmable Read-Only Memory: PROM), 이피롬(Erasable PROM: EPROM), 또는 플래시-이피롬(FLASH-EPROM) 등을 포함할 수 있다.

센서부(150)는 전자 장치(100)의 상태(위치, 방위, 움직임 등)를 검출하는 적어도 하나의 센서를 포함할 수 있다. 예를 들어, 센서부(150)는 사용자의 전자 장치(100)에 대한 접근 여부를 검출하는 근접 센서, 또는 전자 장치(100)의 동작(예를 들어, 전자 장치(100)의 회전, 가속, 감속, 진동 등)을 검출하는 모션/방위 센서 등을 포함할 수 있다. 또한, 모션/방위 센서는 기울기를 측정하고 직선상 속도 변화를 검출하는 가속도 센서(또는 중력 센서), 각속도를 검출하는 자이로(gyro) 센서, 충격 센서, GPS 센서, 방위를 검출하는 나침반 센서(compass sensor)(또는 지자기 센서), 또는 운동의 관성력을 검출하여 측정 대상인 움직이는 물체의 가속도, 속도, 방향, 거리 등 다양한 정보를 제공하는 관성 센서 등을 포함할 수 있다. 센서부(150)는 전자 장치(100)의 상태를 검출하고, 검출에 대응되는 신호를 생성하여 제어부로 전송할 수 있다. 예를 들어, GPS 센서는 지구 궤도상에 있는 복수의 GPS위성(도시되지 아니함)에서부터 전파를 수신하고, GPS위성(도시되지 아니함)에서부터 전자 장치(100)까지 전파도달시간(Time of Arrival)을 이용하여 전자 장치(100)의 GPS 위치를 산출할 수 있다. 나침반 센서는 전자 장치(100)의 자세 또는 방위를 산출할 수 있다.

카메라(160)는 렌즈계, 구동부 및 이미지 센서를 포함할 수 있으며, 플래쉬 등을 더 포함할 수 있다. 카메라(160)는 렌즈계를 통해 입력되는(또는 촬영되는) 광신호를 전기적인 영상 신호 또는 데이터로 변환하여 출력하고, 사용자는 이러한 카메라(160)를 통해 동영상 또는 정지 영상을 촬영할 수 있다. 다시 말하여, 카메라(160)는 피사체의 광학적 영상을 형성하고, 형성된 광학적 영상을 전기 신호로 검출할 수 있다.

통신부는 서버 또는 외부 전자 장치와의 직접 연결 또는 네트워크를 통한 연결을 위해 제공되며, 유선 또는 무선 통신부일 수 있으며, 제어부, 저장부, 카메라(160) 등으로부터의 데이터를 유선 또는 무선으로 전송하거나, 외부 통신선 또는 대기로부터 데이터를 유선 또는 무선 수신하여 제어부로 전달하거나 저장부에 저장한다.

통신부는 이동통신 모듈, 무선랜 모듈, 또는 근거리 통신 모듈 등을 포함할 수 있다. 통신부는, 이에 한정되지 않지만, 종합 정보 통신망(integrated services digital network: ISDN) 카드, 모뎀, 근거리 통신망(LAN) 카드, 적외선 포트, 블루투스 포트(Bluetooth port), 지그비(zigbee) 포트, 또는 무선 포트 등을 포함할 수 있다.

터치 스크린 패널(120)은 제어부로부터 입력된 영상 또는 데이터를 화면에 표시한다. 터치 스크린 패널(120)은 제어부의 제어에 따른 영상을 표시하고, 그 표면에 손가락, 스타일러스 펜(stylus pen) 등과 같은 사용자 입력 수단이 접촉하거나 근접(예를 들어, 터치 스크린 패널(120)과 사용자의 신체 또는 입력 수단의 간격이 0보다 크고 5 cm 이하)하면 입력 좌표 및 입력 상태를 포함하는 사용자 입력 정보를 제어부로 출력할 수 있다. 즉, 터치 스크린 패널(120)은 사용자의 입력을 검출하고, 검출된 입력 정보를 제어부로 출력한다. 터치 스크린(120)은 사용자에게 보이는 가시 영역(110)과, 전자 장치(100)의 하우징을 일부 구성하는 베젤(130)에 의해 가려져서 사용자에게 보이지 않는 비가시 영역을 포함한다. 예를 들어, 터치 스크린(120)은 비가시 영역에도 영상을 출력할 수 있으나, 비가시 영역에 표시된 영상은 베젤(130)에 의해 가려지기 때문에 사용자가 볼 수 없다.

제어부는 전자 장치(100)의 전반적인 동작을 제어하고, 사용자 입력 정보에 따른 애플리케이션을 실행하고, 애플리케이션은 사용자 입력 정보에 따른 프로그램 동작을 수행한다. 이때, 사용자 입력은 입/출력 모듈, 터치 스크린 패널(120), 센서부(150) 등을 통한 입력, 또는 카메라(160) 기반의 입력 등을 포함한다.　제어부는 정보 통신을 위한 버스(bus) 및 정보 처리를 위해 상기 버스와 연결된 프로세서(processor)를 포함할 수 있다. 제어부는 중앙 처리 장치(Central Porcessing Unit; CPU), 또는 어플리케이션 프로세서(Application Processor; AP) 등을 포함할 수 있다.

제어부는 또한 프로세서에 의해 요구되는 정보를 임시로 저장하기 위해 상기 버스와 연결된 램(random access memory: RAM), 상기 프로세서에 의해 요구되는 정적 정보(static information)를 저장하기 위해 상기 버스와 연결되는 롬(read only memory: ROM) 등을 더 포함할 수 있다.

도 2는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 구성을 나타낸다.

터치 스크린 패널(120)은 터치 패널(200)을 포함하고, 이외에 디스플레이 유닛(250) 및 접착층(240)을 더 포함할 수 있다.

상기 디스플레이 유닛(250)은 복수의 픽셀들(pixels)을 구비하고, 상기 픽셀들을 통해 영상을 표시할 수 있다.

상기 디스플레이 유닛(250)의 전면의 일부(중앙 부분)가 관찰자에게 표시되는 상기 터치 스크린 패널(120)의 가시 영역에 해당하고, 상기 디스플레이 유닛(250)으로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diodes: OLED) 등을 사용할 수 있다.

터치 패널(200)은 접착층(240)을 이용하여 상기 디스플레이 유닛(250)에 부착(즉, 접착)된다. 접착층(240)은 절연 물질로 형성된다. 접착층(240)으로는 OCA 테이프(optical clear adhesive tape:), 접착제(또는 점착제), 자외선 경화성 수지 등을 사용할 수 있다. OCA 테이프는 양면 접착이 가능하고, 아크릴계, 실리콘 등의 재질로 형성될 수 있다.

터치 패널(200)은 윈도우, 센서층 및 배선을 포함한다.

윈도우는 터치 패널(200)이 장착되는 전자 장치(100)의 표면에 위치된다. 사용자가 터치 입력을 수행할 때 접촉하는 면은 윈도우의 전면이 된다.

센서층은 윈도우의 후면에 적층되며, 사용자 입력을 검출 또는 감지한다. 즉, 입력 수단이 상기 윈도우의 전면에 접촉하게 되면, 상기 센서층은 정전용량의 변화, 저항의 변화, 전압 또는 전류의 변화 등을 감지하여 제어부로 전달한다. 센서층은 터치 스크린 패널(120)의 가시 영역에 위치한다.

배선은 센서층의 둘레에 위치하도록 윈도우의 후면에 적층되며, 센서층의 검출 신호를 제어부로 전달한다. 배선은 터치 스크린 패널(120)(또는 윈도우나 터치 패널(200))의 비가시 영역에 위치하며, 가요성 인쇄 회로 기판(Flexible Printed Circuit Board: FPCB)을 통해 제어부와 연결될 수 있다. 배선은 복수의 배선 전극들을 포함하며, 복수의 배선 전극들은 센서층의 센서 패턴들에 각각 연결된다. 배선 전극은 주 금속 층의 확산 문제(예를 들어, 이차 핵생성, 합금 생성 등)를 방지하기 위한 다층 구조를 가질 수 있으며, 예를 들어 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴의 다층 구조로 형성될 수 있다. 터치 패널(200)은 가요성 인쇄회로 기판 등을 통해 제어부와 연결되며, 가요성 인쇄회로 기판의 커넥터는 배선 전극에 접속된다. 도 3은 본 발명의 비교 예에 따른 터치 패널을 나타낸다.

도 3의 (a)는 터치 패널의 전면을 나타낸다. 사용자가 볼 때, 터치 패널(200a)의 전면은 터치 패널(200a)의 중심부에 위치하는 가시 영역(310) 과, 가시 영역(310)의 둘레(즉, 터치 패널의 주변부)에 위치하는 비가시 영역(320)으로 구분된다.

도 3의 (b)는 도 3의 (a)에서 점선 원 A로 표시된 비가시 영역(320) 일부의 후면을 나타낸다. 비가시 영역(320)에서 윈도우의 후면에는 광차단층(330)이 적층되며, 상기 광차단층(330)의 표면에 서로 이격된 복수의 배선 전극(340)이 적층된다. 광차단층(330)은 인쇄 등의 공정을 통해 형성될 수 있다. 광차단층(330)의 재질로는 폴리에틸렌(polyethylene: PE), 아크릴, 폴리우레탄(polyurethane: PU) 등의 수지를 함유하는 스크린 인쇄용 잉크가 사용될 수 있으며, 스크린 인쇄용 잉크는 색상 및 재질감(CMF, color material finishing)을 위한 안료가 더 포함할 수 있다.

도시된 배선 전극(340)은 결함(342)(미리 설정된 패턴에 따르지 않는 의도하지 않은 부분 또는 전체적 단선 부분)을 가지며, 이러한 결함(342)은 인쇄 공법으로 형성된 광차단층(330)이 이물질, 돌기 등의 결함을 갖는 것에 기인한다.

344는 배선 전극이 배치된 배선 영역을 나타내고, 346은 배선 전극이 배치되지 않은 비배선 영역을 나타낸다.

도 4 내지 도 6은 비교 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.

도 4의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 4의 (b)는 비식각 예정 영역의 측단면도를 나타낸다.

윈도우(210)의 후면에 광차단층(330)이 적층되고, 광차단층(330)의 표면에 도전층(340a)이 적층된다. 광차단층(330)은 결함(332)을 가질 수 있다. 도전층(340a)은 PVD(Physical Vapor Deposition), CVD(Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 박막 증착 공정에 의해 형성될 수 있다. PVD의 예로는 전자 빔 증착(E-beam evaporation), 스퍼터링(sputtering), 아크 이온 플레이팅(arc ion plating), 펄스 레이저 증착(pulsed laser deposition)을 들 수 있다. CVD의 예로는 MOCVD(metalorganic chemical vapor deposition), PECVD Plasma-Ehanced Chemical Vapor Deposition), HVPE(Hydride Vapor Phase Epitaxiy), ALD(atomic layer deposition), PEALD(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition)를 들 수 있다.

344a는 도전층(340a)의 비식각 예정 영역을 나타내고, 346a는 도전층(340a)의 식각 예정 영역을 나타낸다. 비식각 예정 영역(344a)은 배선 전극에 대응되도록 배치된다.

도 5의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 5의 (b)는 마스크 영역의 측단면도를 나타낸다.

사진 식각 공정을 통해 도전층(340a)의 표면에 포토레지스트 마스크(350)(또는 포토레지스트 마스크층)가 적층된다. 사진 식각 공정에서는, 도전층(340a)의 표면에 스핀 코팅, 롤 코팅, 슬릿 코팅, 스프레이 코팅 등의 포토레지스트 코팅 공정, 광학 마스크를 이용한 노광 공정 및 식각액을 이용한 현상 공정을 통해 포토레지스트 마스크(350)를 형성한다(현상 공정). 광차단층(330)의 결함(332)으로 인해, 포토레지스트 마스크(350)에도 결함(352)이 발생한다. 이러한 포토레지스트 마스크(350)의 결함(352)으로 인해 도전층(340a)의 일부가 외부에 노출된다.

354는 포토레지스트 마스크(350)가 배치된 마스크 영역을 나타내고, 356는 포토레지스트 마스크(350)가 배치되지 않은 비마스크 영역을 나타낸다. 포토레지스트 마스크(350)는 배선 전극에 대응되도록 위치된다.

도 6의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 6의 (b)는 비식각 영역의 측단면도를 나타낸다.

도전층(340a)은 포토레지스트 마스크(350)를 이용하여 식각되고, 포토레지스트 마스크(350)는 박리 용액을 이용하여 제거된다. 이러한 식각된 도전층은 배선 전극(340)에 해당한다. 포토레지스트 마스크(350)의 결함을 통해 도전층(340a)의 일부가 외부에 노출되므로, 포토레지스트 마스크(350)를 이용한 식각 과정에서 노출된 도전층(340a)의 일부가 제거된다. 제거된 도전층의 부분은 배선 전극(340)의 결함(342)에 해당한다.

광차단층은 디자인 품질의 확보(시장에서 선호되는 컬러 구현 등) 등을 이유로 인쇄 공정을 통해 제조하는데, 이때 인쇄 공법으로 제조된 광차단층에는 인쇄 이물질, 돌기 등의 결함이 종종 발생한다. 이러한 결함들은 이후의 공정에서 광차단층에 적층되는 배선을 단선시키는 등의 문제를 일으킨다. 광차단층의 결함들은 사진 식각 공정(photolithography)을 통한 배선의 형성에 장애가 된다.

도 5에 도시된 바와 같이, 광차단층의 결함들은 포토레지스트 마스크의 비등각 코팅(Un-coating or Non-conformal coating), 즉 결함을 야기한다. 비등각 코팅은 두께가 불균일한 코팅을 의미한다.

사진 식각 공정은 현재 알려진 방법들 중 가장 미세한 구조의 배선을 제조할 수 있는 방법으로서, 터치 패널의 비가시 영역(또는 전자 장치의 베젤)을 최소화 할 수 있는 방법으로 알려져 있다.

도 6에 도시한 바와 같이, 식각 방지 기능을 하는 포토레지스트 마스크가 코팅되지 못한 도전층의 부분은 식각 과정에서 부식되어 제거되며, 최종적으로는 배선의 단선 또는 도전성 불량을 야기한다.

액상 또는 용액 코팅에 의해 형성되는 포토레지스트층의 결함 원인들로는, 광차단부의 결함과 포토레지스트층의 두께 관계 등 상호간 구조적 요소 외에도, 용액 고유의 표면 장력 및 중력의 작용, 사진 식각 공정에서 용액의 처리 중(열처리, 건조 등) 발생하는 용액의 수축 현상 등이 원인으로 지적된다. 이러한 문제들은 용액 자체의 고유한 특성에 의한 것으로 통상적인 공정 개선으로는 문제 해결이 매우 어렵다.

　또한, 광차단부는 인쇄 공정으로 달성 가능한 공정 능력의 한계로 인해 표면 자체의 평탄도(Flatness)가 매우 열악한데, 이러한 광차단부의 표면에 코팅된 포토레지스트층은 두께 분포가 불균일하여 의도된 두께를 확보하지 못하게 되고, 결과적으로 배선의 선폭 불량, 단선 등의 문제를 야기한다.

전술한 바와 같이, 돌기, 이물질 등과 같은 광차단부의 결함으로 인한 배선 결함은 용액 코팅 공정에 따른 비등각 코팅 현상이 주된 원인이다.

수치예로서, 포토레지스트층에 대한 용액 코팅법, 즉 슬릿 코팅, 롤 코팅 등의 방법으로 달성 가능한 포토레지스트층의 최대 코팅 두께는 약 5㎛ 정도로 광차단층의 결함(이물질, 돌기 등)의 두께가 약 5~13㎛ 인 것을 고려하면, 현재까지 알려진 방법으로는 광차단층의 결함을 덮을 정도로 포토레지스트층을 균일하게 코팅하는 것은 어렵다.

도 7은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널을 나타낸다.

도 7의 (a)는 터치 패널(200)의 전면을 나타낸다. 사용자가 볼 때, 터치 패널(200)의 전면은 터치 패널(200)의 중심부에 위치하는 가시 영역(410)과, 가시영역(410)의 둘레(즉, 터치 패널의 주변부)에 위치하는 비가시 영역(420)으로 구분된다.

도 7의 (b)는 도 7의 (a)에서 점선 원 A로 표시된 비가시 영역(420) 일부의 후면을 나타낸다. 비가시 영역(420)에서 윈도우의 후면에는 광차단층(430)이 적층되며, 상기 광차단층(430)의 표면에 서로 이격된 복수의 배선 전극(440)이 적층된다. 광차단층(430)은 인쇄 등의 공정을 통해 형성될 수 있다. 광차단층(430)의 재질로는 폴리에틸렌(polyethylene: PE), 아크릴, 폴리우레탄(polyurethane: PU) 등의 수지를 함유하는 스크린 인쇄용 잉크가 사용될 수 있다.

도시된 배선 전극(440)은 결함(미리 설정된 패턴에 따르지 않는 의도하지 않은 단선 부분 또는 구멍)을 갖지 않는다.

444는 배선 전극(440)이 배치된 비가시 영역(420)의 배선 영역을 나타내고, 446은 배선 전극(440)이 배치되지 않은 비가시 영역(420)의 비배선 영역을 나타낸다.

도 8 내지 도 12는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.

도 8의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 8의 (b)는 비식각 예정 영역의 측단면도를 나타낸다.

윈도우(210)의 후면에 가시광을 차단하는 광차단층(430)이 적층되고, 광차단층(430)의 표면에 도전층(440a)이 적층된다. 광차단층(430)은 결함(432)을 가질 수 있다. 도전층(440a)은 PVD, CVD 등과 같은 박막 증착 공정에 의해 형성될 수 있다. 도전층(440a)은 예를 들어 구리나 금 등의 도전성 물질(또는 금속)로 형성될 수 있다.

444a는 도전층(440a)의 비식각 예정 영역을 나타내고, 446a는 도전층(440a)의 식각 예정 영역을 나타낸다. 비식각 예정 영역(444a)은 배선 전극에 대응되도록 배치된다.

도 9의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 9의 (b)는 마스크 영역의 측단면도를 나타내고, 도 9의 (c)는 비마스크 영역의 측단면도를 나타낸다.

사진 식각 공정을 통해 도전층(440a)의 표면에 포토레지스트 마스크(450)(또는 포토레지스트 마스크층)가 적층된다. 사진 식각 공정에서는, 도전층(440a)의 표면에 스핀 코팅, 롤 코팅, 슬릿 코팅, 스프레이 코팅 등을 통해 균일한 두께의 액상 포토레지스트층(photoresist layer)을 적층하고(즉, 코팅 공정), 배선 전극의 패턴과 동일 또는 유사한 패턴을 갖는 광학 마스크를 이용하여 액상 포토레지스트층에 부분적으로(또는 선택적으로) 자외선을 조사하여 경화시키고(즉, 노광 공정), 상기 포토레지스트층의 미경화된 부분을 식각액을 이용하여 제거함으로써 식각 마스크로서 기능하는 포토레지스트 마스크(450)를 형성한다(현상 공정).

도 5의 사진 식각 공정은 배선 전극의 패턴과 동일 또는 유사한 패턴을 갖는 광학 마스크의 슬릿들을 통과한 자외선을 포토레지스트층에서 배선 전극들간 간극들에 해당하는 부분들에 조사하고, 자외선 조사된 배선 전극들간 간극들에 해당하는 부분들을 제거하는 파저티브 사진 식각 공정(positive photolithography)을 이용한다.

도 9의 사진 식각 공정은 배선 전극의 패턴과 동일 또는 유사한 패턴을 갖는 광학 마스크의 슬릿들을 통과한 자외선을 포토레지스트층에서 배선 전극들간 간극들에 해당하는 부분들에 조사하고, 포토레지스트층에서 배선 전극들에 해당하는 부분들을 제거하는 네거티브 사진 식각 공정(negative photolithography)을 이용한다.

456은 포토레지스트 마스크(450)가 배치된 마스크 영역을 나타내고, 454는 포토레지스트 마스크(450)가 배치되지 않은 비마스크 영역을 나타낸다. 포토레지스트 마스크(450)는 배선 전극들의 간극에 대응되도록 배치된다.

도 10의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 10의 (b)는 리프트-오프 예정 영역의 측단면도를 나타내고, 도 10의 (c)는 비리프트-오프 예정 영역의 측단면도를 나타낸다.

도전층(440a) 및 포토레지스트 마스크(450)의 표면에 절연층(460a)이 적층된다. 절연층(460a)은 절연성을 가지며, 절연층(460a)은 습식 식각에 사용되는 식각 용액에 내성을 갖는 물질일 수 있고, 예를 들어 윈도우(210)와 동일한 물질인 SiO₂일 수 있다. 절연층(460a)은 전자빔 증착, 스퍼터링(sputtering) 등과 같은 120도 이하의 저온 증착(또는 저온 진공 증착) 공정에 의해 형성될 수 있다.

466a는 절연층(460a)의 리프트-오프 예정 영역을 나타내고, 464a는 절연층(460a)의 비리프트-오프 예정 영역을 나타낸다. 비리프트-오프 예정 영역(464a)은 배선 전극에 대응되도록 배치된다.

도 11의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 11의 (b)는 리프트-오프 영역의 측단면도를 나타내고, 도 11의 (c)는 비리프트-오프 영역의 측단면도를 나타낸다.

리프트-오프 예정 영역의 포토레지스트 마스크(450)는 박리 용액을 이용하여 제거되고, 포토레지스트 마스크(450)의 표면에 적층되어 있던 절연층(460a)의 부분은 포토레지스트 마스크(450)와 함께 제거된다(즉, 리프트-오프된다). 이러한 리프트-오프 공정에 따라서, 식각 마스크로서 기능하는 식각 마스크(460)를 형성한다.

464는 식각 마스크(460)가 배치된 마스크 영역을 나타내고, 466은 식각 마스크(460)가 배치되지 않은 비마스크 영역을 나타낸다. 식각 마스크(460)는 배선 전극에 대응되도록 배치된다.

도 12의 (a)는 비가시 영역 일부의 후면을 나타내고, 도 12의 (b)는 비식각 영역의 측단면도를 나타낸다.

도전층(440a)은 식각 마스크(460)를 이용하여 식각되고, 식각된 도전층(즉, 식각되지 않고 남아 있는 도전층의 부분들)은 배선 전극들(440)에 해당한다. 식각 마스크(460)는 배선 전극(440)의 표면에 그대로 남는다.

식각 마스크(460)를 이용한 도전층의 식각은 다양한 식각 방법으로 구현될 수 있으며, 예를 들어 습식 식각(wet etching) 방법이 사용될 수 있다.

444는 배선 전극(440)이 배치된 비가시 영역의 배선 영역을 나타내고, 446은 배선 전극(440)이 배치되지 않은 비가시 영역의 비배선 영역을 나타낸다.

도 13은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 배선 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.

터치 패널(200)의 배선 제조 방법은 S110~S150 과정을 포함한다.

S110 과정은 광차단층 및 도전층 형성 과정이며, 윈도우(210)의 표면에 가시광을 차단하는 광차단층(430) 및 도전층(440a)이 적층된다.

S120 과정은 포토레지스트 마스크 형성 과정이며, 배선 전극의 간극 패턴에 대응되는 패턴을 갖도록 도전층(440a)의 표면에 포토레지스트 마스크(450)가 적층된다.

S130 과정은 절연층 형성 과정이며, 포토레지스트 마스크들(450)과, 포토레지스트 마스크들(450) 사이의 도전층 부분들에 절연층(460a)이 적층된다.

S140 과정은 마스크 형성 과정이며, 포토레지스트 마스크들(450)을 제거함으로써 포토레지스트 마스크들(450)과 포토레지스트 마스크들(450)에 적층되어 있는 절연층(460a)의 부분이 함께 제거된다. 이러한 리프트-오프 공정을 통해 제거되지 않고 남아 있는 절연층(460a)의 부분들로 식각 마스크(460)(또는 마스크)가 형성된다.

S150 과정은 배선 형성 과정이며, 식각 마스크(460)를 이용하여 도전층(440a)을 식각하며, 이러한 식각 공정을 통해 제거되지 않고 남아 있는 도전층의 부분들이 배선 전극들(440)을 구성한다.

도 14는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타내는 흐름도이고, 도 15 내지 도 23은 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다. 이하, 정전용량 방식의 터치 패널을 제조하는 방법을 예시하나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 배선 제조 방법은 저항막 방식, 적외선 방식, 초음파 방식, 전자기 방식 등의 다양한 방식의 터치 패널을 제조하는 방법에 적용될 수 있다.

터치 패널의 제조 방법은 S210~S260 과정을 포함한다.

S210 과정은 광차단층을 형성하는 과정이며, 도 15를 참조하면, 터치 패널의 비가시 영역(죽, 윈도우(510)의 주변부 또는 가장자리 부분)에 광차단층(520)을 적층한다. 상기 광차단층(520)은 상기 윈도우(510)의 후면(514) 주변부에 적층된다. 상기 윈도우(510)의 전면(512)은 외부에 노출되는 터치 패널 또는 터치 패널 전면의 적어도 일부를 형성한다.

상기 윈도우(510)의 전면(512)이 외부에 노출되기 때문에, 사용자에게 표시되는 가시 영역에 포함되는 중앙부 외측의 주변부가 외부에 보이는 것을 방지하기 위해, 비가시 영역인 상기 윈도우(510)의 주변부에 가시광을 차단하는 광차단층(520)이 적층된다.

S220 과정은 브릿지층 및 절연층을 형성하는 과정이며, 도 16을 참조하면, 윈도우(510)의 노출된 후면에 브릿지층(530) 및 절연층(540)을 적층한다.

브릿지층(530)을 형성하기 위하여, 윈도우(510)의 노출된 후면에 제3 도전층을 적층하고, 제3 도전층을 부분적으로(또는 선택적으로) 식각하여 기설정된 패턴을 갖는 브릿지층(530)을 형성한다. 상기 브릿지층(530)은 센서층을 구성하는 제1 센서 패턴들과 제2 센서 패턴들이 교차하는 지점들에 위치된 도전성 스트립들로 이루어진다.

상기 브릿지층(530)은 사진 식각 공정에 의한 패터닝에 의해 형성될 수 있다.

사진 식각 공정에서는, 상기 제3 도전층의 상면 전체에 균일한 두께의 포토레지스트(photoresist)를 적층하고, 상기 포토레지스트에 부분적으로(또는 선택적으로) 자외선을 조사하여 경화시키고, 상기 포토레지스트의 미경화된 부분을 현상액을 이용하여 제거함으로써 다수의 슬릿(slit)을 갖는 포토레지스트 마스크(mask)를 형성하고, 포토레지스트 마스크의 슬릿들을 통해 노출된 상기 제3 도전층의 부분들을 식각하여 제거함으로써 상기 브릿지층(530)을 형성할 수 있다.

상기 제3 도전층은 도전성 물질로 형성되며, 상기 도전성 물질의 예로는 인듐 주석 산화물(Indium tin oxide: ITO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)) 등을 들 수 있다. 상기 제3 도전층은 진공 증착 공정으로 형성될 수 있으며, 상기 진공 증착 공정의 예로는 전자빔(E-beam), 스퍼터링(Sputtering) 등을 들 수 있다.

잉크젯 프린터의 헤드(또는 잉크 디스펜서)를 이용한 잉크젯 공정, 슬릿 코팅 공정, 롤 코팅 공정 등의 다양한 방법을 이용하여 상기 브릿지층(530) 위에 절연층(540)을 적층한다. 상기 제1 센서 패턴들 및 제2 센서 패턴들을 전기적으로 절연하기 위하여, 상기 절연층(540)은 다수의 절연성 스트립들로 이루어지고, 상기 다수의 절연성 스트립들은 상기 도전성 스트립들 위에 일대일로 적층되고, 서로 대응되는 도전성 스트립과 절연성 스트립은 서로 교차한다(예를 들어, 십자 형태로).

본 예와 다르게, 윈도우(510)의 노출된 후면에 무반사층을 적층하고, 무반사층의 표면에 브릿지층 및 절연층을 적층할 수도 있다. 무반사층은 그 표면에 입사하는 광의 반사를 최소화하도록 구성되고, 고굴절률의 층(예를 들어, Nb₂O₅ 층)과 저굴절률의 층(예를 들어, SiO₂ 층)을 교대로 적층한 구성을 조건으로 하여, 임의 재질의 층들로 구성될 수 있다.

S230 과정은 제1 도전층을 적층하는 과정이며, 도 17을 참조하면, 윈도우(510)의 노출된 상면, 광차단층(520)의 표면 일부, 브릿지층(530) 및 절연층(540) 위에 제1 도전층(550a)을 적층한다. 제1 도전층(550a)은 상기 제3 도전층에 적용 가능한 재질 및 제조 방법에 의해 형성될 수 있다.

S240 과정은 필러블 필름을 적층하는 과정이며, 도 18을 참조하면, 제1 도전층(550a) 위에 필러블 필름(peelable film, 560)을 부착한다. 필러블 필름(560)은 배선을 위한 제2 도전층이 터치 패널의 가시 영역에 적층되는 것을 방지한다.

S250 과정은 제2 도전층을 적층하는 과정이며, 도 19를 참조하면, 제1 도전층(550a)의 노출된 표면, 광차단층(520)의 노출된 표면 및 필러블 필름(560) 위에 제2 도전층(570a)을 적층한다.

S260 과정은 센서층 및 배선을 형성하는 과정이며, 도 20을 참조하면, 제1 도전층(550a) 및 제2 도전층(570a)을 부분적으로(또는 선택적으로) 식각하여 기설정된 패턴을 갖는 센서층(550) 및 배선 전극(570)을 형성한다. 상기 센서층(550)은 상기 광차단층(520) 위에서 배선 전극(570)과 겹치도록 형성되어 전기적으로 서로 연결된다. 배선 전극(570)은 도 13을 참조하여 기술한 바와 같은 방식으로 형성되고, 센서층(550)은 배선 전극(570)과 유사한 방식으로 형성되고, 배선 전극(570)과 동시에, 또는 순차로 형성될 수 있다. 전술한 공정에 따라, 식각 마스크(580)는 배선 전극(570)의 상면에만 적층되고, 배선 전극(570)의 측면에는 적층되지 않을 수 있다. 배선 전극들(570)은 서로 이격되어 있어서 전기적으로 서로 절연되어 있고, 마스크들(580)도 각 배선 전극에만 독립적으로 적층됨과 동시에 서로 이격되어 있다.

도 21은 상기 센서층(550)을 나타내는 평면도이고, 도 22는 상기 센서층(550)의 일 교차 부분(558)을 확대하여 나타낸다.

상기 센서층(550)은 제1 방향(예를 들어, X축)을 따라 연장된 제1 센서 패턴들(554)과, 제2 방향(상기 제1 방향에 수직인)(예를 들어, Y축)을 따라 연장된 제2 센서 패턴들(556)을 포함한다. 제1 및 제2 센서 패턴들은 도전성을 갖는다.

제1 센서 패턴들(554)과 상기 제2 센서 패턴들(556)은 윈도우(510) 위의 다수의 지점들에서 교차하게 된다. 상기 브릿지층(530)은 상기 각 제2 센서 패턴(556)이 이러한 교차 지점에서 단절되지 않고 전기적으로 연결되도록 하며, 상기 절연층(540)은 상기 제1 센서 패턴들(554)과 상기 제2 센서 패턴들(556)이 이러한 교차 지점들에서 서로 절연되도록 한다. 상기 제2 센서 패턴들(556)의 각각은 상기 제1 센서 패턴들(554)을 사이에 두고 서로 분리되는 다수의 제2 섹션들(556a)로 이루어지고, 상기 다수의 제2 섹션들(556a)은 상기 브릿지층(530)의 도전성 스트립들에 의해 전기적으로 연결된다. 상기 제1 센서 패턴들(554)의 각각은 서로 전기적으로 연결된 다수의 제1 섹션들(554a)로 이루어지고, 상기 다수의 제1 섹션들 사이의 연결부들(554b)은 각각 절연 스트립(540)에 적층된다.

도 23은 도 20에 도시된 터치 패널(500)의 후면을 나타낸다. 배선 전극들(570)은 센서층(550)의 센서 패턴들의 각각과 연결되며, 각 배선 전극(570)은 외부 커넥터와 접속되는 패드 전극(572)과, 패드 전극(572)과 센서층(550)의 해당 센서 패턴을 연결하는 라인 전극(574)으로 구성될 수 있다.

전술한 바와 같이, 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 식각 마스크는 배선 전극의 보호층으로서 작용하며, 증착 공정으로 형성된 식각 마스크가 광차단층의 결함을 균일하게 커버함과 동시에 식각 마스크로서 기능한다.

상술한 본 발명의 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 여러 가지 변형이 본 발명의 범위에서 벗어나지 않고 실시할 수 있다. 따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위의 균등한 것에 의해 정해져야 한다.

120: 터치 스크린 패널, 200: 터치 패널, 210: 윈도우, 220: 센서층, 230: 배선, 240: 접착층, 250: 디스플레이 유닛

Claims

터치 패널에 있어서,
윈도우와;
상기 윈도우의 가시 영역에 형성되며, 사용자 입력을 검출하는 센서 패턴들을 구비하는 센서층과;
상기 센서층의 둘레에 위치하는 상기 윈도우의 비가시 영역에 형성된 광차단층과;
상기 광차단층 상에 형성되며, 상기 센서층을 외부 커넥터와 연결하도록 상기 센서 패턴들 각각과 연결되고, 간극 패턴들이 포토레지스트 마스크들에 대응하는 배선 전극들과;
상기 배선 전극들 상에 각각 형성된 식각 마스크들을 포함하고,
상기 식각 마스크들은, 상기 배선 전극들의 상기 간극 패턴 상에 형성된 포토레지스트 마스크와 함께 상기 포토레지스트 마스크 상에 형성된 절연층의 일 부분이 제거되어 형성되며 절연성을 가지는 물질로 구성되는 터치 패널.
제1항에 있어서,
상기 센서 패턴들은 서로 이격되어 있고, 상기 배선 전극들은 서로 이격되어 있고, 상기 식각 마스크들은 서로 이격되어 있는 터치 패널.
제1항 또는 제2항의 터치 패널을 포함하는 전자 장치.
터치 패널의 제조 방법에 있어서,
윈도우의 비가시 영역에 광차단층을 형성하는 과정과;
상기 광차단층 상에 도전층을 형성하는 과정과;
배선 전극들의 간극 패턴에 대응되는 패턴을 갖도록 상기 도전층 상에 포토레지스트 마스크들을 형성하는 과정과;
상기 포토레지스트 마스크들 상에 제1 절연층의 일 부분을 형성하고, 상기 포토레지스트 마스크들 사이의 도전층 부분들 상에 상기 제1 절연층 나머지 부분을 형성하는 과정과;
상기 간극 패턴에 대응되는 패턴을 갖도록 형성된 상기 포토레지스트 마스크들과 함께 상기 포토레지스트 마스크들 상에 형성된 상기 제1 절연층의 일 부분을 제거함으로써, 상기 포토레지스트 마스크들 사이의 상기 제1 절연층의 나머지 부분으로부터 식각 마스크들을 형성하는 과정과;
상기 식각 마스크들을 이용하여 상기 도전층의 일부를 식각함으로써 상기 도전층의 나머지 부분에 대응하는 배선 전극들을 형성하는 과정을 포함하고,
상기 식각 마스크들은, 절연성을 가지는 물질로 구성되는 터치 패널의 제조 방법.
제4항에 있어서,
상기 배선 전극들은 서로 이격되어 있고, 상기 식각 마스크들은 서로 이격되어 있는 터치 패널의 제조 방법.
제4항에 있어서,
상기 식각 마스크들은 각각 습식 식각에 사용되는 식각 용액에 내성을 갖는 물질인 터치 패널의 제조 방법.
제4항에 있어서,
상기 윈도우의 가시 영역에 도전성 브릿지층을 형성하는 과정과;
상기 도전성 브릿지층과 교차하는 제2 절연층을 형성하는 과정과;
상기 브릿지층을 통해 연결된 제1 센서 패턴과, 상기 제2 절연층을 사이에 두고 상기 제1 센서 패턴과 교차하는 제2 센서 패턴을 형성하는 과정을 포함 하는 터치 패널의 제조 방법.
제4항에 있어서,
상기 광차단층은 인쇄 공정에 의해 형성되고, 상기 포토레지스트 마스크들은 용액 코팅에 의해 형성되는 터치 패널의 제조 방법.